JP3176038B2 - Semiconductor storage device - Google Patents

Semiconductor storage device

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JP3176038B2
JP3176038B2 JP27617996A JP27617996A JP3176038B2 JP 3176038 B2 JP3176038 B2 JP 3176038B2 JP 27617996 A JP27617996 A JP 27617996A JP 27617996 A JP27617996 A JP 27617996A JP 3176038 B2 JP3176038 B2 JP 3176038B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体記憶装置に
係り、特にメモリセルアレイの分割ブロックのサイズが
不均一なブートブロック構成を有する半導体記憶装置に
おけるアドレス発生回路に係り、例えばNOR型フラッ
シュEEPROMのような一括消去型の電気的消去・再
書込み可能な半導体メモリなどに使用されるものであ
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device, and more particularly to an address generation circuit in a semiconductor memory device having a boot block configuration in which divided blocks of a memory cell array are not uniform. For example, the present invention relates to a NOR type flash EEPROM. It is used for such a batch erasing type electrically erasable / rewritable semiconductor memory.

【0002】[0002]

【従来の技術】現在注目を集めているフラッシュEEP
ROMでは、書き替え可能なセルアレイ領域がブロック
単位に分割されている製品が多くなっている。さらに、
データの書込みや消去の処理をメモリチップ内部で自動
的に実行し、処理結果の良否(パスあるいはフェイル)
を表わす信号を出力して使用者に知らせるオート書込み
やオート消去の採用が主流となっている。
2. Description of the Related Art Flash EEP, which is currently receiving attention
Many ROM products have a rewritable cell array area divided into blocks. further,
Data writing and erasing processes are automatically executed inside the memory chip, and the quality of the processing results (pass or fail)
The use of auto-writing and auto-erasing, which output a signal indicating that the user is informed to the user, has become mainstream.

【0003】このようなフラッシュEEPROMであっ
て、記憶容量が1Mバイトや4Mバイトの従来の製品
は、セルアレイの分割ブロックのサイズが同じである均
等ブロック構成を有し、また、読み出し用の電源電圧V
ccを供給する通常の外部電源と書込み・消去用の電源電
圧Vpp(例えば12V)を供給する書込み・消去専用の
外部電源を用いる二電源方式を採用している。この書込
み・消去専用の外部電源が全てのメモリセルを同時に消
去させるのに必要な電流供給能力を持たせることによ
り、消去させたい領域の複数のブロックをまとめて消去
させることも可能であった。
A conventional product of such a flash EEPROM having a storage capacity of 1 Mbyte or 4 Mbyte has an equal block configuration in which the size of a divided block of a cell array is the same, and a power supply voltage for reading. V
A dual power supply system using a normal external power supply for supplying cc and an external power supply dedicated for writing / erasing for supplying a power supply voltage Vpp (for example, 12 V) for writing / erasing is adopted. By providing the external power supply dedicated for writing / erasing with a current supply capability necessary for erasing all the memory cells at the same time, a plurality of blocks in a region to be erased can be erased collectively.

【0004】ところで、最近のフラッシュEEPROM
では、セルアレイの分割ブロックのサイズが不均一であ
るブートブロック構成を有し、さらに、前記書込み・消
去専用の外部電源を用いない単一源方式を採用した製品
に対する要求が増えている。
By the way, recent flash EEPROMs
Therefore, there is an increasing demand for a product having a boot block configuration in which the size of the divided blocks of the cell array is not uniform, and further employing a single-source system that does not use an external power supply dedicated to writing / erasing.

【0005】このような製品では、メモリに内蔵された
昇圧回路でデータ書き替え時に読み出し用電源電圧Vcc
以上の高電圧を発生させる必要があり、前記昇圧回路に
全てのメモリセルを同時に消去させるのに必要な電流供
給能力を持たせようとすると、昇圧回路の消費電力が非
常に大きくなるので、低消費電力が要求される製品に対
しては不利になる。
In such a product, a read power supply voltage Vcc is used when data is rewritten by a booster circuit built in the memory.
It is necessary to generate the above high voltage, and if it is attempted to provide the booster circuit with a current supply capability necessary for erasing all the memory cells at the same time, the power consumption of the booster circuit becomes extremely large. This is disadvantageous for products that require power consumption.

【0006】そこで、上記昇圧回路の消費電力を抑制す
るためには、消去させたいセルアレイ領域をブロック単
位とし、消去させたい複数のブロックをブロック毎にシ
リアルに自動的に消去(オート消去)させればよい。
Therefore, in order to suppress the power consumption of the booster circuit, the cell array area to be erased is set in units of blocks, and a plurality of blocks to be erased are automatically and automatically erased (auto-erase) for each block. I just need.

【0007】しかし、ブートブロック構成のフラッシュ
EEPROMにオート消去モードを導入しようとする
と、消去させたい複数のブロックに不均一なサイズのブ
ロックが混在する場合があるので、オート消去に際して
消去させたい分割ブロックのサイズに応じてブロック内
部のメモリセルの選択アドレスを発生させるようにアド
レス回路系を工夫する必要がある。
However, when an automatic erase mode is introduced into a flash EEPROM having a boot block structure, a plurality of blocks to be erased may include blocks of non-uniform sizes. It is necessary to devise an address circuit system so as to generate a selection address of a memory cell inside a block according to the size of the block.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】本発明は上記の事情に
鑑みてなされたもので、ブートブロック構成の半導体記
憶装置にオート消去モードを導入する場合に、オート消
去に際して消去対象となるブロック毎にブロックサイズ
に対応したブロックアドレスを生成するとともにブロッ
ク内部のメモリセルを選択するためのブロック内部セル
アドレスを発生し得るアドレス回路系を有する半導体記
憶装置を提供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above circumstances, and when an automatic erase mode is introduced into a semiconductor memory device having a boot block structure, each block to be erased at the time of automatic erase is provided. It is an object of the present invention to provide a semiconductor memory device having an address circuit system capable of generating a block address corresponding to a block size and generating a block internal cell address for selecting a memory cell inside the block.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明の半導体記憶装置
は、不均一なサイズを含むように分割された複数個の分
割ブロックを有するメモリセルアレイと、前記メモリセ
ルアレイのうちのデータ消去の対象となるセルアレイ領
域の複数のブロックをブロック単位としてブロック毎に
シリアルに指定して自動的に消去させるオート消去に際
して、消去対象となるブロック毎にブロックサイズに対
応したブロックアドレスを生成するとともにブロック内
部のメモリセルを選択するためのブロック内部セルアド
レスを発生させるアドレス発生回路とを具備することを
特徴とする。
According to the present invention, there is provided a semiconductor memory device comprising: a memory cell array having a plurality of divided blocks divided so as to have a non-uniform size; At the time of auto-erasing in which a plurality of blocks in the cell array area are serially designated in units of blocks and automatically erased, a block address corresponding to a block size is generated for each block to be erased and a memory inside the block is generated. An address generation circuit for generating a block internal cell address for selecting a cell.

【0010】[0010]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態を詳細に説明する。図1は、本発明の第1の実
施の形態に係るブートブロック(不均一分割ブロック)
構成を有する4MバイトNOR型フラッシュEEPRO
Mのパターンレイアウトの一例を示している。
Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings. FIG. 1 shows a boot block (unevenly divided block) according to the first embodiment of the present invention.
4MB NOR Flash EEPRO with Configuration
An example of an M pattern layout is shown.

【0011】なお、本例のフラッシュEEPROMは、
外部電源から供給される読み出し動作用の電圧を昇圧し
て書込み・消去用の電圧を生成する昇圧回路を内蔵した
単一源方式と、データを消去の対象となるセルアレイ領
域の複数のブロックをブロック単位としてブロック毎に
シリアルに指定して自動的に消去させるオート消去モー
ドを採用している。
Note that the flash EEPROM of this embodiment is
A single-source system with a built-in booster circuit that boosts the read operation voltage supplied from an external power supply to generate write / erase voltages, and blocks multiple blocks in the cell array area from which data is erased An auto-erase mode is adopted in which data is specified serially for each block and automatically erased.

【0012】そして、本発明では、オート消去に際し
て、消去対象となるブロック毎にブロックサイズに対応
したブロックアドレスを生成するとともにブロック内部
のメモリセルを選択するためのブロック内部セルアドレ
スを発生させるアドレス発生機能を有する。
According to the present invention, at the time of automatic erasure, an address generation for generating a block address corresponding to a block size for each block to be erased and generating a block internal cell address for selecting a memory cell inside the block. Has functions.

【0013】図1において、メモリセルアレイ10は、
それぞれ64Kバイトの7個のブロックBK0〜BK6
に分割されており、32Kバイトの1個のブロックBK
7と、16Kバイトの1個のブロックBK10と、それ
ぞれ8Kバイトの2個のブロックBK8、BK9とに分
割されている。
In FIG. 1, a memory cell array 10 includes
7 blocks BK0-BK6 of 64K bytes each
And one block BK of 32 Kbytes
7 and one block BK10 of 16K bytes, and two blocks BK8 and BK9 of 8K bytes each.

【0014】この場合、ブロックBK0〜BK3はロウ
方向に並んで第1の領域101を形成しており、残りの
ブロックBK4〜BK10はロウ方向に並んで第2の領
域102を形成している。
In this case, the blocks BK0 to BK3 are arranged in the row direction to form a first area 101, and the remaining blocks BK4 to BK10 are arranged in the row direction to form a second area 102.

【0015】前記第1の領域101の各ブロックBK0
〜BK3のロウ選択を二重ワード線方式により行うため
の構成として、第1の領域101のロウ方向の一端側に
第1のメインロウデコーダ111が配置され、各ブロッ
クBK0〜BK3のロウ方向の一端側に第1のサブロウ
デコーダ121が配置されている。
Each block BK0 in the first area 101
To BK3 in the row direction, a first main row decoder 111 is arranged at one end of the first area 101 in the row direction, and the blocks BK0 to BK3 are arranged in the row direction. A first sub-row decoder 121 is arranged at one end.

【0016】同様に、前記第2の領域102の各ブロッ
クBK4〜BK10のロウ選択を二重ワード線方式によ
り行うための構成として、第2の領域102のロウ方向
の一端側に第2のメインロウデコーダ112が配置さ
れ、各ブロックBK4〜BK10のロウ方向の一端側に
第2のサブロウデコーダ122が配置されている。
Similarly, as a configuration for performing row selection of each of the blocks BK4 to BK10 of the second area 102 by the double word line method, a second main area is provided at one end side in the row direction of the second area 102. A row decoder 112 is provided, and a second sub-row decoder 122 is provided at one end of each of the blocks BK4 to BK10 in the row direction.

【0017】また、第1の領域101の各ブロックBK
0〜BK3と第2の領域102の各ブロックBK4〜B
K10とはカラム方向に並んでおり、上記両領域間にお
いて、第1の領域101のカラム方向の一端側には第1
のカラムセレクタ131が配置され、第2の領域102
のカラム方向の一端側には第2のカラムセレクタ132
が配置され、上記両カラムセレクタ間にカラムデコーダ
14が配置されている。
Each block BK of the first area 101
0 to BK3 and each block BK4 to BK of the second area 102
K10 are arranged in the column direction, and between the two regions, the first region 101 has a first end on one end side in the column direction.
Of the second area 102 are arranged.
A second column selector 132 is provided at one end in the column direction.
Are arranged, and a column decoder 14 is arranged between the two column selectors.

【0018】図2は、図1中のメモリセルアレイ10に
おけるノア接続されたセル群の一部を取り出して示して
いる。1本のビット線BLに複数のEEPROMセル用
の積層ゲート構造を有するMOSトランジスタQの各ド
レインが共通接続されており、上記複数のトランジスタ
Qの各制御ゲートに複数のワード線WLが対応して接続
されており、上記複数のトランジスタQの各ソースが共
通ソース線SLに接続されている。
FIG. 2 shows a part of a NOR-connected cell group in the memory cell array 10 in FIG. The drains of MOS transistors Q having a stacked gate structure for a plurality of EEPROM cells are commonly connected to one bit line BL, and a plurality of word lines WL correspond to each control gate of the plurality of transistors Q. The respective sources of the plurality of transistors Q are connected to a common source line SL.

【0019】図3は、図1のフラッシュEEPROMに
おけるブロックアドレスの割り付けの一例を示してい
る。図3において、それぞれ64Kバイトの7個のブロ
ックBK0〜BK6のブロック選択を行うためのブロッ
クアドレスとして、18ビットのアドレス信号A17〜A
0 のうちの上位3ビットA17〜A15の組み合わせが使用
され、これらのブロック内セルの選択を行うためのブロ
ック内部セルアドレスとして残りの15ビットA14〜A
0 が使用される。
FIG. 3 shows an example of allocation of block addresses in the flash EEPROM of FIG. In FIG. 3, 18-bit address signals A17 to A17 are used as block addresses for selecting seven blocks BK0 to BK6 each of 64 Kbytes.
0, the combination of the upper three bits A17 to A15 is used, and the remaining 15 bits A14 to A14 are used as block internal cell addresses for selecting these cells in the block.
0 is used.

【0020】32Kバイトの1個のブロックBK7の選
択を行うためのブロックアドレスとして上位4ビットA
17〜A14の組み合わせ(A17〜A15は全て“1”、A14
は“0”)が使用され、そのブロック内セルの選択を行
うためのブロック内部セルアドレスとして残りの14ビ
ットA13〜A0 が使用される。
The upper 4 bits A are used as a block address for selecting one block BK7 of 32 Kbytes.
A combination of 17 to A14 (A17 to A15 are all "1", A14
Is used, and the remaining 14 bits A13 to A0 are used as a block internal cell address for selecting a cell in the block.

【0021】16Kバイトの1個のブロックBK10の
選択を行うためのブロックアドレスとして上位5ビット
A17〜A13の組み合わせ(A17〜A13が全て“1”)が
使用され、そのブロック内セルの選択を行うためのブロ
ック内部セルアドレスとして残りの13ビットA12〜A
0 が使用される。
As a block address for selecting one 16-Kbyte block BK10, a combination of upper five bits A17 to A13 (A17 to A13 are all "1") is used to select a cell in the block. 13 bits A12 to A12 as the block internal cell address for
0 is used.

【0022】それぞれ8Kバイトの2個のブロックBK
8、BK9の選択を行うためのブロックアドレスとして
上位6ビットA17〜A12の組み合わせ(A17〜A14は全
て“1”、A13は“0”、A12は“0”または“1”)
が使用され、これらのブロック内セルの選択を行うため
のブロック内部セルアドレスとして残りの12ビットA
11〜A0 が使用される。
Two blocks BK each of 8 Kbytes
8, a combination of upper six bits A17 to A12 as block addresses for selecting BK9 (A17 to A14 are all "1", A13 is "0", A12 is "0" or "1")
Are used, and the remaining 12 bits A are used as a block internal cell address for selecting these cells in the block.
11 to A0 are used.

【0023】図4は、図1のフラッシュEEPROMの
オート消去モードにおけるシーケンスの一例を示すフロ
ーチャートである。まず、消去させたいブロックについ
て、ブロック内の1ワード単位での書込み処理・書込み
ベリファイ処理を全てのアドレスに対して実行するよう
に繰り返す。この書込み・ベリファイ処理は、図2中に
示したようなノア接続を有するNOR型フラッシュEE
PROMに対して消去を行う際にセルの過消去が生じる
ことを予防するための処理である。
FIG. 4 is a flow chart showing an example of a sequence in the auto erase mode of the flash EEPROM of FIG. First, for a block to be erased, write processing and write verify processing in units of one word in the block are repeated so as to be executed for all addresses. This write / verify processing is performed by a NOR type flash EE having a NOR connection as shown in FIG.
This is a process for preventing over-erasure of cells when erasing the PROM.

【0024】次に、消去させたいセルアレイ領域をブロ
ック単位とし、消去させたいブロック毎に1ワード単位
での消去処理・消去ベリファイ処理を全てのアドレスに
対して実行するように繰り返すことにより、消去させた
い複数のブロックをブロック毎にシリアルに自動的に消
去する。
Next, the cell array area to be erased is set as a block unit, and the erasing process and the erase verifying process are performed in units of one word for each block to be erased so as to be repeated for all the addresses, thereby performing the erasing. Automatically serially erase desired blocks serially for each block.

【0025】この際、図1のフラッシュEEPROMに
おけるアドレス回路系は、消去対象となるブロック毎に
ブロックサイズに対応したブロックアドレスを生成する
とともにブロック内部のメモリセルを選択するためのブ
ロック内部セルアドレスを自動的に発生させる機能を有
する。
At this time, the address circuit system in the flash EEPROM shown in FIG. 1 generates a block address corresponding to the block size for each block to be erased, and outputs a block internal cell address for selecting a memory cell inside the block. It has a function to generate automatically.

【0026】図5は、図1のフラッシュEEPROMに
おけるアドレス回路系を示すブロック図である。アドレ
ス入力端子(パッド)41に外部から入力する外部アド
レス信号はアドレスバッファ回路42に入力する。
FIG. 5 is a block diagram showing an address circuit system in the flash EEPROM of FIG. An external address signal externally input to the address input terminal (pad) 41 is input to the address buffer circuit 42.

【0027】アドレス発生回路43は、前記メモリセル
アレイのうちのデータ消去の対象となるセルアレイ領域
の複数のブロックに対してブロック単位としてブロック
毎にシリアルに指定して自動的に消去させるオート消去
に際して、消去対象となるブロック毎にブロックサイズ
に対応したブロックアドレスを生成するとともにブロッ
ク内部のメモリセルを選択するためのブロック内部セル
アドレスを発生させるものであり、本例ではアドレスカ
ウンタ51、ロジック回路52およびアドレス合成回路
53により構成されている。
The address generation circuit 43 performs serial erasure by automatically designating a plurality of blocks in the cell array area of the memory cell array to be erased in units of blocks and automatically erasing them. A block address corresponding to the block size is generated for each block to be erased, and a block internal cell address for selecting a memory cell inside the block is generated. In this example, an address counter 51, a logic circuit 52, It is composed of an address synthesis circuit 53.

【0028】前記アドレスバッファ回路42から出力す
るアドレス信号とアドレス発生回路43から出力するア
ドレス信号とは選択回路44に入力し、通常動作時には
アドレスバッファ回路42から出力するアドレス信号が
選択され、オート消去動作時にはアドレス発生回路43
から出力するアドレス信号が選択され、この選択された
アドレス信号はアドレスデコーダ(前記各ロウデコー
ダ、カラムデコーダ)に入力する。
An address signal output from the address buffer circuit 42 and an address signal output from the address generation circuit 43 are input to a selection circuit 44. During a normal operation, the address signal output from the address buffer circuit 42 is selected, and an automatic erase operation is performed. During operation, the address generation circuit 43
Is selected, and the selected address signal is input to an address decoder (each of the row decoder and the column decoder).

【0029】図6は、図5中のアドレス発生回路43の
一例を示す回路図である。図7は、図6中のアドレスカ
ウンタ51の出力信号の一部、ロジック回路52の内部
論理信号の一部、アドレス合成回路53の出力信号の一
部の論理レベルと消去指定されたブロックとの対応関係
の一例を示す図である。
FIG. 6 is a circuit diagram showing an example of the address generation circuit 43 in FIG. FIG. 7 shows a part of the output signal of the address counter 51, a part of the internal logic signal of the logic circuit 52, the logical level of a part of the output signal of the address synthesizing circuit 53, and the block designated to be erased. It is a figure showing an example of correspondence.

【0030】前記アドレスカウンタ51は、19段のフ
リップフロップ回路FF0〜FF18からなり、カウン
ト動作に伴って出力信号AC18 〜AC0がオール“0”か
らオール“1”まで変化する。
The address counter 51 comprises 19 stages of flip-flop circuits FF0 to FF18, and the output signals AC18 to AC0 change from all "0" to all "1" with the counting operation.

【0031】ロジック回路52は、上記アドレスカウン
タ51の出力信号のうち所定の上位ビット信号AC18 〜
AC12 を処理し、消去対象となるブロックのブロックサ
イズに応じて固定のブロックアドレスを出力するもので
ある。
The logic circuit 52 outputs a predetermined high-order bit signal AC18 to
AC12 is processed, and a fixed block address is output in accordance with the block size of the block to be erased.

【0032】アドレス合成回路53は、前記ロジック回
路52から出力する固定のブロックアドレス信号を上位
ビットとし、前記アドレスカウンタ51の出力信号のう
ちの可変の所定の下位ビット信号からなる前記ブロック
内部セルアドレスを下位ビットとしてアドレス信号ADD
17〜ADD0 を合成するものである。
The address synthesizing circuit 53 sets the fixed block address signal output from the logic circuit 52 as an upper bit, and the block internal cell address comprising a variable predetermined lower bit signal of the output signal of the address counter 51. Signal DD as the lower bit
17 to ADD0.

【0033】次に、図6中のロジック回路52の構成お
よび動作を詳細に説明する。前記アドレス信号AC17 お
よびAC18 は二入力ノアゲート61に入力し、このノア
ゲート61の出力がインバータ62により反転されて論
理信号AL17 となり、この論理信号AL17 が二段のイン
バータ63、64により波形整形された後にアドレス信
号ADD17として使用される。
Next, the configuration and operation of the logic circuit 52 in FIG. 6 will be described in detail. The address signals AC17 and AC18 are input to a two-input NOR gate 61. The output of the NOR gate 61 is inverted by an inverter 62 to become a logic signal AL17. After the logic signal AL17 is shaped by two-stage inverters 63 and 64, Used as an address signal ADD17.

【0034】前記アドレス信号AC16 およびAC18 は二
入力ノアゲート65に入力し、このノアゲート65の出
力がインバータ66により反転されて論理信号AL16 と
なり、この論理信号AL16 が二段のインバータ67、6
8により波形整形された後にアドレス信号ADD16として
使用される。
The address signals AC16 and AC18 are input to a two-input NOR gate 65, and the output of the NOR gate 65 is inverted by an inverter 66 to become a logic signal AL16. The logic signal AL16 is converted into a two-stage inverter 67,6.
8 is used as the address signal ADD16 after waveform shaping.

【0035】前記アドレス信号AC15 およびAC18 は二
入力ノアゲート69に入力し、このノアゲート69の出
力はインバータ70により反転されて論理信号AL15 と
なり、この論理信号AL15 が二段のインバータ71、7
2により波形整形された後にアドレス信号ADD15として
使用される。
The address signals AC15 and AC18 are input to a two-input NOR gate 69, and the output of the NOR gate 69 is inverted by an inverter 70 to become a logic signal AL15, and the logic signal AL15 is converted into two-stage inverters 71, 7
2 is used as an address signal ADD15 after waveform shaping.

【0036】第1のアドレス切替回路91は、消去指定
されたブロックに応じて後述するように生成される論理
信号BL14 が制御信号として入力し、前記アドレス信号
AC14 および後述するように生成される論理信号AL14
のいずれかを選択する。
The first address switching circuit 91 receives, as a control signal, a logic signal BL14 generated as will be described later in accordance with the block designated to be erased, and outputs the address signal AC14 and a logic generated as described later. Signal AL14
Select one of

【0037】この場合、上記論理信号AL14 は、消去指
定されたブロックがBK7である場合には論理レベルが
“0”、消去指定されたブロックがBK8〜BK10の
いずれかである場合には論理レベルが“1”になる。
In this case, the logic level of the logic signal AL14 is "0" when the block designated to be erased is BK7, and when the block designated to be erased is any of BK8 to BK10. Becomes “1”.

【0038】また、前記論理信号BL14 は、消去指定さ
れたブロックがBK0〜BK6のいずれかである場合に
は論理レベルが“1”になって可変のアドレス信号AC1
4 を選択し、消去指定されたブロックがBK7〜BK1
0のいずれかである場合には論理レベルが“0”になっ
て論理信号AL14 を選択し、この選択された出力がアド
レス信号ADD14として使用される。
When the block designated to be erased is any of BK0 to BK6, the logic level of the logic signal BL14 becomes "1" and the variable address signal AC1 is changed to "1".
4 is selected and blocks designated for erasure are BK7 to BK1.
If it is any one of 0, the logic level becomes "0" and the logic signal AL14 is selected, and the selected output is used as the address signal ADD14.

【0039】なお、前記論理信号AL14 を生成する回路
は、前記アドレス信号AC18 を波形整形する二段のイン
バータ73、74と、この二段のインバータの出力をさ
らに波形整形する二段のインバータ75、76とを有す
る。
The circuit for generating the logic signal AL14 includes two-stage inverters 73 and 74 for shaping the waveform of the address signal AC18, and a two-stage inverter 75 for further shaping the output of the two-stage inverter. 76.

【0040】また、前記論理信号BL14 を生成する回路
は、前記論理信号AL17 、AL16 、AL15 が入力する三
入力ナンドゲート77と、このナンドゲート77の出力
を波形整形する二段のインバータ78、79とを有す
る。
The circuit for generating the logic signal BL14 includes a three-input NAND gate 77 to which the logic signals AL17, AL16, and AL15 are input, and two-stage inverters 78 and 79 for shaping the output of the NAND gate 77. Have.

【0041】第2のアドレス切替回路92は、消去指定
されたブロックに応じて後述するように生成される論理
信号BL13 が制御信号として入力し、前記アドレス信号
AC13 および後述するように生成される論理信号AL13
のいずれかを選択する。
The second address switching circuit 92 receives as a control signal a logic signal BL13 generated as will be described later in accordance with the block designated to be erased, and outputs the address signal AC13 and a logic generated as described later. Signal AL13
Select one of

【0042】この場合、上記論理信号AL13 は、消去指
定されたブロックがBK8〜BK9のいずれかである場
合には論理レベルが“0”、消去指定されたブロックが
BK10である場合には論理レベルが“1”になる。
In this case, the logic signal AL13 has a logic level "0" when the block designated to be erased is any of BK8 to BK9, and a logic level when the block designated to be erased is BK10. Becomes “1”.

【0043】また、前記論理信号BL13 は、消去指定さ
れたブロックがBK0〜BK7のいずれかである場合に
は論理レベルが“1”になって可変のアドレス信号AC1
3 を選択し、消去指定されたブロックがBK8〜BK1
0のいずれかである場合には論理レベルが“0”になっ
て論理信号AL13 を選択し、この選択された出力がアド
レス信号ADD13として使用される。
When the block designated to be erased is any one of BK0 to BK7, the logic level of the logic signal BL13 becomes "1" and the variable address signal AC1 becomes variable.
3 is selected and blocks designated for erasure are BK8 to BK1.
If it is any of 0, the logic level becomes "0" and the logic signal AL13 is selected, and the selected output is used as the address signal ADD13.

【0044】前記論理信号AL13 を生成する回路は、前
記アドレス信号AC16 およびAC18が入力する二入力ナ
ンドゲート80と、このナンドゲート80の出力を反転
するインバータ81と、このインバータ81の出力を波
形整形する二段のインバータ82、83とを有する。
The circuit for generating the logic signal AL13 includes a two-input NAND gate 80 to which the address signals AC16 and AC18 are input, an inverter 81 for inverting the output of the NAND gate 80, and a second input for shaping the output of the inverter 81. And inverters 82 and 83 in stages.

【0045】また、前記論理信号BL13 を生成する回路
は、前記アドレス信号AC18 を波形整形する前記二段の
インバータ73、74の出力が入力するインバータ84
と、前記論理信号AL17 、AL16 、AL15 が入力する前
記三入力ナンドゲート77の出力が入力する前記インバ
ータ78と、前記2つのインバータ84、78の各出力
が入力する二入力ナンドゲート85と、このナンドゲー
ト85の出力B16および前記論理信号AL14 が入力する
二入力ノアゲート86とを有する。
The circuit for generating the logic signal BL13 comprises an inverter 84 to which the outputs of the two-stage inverters 73 and 74 for shaping the waveform of the address signal AC18 are inputted.
The inverter 78 to which the output of the three-input NAND gate 77 to which the logic signals AL17, AL16, and AL15 are input; the two-input NAND gate 85 to which the respective outputs of the two inverters 84 and 78 are input; And a two-input NOR gate 86 to which the logic signal AL14 is inputted.

【0046】第3のアドレス切替回路93は、消去指定
されたブロックに応じて後述するように生成される論理
信号BL12 が制御信号として入力し、前記アドレス信号
AC12 および後述するように生成される論理信号AL12
のいずれかを選択する。
The third address switching circuit 93 receives, as a control signal, a logic signal BL12 generated as described later in accordance with the block designated to be erased, and outputs the address signal AC12 and a logic generated as described later. Signal AL12
Select one of

【0047】この場合、上記論理信号AL12 は、消去指
定されたブロックがBK8である場合には論理レベルが
“0”、消去指定されたブロックがBK9である場合に
は論理レベルが“1”になる。
In this case, the logic level of the logic signal AL12 is "0" when the block designated for erasing is BK8, and "1" when the block designated for erasing is BK9. Become.

【0048】また、前記論理信号BL12 は、消去指定さ
れたブロックがBK0〜BK7、BK10のいずれかで
ある場合には論理レベルが“1”になって可変のアドレ
ス信号AC12 を選択し、消去指定されたブロックがBK
8、BK9のいずれかである場合には論理レベルが
“0”になって論理信号AL12 を選択し、この選択され
た出力がアドレス信号ADD12として使用される。
When the block designated to be erased is any one of BK0 to BK7 and BK10, the logic level of the logic signal BL12 is set to "1" to select a variable address signal AC12 and to designate the erase designated. Block is BK
In the case of any one of 8 and BK9, the logic level becomes "0" to select the logic signal AL12, and the selected output is used as the address signal ADD12.

【0049】前記論理信号AL12 を生成する回路は、前
記アドレス信号AC15 およびAC18が入力する前記二入
力ナンドゲート87と、このナンドゲート87の出力を
反転するインバータ88と、このインバータ88の出力
を波形整形する二段のインバータ89、90とを有す
る。
The circuit for generating the logic signal AL12 includes the two-input NAND gate 87 to which the address signals AC15 and AC18 are input, an inverter 88 for inverting the output of the NAND gate 87, and a waveform shaping of the output of the inverter 88. It has two-stage inverters 89 and 90.

【0050】また、前記論理信号BL12 を生成する回路
は、前記論理信号AL17 、AL16 、AL15 が入力する前
記三入力ナンドゲート77と、このナンドゲート77の
出力が入力する前記インバータ78と、前記アドレス信
号AC16 およびAC18 が入力する前記二入力ナンドゲー
ト80と、このこのナンドゲート80の出力が入力する
前記インバータ81と、このインバータ81の出力が入
力するインバータ94と、前記アドレス信号AC18 を波
形整形する前記二段のインバータ73、74の出力およ
び前記2つのインバータ78、94の各出力が入力する
三入力ナンドゲート95とを有する。
The circuit for generating the logic signal BL12 includes the three-input NAND gate 77 to which the logic signals AL17, AL16, and AL15 are input, the inverter 78 to which the output of the NAND gate 77 is input, and the address signal AC16. And AC18, the two-input NAND gate 80, the inverter 81 to which the output of the NAND gate 80 is input, the inverter 94 to which the output of the inverter 81 is input, and the two-stage NAND gate for shaping the waveform of the address signal AC18. It has a three-input NAND gate 95 to which the outputs of the inverters 73 and 74 and the outputs of the two inverters 78 and 94 are input.

【0051】次に、図5中のアドレス発生回路43の動
作について、図6および図7を参照しながら説明する。
前記アドレスカウンタ51の出力信号AC17 〜AC0が変
化している間に、ブロックアドレスADD17〜ADD15の組
み合わせに応じてブロックBK0〜BK6を順次指定
し、この時の前記ブロック内部セルアドレスADD14〜A
DD0 として上記アドレスカウンタ51の出力信号のうち
の下位ビット信号AC14 〜AC0を出力する。
Next, the operation of the address generation circuit 43 in FIG. 5 will be described with reference to FIGS.
While the output signals AC17 to AC0 of the address counter 51 are changing, the blocks BK0 to BK6 are sequentially designated in accordance with the combination of the block addresses ADD17 to ADD15.
The lower bit signals AC14 to AC0 of the output signal of the address counter 51 are output as DD0.

【0052】次に、前記アドレスカウンタ51の出力信
号AC18 が“0”から“1”に変化した後にアドレスカ
ウンタ51の出力信号AC17 〜AC0が変化している間
に、ブロックアドレスADD17〜ADD12の組み合わせに応
じてブロックBK7〜BK10を順次指定し、この時の
前記ブロック内部セルアドレスADD13〜ADD0 あるいは
ADD12〜ADD0 あるいはADD11〜ADD0 として前記アド
レスカウンタ51の出力信号のうちの下位ビット信号A
C13 〜AC0あるいはAC12 〜AC0あるいはAC11〜AC
を出力する。
Next, while the output signals AC17 to AC0 of the address counter 51 change after the output signal AC18 of the address counter 51 changes from "0" to "1", the combination of the block addresses AD17 to ADD12 is changed. Blocks BK7 to BK10 are sequentially designated in accordance with the above, and the lower bit signal A of the output signal of the address counter 51 is designated as the block internal cell address ADD13 to ADD0 or ADD12 to ADD0 or ADD11 to ADD0 at this time.
C13 to AC0 or AC12 to AC0 or AC11 to AC
Is output.

【0053】図8は、図5中のアドレスカウンタ回路の
一段分を取り出して一例を示しており、この回路自体は
よく知られているのでその詳細な説明は省略する。図9
は、図5中のアドレス切替回路の1つを取り出して一例
を示しており、この回路自体はよく知られているのでそ
の詳細な説明は省略する。
FIG. 8 shows an example of one stage of the address counter circuit shown in FIG. 5 taken out, and since this circuit itself is well known, a detailed description thereof will be omitted. FIG.
Shows an example of one of the address switching circuits shown in FIG. 5, which is well known and will not be described in detail.

【0054】[0054]

【発明の効果】上述したように本発明によれば、ブート
ブロック構成の半導体記憶装置にオート消去モードを導
入する場合に、オート消去に際して消去対象となるブロ
ック毎にブロックサイズに対応したブロックアドレスを
生成するとともにブロック内部のメモリセルを選択する
ためのブロック内部セルアドレスを発生し得るアドレス
回路系を有する半導体記憶装置を提供することができ
る。
As described above, according to the present invention, when the automatic erase mode is introduced into a semiconductor memory device having a boot block configuration, a block address corresponding to the block size is assigned to each block to be erased at the time of automatic erase. It is possible to provide a semiconductor memory device having an address circuit system capable of generating a block internal cell address for generating and selecting a memory cell inside a block.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1の実施の形態に係るブートブロッ
ク構成を有する4MバイトNOR型フラッシュEEPR
OMのパターンレイアウトの一例を示すブロック図。
FIG. 1 is a 4 Mbyte NOR type flash EEPROM having a boot block configuration according to a first embodiment of the present invention;
FIG. 2 is a block diagram showing an example of an OM pattern layout.

【図2】図1中のメモリセルアレイにおけるノア接続さ
れたセル群の一部を取り出して示す回路図。
FIG. 2 is a circuit diagram showing a part of a NOR-connected cell group in the memory cell array in FIG. 1;

【図3】図1のフラッシュEEPROMにおけるブロッ
クアドレスの割り付けの一例を示す図。
FIG. 3 is a diagram showing an example of allocation of block addresses in the flash EEPROM of FIG. 1;

【図4】図1のフラッシュEEPROMのオート消去モ
ードにおけるシーケンスの一例を示すフローチャート。
FIG. 4 is a flowchart showing an example of a sequence in an auto erase mode of the flash EEPROM of FIG. 1;

【図5】図1のフラッシュEEPROMにおけるアドレ
ス回路系を示すブロック図。
FIG. 5 is a block diagram showing an address circuit system in the flash EEPROM of FIG. 1;

【図6】図5中のアドレス発生回路の一例を示す回路
図。
FIG. 6 is a circuit diagram showing an example of an address generation circuit in FIG. 5;

【図7】図6中のアドレスカウンタの出力信号、ロジッ
ク回路の内部信号の論理レベルと消去指定されたブロッ
クとの対応関係の一例を示す図。
FIG. 7 is a diagram showing an example of a correspondence relationship between an output signal of an address counter in FIG. 6, a logic level of an internal signal of a logic circuit, and a block designated to be erased;

【図8】図5中のアドレスカウンタ回路の一段分を取り
出して一例を示す回路図。
FIG. 8 is a circuit diagram showing an example of one stage of the address counter circuit shown in FIG. 5;

【図9】図5中のアドレス切替回路の1つを取り出して
一例を示す回路図。
FIG. 9 is a circuit diagram showing an example of one of the address switching circuits shown in FIG. 5;

【符号の説明】 10…メモリセルアレイ、 101…第1の領域、 102…第2の領域、 111…第1のメインロウデコーダ、 112…第2のメインロウデコーダ、 121…第1のサブロウデコーダ、 122…第2のサブロウデコーダ、 131…第1のカラムセレクタ、 132…第2のカラムセレクタ、 14…カラムデコーダ、 BK0〜BK10…分割ブロック、 41…アドレス入力端子(パッド)、 42…アドレスバッファ回路、 43…アドレス発生回路、 44…選択回路、 51…アドレスカウンタ、 52…ロジック回路、 53…アドレス合成回路、 91〜93…アドレス切替回路。[Explanation of Reference Codes] 10: memory cell array, 101: first area, 102: second area, 111: first main row decoder, 112: second main row decoder, 121: first sub row decoder, Reference numeral 122: second sub-row decoder, 131: first column selector, 132: second column selector, 14: column decoder, BK0 to BK10: divided block, 41: address input terminal (pad), 42: address buffer circuit 43, an address generation circuit, 44, a selection circuit, 51, an address counter, 52, a logic circuit, 53, an address synthesis circuit, 91 to 93, an address switching circuit.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平8−22404(JP,A) 特開 昭58−105489(JP,A) 特開 平4−351794(JP,A) 特開 平7−176196(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G11C 16/00 - 16/34 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of front page (56) References JP-A-8-22404 (JP, A) JP-A-58-105489 (JP, A) JP-A-4-351794 (JP, A) JP-A-7-107 176196 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) G11C 16/00-16/34

Claims (4)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 不均一なブロックサイズを含むように分
割された複数個の分割ブロックを有するメモリセルアレ
イと、 前記メモリセルアレイのうちのデータ消去の対象となる
セルアレイ領域の複数のブロックをブロック単位として
ブロック毎にシリアルに指定して自動的に消去させるオ
ート消去に際して、前記消去対象となるブロック毎にフ
ロックサイズに対応したブロックアドレスを生成すると
ともにブロック内部のメモリセルを選択するためのブロ
ック内部セルアドレスを発生させるアドレス発生回路
を有し、 前記アドレス発生回路は、複数ビットのアドレス信号を
生成するためのアドレスカウンタと、 前記アドレスカウンタの出力信号のうち所定の上位ビッ
ト信号を処理し、消去対象となるブロックのブロックサ
イズに応じてブロックアドレスを出力するロジック回路
と、 前記ロジック回路から出力する固定のブロックアドレス
信号を上位ビットとし、前記アドレスカウンタの出力信
号のうちの可変の所定の下位ビット信号からなる前記ブ
ロック内部セルアドレスを下位ビットとして合成するア
ドレス合成回路とを具備すること を特徴とする半導体記
憶装置。
1. A memory cell array having a plurality of divided blocks divided so as to include a non-uniform block size, and a plurality of blocks in a cell array area to be erased in the memory cell array in block units. At the time of automatic erasing in which data is automatically erased by serially designating each block, a block address corresponding to a floc size is generated for each block to be erased, and a block internal cell address for selecting a memory cell inside the block. And an address generating circuit for generating
And the address generation circuit generates a plurality of bits of an address signal.
An address counter for generating, and a predetermined upper bit of an output signal of the address counter.
Block signal for the block to be erased.
Logic circuit that outputs block address according to noise
And a fixed block address output from the logic circuit
Signal as the upper bit, the output signal of the address counter
Said block comprising a variable predetermined lower bit signal of
Lock internal cell address as lower bit
A semiconductor memory device comprising a dress synthesizing circuit .
【請求項2】 さらに、アドレス入力端子に外部から入
力する外部アドレス信号が入力するアドレス入力バッフ
ァ回路と、 前記アドレス入力バッファ回路から出力するアドレス信
号と前記アドレス発生回路から出力するアドレス信号と
が入力し、通常動作時には前記アドレス入力バッファ回
路から出力するアドレス信号を選択し、オート消去動作
時にはアドレス発生回路から出力するアドレス信号を選
択する選択回路と、 前記選択回路で選択されたアドレス信号が入力するアド
レスデコーダとを具備することを特徴とする請求項1に
記載の半導体記憶装置。
2. An address input buffer circuit to which an external address signal input from the outside is input to an address input terminal, and an address signal output from the address input buffer circuit and an address signal output from the address generation circuit are input. A selection circuit that selects an address signal output from the address input buffer circuit during a normal operation, selects an address signal output from an address generation circuit during an auto-erase operation, and receives an address signal selected by the selection circuit. 2. The semiconductor memory device according to claim 1, further comprising an address decoder.
【請求項3】 前記ロジック回路は、消去対象となるブ
ロックのブロックサイズに応じて、所定の論理レベルに
設定される論理信号または前記アドレスカウンタから出
力する複数ビットのアドレス信号のうちで前記不均一な
ブロックサイズに関連するビット信号を選択する切替回
路を具備することを特徴とする請求項 1又は2に記載の
半導体記憶装置。
3. The non-uniformity among a logic signal set to a predetermined logic level or a multi-bit address signal output from the address counter according to a block size of a block to be erased. 3. The semiconductor memory device according to claim 1 , further comprising a switching circuit for selecting a bit signal related to a different block size.
【請求項4】 前記半導体記憶装置はフラッシュEEP
ROMであり、 前記メモリセルアレイは、前記複数個の分割ブロックの
一部がロウ方向に並んで配置された第1の領域および前
記複数個の分割ブロックのうちの残りの分割ブロックが
ロウ方向に並ぶとともに前記第1の領域とはカラム方向
に並んで配置された第2の領域に区分されており、 さらに、前記第1の領域において各ブロックのロウ方向
の一端側に対応して配置された複数個の第1のサブロウ
デコーダと、前記第1の領域のロウ方向の一端側に配置
された第1のメインロウデコーダと、前記第2の領域に
おいて各ブロックのロウ方向の一端側に対応して配置さ
れた複数個の第2のサブロウデコーダと、前記第2の領
域のロウ方向の一端側に配置された第2のメインロウデ
コーダと、前記第1の領域および第2の領域の領域間に
おいて前記第1の領域のカラム方向の一端側に配置され
た第1のカラムセレクタおよび前記第2の領域のカラム
方向の一端側に配置された第2のカラムセレクタと、前
記第1のカラムセレクタおよび第2のカラムセレクタの
間に配置されたセンスアンプと、外部電源から供給され
る読み出し動作用の電圧を昇圧して書込み・消去用の電
圧を生成する昇圧回路とを具備することを特徴とする
求項1乃至3のいずれか1項に記載の半導体記憶装置。
4. The semiconductor device according to claim 1, wherein said semiconductor memory device is a flash EEP.
The memory cell array, wherein the memory cell array has a first region in which some of the plurality of divided blocks are arranged in the row direction and the remaining divided blocks of the plurality of divided blocks are arranged in the row direction. And the first area is divided into a second area arranged side by side in the column direction, and a plurality of areas arranged corresponding to one end of each block in the row direction in the first area. A plurality of first sub-row decoders, a first main row decoder arranged at one end of the first region in the row direction, and a first sub-row decoder corresponding to one end of each block in the second region in the row direction. A plurality of second sub-row decoders arranged, a second main row decoder arranged at one end of the second region in the row direction, and a gap between the first region and the second region. A first column selector disposed at one end in the column direction of the first region and a second column selector disposed at one end in the column direction of the second region; A sense amplifier disposed between the second column selectors; and a booster circuit that boosts a read operation voltage supplied from an external power supply and generates a write / erase voltage. Contract
4. The semiconductor memory device according to claim 1.
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