JP3165506B2 - Aluminum chemical vapor deposition coating method - Google Patents
Aluminum chemical vapor deposition coating methodInfo
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Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、ガスタービン動・静翼
等に適用されるアルミニウム化学蒸着（以下ＣＶＤとい
う；Chemical Vapor Deposition)コーティング方法に関
する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for coating aluminum by chemical vapor deposition (hereinafter referred to as CVD) applied to gas turbine moving and stationary blades.
【０００２】[0002]
【従来の技術】コンバインドサイクルプラントに代表さ
れる高効率化された最近の産業用ガスタービンは、ター
ビン入口温度の上昇が著しく１３００℃以上となってい
る。この高温ガスに暴露される動・静翼に使用される耐
熱合金は精力的な研究開発が行なわれ、その許容使用温
度も年々上昇しているが、実用合金では８５０〜９００
℃にとどまっている。2. Description of the Related Art In recent industrial gas turbines of high efficiency represented by combined cycle plants, the temperature at the turbine inlet has risen remarkably to 1300 ° C. or more. The heat-resistant alloy used for the moving and stationary blades exposed to the high-temperature gas has been vigorously researched and developed, and its allowable use temperature is increasing year by year.
℃.
【０００３】このため、実機ガスタービンでは、翼内面
に冷却孔を設けて空気を流通させ翼全体の温度を許容温
度以下に保つために、図２に示すようないわゆる空気冷
却翼が使用されている。For this reason, a so-called air-cooled blade as shown in FIG. 2 is used in an actual gas turbine in order to provide cooling holes on the inner surface of the blade to allow air to flow and keep the temperature of the entire blade below an allowable temperature. I have.
【０００４】しかし、近年のガスタービン入口温度の上
昇は、この空気冷却孔の内面の温度をも上昇させ、なん
らかの高温酸化防止対策を施す必要が生じ、ガスタービ
ン動・静翼に高温耐食・耐酸化性を付与することが行な
われるようになってきている。[0004] However, the recent rise in the temperature of the gas turbine inlet also raises the temperature of the inner surface of the air cooling hole, and it is necessary to take some high-temperature oxidation prevention measures. It is becoming possible to impart chemical properties.
【０００５】上記高温耐食・耐酸化性をガスタービン動
・静翼等に付与する従来の高温酸化・高温腐食防止対策
としては、金属表面技術便覧（金属表面技術協会編、２
５０〜２５５ページ）に記載されているように、アルミ
ナ（Ａｌ2 Ｏ3 ）、アルミニウム（Ａｌ）、塩化アンモ
ニア（ＮＨ4 Ｃｌ）の粉末中に被処理材を埋め込み、８
００〜１１００℃で還元性ガス（Ｈ2 ）を通すことによ
り、被処理材の表面にＡｌを析出させるパックセメンテ
ーションによるＡｌ拡散浸透処理（カロライジング法）
があった。As a conventional high-temperature oxidation / high-temperature corrosion prevention measure for imparting the high-temperature corrosion / oxidation resistance to a gas turbine moving blade or a stationary blade, a metal surface technology handbook (Metal Surface Technology Association, 2
As described in (Pages 50 to 255), the material to be treated is embedded in a powder of alumina (Al 2 O 3 ), aluminum (Al), and ammonium chloride (NH 4 Cl).
By passing a reducing gas (H 2) at 00 to 1100 ° C., Al diffusion treatment by pack cementation to deposit Al on the surface of the object to be treated (calorizing method)
was there.
【０００６】また、最近では、被処理材の狭隘部にもコ
ーティング層を形成させるものとして、昇華させたＡｌ
Ｃｌ3 を減圧した反応炉内にキャリアガスのＨ2 ガスに
より送り込み、被処理材の表面にコーティング層を形成
させる減圧ＣＶＤ法が検討されている（第７７回講演大
会要旨集に掲載された「減圧ＣＶＤ法によるＮｉ管内孔
面へのＡｌコーティングの検討」、金属表面技術協会
編）。Recently, sublimated Al has been used to form a coating layer even on a narrow portion of a material to be processed.
A low-pressure CVD method for forming a coating layer on the surface of a material to be processed by feeding H 2 gas into a reactor in which Cl 3 has been decompressed has been studied (see the 77th Lecture Meeting Abstract). Examination of Al coating on inner surface of Ni tube by low pressure CVD method ”, edited by Metal Surface Technology Association).
【０００７】[0007]
【発明が解決しようとする課題】従来の方法において、
パックセメンテーションによるＡｌ拡散浸透処理方法の
場合は、ガスタービン動・静翼はＡｌ等の粉末中へ埋込
まれるが、狭隘な冷却孔内面にコーティング層を形成し
ようとしても粉末が冷却孔内に十分挿入できず、コーテ
ィングが不十分となることがあった。また、コーティン
グ後のこの粉末の除去が不十分な場合には、冷却孔を閉
塞させ重大な事故を招くという欠点があった。SUMMARY OF THE INVENTION In the conventional method,
In the case of the Al diffusion and infiltration treatment method by pack cementation, the gas turbine moving and stationary blades are embedded in the powder of Al or the like. Insufficient insertion could result in insufficient coating. In addition, when the removal of the powder after coating is insufficient, there is a disadvantage that the cooling holes are closed and a serious accident is caused.
【０００８】前記減圧ＣＶＤ法は、前記Ａｌ拡散浸透処
理方法の欠点を解消するために検討されているものであ
り、Ａｌをガス状の化合物として供給し、冷却孔表面で
Ａｌを析出させようとするものである。Ａｌ−ＣＶＤ反
応としては、前記のようにＡｌＣｌ3 の利用が知られて
いるが、ＡｌＣｌ3 は空気中の水分を吸って加水分解し
盛んに塩化水素を発生するなど極めて不安定で有害な物
質であり、工業的な取扱いが難しいという課題がある。The above-mentioned low-pressure CVD method is being studied in order to solve the disadvantages of the above-mentioned Al diffusion and infiltration treatment method, and is intended to supply Al as a gaseous compound and precipitate Al on the surface of the cooling hole. Is what you do. As the Al-CVD reaction, the use of AlCl 3 is known as described above. However, AlCl 3 is extremely unstable and harmful substance, such as absorbing water in the air and hydrolyzing to generate hydrogen chloride. However, there is a problem that industrial handling is difficult.
【０００９】本発明は上記の課題を解決しようとするも
のである。[0009] The present invention is to solve the above problems.
【００１０】[0010]
【課題を解決するための手段】本発明のＡｌ−ＣＶＤコ
ーティング方法は、金属Ａｌが設置されたＡｌ反応容器
内にＨＣｌを供給し、金属ＡｌへＨＣｌを反応させてＡ
ｌＣｌ3 を生成させた後、このＡｌＣｌ3 と未反応のＨ
Ｃｌを金属Ａｌが設置され、かつ被処理材が配設された
単一容器からなる化学蒸着反応容器内へ導入し、該化学
蒸着反応容器内において、該化学蒸着反応容器内に設置
された金属ＡｌとＡｌ反応容器内から導入されたＨＣｌ
およびＡｌＣｌ3 との反応により、低次塩化アルミニウ
ムを生成させ、この低次塩化アルミニウムにより化学蒸
着反応を生じさせて、被処理材の面にＡｌコーティング
層を形成させることを特徴としている。なお、本明細書
において低次塩化アルミニウムとは、ＡｌＣｌ3 よりも
Ｃｌが少いＡｌＣｌ2 および／又はＡｌＣｌを呼称する
ものとする。According to the Al-CVD coating method of the present invention, HCl is supplied into an Al reaction vessel in which metal Al is installed , and HCl is reacted with metal Al to form an aluminum alloy.
After generating the LCL 3, H unreacted this AlCl 3
The Cl is installed metal Al, and the material to be treated is disposed
Introduced into a chemical vapor deposition reaction vessel consisting of a single vessel,
In the deposition reactor, it was introduced from the installation metal Al and Al reaction vessel to the chemical vapor deposition reaction vessel HCl
And AlCl 3 to form lower aluminum chloride, which is then chemically vaporized.
An Al coating layer is formed on the surface of the workpiece by causing a deposition reaction. In the present specification, the term “low-order aluminum chloride” refers to AlCl 2 and / or AlCl having a smaller amount of Cl than AlCl 3 .
【００１１】[0011]
【作用】上記において、金属Ａｌが設置されたＡｌ反応
容器内にＨＣｌが供給されると、次式によりガス状のＡ
ｌＣｌ3 が生成される。In the above, when HCl is supplied into the Al reaction vessel in which metal Al is installed, gaseous A
1Cl 3 is produced.
【００１２】２Ａｌ＋６ＨＣｌ→２ＡｌＣｌ3 ＋３Ｈ2 上記Ａｌ反応容器内で生成されたＡｌＣｌ3 は未反応の
ＨＣｌとともにＣＶＤ反応容器内に導入され、ＣＶＤ反
応容器内に設置された金属ＡｌをＨＣｌに反応させると
ともにＡｌＣｌ3 に反応させ、ＡｌＣｌ3 は次式に示す
分解反応を行い、３ＡｌＣｌ 2 が生成される。2Al + 6HCl → 2AlCl 3 + 3H 2 AlCl 3 generated in the Al reaction vessel is introduced into the CVD reaction vessel together with unreacted HCl, and the metal Al placed in the CVD reaction vessel is reacted with HCl. The AlCl 3 is reacted with AlCl 3 , and the AlCl 3 undergoes a decomposition reaction represented by the following formula to produce 3AlCl 2 .
【００１３】２ＡｌＣｌ3 ＋Ａｌ→３ＡｌＣｌ2 上記ＡｌＣｌ2 は、被処理材上で次式の反応を行い、Ａ
ｌを析出し、 ３ＡｌＣｌ2 →２ＡｌＣｌ3 ＋Ａｌ 被処理材の面にＡｌコーティング層を形成する。2AlCl 3 + Al → 3AlCl 2 The above AlCl 2 undergoes the following reaction on the material to be treated,
is deposited, and an Al coating layer is formed on the surface of the 3AlCl 2 → 2AlCl 3 + Al material to be treated.
【００１４】上記により、ＡｌＣｌ3 の人手による直接
の取扱いを不要とし、反応容器中に金属Ａｌを設置すれ
ばよいものとしたため、作業の安全性の大幅向上を可能
とするとともに、作業コストの大幅低減を可能とする。
また、ＣＶＤ反応容器中におけるＨＣｌの残留を金属Ａ
ｌにより除去するため、被処理材や反応容器の損傷の防
止が可能となる。By the above, direct handling of AlCl 3 by hand is not required, and metal Al can be installed in the reaction vessel. Therefore, work safety can be greatly improved, and work cost can be greatly increased. Enables reduction.
Further, HCl remaining in the CVD reactor was
Because of the removal by l, damage to the material to be treated and the reaction vessel can be prevented.
【００１５】[0015]
【実施例】本発明の一実施例の方法に用いる装置を図１
に示す。図１に示す本実施例の方法に用いる装置は、電
気炉４内に設けられたＣＶＤ容器１、同ＣＶＤ容器１内
に設けられその内部に上下に１段動翼である被処理材２
とＡｌ７の入ったＡｌ容器３が配設された反応塔１３、
同反応塔１３の底部に一端が接続され他端にＡｒ供給ラ
インとＨ2 供給ラインがそれぞれ流量計１０とバルブ９
を介して接続され圧力計６が設けられたガス導入ライン
５、同ガス導入ライン５に接続されＡｒ供給ラインとＨ
Ｃｌ供給ラインがそれぞれ流量計１０とバルブ９を介し
て接続され内部にＡｌ７が充填されたＡｌ反応容器８、
上記ＣＶＤ容器１の底部に接続されたコールドトラップ
１１、および同コールドトラップ１１に接続されたロー
タリポンプ１２を備えている。FIG. 1 shows an apparatus used in the method according to one embodiment of the present invention.
Shown in The apparatus used in the method of the present embodiment shown in FIG. 1 includes a CVD vessel 1 provided in an electric furnace 4, and a workpiece 2 which is provided in the CVD vessel 1 and has a single-stage moving blade vertically disposed therein.
And a reaction tower 13 provided with an Al container 3 containing Al7.
One end is connected to the bottom of the reaction column 13, and the other end is provided with an Ar supply line and an H 2 supply line, respectively, with a flow meter 10 and a valve 9.
And a gas supply line 5 connected with a pressure gauge 6 and an Ar supply line connected to the gas
An Al reaction vessel 8 in which a Cl supply line is connected to a flow meter 10 via a valve 9 and filled with Al 7 therein,
The cold trap 11 is connected to the bottom of the CVD container 1 and a rotary pump 12 is connected to the cold trap 11.
【００１６】上記において、Ａｌ７が充填されたＡｌ反
応容器８内にはＨＣｌ供給ラインよりＨＣｌを供給し、
Ａｌ７とＨＣｌを反応させて次式によりＡｌＣｌ3 を生
成する。In the above, HCl is supplied from the HCl supply line into the Al reaction vessel 8 filled with Al7.
Al7 is reacted with HCl to produce AlCl 3 according to the following equation.
【００１７】２Ａｌ＋６ＨＣｌ→２ＡｌＣｌ3 ＋３Ｈ2 上記Ａｌ反応容器８で生成されたガス状のＡｌＣｌ
3 は、Ａｒ供給ラインより供給されるキャリアガスのＡ
ｒガスにより、ガス導入ライン５を介してその必要量が
反応塔１３内に導入される。2Al + 6HCl → 2AlCl 3 + 3H 2 Gaseous AlCl produced in the Al reaction vessel 8
3 is A of the carrier gas supplied from the Ar supply line.
The required amount of the r gas is introduced into the reaction tower 13 through the gas introduction line 5.
【００１８】上記ＡｌＣｌ3 が導入された反応塔１３内
には、Ａｌ７がＡｌ容器３内に配置されており、Ａｌ反
応容器８内で未反応であったＨＣｌをＡｌ７と反応させ
るとともに、次式に示すＡｌＣｌ3 の分解反応によっ
て、ＡｌＣｌ 3 よりも低次の低次塩化アルミニウムとし
てのＡｌＣｌ2 を生成し、ＨＣｌの生成を防止する。In the reaction tower 13 into which the AlCl 3 has been introduced, Al 7 is disposed in the Al container 3. The unreacted HCl in the Al reaction container 8 reacts with Al 7, and the decomposition reaction of AlCl 3 as shown in, the low-order low-order aluminum chloride than AlCl 3
All AlCl 2 is generated, and the generation of HCl is prevented.
【００１９】２ＡｌＣｌ3 ＋Ａｌ→３ＡｌＣｌ2 上記により生成されたＡｌＣｌ2 は次式に示す析出反応
を行い、被処理材２の表面にＡｌのコーティング層を生
成する。2AlCl 3 + Al → 3AlCl 2 The AlCl 2 produced as described above undergoes a precipitation reaction represented by the following equation to form an Al coating layer on the surface of the material 2 to be treated.
【００２０】３ＡｌＣｌ2 →２ＡｌＣｌ3 ＋Ａｌ 本実施例においては、コーティング材であるＡｌ７を反
応塔１３内及びＡｌ反応容器８内に設置すればよいた
め、取扱いが極めて容易であり、人体に対しても無害で
ある。3AlCl 2 → 2AlCl 3 + Al In this embodiment, since the coating material Al 7 may be placed in the reaction tower 13 and the Al reaction vessel 8, the handling is extremely easy and the human body can be used. Harmless.
【００２１】ＣＶＤ反応に必要なＡｌＣｌ3 は、必要に
応じてＨＣｌとＡｌ７を反応させることにより必要量生
成するため、容易に分解して水分と激しく反応するＡｌ
Ｃｌ 3 を取扱う危険性と手間とが大幅に低減できる。AlCl required for CVD reactionThreeIs necessary
Required amount by reacting HCl and Al7
Al that easily decomposes and reacts violently with moisture
Cl ThreeThe risk and trouble of handling can be greatly reduced.
【００２２】また、ＡｌＣｌ3 はＡｌ反応容器８内で生
成されるものであり、被処理材２のＣＶＤ処理後、Ａ
ｒ、Ｈ2 又はＡｒとＨ2 によりラインをパージすること
により、Ａｌ反応容器８からコールドトラップ１１まで
のライン内に残留するＡｌＣｌ3 は完全に除去すること
ができる。Further, AlCl 3 is generated in the Al reaction vessel 8, and after the CVD treatment of the material 2,
By purging the line with r, H 2 or Ar and H 2, AlCl 3 remaining in the line from the Al reaction vessel 8 to the cold trap 11 can be completely removed.
【００２３】更に、反応塔１３内にＡｌ７を設置し、反
応ガス中の残留ＨＣｌをなくし、ＡｌＣｌ3 をＡｌＣｌ
2 としているため、Ａｌ７の析出を容易にするとともに
被処理材２や反応塔１３の損傷（塩化腐食）を防止する
ことができる。Further, Al 7 is set in the reaction tower 13 to eliminate residual HCl in the reaction gas and to convert AlCl 3 into AlCl 3 .
Since it is set to 2 , it is possible to facilitate precipitation of Al7 and to prevent damage (chlorination corrosion) of the workpiece 2 and the reaction tower 13.
【００２４】本実施例の方法においては、コーティング
処理の性能確認のため、上記装置を用いて試験処理１，
２，３を行っており、以下にその内容と結果について説
明する。In the method of the present embodiment, in order to confirm the performance of the coating process, the test device 1
The contents and results are described below.
【００２５】上記試験処理１，２は、コーティング基材
として代表的な動翼材ＩＮ７３８ＬＣ（Ｎｉ−８．３Ｃ
ｏ−１６Ｃｒ−２．５Ｗ−３．４Ａｌ−３．４Ｔｉ−
１．７Ｔａ−１．７Ｍｏ−０．１Ｃ；各元素に付記した
数字はｗｔ％を示す）、及び静翼材ＥＣＹ７６８（Ｃｏ
−２４Ｃｒ−１０Ｎｉ−７Ｗ−４Ｔａ−０．５Ｃ）を用
い、表１に示す条件でガスタービン翼材へのコーティン
グ処理を行ったものである。The test treatments 1 and 2 described above were performed using a typical blade material IN738LC (Ni-8.3C) as a coating substrate.
o-16Cr-2.5W-3.4Al-3.4Ti-
1.7Ta-1.7Mo-0.1C; the number added to each element indicates wt%), and the stator blade material ECY768 (Co
-24Cr-10Ni-7W-4Ta-0.5C), and the gas turbine blade material was coated under the conditions shown in Table 1.
【００２６】また、試験処理３は小型高温ガスタービン
の１段動翼の空気冷却孔内面へ表１に示す条件でコーテ
ィング処理を行ったものである。In the test process 3, a coating process was performed on the inner surface of the air cooling hole of the first stage blade of the small high-temperature gas turbine under the conditions shown in Table 1.
【００２７】[0027]
【表１】 [Table 1]
【００２８】上記試験処理により被処理材の表面に形成
されたＡｌコーティング層の膜厚については、試験片の
断面ミクロ組織検査及び電子プロープＸ線マイクロアナ
ライザ（ＥＰＭＡ）分析の結果、試験処理１のＩＮ７３
８ＬＣでは７０〜８０μｍ、ＥＣＹ７６８では５０〜６
０μｍ、また、試験処理２のＩＮ７３８ＬＣで７０〜１
００μｍ、ＥＣＹ７６８で６０〜８０μｍのＡｌコーテ
ィング層（Ａｌ拡散浸透層）が形成されていることが確
認された。With respect to the thickness of the Al coating layer formed on the surface of the material to be processed by the above test treatment, the results of the cross-sectional microstructure inspection of the test piece and the analysis of the electron probe X-ray microanalyzer (EPMA) showed that the test treatment 1 IN73
70-80 μm for 8LC, 50-6 for ECY768
0 μm, and 70 to 1 for IN738LC of test treatment 2.
It was confirmed that an Al coating layer (Al diffusion / penetration layer) having a thickness of 60 μm and an ECY768 of 00 μm was formed.
【００２９】また、試験処理３では、空気冷却孔内面各
部についてＡｌコーティング形成量を同様に調査した結
果、６０〜８０μｍの範囲で全域にコーティングされて
いた。Further, in the test treatment 3, the amount of Al coating formed on each part of the inner surface of the air cooling hole was similarly examined. As a result, the coating was found to cover the entire area in the range of 60 to 80 μm.
【００３０】上記試験処理を行った試験片については、
Ａｌコーティングにより耐酸化性の向上の評価試験を行
った。なお、試験処理１，２，３によるそれぞれの試験
片のＡｌコーティング厚さ（Ａｌ拡散浸透深さ）はほぼ
同等であったため、試験処理１によりコーティング処理
した試験片のみを用いた。For the test piece subjected to the above test treatment,
An evaluation test for improvement in oxidation resistance by Al coating was performed. In addition, since the Al coating thickness (Al diffusion penetration depth) of each test piece in test treatments 1, 2, and 3 was almost the same, only the test piece coated in test treatment 1 was used.
【００３１】この試験片と無処理の試験片について、９
００℃空気中で１０００Ｈｒの高温酸化試験を行った結
果、その酸化量はＩＮ７３８ＬＣ、ＥＣＹ７６８とも
に、無処理材の１／１０〜１／５程度であり、すぐれた
耐酸化性を有することが確認された。For this test piece and the untreated test piece, 9
As a result of performing a high-temperature oxidation test at 1000 ° C. in air at 00 ° C., the oxidation amount of both IN738LC and ECY768 was about 1/10 to 1/5 of the untreated material, and it was confirmed that they had excellent oxidation resistance. Was.
【００３２】なお、本実施例の方法においては、被処理
材と接触する反応ガスの流速は、被処理材の大きさ（コ
ーティング範囲）により異なるが、およそ０．１〜１．
０ｍ／ｓの範囲が適切である。In the method of the present embodiment, the flow rate of the reaction gas in contact with the material to be treated varies depending on the size (coating range) of the material to be treated, but is about 0.1 to 1.
A range of 0 m / s is appropriate.
【００３３】また、Ａｌ反応容器の温度は、ＡｌとＨＣ
ｌとの反応速度、ＡｌＣｌ3 の蒸気圧、ガス導入管の保
温性を考慮すると、２５０〜４５０℃が好ましい。ＣＶ
Ｄ反応における温度は、被処理物の材質により異なる
が、Ｎｉ及びＣｏ基合金のガスタービン材料ではＮｉ−
Ａｌ、Ｃｏ−Ａｌ化合物の形体とＡｌの拡散速度より８
００〜１１００℃となる。また、圧力及び反応時間はコ
ーティング層の均一性と要求膜厚より決定する（圧力は
常圧又は減圧とも可能）。The temperature of the Al reaction vessel is set between Al and HC.
Considering the reaction rate with 1, the vapor pressure of AlCl 3 , and the heat retention of the gas inlet tube, 250 to 450 ° C. is preferable. CV
The temperature in the D reaction varies depending on the material of the object to be treated.
8 from the form of Al and Co-Al compounds and the diffusion rate of Al
It becomes 00-1100 degreeC. The pressure and the reaction time are determined based on the uniformity of the coating layer and the required film thickness (the pressure can be normal pressure or reduced pressure).
【００３４】[0034]
【発明の効果】本発明のガスタービン動・静翼用Ａｌ−
ＣＶＤコーティング方法は、金属Ａｌが設置されたＡｌ
反応容器内にＨＣｌを供給してＡｌＣｌ3 を生成し、こ
のＡｌＣｌ3 と未反応のＨＣｌとを金属Ａｌと被処理材
が設置されたＣＶＤ反応容器内に導入し、ＣＶＤ反応を
生じさせて低次塩化アルミニウムを生成し、この低次塩
化アルミニウムにより化学蒸着反応を生じさせ、被処理
材の面にＡｌコーティング層を形成させることによっ
て、ＡｌＣｌ3 の人手による直接の取扱いを不要とし、
反応容器中に金属Ａｌを設置すればよいものとしたた
め、作業の安定性の大幅向上を可能とするとともに、作
業コストの大幅低減を可能とする。また、ＣＶＤ反応容
器中におけるＨＣｌの残留をＣＶＤ反応容器中に設置し
た金属Ａｌにより除去するため、被処理材や反応容器の
損傷の防止が可能となる。According to the present invention, Al-
The CVD coating method employs Al on which metal Al is installed.
By supplying HCl into the reaction vessel to produce the AlCl 3, the AlCl 3 and the unreacted and HCl was introduced into the CVD reaction chamber in which the metal Al and the material to be treated is installed, low to cause CVD reaction To form lower aluminum salts
By causing a chemical vapor deposition reaction by aluminum chloride and forming an Al coating layer on the surface of the material to be treated, direct handling of AlCl 3 by hand is unnecessary,
Since it is sufficient to install the metal Al in the reaction vessel, it is possible to greatly improve the stability of the work, and to greatly reduce the work cost. Further, the residual HCl in the CVD reaction vessel is set in the CVD reaction vessel.
Since the metal Al is removed, the material to be treated and the reaction vessel can be prevented from being damaged.
【図１】本発明の一実施例の方法に係る装置の説明図で
ある。FIG. 1 is an explanatory diagram of an apparatus according to a method of an embodiment of the present invention.
【図２】ガスタービン空気冷却翼（第一段動翼）の構造
図である。FIG. 2 is a structural diagram of a gas turbine air cooling blade (first stage moving blade).
１ ＣＶＤ容器 ２ 被処理材 ３ Ａｌ容器 ４ 電気炉 ５ ガス導入ライン ６ 圧力計 ７ Ａｌ ８ Ａｌ反応容器 ９ バルブ １０ 流量計 １１ コールドトラップ １２ ロータリポンプ １３ 反応塔 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 CVD container 2 Material to be processed 3 Al container 4 Electric furnace 5 Gas introduction line 6 Pressure gauge 7 Al 8 Al reaction container 9 Valve 10 Flow meter 11 Cold trap 12 Rotary pump 13 Reaction tower
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 高橋 孝二 兵庫県高砂市荒井町新浜二丁目１番１号 三菱重工業株式会社高砂製作所内 (72)発明者 谷村 武俊 兵庫県高砂市荒井町新浜二丁目８番25号 高菱エンジニアリング株式会社内 (72)発明者 鶴 聡 兵庫県高砂市荒井町新浜二丁目１番１号 中外テクノス株式会社内 (56)参考文献 特開 平６−33238（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−272378（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C23C 16/12 F01D 5/28 F01D 9/02 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Koji Takahashi 2-1-1, Shinhama, Araimachi, Takasago City, Hyogo Prefecture Inside the Takasago Works, Mitsubishi Heavy Industries, Ltd. No. 25 Inside Takaishi Engineering Co., Ltd. (72) Inventor Satoshi Tsuru 2-1-1, Shinhama, Araimachi, Takasago-shi, Hyogo Inside Chugai Technos Co., Ltd. (56) References JP-A-6-33238 (JP, A) JP 61-272378 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) C23C 16/12 F01D 5/28 F01D 9/02
Claims (1)
ＨＣｌを供給し、金属ＡｌへＨＣｌを反応させてＡｌＣ
ｌ3 を生成させた後、このＡｌＣｌ3 と未反応のＨＣｌ
を金属Ａｌが設置され、かつ被処理材が配設された単一
容器からなる化学蒸着反応容器内へ導入し、該化学蒸着
反応容器内において、該化学蒸着反応容器内に設置され
た金属ＡｌとＡｌ反応容器内から導入されたＨＣｌおよ
びＡｌＣｌ3 との反応により低次塩化アルミニウムを生
成させ、この低次塩化アルミニウムにより化学蒸着反応
を生じさせて、被処理材の面にＡｌコーティング層を形
成させることを特徴とするアルミニウム化学蒸着コーテ
ィング方法。1. HCl is supplied into an Al reaction vessel in which metal Al is placed , and HCl is reacted with metal Al to form AlC.
After the formation of l 3 , this AlCl 3 and unreacted HCl
A single unit on which metal Al is installed and the material to be treated is installed
Introduced into consists vessel chemical vapor deposition reactor, chemical vapor deposition
In the reaction vessel, to produce a low-order aluminum chloride by reaction with HCl and AlCl 3 which has been introduced from the installation metal Al and Al reaction vessel to the chemical vapor deposition reaction vessel, chemical vapor deposition by the low-order aluminum chloride and causing reaction, aluminum chemical vapor deposition coating method characterized by forming an Al coating layer on the surface of the workpiece.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13872892A JP3165506B2 (en) | 1992-05-29 | 1992-05-29 | Aluminum chemical vapor deposition coating method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13872892A JP3165506B2 (en) | 1992-05-29 | 1992-05-29 | Aluminum chemical vapor deposition coating method |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05331643A JPH05331643A (en) | 1993-12-14 |
| JP3165506B2 true JP3165506B2 (en) | 2001-05-14 |
Family
ID=15228774
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13872892A Expired - Lifetime JP3165506B2 (en) | 1992-05-29 | 1992-05-29 | Aluminum chemical vapor deposition coating method |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3165506B2 (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101951383B1 (en) * | 2016-12-07 | 2019-02-22 | 박은도 | Stage equipment having a support body which can transform the shape and control the length |
-
1992
- 1992-05-29 JP JP13872892A patent/JP3165506B2/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101951383B1 (en) * | 2016-12-07 | 2019-02-22 | 박은도 | Stage equipment having a support body which can transform the shape and control the length |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05331643A (en) | 1993-12-14 |
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