JP3180270B2 - マイクロイオンビーム装置 - Google Patents
マイクロイオンビーム装置Info
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- JP3180270B2 JP3180270B2 JP04010591A JP4010591A JP3180270B2 JP 3180270 B2 JP3180270 B2 JP 3180270B2 JP 04010591 A JP04010591 A JP 04010591A JP 4010591 A JP4010591 A JP 4010591A JP 3180270 B2 JP3180270 B2 JP 3180270B2
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- Japan
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- ion beam
- ion
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- slit
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、例えば質量分析、薄膜
形成、イオン注入等に利用される微細な口径のイオンビ
ームを発生させるマイクロイオンビーム装置に関する。
形成、イオン注入等に利用される微細な口径のイオンビ
ームを発生させるマイクロイオンビーム装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、マイクロイオンビーム装置は、図
１に見られるような高電圧電源ａから高電圧が印加され
た容器状の高電圧ターミナルｂ内に設けられたイオン源
ｃで発生させたイオンを、１００ｋＶ〜数ＭＶの電圧を
等配した電極を有する加速管ｄにより該高電圧ターミナ
ルｂからビーム状に真空中へ引き出し、セクターマグネ
ットまたはＥ×Ｂフィルターで構成された質量分離器ｅ
で所望のイオンを選択した後、２〜３μｍ乃至１０〜２
０μｍの開口径を有する対物スリットｆでイオンビーム
の径を制限し、更にマイクロビーム形成用Ｑレンズ即ち
集束レンズｇでターゲットｈの表面に該開口径の１／２
〜１／３乃至１／１０〜１／２０に絞った微細な口径の
マイクロビームとして入射させるように構成されてい
る。該高電圧ターミナルｂ内には、イオン源ｃで発生す
るイオンを数ｋＶ〜数１０ｋＶの電圧で引き出す引出電
極ｉと、引き出されたビーム状のイオンを収束させるア
インツエルレンズ又はトリプレットＱレンズ等のレンズ
ｊとが設けられ、該イオン源ｃとアインツエルレンズｊ
とに該高電圧ターミナルｂの外部の電力供給装置ｋから
電力が供給される。該加速管ｄで加速されたビーム状の
イオンは、ビーム輸送用Ｑマグネットｌにより質量分離
器ｅへと送られ、そこで選択されたイオンビームは、対
物スリットｆで絞られ、ファラデーカップｍでイオン電
流を測定したのち補助スリットｎにより発散角の大きい
イオンが除去され、ターゲットｈに入射するときに該集
束レンズｇで微細な口径に絞られる。ターゲットｈ上の
ビーム位置は、スキャナｏにより調整する。
１に見られるような高電圧電源ａから高電圧が印加され
た容器状の高電圧ターミナルｂ内に設けられたイオン源
ｃで発生させたイオンを、１００ｋＶ〜数ＭＶの電圧を
等配した電極を有する加速管ｄにより該高電圧ターミナ
ルｂからビーム状に真空中へ引き出し、セクターマグネ
ットまたはＥ×Ｂフィルターで構成された質量分離器ｅ
で所望のイオンを選択した後、２〜３μｍ乃至１０〜２
０μｍの開口径を有する対物スリットｆでイオンビーム
の径を制限し、更にマイクロビーム形成用Ｑレンズ即ち
集束レンズｇでターゲットｈの表面に該開口径の１／２
〜１／３乃至１／１０〜１／２０に絞った微細な口径の
マイクロビームとして入射させるように構成されてい
る。該高電圧ターミナルｂ内には、イオン源ｃで発生す
るイオンを数ｋＶ〜数１０ｋＶの電圧で引き出す引出電
極ｉと、引き出されたビーム状のイオンを収束させるア
インツエルレンズ又はトリプレットＱレンズ等のレンズ
ｊとが設けられ、該イオン源ｃとアインツエルレンズｊ
とに該高電圧ターミナルｂの外部の電力供給装置ｋから
電力が供給される。該加速管ｄで加速されたビーム状の
イオンは、ビーム輸送用Ｑマグネットｌにより質量分離
器ｅへと送られ、そこで選択されたイオンビームは、対
物スリットｆで絞られ、ファラデーカップｍでイオン電
流を測定したのち補助スリットｎにより発散角の大きい
イオンが除去され、ターゲットｈに入射するときに該集
束レンズｇで微細な口径に絞られる。ターゲットｈ上の
ビーム位置は、スキャナｏにより調整する。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上記従来のマイクロビ
ーム形成装置では、イオンビームを加速管ｄにより加速
した後、対物スリットｆの微小開口を通過させることに
より制限し、そのあと縮小像をターゲットｈ上に結ばせ
るため、ビームラインが長くなり、装置が大型化して大
きい設置スペースが必要になる不都合があった。また、
実際にターゲットｈ上で利用するイオン電流の数万倍か
ら数百万倍のイオン電流をイオンの加速のために投入す
る必要があり、イオン電流が大きくなることに伴って多
量のＸ線が発生して好ましくない。更に、高電圧電源ａ
の負荷電流の増大により加速電圧の変動が増大するよう
になり、その結果、イオンビームのエネルギー幅が広が
り、集束レンズｇの色収差によりターゲットｈ上のビー
ム口径の下限も制限され、微小な口径が得られなくな
る。しかも、イオンエネルギーの大きいイオンを対物ス
リットｆでカットすることにより、該対物スリットｈが
イオンの衝突で受ける損傷も大きくなり、温度も上昇し
てその冷却が容易でなくなる。
ーム形成装置では、イオンビームを加速管ｄにより加速
した後、対物スリットｆの微小開口を通過させることに
より制限し、そのあと縮小像をターゲットｈ上に結ばせ
るため、ビームラインが長くなり、装置が大型化して大
きい設置スペースが必要になる不都合があった。また、
実際にターゲットｈ上で利用するイオン電流の数万倍か
ら数百万倍のイオン電流をイオンの加速のために投入す
る必要があり、イオン電流が大きくなることに伴って多
量のＸ線が発生して好ましくない。更に、高電圧電源ａ
の負荷電流の増大により加速電圧の変動が増大するよう
になり、その結果、イオンビームのエネルギー幅が広が
り、集束レンズｇの色収差によりターゲットｈ上のビー
ム口径の下限も制限され、微小な口径が得られなくな
る。しかも、イオンエネルギーの大きいイオンを対物ス
リットｆでカットすることにより、該対物スリットｈが
イオンの衝突で受ける損傷も大きくなり、温度も上昇し
てその冷却が容易でなくなる。
【０００４】本発明は、こうした不都合等を解消して小
型の装置でより小さく絞られたマイクロイオンビームが
得られる装置を提供することを目的とするものである。
型の装置でより小さく絞られたマイクロイオンビームが
得られる装置を提供することを目的とするものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明では、高電圧ター
ミナル内に設けたイオン源から引き出したイオンを、加
速管により加速して該高電圧ターミナルの外部へイオン
ビームとして引き出し、スキャナーと集束レンズを介し
てターゲットにマイクロイオンビームとして照射するよ
うにした装置に於いて、該高電圧ターミナル内のイオン
源から加速管までのイオンの経路に、対物スリットと質
量分離器及び補助スリットを順次介在させることによ
り、上記の目的を達成するようにした。
ミナル内に設けたイオン源から引き出したイオンを、加
速管により加速して該高電圧ターミナルの外部へイオン
ビームとして引き出し、スキャナーと集束レンズを介し
てターゲットにマイクロイオンビームとして照射するよ
うにした装置に於いて、該高電圧ターミナル内のイオン
源から加速管までのイオンの経路に、対物スリットと質
量分離器及び補助スリットを順次介在させることによ
り、上記の目的を達成するようにした。
【０００６】
【作用】高電圧ターミナル内のイオン源からそこで生成
するイオンをビーム上に引き出し、続いて対物スリット
によりイオンビームを１０μｍ×１０μｍ程度に制限す
る。この制限によりイオンビームの電流値がｎＡ程度に
削減されて加速管内に入射し、イオンは該加速管により
加速されて高電圧ターミナルからグランド側のターゲッ
トへ向かうが、イオンビームは小さい口径に絞られてお
り、またイオンビームの電流値が小さいため、加速管の
電極に衝突することが少なくなると共にＸ線発生量が減
少する。更に、質量分離もイオンが加速管に入射する前
のイオンエネルギーが低くまたビーム口径も小さいとき
に行うので、小形の質量分離器で質量分離を行える。イ
オンビームは、ターゲット上に於いて集束するように集
束レンズで集束されるが、途中で加速されることにより
生ずる像の縮小効果と集束レンズによる幾何光学的な像
の縮小効果のため、全体での縮小率は小さくなり、１μ
ｍ程度の微細な口径に集束させることができる。
するイオンをビーム上に引き出し、続いて対物スリット
によりイオンビームを１０μｍ×１０μｍ程度に制限す
る。この制限によりイオンビームの電流値がｎＡ程度に
削減されて加速管内に入射し、イオンは該加速管により
加速されて高電圧ターミナルからグランド側のターゲッ
トへ向かうが、イオンビームは小さい口径に絞られてお
り、またイオンビームの電流値が小さいため、加速管の
電極に衝突することが少なくなると共にＸ線発生量が減
少する。更に、質量分離もイオンが加速管に入射する前
のイオンエネルギーが低くまたビーム口径も小さいとき
に行うので、小形の質量分離器で質量分離を行える。イ
オンビームは、ターゲット上に於いて集束するように集
束レンズで集束されるが、途中で加速されることにより
生ずる像の縮小効果と集束レンズによる幾何光学的な像
の縮小効果のため、全体での縮小率は小さくなり、１μ
ｍ程度の微細な口径に集束させることができる。
【０００７】高電圧ターミナル内に対物スリットを収め
たことにより、加速管も集束レンズから結像位置までの
イオン光学上の距離に含めることが出来、イオンビーム
ラインが非常に短くなり、装置をコンパクトに構成する
ことが可能になる。
たことにより、加速管も集束レンズから結像位置までの
イオン光学上の距離に含めることが出来、イオンビーム
ラインが非常に短くなり、装置をコンパクトに構成する
ことが可能になる。
【０００８】
【実施例】本発明の実施例を図２に基づき説明すると、
同図に於いて符号１は容器状の高電圧ターミナルを示
し、該高電圧ターミナル１にはその外部の高電圧電源２
から高電圧が印加される。該高電圧ターミナル１の内部
にはデュオプラズマトロン型、表面電離や液体金属イオ
ン源その他のイオン源３が設けられ、その前方には、該
イオン源３で発生するイオンをビーム状に引き出す引出
電極４と、引き出したイオンビームを収束させるアイン
ツエルレンズ等のレンズ５が設けられる。更に該高電圧
ターミナル１内には、該レンズ５に続いて例えば１０μ
ｍ×１０μｍ程度の開口部を有する対物スリット６、Ｅ
×Ｂフィルターで構成された質量分離器７、イオン電流
を測定するファラデーカップ８及びイオンビームの口径
を制限する補助スリット９が順次に設けられる。
同図に於いて符号１は容器状の高電圧ターミナルを示
し、該高電圧ターミナル１にはその外部の高電圧電源２
から高電圧が印加される。該高電圧ターミナル１の内部
にはデュオプラズマトロン型、表面電離や液体金属イオ
ン源その他のイオン源３が設けられ、その前方には、該
イオン源３で発生するイオンをビーム状に引き出す引出
電極４と、引き出したイオンビームを収束させるアイン
ツエルレンズ等のレンズ５が設けられる。更に該高電圧
ターミナル１内には、該レンズ５に続いて例えば１０μ
ｍ×１０μｍ程度の開口部を有する対物スリット６、Ｅ
×Ｂフィルターで構成された質量分離器７、イオン電流
を測定するファラデーカップ８及びイオンビームの口径
を制限する補助スリット９が順次に設けられる。
【０００９】符号１０は、高電圧ターミナル１内からイ
オンビームを加速してその外部の真空中に引き出す加速
管で、該加速管１０は従来のものと同様に１００ｋＶ〜
数ＭＶの電圧が等配された複数枚の電極で構成される。
この加速管１０の後方には、スキャナ１１とマイクロイ
オンビーム形成用の縮小Ｑマグネットで構成された集束
レンズ１２を介してターゲット１３が設けられる。１４
は高電圧ターミナル１内のイオン源３等に電力を供給す
る電力供給装置である。
オンビームを加速してその外部の真空中に引き出す加速
管で、該加速管１０は従来のものと同様に１００ｋＶ〜
数ＭＶの電圧が等配された複数枚の電極で構成される。
この加速管１０の後方には、スキャナ１１とマイクロイ
オンビーム形成用の縮小Ｑマグネットで構成された集束
レンズ１２を介してターゲット１３が設けられる。１４
は高電圧ターミナル１内のイオン源３等に電力を供給す
る電力供給装置である。
【００１０】その作動を図３を参照しながら説明する
と、引出電極４に数ｋＶ〜数十ｋＶの電圧を印加してイ
オン源３内で発生させたイオンをビーム状に引き出し、
そのビームはアインツエルレンズ５で収束される。該ビ
ームの口径は、対物スリット６を通過するとき数μｍ〜
数１０μｍに制限され、続いて質量分離器７を通過する
とき該ビーム中の所定のイオン以外が取り除かれる。そ
してファラデーカップ８に於いてイオンビームの電流値
が測定調整され、次いでイオンビームの中心軸から離れ
てしまった分散角の大きいイオンは球面収差によるボケ
の原因になるのでこれを補助スリット９で取り除き、残
るイオンを加速管１０に入射させる。該加速管１０を通
過するとき、ビーム状のイオンは加速されると共に多少
の収束が与えられ、次のスキャナ１１で集束レンズ１２
の中心に向かうように制御され、集束レンズ１２でター
ゲット１３の表面上に１μｍ程度の口径のビームとして
入射させることができる。
と、引出電極４に数ｋＶ〜数十ｋＶの電圧を印加してイ
オン源３内で発生させたイオンをビーム状に引き出し、
そのビームはアインツエルレンズ５で収束される。該ビ
ームの口径は、対物スリット６を通過するとき数μｍ〜
数１０μｍに制限され、続いて質量分離器７を通過する
とき該ビーム中の所定のイオン以外が取り除かれる。そ
してファラデーカップ８に於いてイオンビームの電流値
が測定調整され、次いでイオンビームの中心軸から離れ
てしまった分散角の大きいイオンは球面収差によるボケ
の原因になるのでこれを補助スリット９で取り除き、残
るイオンを加速管１０に入射させる。該加速管１０を通
過するとき、ビーム状のイオンは加速されると共に多少
の収束が与えられ、次のスキャナ１１で集束レンズ１２
の中心に向かうように制御され、集束レンズ１２でター
ゲット１３の表面上に１μｍ程度の口径のビームとして
入射させることができる。
【００１１】高電圧ターミナル１の内部に対物スリット
６を設置することによって、エネルギーの小さいイオン
が該対物スリット６に衝突し、その温度上昇も低くイオ
ンの衝突による損傷も小さくなり、また、イオンの加速
管１０への衝突により生じるビーム電流の量が少なくな
るため、高電圧電源２の負荷が軽減されて高電圧電源２
を小形にすることが出来、更にその負荷電流が少ないた
め負荷電流が増大しても加速電圧の変動が少なくなり、
エネルギー幅の狭いイオンビームを安定して得ることが
できる。該加速管１０の前方でイオンビームを絞り、加
速管１０の電極に衝突するイオンが減ることから、２次
電子発生が減少すると共にＸ線量が減少する。また、イ
オンが加速される前のエネルギーが低い時点でしかもビ
ーム径が数１０μｍ程度に制限された状態で質量分離器
により質量分離するので、Ｅ×Ｂフィルターから成る質
量分離器を小形となし得られ、ビーム径が小さいので該
質量分離器の電極間を小さく構成出来、電場形成のため
の電源容量も少なくて済む。
６を設置することによって、エネルギーの小さいイオン
が該対物スリット６に衝突し、その温度上昇も低くイオ
ンの衝突による損傷も小さくなり、また、イオンの加速
管１０への衝突により生じるビーム電流の量が少なくな
るため、高電圧電源２の負荷が軽減されて高電圧電源２
を小形にすることが出来、更にその負荷電流が少ないた
め負荷電流が増大しても加速電圧の変動が少なくなり、
エネルギー幅の狭いイオンビームを安定して得ることが
できる。該加速管１０の前方でイオンビームを絞り、加
速管１０の電極に衝突するイオンが減ることから、２次
電子発生が減少すると共にＸ線量が減少する。また、イ
オンが加速される前のエネルギーが低い時点でしかもビ
ーム径が数１０μｍ程度に制限された状態で質量分離器
により質量分離するので、Ｅ×Ｂフィルターから成る質
量分離器を小形となし得られ、ビーム径が小さいので該
質量分離器の電極間を小さく構成出来、電場形成のため
の電源容量も少なくて済む。
【００１２】該加速管１０によりイオンビームが集束す
ると、集束レンズ１２が光学上の対物レンズに相当する
ので、ターゲット１３上の像のオブジェクトは、図３の
ように見掛け上、対物スリット６の後側に形成され、そ
の縮小率は、図３に示したα／βで与えられるが、実際
にはαはこれよりも小さいα´で与えられる。対物スリ
ット６の作る物像に対し、見掛け上の物像は、加速によ
る像の縮小効果を除けばα／α´となるが、加速の効果
により√Ｅ1／Ｅ2倍に縮小される。ただしＥ1、Ｅ2は加
速の前後におけるエネルギーである。したがって、その
縮小率はα／βより小さくなって微細な１μｍ程度の口
径の像をターゲット１３上に結像させることができる。
ると、集束レンズ１２が光学上の対物レンズに相当する
ので、ターゲット１３上の像のオブジェクトは、図３の
ように見掛け上、対物スリット６の後側に形成され、そ
の縮小率は、図３に示したα／βで与えられるが、実際
にはαはこれよりも小さいα´で与えられる。対物スリ
ット６の作る物像に対し、見掛け上の物像は、加速によ
る像の縮小効果を除けばα／α´となるが、加速の効果
により√Ｅ1／Ｅ2倍に縮小される。ただしＥ1、Ｅ2は加
速の前後におけるエネルギーである。したがって、その
縮小率はα／βより小さくなって微細な１μｍ程度の口
径の像をターゲット１３上に結像させることができる。
【００１３】対物スリット６のイオン源３寄りに設けた
アインツエルレンズ５にビーム縮小作用を営ませると、
集束レンズ１２とで２段の縮小レンズを設けた構成とな
り、イオンビームの輸送中に中性化などによるロスや空
間電荷効果による発散が無視できるほどに小さくなり、
電流密度の高いマイクロイオンビームを得ることができ
る。
アインツエルレンズ５にビーム縮小作用を営ませると、
集束レンズ１２とで２段の縮小レンズを設けた構成とな
り、イオンビームの輸送中に中性化などによるロスや空
間電荷効果による発散が無視できるほどに小さくなり、
電流密度の高いマイクロイオンビームを得ることができ
る。
【００１４】従来の装置では、加速管は質量分離器の前
方に設けられており、イオンビームを絞るラインは該質
量分離器の後方にイオンビーム引き出しラインとは別個
に存在しているので、装置が長くなったが、本発明の装
置では、イオンビームを絞る対物スリット６を高電圧タ
ーミナル１内に設け、絞られたイオンビームを質量分離
し加速管で加速するので、イオンビーム引き出しライン
が短くなり、全体として装置を短く構成できる。
方に設けられており、イオンビームを絞るラインは該質
量分離器の後方にイオンビーム引き出しラインとは別個
に存在しているので、装置が長くなったが、本発明の装
置では、イオンビームを絞る対物スリット６を高電圧タ
ーミナル１内に設け、絞られたイオンビームを質量分離
し加速管で加速するので、イオンビーム引き出しライン
が短くなり、全体として装置を短く構成できる。
【００１５】イオン源３として、アノード径が０．１〜
０．４mmのデュオプラズマトロンイオン源を使用するこ
とが好ましいが、ビームの出発点の小さい液体金属イオ
ン源を使用すると、本発明の装置では０．１μｍ程度に
までビーム径を絞ることができる。
０．４mmのデュオプラズマトロンイオン源を使用するこ
とが好ましいが、ビームの出発点の小さい液体金属イオ
ン源を使用すると、本発明の装置では０．１μｍ程度に
までビーム径を絞ることができる。
【００１６】
【発明の効果】以上のように、本発明に於いては、マイ
クロイオンビーム装置の高電圧ターミナル内のイオン源
から加速管までのイオンの経路に、対物スリットと質量
分離器及び補助スリットを順次介在させたので、ビーム
ラインが短くなって装置を小形化でき、小さなイオン電
流でマイクロイオンビームが得られるのでＸ線の発生が
少なくなり、高電圧電源の負荷電流が小さくなるため加
速電圧の変動が少なくなって、エネルギー幅の狭いイオ
ンビームが得られて集束レンズの色収差による影響がな
くなり、微小な口径のイオンビームが得られ、対物スリ
ットでカットするイオンのエネルギーが小さいので、対
物スリットがイオンの衝突で受ける損傷や温度上昇も小
さくなる等の効果がある。
クロイオンビーム装置の高電圧ターミナル内のイオン源
から加速管までのイオンの経路に、対物スリットと質量
分離器及び補助スリットを順次介在させたので、ビーム
ラインが短くなって装置を小形化でき、小さなイオン電
流でマイクロイオンビームが得られるのでＸ線の発生が
少なくなり、高電圧電源の負荷電流が小さくなるため加
速電圧の変動が少なくなって、エネルギー幅の狭いイオ
ンビームが得られて集束レンズの色収差による影響がな
くなり、微小な口径のイオンビームが得られ、対物スリ
ットでカットするイオンのエネルギーが小さいので、対
物スリットがイオンの衝突で受ける損傷や温度上昇も小
さくなる等の効果がある。
【図１】 従来のマイクロイオンビーム装置の説明図
【図２】 本発明の実施例の説明図
【図３】 図２の装置のイオンビームの制御状態を示
す線図
す線図
【図４】 図３のイオンビームの集束状態の説明図
１ 高電圧ターミナル ２ 高電
圧電源 ３ イオン源 ４ 引出電極 ５ アイ
ンツエルレンズ ６ 対物スリット ７ 質量分離器 ８ ファ
レデーカップ ９ 補助スリット １０ 加速管 １１ スキ
ャナ １２ 集束レンズ １３ ターゲット
圧電源 ３ イオン源 ４ 引出電極 ５ アイ
ンツエルレンズ ６ 対物スリット ７ 質量分離器 ８ ファ
レデーカップ ９ 補助スリット １０ 加速管 １１ スキ
ャナ １２ 集束レンズ １３ ターゲット
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭63−57766（ＪＰ，Ａ) 特開 昭58−210161（ＪＰ，Ａ) 特開 昭64−19664（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−144841（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−234340（ＪＰ，Ａ) 特公 昭48−30702（ＪＰ，Ｂ１) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C23C 14/00 - 14/58
Claims (2)
- 【請求項１】 高電圧ターミナル内に設けたイオン源か
ら引き出したイオンを、加速管により加速して該高電圧
ターミナルの外部へイオンビームとして引き出し、スキ
ャナーと集束レンズを介してターゲットにマイクロイオ
ンビームとして照射するようにした装置に於いて、該高
電圧ターミナル内のイオン源から加速管までのイオンの
経路に、対物スリットと質量分離器及び補助スリットを
順次介在させたことを特徴とするマイクロイオンビーム
装置。 - 【請求項２】 上記イオン源の前方には、イオン源で生
成するイオンを引き出す引出電極と引き出されたイオン
ビームを収束させるアインツエルレンズとを順次設け、
収束したイオンビームを更に続いて設けた対物スリッ
ト、質量分離器、ファラデーカップ及び補助スリットに
より制限することを特徴とする請求項１に記載のマイク
ロイオンビーム装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP04010591A JP3180270B2 (ja) | 1991-03-06 | 1991-03-06 | マイクロイオンビーム装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP04010591A JP3180270B2 (ja) | 1991-03-06 | 1991-03-06 | マイクロイオンビーム装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04280963A JPH04280963A (ja) | 1992-10-06 |
| JP3180270B2 true JP3180270B2 (ja) | 2001-06-25 |
Family
ID=12571582
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP04010591A Expired - Lifetime JP3180270B2 (ja) | 1991-03-06 | 1991-03-06 | マイクロイオンビーム装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3180270B2 (ja) |
-
1991
- 1991-03-06 JP JP04010591A patent/JP3180270B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04280963A (ja) | 1992-10-06 |
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