JP3150761B2 - 簡易位相シフト干渉計 - Google Patents
簡易位相シフト干渉計Info
- Publication number
- JP3150761B2 JP3150761B2 JP14441292A JP14441292A JP3150761B2 JP 3150761 B2 JP3150761 B2 JP 3150761B2 JP 14441292 A JP14441292 A JP 14441292A JP 14441292 A JP14441292 A JP 14441292A JP 3150761 B2 JP3150761 B2 JP 3150761B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- beam splitter
- interferometer
- spatial filter
- cube beam
- lens
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Testing Of Optical Devices Or Fibers (AREA)
- Instruments For Measurement Of Length By Optical Means (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、工場のライン等で製作
された光学レンズの表面形状の検査測定や、組み立ての
終了した光学レンズの収差の検査測定に利用される簡易
干渉計に関するものである。
された光学レンズの表面形状の検査測定や、組み立ての
終了した光学レンズの収差の検査測定に利用される簡易
干渉計に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】上述した種類の検査測定をする場合に現
在使用している干渉計を、図３の干渉計の構成を示す図
を用いて説明する。１はレーザー光源、２は反射鏡、３
はノイズを除去し良好な光波を得るために、顕微鏡対物
レンズ（集光レンズ）とピンホールより構成した空間フ
ィルターである。４はビームスプリッター、５はコリメ
ーター、８は結像レンズ、９は撮像素子で、これらの光
学素子が干渉計Ａを構成している。６は干渉縞形成のた
めの参照面を有する参照レンズ、７は被検面７ａを有す
る被検レンズ、１０は電歪素子等で構成した位相シフタ
ーで、参照レンズ６は、位相シフター１０により干渉計
Ａに取り付けられている。検査測定の場合、レーザー光
源１から発したレーザー光は、反射鏡２で進路を変えて
から空間フィルター３に入射する。ノイズが除去された
レーザー光は、空間フィルター３から射出し、ビームス
プリッター４に入射しその一部が反射され、再び進路を
変えて進み、コリメーター５，参照レンズ６を透過し、
被検レンズ７の被検面７ａで反射する。途中、参照レン
ズ６で、入射光の一部は反射する。被検レンズ７の被検
面７ａで反射したレーザー光は、反射光として入射時の
光路を逆行し、順次、参照レンズ６，コリメーター５，
ビームスプリッター４を透過する。結像レンズ８は、被
検レンズ７の被検面７ａからのこの反射光と、参照レン
ズ６への入射時に生じた反射光を撮像素子９に導くとと
もに、被検面７ａを撮像素子９上に結像する。このよう
にして、両反射光による良好な干渉縞が、撮像素子９上
に形成される。なお、被検面７ａからの反射光の位相を
正確に測定するために、上述したように参照レンズ６
は、位相シフター１０により干渉計Ａに取り付けられて
いる。
在使用している干渉計を、図３の干渉計の構成を示す図
を用いて説明する。１はレーザー光源、２は反射鏡、３
はノイズを除去し良好な光波を得るために、顕微鏡対物
レンズ（集光レンズ）とピンホールより構成した空間フ
ィルターである。４はビームスプリッター、５はコリメ
ーター、８は結像レンズ、９は撮像素子で、これらの光
学素子が干渉計Ａを構成している。６は干渉縞形成のた
めの参照面を有する参照レンズ、７は被検面７ａを有す
る被検レンズ、１０は電歪素子等で構成した位相シフタ
ーで、参照レンズ６は、位相シフター１０により干渉計
Ａに取り付けられている。検査測定の場合、レーザー光
源１から発したレーザー光は、反射鏡２で進路を変えて
から空間フィルター３に入射する。ノイズが除去された
レーザー光は、空間フィルター３から射出し、ビームス
プリッター４に入射しその一部が反射され、再び進路を
変えて進み、コリメーター５，参照レンズ６を透過し、
被検レンズ７の被検面７ａで反射する。途中、参照レン
ズ６で、入射光の一部は反射する。被検レンズ７の被検
面７ａで反射したレーザー光は、反射光として入射時の
光路を逆行し、順次、参照レンズ６，コリメーター５，
ビームスプリッター４を透過する。結像レンズ８は、被
検レンズ７の被検面７ａからのこの反射光と、参照レン
ズ６への入射時に生じた反射光を撮像素子９に導くとと
もに、被検面７ａを撮像素子９上に結像する。このよう
にして、両反射光による良好な干渉縞が、撮像素子９上
に形成される。なお、被検面７ａからの反射光の位相を
正確に測定するために、上述したように参照レンズ６
は、位相シフター１０により干渉計Ａに取り付けられて
いる。
【０００３】上述した構成の干渉計より簡単な構造の干
渉計も用いられている。図４は簡易型干渉計の構成例を
示す図である。１はレーザー光源、１１は顕微鏡対物レ
ンズ（集光レンズ）、４はキューブビームスプリッタ
ー、１２はキューブビームスプリッター４上に配置され
たピンホールである。集光レンズ１１とピンホール１２
で空間フィルター３を構成する。１３は球面レンズ、１
４は接眼レンズ、１５は観測者である。球面レンズ１３
は、曲率中心がキューブビームスプリッター４によるピ
ンホール１２の鏡像と一致しており、また、キューブビ
ームスプリッター４と同じ硝材を用い製作されて、か
つ、キューブビームスプリッター４に密着して配置して
ある。このように構成することにより、球面レンズ１３
を通し歪みのない球面波を被検面に向けて、射出するこ
とができる。更に、球面レンズ１３の被検面に対向した
球面には、該被検面の反射率にあわせて反射膜がコーテ
ィングしてある。検査測定の場合、レーザー光源１から
発したレーザー光は、集光レンズ１１で集光し、ピンホ
ール１２に入射してノイズが除去され、キューブビーム
スプリッター４に入射する。キューブビームスプリッタ
ー４で、入射光の一部が反射して進路を変え、球面レン
ズ１３を透過して、図示されていない被検面に向かう。
球面レンズ１３で、入射光の一部は反射して参照光とな
る。被検面で反射したレーザー光は、反射光として入射
時の光路を逆行し、球面レンズ１３を透過し、その一部
はキューブビームスプリッター４を透過して、前記参照
光と干渉する。その結果、接眼レンズ１４を介して、観
測者１５の網膜上に、この干渉縞が形成される。観測者
１５の代わりに、撮像素子を置くことも可能である。そ
の場合には、接眼レンズ１５を結像レンズに置き換える
必要がある。
渉計も用いられている。図４は簡易型干渉計の構成例を
示す図である。１はレーザー光源、１１は顕微鏡対物レ
ンズ（集光レンズ）、４はキューブビームスプリッタ
ー、１２はキューブビームスプリッター４上に配置され
たピンホールである。集光レンズ１１とピンホール１２
で空間フィルター３を構成する。１３は球面レンズ、１
４は接眼レンズ、１５は観測者である。球面レンズ１３
は、曲率中心がキューブビームスプリッター４によるピ
ンホール１２の鏡像と一致しており、また、キューブビ
ームスプリッター４と同じ硝材を用い製作されて、か
つ、キューブビームスプリッター４に密着して配置して
ある。このように構成することにより、球面レンズ１３
を通し歪みのない球面波を被検面に向けて、射出するこ
とができる。更に、球面レンズ１３の被検面に対向した
球面には、該被検面の反射率にあわせて反射膜がコーテ
ィングしてある。検査測定の場合、レーザー光源１から
発したレーザー光は、集光レンズ１１で集光し、ピンホ
ール１２に入射してノイズが除去され、キューブビーム
スプリッター４に入射する。キューブビームスプリッタ
ー４で、入射光の一部が反射して進路を変え、球面レン
ズ１３を透過して、図示されていない被検面に向かう。
球面レンズ１３で、入射光の一部は反射して参照光とな
る。被検面で反射したレーザー光は、反射光として入射
時の光路を逆行し、球面レンズ１３を透過し、その一部
はキューブビームスプリッター４を透過して、前記参照
光と干渉する。その結果、接眼レンズ１４を介して、観
測者１５の網膜上に、この干渉縞が形成される。観測者
１５の代わりに、撮像素子を置くことも可能である。そ
の場合には、接眼レンズ１５を結像レンズに置き換える
必要がある。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上述した図
３で示す干渉計は、装置が大がかりであり、かつ、装置
を構成するのに必要な部品点数も多い。このことが、小
型で安価な装置の製作を困難にしている。一方、上述し
た図４で示す簡易干渉計は、小型で、構成に要する部品
点数も少ないが、精度良く定量的な測定のできる位相シ
フト法や位相ステップ法のための機構を組み込むのが、
著しく困難である。
３で示す干渉計は、装置が大がかりであり、かつ、装置
を構成するのに必要な部品点数も多い。このことが、小
型で安価な装置の製作を困難にしている。一方、上述し
た図４で示す簡易干渉計は、小型で、構成に要する部品
点数も少ないが、精度良く定量的な測定のできる位相シ
フト法や位相ステップ法のための機構を組み込むのが、
著しく困難である。
【０００５】本発明は、上述の事情に鑑みてなされたも
のであり、その目的とするところは、部品点数が少な
く、高精度の測定のできる位相シフト干渉計を提供する
ことである。
のであり、その目的とするところは、部品点数が少な
く、高精度の測定のできる位相シフト干渉計を提供する
ことである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明の干渉計は、キュ
ーブビームスプリッターと、該キューブビームスプリッ
ター面上に配置された空間フィルターと、該空間フィル
ター若しくは該キューブビームスプリッターによる該空
間フィルターの鏡像を曲率中心にもちかつ該キューブビ
ームスプリッターに密着した球面レンズと、干渉縞を電
気信号に変換するための撮像素子と、被検物体を該撮像
素子上に結像する結像レンズとを有する干渉計におい
て、発振波長を外部から任意に制御できる可干渉性光源
を有し、該発振波長を変調して位相シフト法又は位相ス
テップ法で被検面からの反射光の波面収差を測定するよ
うにしたことを特徴としている。
ーブビームスプリッターと、該キューブビームスプリッ
ター面上に配置された空間フィルターと、該空間フィル
ター若しくは該キューブビームスプリッターによる該空
間フィルターの鏡像を曲率中心にもちかつ該キューブビ
ームスプリッターに密着した球面レンズと、干渉縞を電
気信号に変換するための撮像素子と、被検物体を該撮像
素子上に結像する結像レンズとを有する干渉計におい
て、発振波長を外部から任意に制御できる可干渉性光源
を有し、該発振波長を変調して位相シフト法又は位相ス
テップ法で被検面からの反射光の波面収差を測定するよ
うにしたことを特徴としている。
【０００７】
【作用】半導体レーザーにおいて、電流注入により励起
を行う方式では、注入電流を変化させることにより、発
振波長に変化を与えることができる。いま、参照光と物
体光とが干渉して、干渉縞が形成されるとする。この時
の干渉縞の二次元的強度分布Ｉ（ｘ，ｙ）は、式（１）
で表せる。
を行う方式では、注入電流を変化させることにより、発
振波長に変化を与えることができる。いま、参照光と物
体光とが干渉して、干渉縞が形成されるとする。この時
の干渉縞の二次元的強度分布Ｉ（ｘ，ｙ）は、式（１）
で表せる。
【０００８】 I(x,y)＝I0＋γcos 〔｛2 π/ λ｝×｛ｗ(x,y) ＋L ｝〕・・・・・・・・・・・・（１）
【０００９】ここで、Ｉ0 は定数、γは干渉縞の可視
度、λは光の波長、ｗ（ｘ，ｙ）は参照光と物体光との
間の相対的光路長差、Ｌは参照光と物体光との間の絶対
光路長差で、Ｌ＝ｍλ（ｍは正整数）である。いま、光
の波長λがΔλだけ変化したとする。ただし、Δλは以
下の条件を満足するように選択する。
度、λは光の波長、ｗ（ｘ，ｙ）は参照光と物体光との
間の相対的光路長差、Ｌは参照光と物体光との間の絶対
光路長差で、Ｌ＝ｍλ（ｍは正整数）である。いま、光
の波長λがΔλだけ変化したとする。ただし、Δλは以
下の条件を満足するように選択する。
【００１０】Δλ≪Ｌ，Δλ≪λ
【００１１】更に、ｗ（ｘ，ｙ）はＬに比べて十分小さ
いと仮定すると、この時の干渉縞の二次元的強度分布
Ｉ′（ｘ，ｙ）は、式（２）で与えられる。
いと仮定すると、この時の干渉縞の二次元的強度分布
Ｉ′（ｘ，ｙ）は、式（２）で与えられる。
【００１２】 I ′(x,y) ＝I0＋γcos 〔｛2 π/ λ｝×｛ｗ(x,y) ＋L −L Δλ｝〕・・（２）
【００１３】式（２）は、Ｌが光の波長λの正整数倍で
あるから主値をとり、式（３）のように簡略化すること
ができる。
あるから主値をとり、式（３）のように簡略化すること
ができる。
【００１４】 I ′(x,y) ＝I0＋γcos 〔｛2 π/ λ｝×｛ｗ(x,y) −L Δλ｝〕・・・・（３）
【００１５】式（３）から、参照光と物体光の光路長差
が大きければ、半導体レーザーへの注入電流をわずかに
変化させると、位相シフト法や位相差ステップ法に必要
な位相のずれた複数の干渉縞が得られることが分かる。
しかも、本方法によれば、前述した図３で示す干渉計に
おける機械的な可動部分が不要であり、図４で示す小型
で部品点数の少ない構造の干渉計でも、容易に位相シフ
ト法や位相ステップ法を実現できる。
が大きければ、半導体レーザーへの注入電流をわずかに
変化させると、位相シフト法や位相差ステップ法に必要
な位相のずれた複数の干渉縞が得られることが分かる。
しかも、本方法によれば、前述した図３で示す干渉計に
おける機械的な可動部分が不要であり、図４で示す小型
で部品点数の少ない構造の干渉計でも、容易に位相シフ
ト法や位相ステップ法を実現できる。
【００１６】
【実施例】図１は、本発明簡易位相シフト干渉計の第１
実施例の構成を示す図である。図１で１６は半導体レー
ザー光源、１１は集光レンズ、４はキューブビームスプ
リッター、１２はキューブビームスプリッター４上に配
置されたピンホールで、集光レンズ１１とピンホール１
２で空間フィルター３を構成する。１３ａは球面レン
ズ、７ａは被検面、８は結像レンズ、９は撮像素子であ
る。球面レンズ１３ａは、曲率中心がキューブビームス
プリッター４によるピンホール１２の鏡像と一致してお
り、また、キューブビームスプリッター４と同じ硝材で
製作されて、かつ、キューブビームスプリッター４に密
着して配置してある。このように構成することにより、
空間フィルター３からの球面波は、球面レンズ１３ａに
より不要な屈折を受けることはなく、したがって、収差
のない良好な球面波のままで、被検面７ａを照射するこ
とができる。また、被検面７ａに対向する球面レンズ１
３ａの球面部分には、被検面７ａの反射率にあわせた反
射膜をコーティングすることにより、良好な干渉縞を得
るように図ってある。
実施例の構成を示す図である。図１で１６は半導体レー
ザー光源、１１は集光レンズ、４はキューブビームスプ
リッター、１２はキューブビームスプリッター４上に配
置されたピンホールで、集光レンズ１１とピンホール１
２で空間フィルター３を構成する。１３ａは球面レン
ズ、７ａは被検面、８は結像レンズ、９は撮像素子であ
る。球面レンズ１３ａは、曲率中心がキューブビームス
プリッター４によるピンホール１２の鏡像と一致してお
り、また、キューブビームスプリッター４と同じ硝材で
製作されて、かつ、キューブビームスプリッター４に密
着して配置してある。このように構成することにより、
空間フィルター３からの球面波は、球面レンズ１３ａに
より不要な屈折を受けることはなく、したがって、収差
のない良好な球面波のままで、被検面７ａを照射するこ
とができる。また、被検面７ａに対向する球面レンズ１
３ａの球面部分には、被検面７ａの反射率にあわせた反
射膜をコーティングすることにより、良好な干渉縞を得
るように図ってある。
【００１７】本実施例は上述のように構成されているの
で、球面レンズ１３ａで反射したレーザー光と、被検面
７ａで反射したレーザー光は、キューブビームスプリッ
ター４内で重なり合い、結像レンズ８を通して撮像素子
９上に干渉縞を形成する。半導体レーザー光源１６は、
図示してない制御装置によって注入電流を制御され、位
相シフト法あるいは位相ステップ法に適した量だけ、発
振波長を変化させる。撮像素子９上に形成される干渉縞
は、位相シフト法、位相ステップ法夫々の方法に従った
所定の順序で逐次読み出され、位相が計算される。な
お、本実施例の場合、ピンホール１２からの球面波のう
ち、反射せずに直進する成分は、干渉縞測定時に迷光と
なり、測定精度を低下させる場合もあるので、空間フィ
ルター３に対向するキューブビームスプリッター４の面
を、反射防止膜あるいは吸収性の膜で被覆するのが望ま
しい。また一般に、空間フィルター３を構成するピンホ
ール１２は、キューブビームスプリッター４に密着して
いるが、構造的その他の理由で密着が困難な場合は、わ
ずかに離れていてもよい。
で、球面レンズ１３ａで反射したレーザー光と、被検面
７ａで反射したレーザー光は、キューブビームスプリッ
ター４内で重なり合い、結像レンズ８を通して撮像素子
９上に干渉縞を形成する。半導体レーザー光源１６は、
図示してない制御装置によって注入電流を制御され、位
相シフト法あるいは位相ステップ法に適した量だけ、発
振波長を変化させる。撮像素子９上に形成される干渉縞
は、位相シフト法、位相ステップ法夫々の方法に従った
所定の順序で逐次読み出され、位相が計算される。な
お、本実施例の場合、ピンホール１２からの球面波のう
ち、反射せずに直進する成分は、干渉縞測定時に迷光と
なり、測定精度を低下させる場合もあるので、空間フィ
ルター３に対向するキューブビームスプリッター４の面
を、反射防止膜あるいは吸収性の膜で被覆するのが望ま
しい。また一般に、空間フィルター３を構成するピンホ
ール１２は、キューブビームスプリッター４に密着して
いるが、構造的その他の理由で密着が困難な場合は、わ
ずかに離れていてもよい。
【００１８】図２は、本発明簡易位相シフト干渉計の第
２実施例の構成を示す図である。半導体レーザー光源１
６から空間フィルター３までは、第１実施例と同じであ
る。空間フィルター３を射出した球面波は、キューブビ
ームスプリッター４内で一部が反射し、第１実施例にお
ける球面レンズ１３ａと同様な構成の球面レンズ１３ｂ
を透過して、被検面７ａを照射する。キューブビームス
プリッター４を透過した球面波は、第１実施例における
球面レンズ１３ａと同様な構成で、かつ、キューブビー
ムスプリッター４の面上を移動できる第２の球面レンズ
１３ｃで反射して参照波となる。そうして、被検面７ａ
で反射したレーザー光と第２の球面レンズ１３ｃで反射
したレーザー光は、キューブビームスプリッター４内で
重なり合い、結像レンズ８を通して撮像素子９上に干渉
縞を形成する。第２実施例の構成では、球面レンズ１３
ｂは、曲率中心がキューブビームスプリッター４による
ピンホール１２の鏡像と一致しており、第２の球面レン
ズ１３ｃは、曲率中心がピンホール１２と一致してい
る。半導体レーザー光源１６は、図示してない制御装置
によって注入電流を制御され、位相シフト法あるいは位
相ステップ法に適した量だけ、発振波長を変化させる。
撮像素子９上に形成される干渉縞は、位相シフト法、位
相ステップ法夫々の方法に従った所定の順序で逐次読み
出され、位相が計算される。
２実施例の構成を示す図である。半導体レーザー光源１
６から空間フィルター３までは、第１実施例と同じであ
る。空間フィルター３を射出した球面波は、キューブビ
ームスプリッター４内で一部が反射し、第１実施例にお
ける球面レンズ１３ａと同様な構成の球面レンズ１３ｂ
を透過して、被検面７ａを照射する。キューブビームス
プリッター４を透過した球面波は、第１実施例における
球面レンズ１３ａと同様な構成で、かつ、キューブビー
ムスプリッター４の面上を移動できる第２の球面レンズ
１３ｃで反射して参照波となる。そうして、被検面７ａ
で反射したレーザー光と第２の球面レンズ１３ｃで反射
したレーザー光は、キューブビームスプリッター４内で
重なり合い、結像レンズ８を通して撮像素子９上に干渉
縞を形成する。第２実施例の構成では、球面レンズ１３
ｂは、曲率中心がキューブビームスプリッター４による
ピンホール１２の鏡像と一致しており、第２の球面レン
ズ１３ｃは、曲率中心がピンホール１２と一致してい
る。半導体レーザー光源１６は、図示してない制御装置
によって注入電流を制御され、位相シフト法あるいは位
相ステップ法に適した量だけ、発振波長を変化させる。
撮像素子９上に形成される干渉縞は、位相シフト法、位
相ステップ法夫々の方法に従った所定の順序で逐次読み
出され、位相が計算される。
【００１９】第２実施例では、球面レンズ１３ｃをキュ
ーブビームスプリッター４上で移動させることで、容易
にティルト成分を任意の量だけ発生できる。干渉縞を目
視する場合などにおいて、このティルト成分は、収差の
量を読みやすくできる。なお、第２実施例も第１実施例
と同様に、球面レンズ１３ｂは、表面に反射防止膜がコ
ーティングしてある。また、第２の球面レンズ１３ｃの
球面側に、被検面７ａの反射率にあわせた反射膜をコー
ティングすることにより、コントラストの良い干渉縞を
得ることができる。
ーブビームスプリッター４上で移動させることで、容易
にティルト成分を任意の量だけ発生できる。干渉縞を目
視する場合などにおいて、このティルト成分は、収差の
量を読みやすくできる。なお、第２実施例も第１実施例
と同様に、球面レンズ１３ｂは、表面に反射防止膜がコ
ーティングしてある。また、第２の球面レンズ１３ｃの
球面側に、被検面７ａの反射率にあわせた反射膜をコー
ティングすることにより、コントラストの良い干渉縞を
得ることができる。
【００２０】
【発明の効果】以上説明したように本発明の位相シフト
干渉計は、少ない部品点数で構成し、かつ、高精度の測
定ができるので、経済的である。
干渉計は、少ない部品点数で構成し、かつ、高精度の測
定ができるので、経済的である。
【図１】本発明簡易位相シフト干渉計の第１実施例の構
成を示す図である。
成を示す図である。
【図２】本発明簡易位相シフト干渉計の第２実施例の構
成を示す図である。
成を示す図である。
【図３】検査測定に用いる従来の干渉計の構成を示す図
である。
である。
【図４】検査測定に用いる従来の簡易型干渉計の構成を
示す図である。
示す図である。
１ レーザー光源 ２ 反射鏡 ３ 空間フィルター ４ ビームスプリッター（キューブビームスプリッ
ター） ５ コリメーター ６ 参照レンズ ７ 被検レンズ ７ａ 被検面 ８ 結像レンズ ９ 撮像素子 １０ 位相シフター １１ 集光レンズ １２ ピンホール １３ 球面レンズ １３ａ 球面レンズ １３ｂ 球面レンズ １３ｃ 球面レンズ １４ 接眼レンズ １５ 観測者 １６ 半導体レーザー光源
ター） ５ コリメーター ６ 参照レンズ ７ 被検レンズ ７ａ 被検面 ８ 結像レンズ ９ 撮像素子 １０ 位相シフター １１ 集光レンズ １２ ピンホール １３ 球面レンズ １３ａ 球面レンズ １３ｂ 球面レンズ １３ｃ 球面レンズ １４ 接眼レンズ １５ 観測者 １６ 半導体レーザー光源
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G01B 9/02 G02B 27/10 - 27/16 G02B 27/46 G01M 11/00 G01B 11/24
Claims (2)
- 【請求項１】 キューブビームスプリッターと、該キュ
ーブビームスプリッター面上に配置された空間フィルタ
ーと、上記キューブビームスプリッターによる上記空間
フィルターの鏡像上に曲率中心をもち、参照光を生じさ
せるための球面レンズと、干渉縞を電気信号に変換する
ための撮像素子と、被検物体を上記撮像素子上に結像す
る結像レンズとを有する干渉計において、発振波長を制
御できる可干渉性光源を有し、上記発振波長を変調して
位相シフト法又は位相ステップ法で被検面からの反射光
の波面収差を測定するようにしたことを特徴とする干渉
計。 - 【請求項２】 キューブビームスプリッターと、該キュ
ーブビームスプリッター面上に配置された空間フィルタ
ーと、上記キューブビームスプリッターによる上記空間
フィルターの鏡像上に曲率中心をもつ第１の球面レンズ
と、上記空間フィルター上に曲率中心をもち、参照光を
生じさせるための第２の球面レンズと、干渉縞を電気信
号に変換するための撮像素子と、被検物体を上記撮像素
子上に結像する結像レンズとを有する干渉計において、
発振波長を制御できる可干渉性光源を有し、上記発振波
長を変調して位相シフト法又は位相ステップ法で被検面
からの反射光の波面収差を測定するようにしたことを特
徴とする干渉計。 【０００６】 【課題を解決するための手段】 本発明の干渉計は、キ
ューブビームスプリッターと、該キューブビームスプリ
ッター面上に配置された空間フィルターと、上記キュー
ブビームスプリッターによる上記空間フィルターの鏡像
上に曲率中心をもち、参照光を生じさせるための球面レ
ンズと、干渉縞を電気信号に変換するための撮像素子
と、被検物体を上記撮像素子上に結像する結像レンズと
を有する干渉計において、発振波長を制御できる可干渉
性光源を有し、上記発振波長を変調して位相シフト法又
は位相ステップ法で被検面からの反射光の波面収差を測
定するようにしたことを特徴とする。さらに、本発明の
干渉計は、キューブビームスプリッターと、該キューブ
ビームスプリッター面上に配置された空間フィルター
と、上記キューブビームスプリッターによる上記空間フ
ィルターの鏡像上に曲率中心をもつ第１の球面レンズ
と、上記空間フィルター上に曲率中心をもち、参照光を
生じさせるための第２の球面レンズと、干渉縞を電気信
号に変換するための撮像素子と、被検物体を上記撮像素
子上に結像する結像レンズとを有する干渉計において、
発振波長を制御できる可干渉性光源を有し、上記発振波
長を変調してシフト法又は位相ステップ法で被検面から
の反射光の波面収差を測定するようにしたことを特徴と
する。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14441292A JP3150761B2 (ja) | 1992-06-04 | 1992-06-04 | 簡易位相シフト干渉計 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14441292A JP3150761B2 (ja) | 1992-06-04 | 1992-06-04 | 簡易位相シフト干渉計 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05340715A JPH05340715A (ja) | 1993-12-21 |
| JP3150761B2 true JP3150761B2 (ja) | 2001-03-26 |
Family
ID=15361576
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14441292A Expired - Fee Related JP3150761B2 (ja) | 1992-06-04 | 1992-06-04 | 簡易位相シフト干渉計 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3150761B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007184835A (ja) * | 2006-01-10 | 2007-07-19 | Nikon Corp | 光源装置とこれを有する撮像素子検査装置 |
| JP2008057983A (ja) * | 2006-08-29 | 2008-03-13 | Ulvac Japan Ltd | レンズ研磨精度評価装置及び評価方法 |
-
1992
- 1992-06-04 JP JP14441292A patent/JP3150761B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05340715A (ja) | 1993-12-21 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5835217A (en) | Phase-shifting point diffraction interferometer | |
| US6359692B1 (en) | Method and system for profiling objects having multiple reflective surfaces using wavelength-tuning phase-shifting interferometry | |
| US4948253A (en) | Interferometric surface profiler for spherical surfaces | |
| US4869593A (en) | Interferometric surface profiler | |
| JP4312602B2 (ja) | 非球面表面および波面の走査干渉計 | |
| JP4130222B2 (ja) | 移相回折干渉計 | |
| EP1153263B1 (en) | Combining interference fringe patterns to a moire fringe pattern | |
| US6804011B2 (en) | Apparatus and method(s) for reducing the effects of coherent artifacts in an interferometer | |
| US7002694B2 (en) | Interferometer system and method for recording an interferogram using weighted averaging over multiple frequencies, and method for providing and manufacturing an object having a target surface | |
| WO2002090882A1 (en) | Reducing coherent artifacts in an interferometer | |
| US6876456B2 (en) | Absolute calibration of optical flats | |
| US4938596A (en) | Phase conjugate, common path interferometer | |
| US6909510B2 (en) | Application of the phase shifting diffraction interferometer for measuring convex mirrors and negative lenses | |
| JP3150761B2 (ja) | 簡易位相シフト干渉計 | |
| US3432239A (en) | Optical instruments of the interference type | |
| EP1384044B1 (en) | Reducing coherent artifacts in an interferometer | |
| Sommargren et al. | Sub-nanometer interferometry for aspheric mirror fabrication | |
| JP3540004B2 (ja) | 斜入射干渉計 | |
| JP2595050B2 (ja) | 微小角度測定装置 | |
| JP3150764B2 (ja) | 簡易干渉計 | |
| US20230236125A1 (en) | Dynamic phase-shift interferometer utilizing a synchronous optical frequency-shift | |
| JP3010085B2 (ja) | ホログラム干渉計 | |
| JPH03243804A (ja) | 非球面の形状測定方法 | |
| JP2003021577A (ja) | 屈折率分布測定方法および装置 | |
| JPH0599614A (ja) | 透過波面測定用干渉計 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20001226 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080119 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090119 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090119 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100119 Year of fee payment: 9 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |