JP3147512B2 - Electro-optical device - Google Patents

Electro-optical device

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JP3147512B2
JP3147512B2 JP20133492A JP20133492A JP3147512B2 JP 3147512 B2 JP3147512 B2 JP 3147512B2 JP 20133492 A JP20133492 A JP 20133492A JP 20133492 A JP20133492 A JP 20133492A JP 3147512 B2 JP3147512 B2 JP 3147512B2
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color filter
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、カラーフィルターを有
する電気光学装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention
To an electro-optical device.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、カラーフィルターの形成方法や平
坦化層等の材質、形成方法について幾つか提案されてい
る。又、カラーフィルター上に透明電極を形成する方法
として特開昭61−198131号公報、特開昭61−
233720号公報や特開昭61−260224号公報
等が提案されている。前記従来技術と特開昭62−12
1701号公報で提案されている光学的表示セルと光学
的異方体を組合せ大容量表示対応させた電気光学装置と
を組み合わせる事により表示容量の大きい、高画質のカ
ラー表示可能な電気光学装置が提案されている。しか
し、表示容量を上げると、前記電気光学装置では時分割
駆動を用いているため、表示部に印加される波形の配線
抵抗や、液晶層等の容量等による電気的なまりの為実効
電圧が低下し表示特性を劣化させる事が知られている。
そこで、特開昭63−273834号公報などの方法が
提案されている。
2. Description of the Related Art Hitherto, several proposals have been made on a method of forming a color filter, a material of a flattening layer and the like, and a forming method. As a method of forming a transparent electrode on a color filter, Japanese Patent Application Laid-Open Nos.
233720 and JP-A-61-260224 have been proposed. Prior art and Japanese Patent Application Laid-Open No. Sho 62-12
By combining an optical display cell proposed in Japanese Patent Publication No. 1701 and an electro-optical device for large-capacity display by combining an optical anisotropic body and a large-capacity display, an electro-optical device having a large display capacity and capable of high-quality color display can be obtained. Proposed. However, when the display capacity is increased, since the electro-optical device uses time-division driving, the effective voltage decreases due to electrical resistance due to the wiring resistance of the waveform applied to the display unit and the capacitance of the liquid crystal layer and the like. It is known that the display characteristics deteriorate.
Therefore, a method as disclosed in JP-A-63-273834 has been proposed.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前述の
従来技術前者では、行、列電極によるマトリクス配列で
表示を行う電気光学装置に適用したりすると、より大容
量化させるためにダイナミック駆動時のデューティー数
を上げるためカラーフィルター上に表示用透明電極を形
成して実効電圧の低下を防止しなくてはならない。しか
し、カラーフィルター及び平坦化層は有機樹脂で殆どが
形成される為、例えば、酸化インジュウム−酸化スズ
(以下ITO)を真空蒸着法やスパッタリング法で形成
する場合、該カラーフィルター及び平坦化層のシワより
や他のダメージの為、基板温度を通常のガラス基板並に
上げる事が出来ず比抵抗が1.5×10-4Ω・cm位ま
でしか下げれないという問題を有しており、ITOだけ
で配線抵抗を所望の数値まで下げるのには限界があっ
た。そこで、従来技術後者で示した方法が提案されてい
るが本質的に同じ問題を抱えている。その為、表示用透
明電極上もしくは下に金属よりなる細い配線を設置する
事で配線抵抗の低減化を図る方法等が用いられている
が、表示部の開口率を低下させ表示品位の向上に対して
不十分であった。また、金属層の上はカラーフィルター
形成方法により、特に顔料を分散させた光感光性樹脂を
用いフォトリソグラフ法により形成する方法や、顔料を
分散させた樹脂を他の光感光性樹脂をレジストとして用
いパターニングする方法では該金属層上に現像されにく
い樹脂層が残り易く、絶縁層を形成し該金属層と電気的
接続を安定して確保することが製造上非常に難しいと言
う問題を有していた。
However, in the former prior art described above, when the present invention is applied to an electro-optical device which performs display in a matrix arrangement of row and column electrodes, the duty at the time of dynamic driving is increased in order to increase the capacity. In order to increase the number, a display transparent electrode must be formed on the color filter to prevent the effective voltage from lowering. However, since most of the color filter and the flattening layer are formed of an organic resin, for example, when indium oxide-tin oxide (hereinafter, ITO) is formed by a vacuum deposition method or a sputtering method, the color filter and the flattening layer are formed. Due to wrinkles and other damage, the substrate temperature cannot be raised to the level of a normal glass substrate, and the specific resistance can be reduced only to about 1.5 × 10 −4 Ω · cm. There is a limit in reducing the wiring resistance to a desired value by itself. Therefore, the latter method has been proposed, but has essentially the same problem. For this reason, a method of reducing the wiring resistance by installing a thin wiring made of metal on or below the display transparent electrode has been used.However, the aperture ratio of the display unit is reduced to improve the display quality. However, it was not enough. In addition, on the metal layer, by a color filter forming method, in particular, a method of forming by a photolithographic method using a photosensitive resin in which a pigment is dispersed, or a method in which a resin in which a pigment is dispersed is used as a resist with another photosensitive resin. In the patterning method used, a resin layer that is difficult to develop tends to remain on the metal layer, and there is a problem that it is extremely difficult in manufacturing to form an insulating layer and secure stable electrical connection with the metal layer. I was

【0004】そこで、本発明はこの様な問題点を解決す
るもので、その目的とする所は、カラーフィルターを用
いた電気光学装置、特に表示容量の大きな電気光学装置
の画質を向上させることを目的とする。
[0004] The present invention is intended to solve such problems, and an object thereof is to provide an electro-optical device using a color filter, that is particularly improved the image quality of large electro-optical device display capacity Aim.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明の電気光学装置
は、複数のカラーフィルターと、前記複数のカラーフィ
ルターの各々と平面的に重なる位置に設けた複数の表示
用電極と、を具備する電気光学装置において、隣り合う
2つの前記カラーフィルターのうち一方のカラーフィル
ターは、前記2つのカラーフィルターの各々と平面的に
重なる2つの前記表示用電極間にも形成されてなり、隣
り合う2つの前記カラーフィルター間にはそれら2つの
カラーフィルターの各々に隣接する遮光層を有してお
り、その遮光層は、前記2つのカラーフィルターのうち
他方のカラーフィルターと平面的に重なる前記表示用電
極と電気的に接続され、且つ前記2つの表示用電極間に
形成された前記一方のカラーフィルターに重なるように
設けられてなることを特徴とする。また、前記カラーフ
ィルターと前記表示用電極との間には平坦化層が設けら
れてなることを特徴とする。また、前記平坦化層は、無
機膜及び有機樹脂膜から選ばれる膜を含むことを特徴と
する。また、前記複数のカラーフィルター及び前記複数
の表示用電極はストライプ状に設けられてなることを特
徴とする。
According to the present invention, there is provided an electro-optical device comprising: a plurality of color filters; and a plurality of display electrodes provided at positions overlapping each of the plurality of color filters in a plane. In the optical device, one of the two adjacent color filters is also formed between the two display electrodes that overlap with each of the two color filters in a plane, and the two adjacent color filters are formed. A light-shielding layer adjacent to each of the two color filters is provided between the color filters, and the light-shielding layer is electrically connected to the display electrode overlapping the other of the two color filters in a plane. Are connected to each other and are provided so as to overlap the one color filter formed between the two display electrodes. And butterflies. Further, a flattening layer is provided between the color filter and the display electrode. Further, the flattening layer includes a film selected from an inorganic film and an organic resin film. The plurality of color filters and the plurality of display electrodes are provided in a stripe shape.

【0006】また、本発明の他例による電気光学装置
は、対向して配置した2枚の基板を具備し、その2枚の
基板のうち一方の基板は、複数のカラーフィルターと各
前記複数のカラーフィルターの各々と平面的に重なる位
置に設けた複数の表示用電極とを有し、他方の基板は複
数の対向電極を有する電気光学装置において、隣り合う
2つの前記カラーフィルターのうち一方のカラーフィル
ターは前記2つのカラーフィルターの各々と平面的に重
なる2つの前記表示用電極間にも形成されており、隣り
合う2つの前記カラーフィルター間にはそれら2つのカ
ラーフィルターの各々に隣接する遮光層を有しており、
その遮光層は、前記2つのカラーフィルターのうち他方
のカラーフィルターと平面的に重なる前記表示用電極と
電気的に接続され、且つ前記2つの表示用電極間に形成
された前記一方のカラーフィルターに重なるように設け
られてなり、前記遮光層は、前記表示用電極と前記対向
電極とが平面的に重なる位置以外の位置において前記表
示用電極と電気的に接続されることを特徴とする。
An electro-optical device according to another embodiment of the present invention includes two substrates disposed so as to face each other, and one of the two substrates has a plurality of color filters and a plurality of the plurality of color filters. In an electro-optical device having a plurality of display electrodes provided at positions overlapping with each of the color filters in a plane, and the other substrate having a plurality of counter electrodes, one of the two color filters adjacent to each other is provided. A filter is also formed between the two display electrodes overlapping the two color filters in a plane, and a light-shielding layer adjacent to each of the two color filters is provided between two adjacent color filters. Has,
The light-shielding layer is electrically connected to the display electrode that planarly overlaps the other color filter of the two color filters, and is connected to the one color filter formed between the two display electrodes. The light shielding layer is provided so as to overlap, and is electrically connected to the display electrode at a position other than a position where the display electrode and the counter electrode overlap in a plane.

【0007】[0007]

【作用】本発明は上記したように、「隣り合う2つの前
記カラーフィルターのうち一方のカラーフィルターは、
前記2つのカラーフィルターの各々と平面的に重なる2
つの前記表示用電極間にも形成されてなる」、及び「遮
光層は、前記2つのカラーフィルターのうち他方のカラ
ーフィルターと平面的に重なる前記表示用電極と電気的
に接続され、且つ前記2つの表示用電極間に形成された
前記一方のカラーフィルターに重なるように設けられて
なる」構成を具備する。 そのため抵抗を下げることが
できるので、電気的な駆動波形のなまりを防止してコン
トラスト低下及び、クロストークを無くすという作用を
生じる。また、隣り合う2つの表示電極間に入射する光
を遮光層によって吸収するという作用を生じる。特に表
示電極間に形成されたカラーフィルターと遮光層が重な
っているので、表示電極間のカラーフィルター形成部分
における光漏れを防止できる。そして、その結果、コン
トラスト特性及びカラー表示の際の色純度が良好な電気
光学装置が実現する。
According to the present invention, as described above, one of the two adjacent color filters is
2 which overlaps each of the two color filters in a plane
And the light-shielding layer is electrically connected to the display electrode that overlaps the other color filter of the two color filters in a plane, and the light-shielding layer is formed between the two color filters. Provided so as to overlap the one color filter formed between the two display electrodes. As a result, the resistance can be reduced, so that an effect of preventing the electric drive waveform from being rounded and lowering the contrast and eliminating crosstalk is produced. Further, there is an effect that light incident between two adjacent display electrodes is absorbed by the light shielding layer. In particular, since the color filter formed between the display electrodes and the light-shielding layer overlap with each other, it is possible to prevent light leakage at a portion where the color filter is formed between the display electrodes. As a result, an electro-optical device having good contrast characteristics and good color purity during color display is realized.

【0008】[0008]

【実施例】以下、本発明を実施例に基づきより詳細に説
明する。尚、本発明の電気光学装置及び製造方法は以下
各々の実施例で示す構成に限定されないことは言うまで
もない。表示部はカラーフィルター側はカラーフィルタ
ーピッチ100μm、カラーフィルター上表示用透明電
極は幅75μm、電極間ギャップ25μmとして3色に
対応させて各々640本,計1920本の電極を形成
し、対向電極はITOで膜厚2000オングストロー
ム、面抵抗5Ω/□で幅275μm、電極間ギャップ2
5μmとして400本形成した。表示部の配線抵抗は4
kΩであった。配向処理はポリイミドをラビングする従
来より用いられている周知の方法を適応したが、配向処
理によるねじれ配向されるものばかりでなく基板と平行
に配向(ねじれていない)するもの、強誘電性の液晶を
用いた場合でも適用できるもので、以下に述べる実施例
に限定されるものでもない。更に、ねじれ配向させる場
合には、そのねじれ角に制限があるわけではないが、コ
ントラストや表示特性又製造上の安定性から90゜〜3
60゜が望ましい。しかし、ねじれ角に制限があるわけ
ではないので90゜未満や360゜以上でも適用は可能
である。本実施例では捻れ角を左230゜とし、液晶層
の厚み(以下セルギャップ)は7.0μmに設定した。
又、本発明に於いてはカラーフィルターは耐熱性を考慮
して顔料系とし赤(以下R)、緑(以下G)、青(以下
B)の3原色を用い、一般的な色純度(彩度)と透過率
(明度)を得るため各色の膜厚は1.5〜2.5μmと
設定した。しかし、各材料の形成方法によって耐熱性に
制限が無いときには、染料系を適応しても問題の無いこ
とは言うまでもない。製造方法については、カラーフィ
ルター、平坦化層による制約は無い。又、金属層の形成
方法及び材料の組み合せ等制約が無いことはいうまでも
ない。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below in more detail with reference to embodiments. It goes without saying that the electro-optical device and the manufacturing method of the present invention are not limited to the configurations shown in the respective embodiments below. The display portion has a color filter pitch of 100 μm on the color filter side, a transparent electrode for display on the color filter having a width of 75 μm, and a gap between the electrodes of 25 μm. 2000 angstroms film thickness of ITO, width of 275 μm with sheet resistance of 5Ω / □, gap between electrodes 2
400 lines were formed at 5 μm. The wiring resistance of the display is 4
kΩ. For the alignment treatment, a well-known conventional method of rubbing polyimide is applied, but not only the one that is twisted by the alignment treatment but also one that is aligned (not twisted) in parallel with the substrate, a ferroelectric liquid crystal Can be applied even in the case where is used, and is not limited to the embodiments described below. Further, in the case of the twist orientation, the twist angle is not limited, but from 90 ° to 3 ° in view of contrast, display characteristics and manufacturing stability.
60 ° is desirable. However, there is no limitation on the torsion angle, so that application is possible with less than 90 ° or more than 360 °. In this example, the twist angle was set to 230 ° to the left, and the thickness of the liquid crystal layer (hereinafter, cell gap) was set to 7.0 μm.
In the present invention, the color filter is a pigment based on heat resistance and uses three primary colors of red (hereinafter R), green (hereinafter G) and blue (hereinafter B) to obtain general color purity (color). Degree) and transmittance (lightness), the thickness of each color was set to 1.5 to 2.5 μm. However, when the heat resistance is not limited by the forming method of each material, it goes without saying that there is no problem even if the dye system is applied. The manufacturing method is not limited by the color filter and the flattening layer. Needless to say, there is no restriction on the method of forming the metal layer and the combination of materials.

【0009】〔実施例1〕 図1を用いて説明する。ガラス基板1に赤、緑、青の各
々の顔料を紫外線硬化型樹脂に分散させたカラーレジス
トを塗布し、露光−現像工程を各3回繰り返し、カラー
フィルター2を幅95μmで隣合うカラーフィルター同
士が少なくとも重ならない様にストライプ状に膜厚1.
2μm厚で形成した。次に該カラーフィルター上に低温
マグネトロンスパッタ法により180℃の成膜温度でI
TOよりなる透明導伝性膜を1000オングストローム
形成し、フォトリソグラフ法にて表示用透明電極3をカ
ラーフィルター2上に形成した。この際、前記表示用透
明電極3は前記カラーフィルター2上の片側に面合わせ
で形成した。次に、各カラーフィルター間に当たる位置
に隣合うカラーフィルター同士にかかるように15μm
幅でストライプ状にクロム−金よりなる遮光層4を形成
した。この時対向電極と重ならない位置にストライプ状
部から凸状に表示用透明電極間ギャップより広めの30
μmで電気的接続部5を形成し、前記表示用透明電極3
と交差させて形成し電気的接続を確保した。このように
して形成された遮光層4は隣の表示用透明電極と10μ
m間隔が開いていることとなる。但し、間隔の設定に付
いては表示特性、加工精度の関係から設定できる事はい
うまでも無い。又、遮光層4のクロムと金は真空蒸着法
にてクロム約500オングストローム、金を約1000
オングストローム連続成膜後、フォトリソ法を用いてパ
ターニングした。クロムは第2硝酸セリウムアンモン、
金はヨウ素−ヨウ化カリウムで各々エッチングした。図
2は図1のA−A’より見た構造図、図3は図1のB−
B’より見た構造を示した図である。次に図4を用いて
本発明の電気光学装置の構造を説明する。図1で示した
ガラス基板1と同じくガラス基板6上にITOにてマト
リックス状に成るように対向電極7を形成する。この後
ポリイミドを用いて配向膜8を300〜400オングス
トロームで各々形成した。シール9で基板1,6を接着
後ギャップ材10を介して液晶11を封入した。本実施
例に於いては上記で説明した表示用透明電極3を含む基
板としての各色上の表示部の抵抗を測定した所4kΩで
あった。この電気光学装置と遮光層が無くカラーフィル
ター上の透明電極を同じく低温マグネトロンスパッタ法
で2000オングストローム(面抵抗20Ω/□)、表
示部の配線抵抗を25kΩとした以外同じ電気光学装置
を用いて表示を比較した所、本実施例の方法で作成した
電気光学装置はクロストークの無い高品位を得る事が出
来た。又、本実施例にて作成した電気光学装置を、60
℃−90RH%恒温恒湿下放置試験にて300時間変化
無く、50℃−90RH%恒温恒湿下通電試験に於いて
は250時間電蝕や画質の変化は確認されず良好な安定
性を得る事ができた。尚、表示用透明電極3と遮光層4
は本実施例1で示した物と逆に先に遮光層4を形成後表
示用透明電極3を形成しても良い。
First Embodiment A description will be given with reference to FIG. A color resist in which red, green, and blue pigments are dispersed in an ultraviolet-curable resin is applied to the glass substrate 1, and the exposure-development process is repeated three times, and the color filters 2 are adjacent to each other with a width of 95 μm. Have a film thickness of 1.
It was formed with a thickness of 2 μm. Next, the film was formed on the color filter by a low-temperature magnetron sputtering method at a film forming temperature of 180 ° C.
A transparent conductive film made of TO was formed to a thickness of 1000 angstroms, and a display transparent electrode 3 was formed on the color filter 2 by a photolithographic method. At this time, the display transparent electrode 3 was formed on one side of the color filter 2 by face contact. Next, 15 μm is applied to adjacent color filters at a position corresponding to each color filter.
A light-shielding layer 4 made of chrome-gold was formed in a stripe shape with a width. At this time, at a position that does not overlap with the counter electrode, the stripe-shaped portion protrudes from the stripe-shaped portion to a width 30 wider than the gap between the display transparent electrodes.
forming an electrical connection portion 5 μm, and forming the display transparent electrode 3
To cross each other to secure electrical connection. The light-shielding layer 4 thus formed is connected to the adjacent display transparent electrode by 10 μm.
This means that m intervals are open. However, it goes without saying that the interval can be set from the relationship between the display characteristics and the processing accuracy. Chromium and gold of the light shielding layer 4 are approximately 500 angstroms of chromium and approximately 1000
After the continuous angstrom film formation, patterning was performed using a photolithography method. Chromium is cerium ammonium nitrate,
Gold was each etched with iodine-potassium iodide. FIG. 2 is a structural diagram viewed from AA ′ in FIG. 1, and FIG.
It is the figure which showed the structure seen from B '. Next, the structure of the electro-optical device of the present invention will be described with reference to FIG. The counter electrode 7 is formed on the glass substrate 6 in the same manner as the glass substrate 1 shown in FIG. Thereafter, an alignment film 8 was formed at 300 to 400 angstroms using polyimide. After bonding the substrates 1 and 6 with the seal 9, the liquid crystal 11 was sealed through the gap material 10. In this embodiment, when the resistance of the display portion on each color as the substrate including the display transparent electrode 3 described above was measured, it was 4 kΩ. The electro-optical device and the transparent electrode on the color filter without a light-shielding layer are displayed by using the same electro-optical device except that the low-temperature magnetron sputtering method is the same as 2000 angstrom (surface resistance 20 Ω / □) and the wiring resistance of the display unit is 25 kΩ. As a result, the electro-optical device produced by the method of this embodiment was able to obtain high quality without crosstalk. Further, the electro-optical device created in this embodiment is
No change for 300 hours in a constant temperature and constant humidity test at 50 ° C-90 RH%, and no change in image quality and image corrosion for 250 hours in a constant temperature and constant temperature and humidity test at 50 ° C-90RH% to obtain good stability. I was able to do things. The display transparent electrode 3 and the light shielding layer 4
The display transparent electrode 3 may be formed after the light-shielding layer 4 is formed first, contrary to the one shown in the first embodiment.

【0010】〔実施例2〕 図5を用いて説明する。ガラス基板1上に実施例1と同
様にカラーフィルター2を形成した後、エポキシアクリ
レート樹脂に紫外線硬化感光性を付与してスピンコート
法により1.2μm厚でコートした後、紫外線照射して
平坦化層12を形成した。図6は図5をA−A’より見
た構造、図7は図5をB−B’より見た構造を示す。次
に実施例1と同様に遮光層4と表示用透明電極3を形成
した。本実施例2で示したカラーフィルター付基板1を
用いて図8に示す用にシール9を介して対向基板6と組
み合わせ電気光学装置を作成した。この時、平坦化層1
2は本実施例ではセル厚が制御しやすいようにシール9
の下まで形成したが、シール9より内側でも、外側でも
同様の結果が得られる事は言うまでもない。この様にし
て作成した電気光学装置を実施例1と同様にしてクロス
トーク等画質に関して評価した所同様の良好な結果を得
ることが出来ると共に安定性に於いても良好な結果を得
る事が出来た。
Embodiment 2 This will be described with reference to FIG. After forming a color filter 2 on a glass substrate 1 in the same manner as in Example 1, an epoxy acrylate resin is coated with a 1.2 μm-thick film by spin-coating by imparting ultraviolet-curing photosensitivity, and then flattened by ultraviolet irradiation. Layer 12 was formed. 6 shows the structure of FIG. 5 as viewed from AA ′, and FIG. 7 shows the structure of FIG. 5 as viewed from BB ′. Next, a light-shielding layer 4 and a display transparent electrode 3 were formed in the same manner as in Example 1. Using the substrate 1 with the color filter described in the second embodiment, an electro-optical device was prepared by combining the substrate 1 with the counter substrate 6 via the seal 9 as shown in FIG. At this time, the planarizing layer 1
Reference numeral 2 denotes a seal 9 in this embodiment so that the cell thickness can be easily controlled.
However, it goes without saying that the same result can be obtained both inside and outside the seal 9. When the electro-optical device produced in this manner was evaluated for image quality such as crosstalk in the same manner as in Example 1, it was possible to obtain the same good results as in the case of crosstalk, and also to obtain good results in terms of stability. Was.

【0011】実施例1,2を通じて説明してきたが本発
明の構造は他のカラーフィルター形成方法(例えば電着
法、印刷インクに顔料を分散させ例えばオフセット印刷
法等によってカラーフィルターを形成する方法、顔料を
ポリイミド樹脂等の基質に分散させフォトレジストを用
いてカラーフィルターをパターニングする方法等)や平
坦化層として他の材料(例えば、熱硬化性メラミン樹
脂、エポキシ樹脂、シリコーン系樹脂等)による材料、
形成方法の制約は受けない。
Although described through Embodiments 1 and 2, the structure of the present invention can be applied to other color filter forming methods (for example, an electrodeposition method, a method of dispersing a pigment in printing ink to form a color filter by, for example, an offset printing method, A method in which a pigment is dispersed in a substrate such as a polyimide resin and a color filter is patterned using a photoresist, etc.), and a material made of another material (eg, a thermosetting melamine resin, an epoxy resin, a silicone resin) as a flattening layer. ,
There is no restriction on the forming method.

【0012】〔実施例3〕 実施例1,2で述べた基板の遮光層4をニッケルを真空
蒸着法により、又金を該ニッケルをフォトリソグラフ法
によりパターニング後、無電解メッキ法で選択的にニッ
ケル上に析出させて実施例,2と同様の膜厚で形成し
た以外はカラーフィルター、及び表示用透明電極は同様
に作成し、該基板を用いて対向電極を同様に用い粒系の
揃ったガラスビーズをギャップ材10としてセルギャッ
プ2μmに設定し、強誘電液晶を注入しパルス幅とリフ
レッシュ駆動の周波数を変えて表示を確認した所パルス
幅は約60μs、リフレッシュ駆動周波数は約20Hz
まで良好な波形飽和状態で応答した。本実施例の電気光
学装置に対して金属層による遮光層を形成しない従来構
造の電気光学装置はパルス幅約250μs、リフレッシ
ュ駆動周波数約8Hzとなりフリッカーが目立った表示
となった。以上よりカラー表示の良好な強誘電液晶表示
装置を作成する事が可能となった。
[Embodiment 3] The light-shielding layer 4 of the substrate described in Embodiments 1 and 2 is selectively patterned by electroless plating after nickel is patterned by vacuum evaporation and gold is patterned by photolithography. A color filter and a transparent electrode for display were prepared in the same manner, except that they were deposited on nickel and formed in the same film thickness as in Example and Example 2. A glass bead was used as the gap material 10 and the cell gap was set to 2 μm. Ferroelectric liquid crystal was injected and the pulse width and refresh driving frequency were changed to confirm the display. The pulse width was about 60 μs and the refresh driving frequency was about 20 Hz.
Responded with good waveform saturation. In contrast to the electro-optical device of the present embodiment, the electro-optical device having the conventional structure in which the light-shielding layer made of a metal layer is not formed has a pulse width of about 250 μs and a refresh driving frequency of about 8 Hz, and a display with a noticeable flicker is obtained. As described above, a ferroelectric liquid crystal display device with good color display can be manufactured.

【0013】〔実施例4〕 実施例4の電気光学装置の構造を図9を用いて説明す
る。実施例2にて説明した電気光学装置を表示セルとし
光学的なスイッチングを行うSセルとた。本実施例で
は光学的異方体として該Sセルと同じ複屈折性(セル
ギャップ:dと液晶もしくは光学的異方体の屈折率異方
性:△nとの積△n×d=0.9,△n=0.129)
を持ち、Sセルを光学的に補償出来る様に液晶セルを
偏光体14,15の間に設置した。本実施例では液晶セ
ルは△n×d=0.9としてd=8μm,△n=0.
113とした。ここで、Sセルと液晶セルの相接す
る面の配向方向のなす角は70゜〜110゜の範囲が望
ましく、更に望ましくは90゜である。本実施例では9
0゜とした。又、各々の偏光体の偏光軸とSセル、液
晶セル各々の合い接する面側の配向方向のなす角を2
0〜50゜で振り本実施例で用いている複屈折性と屈折
率分散の値では非点灯時に黒く全点灯時に白となる条件
は45゜である。但し配向方向に対して変更軸が電気光
学装置の上からみて右か左かはポジかネガかの相違であ
り本実施例ではネガとなるようにした。
Embodiment 4 The structure of an electro-optical device according to Embodiment 4 will be described with reference to FIG. The electro-optical device described in the second embodiment was used as a display cell and an S cell for performing optical switching. In this embodiment, the same birefringence (cell gap: d and refractive index anisotropy of liquid crystal or optically anisotropic substance: Δn) as an optically anisotropic substance as the S cell: Δn × d = 0. 9, Δn = 0.129)
And a liquid crystal cell was disposed between the polarizers 14 and 15 so that the S cell could be optically compensated. In this embodiment, the liquid crystal cell is d = 8 μm, Δn = 0.
113. Here, the angle between the alignment directions of the surfaces where the S cell and the liquid crystal cell are in contact with each other is preferably in the range of 70 ° to 110 °, and more preferably 90 °. In this embodiment, 9
0 °. The angle between the polarization axis of each polarizer and the alignment direction on the side where the S cell and the liquid crystal cell are in contact with each other is 2
The value of the birefringence and the refractive index dispersion used in the present embodiment is 0 ° to 50 °, and the condition for black when not lit and white when fully lit is 45 °. However, whether the axis of change with respect to the alignment direction is right or left when viewed from above the electro-optical device is a difference between positive and negative. In this embodiment, the change is made negative.

【0014】しかし、上述した様に光学的異方体として
はSセルと同じ複屈折性を有しておれば同様の効果が有
り、例えばたポリビニルアルコールやポリカーボネート
等の延伸した高分子フィルムを用いても良く、制約はさ
れない。この様にして作成した電気光学装置を表示させ
画質を評価した所、白黒の発色性の良い高画質のカラー
表示を得る事が出来た。
However, as described above, the optical anisotropic material has the same effect as long as it has the same birefringence as the S cell. For example, a stretched polymer film such as polyvinyl alcohol or polycarbonate is used. No restrictions are imposed. When the image quality was evaluated by displaying the electro-optical device prepared in this manner, a high-quality color display with good black-and-white coloring was obtained.

【0015】〔実施例5〕 実施例1,2,3にて説明してきた構造に対して、今後
より表示容量が大きくなる事に対応して、信号入力方法
もより細密化が進む事が予想され、例えば異方性導電接
着剤を介して駆動ドライバーをフレキシブルテープ上に
実装したテープをガラス基板に接続する方法の細密化
と、一方ガラス基板側の信号入力端子部に金属層(例え
ばアルミニウム、金等)を形成し、ドライバー実装基板
とワイヤーボンディング技術を用いて接続する方法、又
はガラス基板上に直接駆動ドライバーを実装する方法
(一般的にCOGと言われる方法)に対して対応する為
に、実施例2で示した遮光層4を図10に示す様に表示
部以外まで延長しカラーフィルターの無い部分で通常の
信号入力端子部と表示部の間の引き回し部で表示用透明
電極3と接続させ、そのまま遮光層4を用いて引き回し
部及び信号入力端子部15を形成した。該信号入力端子
部15に金ワイヤーを用いてワイヤーボンディングを行
った所良好な共晶結合状態を確認する事が出来た。また
COG実装をおこなってみたが、通常電気光学装置にす
る場合モールド処理もしくは液晶セル内になる部分には
簡易的にモールド処理を施して駆動ドラーバーの入力と
基板側の出力を観察する方法で該基板を60℃−90R
H%恒温恒湿下放置試験にて250時間問題が無く良好
な結果を得る事が出来た。以上説明した構造は実装方法
に応じてその金属系を選択できる。
Fifth Embodiment With respect to the structure described in the first, second, and third embodiments, it is expected that the signal input method will be further miniaturized in accordance with the future increase in display capacity. For example, a method of connecting a tape in which a drive driver is mounted on a flexible tape to a glass substrate via an anisotropic conductive adhesive is reduced, and a metal layer (for example, aluminum, Gold) and connecting it to the driver mounting substrate using wire bonding technology, or mounting the drive driver directly on the glass substrate (generally called COG) As shown in FIG. 10, the light-shielding layer 4 shown in the second embodiment is extended to a portion other than the display portion, and a portion without a color filter is used for a display portion between a normal signal input terminal portion and a display portion. The wiring portion and the signal input terminal portion 15 were connected to the transparent electrode 3 and the light-shielding layer 4 was used as it was. When wire bonding was performed on the signal input terminal portion 15 using a gold wire, a favorable eutectic bonding state could be confirmed. In addition, although COG mounting was performed, in the case of a normal electro-optical device, a molding process or a simple molding process is performed on a portion in a liquid crystal cell and a method of observing an input of a driving driver bar and an output of a substrate side. Substrate at 60 ° C-90R
A good result could be obtained without any problem for 250 hours in an H% constant temperature / humidity standing test. In the structure described above, the metal system can be selected according to the mounting method.

【0016】[0016]

【発明の効果】以上、述べてきたように本発明は、「隣
り合う2つの前記カラーフィルターのうち一方のカラー
フィルターは、前記2つのカラーフィルターの各々と平
面的に重なる2つの前記表示用電極間にも形成されてな
る」、及び「遮光層は、前記2つのカラーフィルターの
うち他方のカラーフィルターと平面的に重なる前記表示
用電極と電気的に接続され、且つ前記2つの表示用電極
間に形成された前記一方のカラーフィルターに重なるよ
うに設けられてなる」構成を具備するので配線抵抗を下
げることができ、電気的な駆動波形のなまりを防止して
コントラスト低下及び、クロストークを無くすことがで
きる。また、隣り合う2つの表示電極間に入射する光を
遮光層によって吸収することができる。特に表示電極間
に形成されたカラーフィルターと遮光層が重なっている
ので、表示電極間のカラーフィルター形成部分における
光漏れを防止できる。そして、その結果、コントラスト
特性及びカラー表示の際の色純度が良好な電気光学装置
が実現する。
As described above, according to the present invention, there is provided the present invention, wherein one of the two adjacent color filters is one of the two display electrodes overlapping the two color filters in a plane. And the light-shielding layer is electrically connected to the display electrode that planarly overlaps with the other color filter of the two color filters, and the light-shielding layer is formed between the two display electrodes. Provided so as to overlap with the one color filter formed on the substrate, thereby reducing the wiring resistance, preventing the electric drive waveform from being rounded, and lowering the contrast and eliminating crosstalk. be able to. Further, light incident between two adjacent display electrodes can be absorbed by the light shielding layer. In particular, since the color filter formed between the display electrodes and the light-shielding layer overlap with each other, it is possible to prevent light leakage at a portion where the color filter is formed between the display electrodes. As a result, an electro-optical device having good contrast characteristics and good color purity during color display is realized.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施例1で示したカラーフィルター付
き基板の構造図。
FIG. 1 is a structural diagram of a substrate with a color filter shown in Embodiment 1 of the present invention.

【図2】本発明の実施例1で示したカラーフィルター付
き基板のA−A’断面より見た構造図。
FIG. 2 is a structural view of the substrate with a color filter shown in Example 1 of the present invention as viewed from the AA ′ section.

【図3】本発明の実施例1で示したカラーフィルター付
き基板のB−B’断面より見た構造図。
FIG. 3 is a structural view of the substrate with a color filter shown in Example 1 of the present invention as viewed from a cross section BB ′.

【図4】本発明の実施例2で示した電気光学装置の構造
図。
FIG. 4 is a structural diagram of the electro-optical device shown in Embodiment 2 of the present invention.

【図5】本発明の実施例2で示したカラーフィルター付
き基板の構造図。
FIG. 5 is a structural diagram of a substrate with a color filter shown in Embodiment 2 of the present invention.

【図6】本発明の実施例2で示したカラーフィルター付
き基板のA−A’断面より見た構造図。
FIG. 6 is a structural diagram of the substrate with a color filter shown in Example 2 of the present invention, as viewed from a cross section AA ′.

【図7】本発明の実施例2で示したカラーフィルター付
き基板のB−B’断面より見た構造図。
FIG. 7 is a structural diagram of the substrate with a color filter shown in Example 2 of the present invention as viewed from a cross section BB ′.

【図8】本発明の実施例2で示した電気光学装置の構造
図。
FIG. 8 is a structural view of the electro-optical device shown in Embodiment 2 of the present invention.

【図9】本発明の実施例4で示した電気光学装置の構成
図。
FIG. 9 is a configuration diagram of an electro-optical device shown in Embodiment 4 of the present invention.

【図10】本発明の実施例5で示したカラーフィルター
付き基板の構造図。
FIG. 10 is a structural diagram of a substrate with a color filter shown in Embodiment 5 of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1.ガラス基板 2.カラーフィルター 3.表示用透明電極 4.遮光層 5.電気的接続部 6.ガラス基板 7.対向電極 8.配向膜 9.シール 10.ギャップ材 11.液晶 12.平坦化層 13.偏光体 14.偏光体 15.信号入力端子部 1. Glass substrate 2. Color filter 3. 3. Transparent electrode for display Light shielding layer 5. Electrical connection part 6. Glass substrate 7. 7. Counter electrode Alignment film 9. Seal 10. Gap material 11. Liquid crystal 12. Planarization layer 13. Polarizer 14. Polarizer 15. Signal input terminal

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G02F 1/1335 G02F 1/1343 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (58) Field surveyed (Int.Cl. 7 , DB name) G02F 1/1335 G02F 1/1343

Claims (5)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】複数のカラーフィルターと、前記複数のカ
ラーフィルターの各々と平面的に重なる位置に設けた複
数の表示用電極と、を具備する電気光学装置において、 隣り合う2つの前記カラーフィルターのうち一方のカラ
ーフィルターは、前記2つのカラーフィルターの各々と
平面的に重なる2つの前記表示用電極間にも形成されて
なり、 隣り合う2つの前記カラーフィルター間にはそれら2つ
のカラーフィルターの各々に隣接する遮光層を有してお
り、その遮光層は、前記2つのカラーフィルターのうち
他方のカラーフィルターと平面的に重なる前記表示用電
極と電気的に接続され、且つ前記2つの表示用電極間に
形成された前記一方のカラーフィルターに重なるように
設けられてなることを特徴とする電気光学装置。
1. An electro-optical device comprising: a plurality of color filters; and a plurality of display electrodes provided at positions overlapping each of the plurality of color filters in a plane. One of the color filters is also formed between the two display electrodes overlapping the two color filters in a plane. Each of the two color filters is located between two adjacent color filters. And the light-shielding layer is electrically connected to the display electrode that planarly overlaps the other color filter of the two color filters, and the two display electrodes An electro-optical device, wherein the electro-optical device is provided so as to overlap the one color filter formed therebetween.
【請求項2】請求項1に記載の電気光学装置において、 前記カラーフィルターと前記表示用電極との間には平坦
化層が設けられてなることを特徴とする電気光学装置。
2. The electro-optical device according to claim 1, wherein a flattening layer is provided between the color filter and the display electrode.
【請求項3】請求項2に記載の電気光学装置において、 前記平坦化層は、無機膜及び有機樹脂膜から選ばれる膜
を含むことを特徴とする電気光学装置。
3. The electro-optical device according to claim 2, wherein the flattening layer includes a film selected from an inorganic film and an organic resin film.
【請求項4】請求項1乃至請求項3のいずれかに記載の
電気光学装置において、 前記複数のカラーフィルター及び前記複数の表示用電極
は各々ストライプ状に設けられてなることを特徴とする
電気光学装置。
4. The electro-optical device according to claim 1, wherein the plurality of color filters and the plurality of display electrodes are provided in stripes. Optical device.
【請求項5】対向して配置した2枚の基板を具備し、そ
の2枚の基板のうち一方の基板は、複数のカラーフィル
ターと各前記複数のカラーフィルターの各々と平面的に
重なる位置に設けた複数の表示用電極とを有し、他方の
基板は複数の対向電極を有する電気光学装置において、 隣り合う2つの前記カラーフィルターのうち一方のカラ
ーフィルターは前記2つのカラーフィルターの各々と平
面的に重なる2つの前記表示用電極間にも形成されてお
り、 隣り合う2つの前記カラーフィルター間にはそれら2つ
のカラーフィルターの各々に隣接する遮光層を有してお
り、その遮光層は、前記2つのカラーフィルターのうち
他方のカラーフィルターと平面的に重なる前記表示用電
極と電気的に接続され、且つ前記2つの表示用電極間に
形成された前記一方のカラーフィルターに重なるように
設けられてなり、 前記遮光層は、前記表示用電極と前記対向電極とが平面
的に重なる位置以外の位置において前記表示用電極と電
気的に接続されることを特徴とする電気光学装置。
5. A semiconductor device comprising: two substrates disposed so as to face each other, and one of the two substrates is provided at a position overlapping a plurality of color filters and each of the plurality of color filters in a plane. An electro-optical device having a plurality of display electrodes provided thereon, and the other substrate having a plurality of counter electrodes, wherein one of the two adjacent color filters is in plane with each of the two color filters. It is also formed between two overlapping display electrodes, and between the two adjacent color filters, a light shielding layer adjacent to each of the two color filters is provided. The two color filters are electrically connected to the display electrode overlapping the other color filter in a plane, and are formed between the two display electrodes. The light-shielding layer is electrically connected to the display electrode at a position other than a position where the display electrode and the counter electrode overlap in a plane. An electro-optical device characterized by the above-mentioned.
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