JP3146682B2 - Mold for producing anisotropic conductive sheet, method for producing the same, and anisotropic conductive sheet - Google Patents

Mold for producing anisotropic conductive sheet, method for producing the same, and anisotropic conductive sheet

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JP3146682B2
JP3146682B2 JP27483492A JP27483492A JP3146682B2 JP 3146682 B2 JP3146682 B2 JP 3146682B2 JP 27483492 A JP27483492 A JP 27483492A JP 27483492 A JP27483492 A JP 27483492A JP 3146682 B2 JP3146682 B2 JP 3146682B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、例えばプリント回路基
板などを検査対象としてその電気的性能を検査するた
め、当該検査対象回路基板と電気的検査装置との間の電
気的接続を達成するために用いられる異方導電性シート
を製造するための金型、および当該金型の製造方法、並
びに異方導電性シートに関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of inspecting the electrical performance of a printed circuit board or the like, for example, to achieve an electrical connection between the circuit board to be inspected and an electrical inspection apparatus. For manufacturing an anisotropic conductive sheet used for the method, and a method for manufacturing the mold,
And an anisotropic conductive sheet .

【0002】[0002]

【従来の技術】異方導電性シートは、その特徴から、電
気的な接続を達成するための部材として種々の用途にお
いて有用であり、例えば、微細化されたパターン電極を
有するプリント回路基板等の電気的検査のためのコネク
ターとして好適である。
2. Description of the Related Art Anisotropically conductive sheets are useful in various applications as members for achieving electrical connection because of their characteristics. For example, anisotropic conductive sheets such as printed circuit boards having fine pattern electrodes are useful. It is suitable as a connector for electrical inspection.

【0003】異方導電性シートは、シートの厚さ方向に
伸びる導電部が絶縁部により絶縁された状態で配置され
てなるものであるが、従来においては種々の構造のもの
が知られている。例えば加圧異方導電性シートとして
は、導電部に導電性粒子が比較的密に分散されてなり、
しかもそのような導電部が絶縁性エラストマー中に絶縁
部の表面から突出するように形成された構造のものが知
られている。
An anisotropic conductive sheet is one in which conductive portions extending in the thickness direction of the sheet are arranged in a state in which the conductive portions are insulated by an insulating portion. Conventionally, various structures are known. . For example, as a pressed anisotropic conductive sheet, conductive particles are relatively densely dispersed in the conductive portion,
In addition, there is known a structure in which such a conductive portion is formed in an insulating elastomer so as to protrude from the surface of the insulating portion.

【0004】上記のような構造の異方導電性シートの製
造方法としては、金型の成形空間内に、磁性を有する導
電性粒子と高分子材料との混合物からなる成形材料の層
を形成し、前記金型の上型成形面と前記成形材料の層の
上面との間に間隙が形成された状態で、当該成形材料の
層に磁場を当該層の厚さ方向に作用させ、その磁力の作
用によって金型の特性を利用して導電性粒子を移動させ
ながら成形材料を流動させてその上面の外形を変化さ
せ、その状態で硬化する方法が知られている。
As a method for producing an anisotropic conductive sheet having the above structure, a layer of a molding material comprising a mixture of conductive particles having magnetic properties and a polymer material is formed in a molding space of a mold. In a state where a gap is formed between the upper mold forming surface of the mold and the upper surface of the molding material layer, a magnetic field is applied to the molding material layer in the thickness direction of the layer to reduce the magnetic force of the magnetic field. There is known a method in which a molding material is caused to flow while moving conductive particles by utilizing the characteristics of a mold by the action to change the outer shape of the upper surface of the molding material and to cure the molding in that state.

【0005】上記の異方導電性シートの製造方法におい
て用いられる金型は、各々全体の形状がほぼ平板状の互
いに対応する上型と下型の2枚一組で構成されたもので
あり、上型および下型が電磁石に装着可能に構成される
か、もしくは電磁石と一体的に構成されて、前記成形材
料の層に磁場を作用させながら当該成形材料の層を加熱
硬化することができる構造のものである。また、成形材
料の層に磁場を作用させて適正な位置に導電部となる突
出部を形成するために、金型の上型または上型と下型
は、鉄、ニッケル等の強磁性体からなる基板上に、金型
内の磁場に強度分布を生じさせるための鉄、ニッケル等
からなる強磁性体部分と、銅等の非磁性体金属からなる
非磁性体部分とをモザイク状に配列した層(以下「モザ
イク層」という。)を有する構成のものであり、金型の
上型および下型の成形面は、平坦であるかもしくは異方
導電性シートの突出部の突出高さに比べてわずかな凹凸
を有するものである。
The dies used in the above-described method for producing an anisotropic conductive sheet are each composed of a pair of upper and lower dies corresponding to each other, each of which has a substantially flat plate shape. A structure in which the upper mold and the lower mold are configured to be attachable to the electromagnet, or are configured integrally with the electromagnet, so that the layer of the molding material can be heated and cured while applying a magnetic field to the layer of the molding material. belongs to. In addition, in order to form a protrusion that becomes a conductive portion at an appropriate position by applying a magnetic field to the layer of the molding material, the upper mold or the upper mold and the lower mold of the mold are made of a ferromagnetic material such as iron or nickel. A ferromagnetic part made of iron, nickel, and the like, and a non-magnetic part made of a non-magnetic metal, such as copper, are arranged in a mosaic pattern on a substrate made of iron, nickel, or the like for generating an intensity distribution in the magnetic field in the mold. (Hereinafter referred to as “mosaic layer”), and the molding surfaces of the upper and lower molds of the mold are flat or have a height higher than that of the projecting portion of the anisotropic conductive sheet. It has slight irregularities.

【0006】これらの金型は前記成形材料の層が形成さ
れた成形面の全体に電磁石によって強度分布を有する磁
場を形成できるものである。また、モザイク層における
強磁性体部分と非磁性体部分の配置、形状等は、作製し
ようとする異方導電性シートに基づいて決定される。す
なわち、異方導電性シートの導電部に相当する箇所に強
磁性体部分が配置され、その強磁性体部分の形状が導電
部の断面形状に適合したものである。
In these molds, a magnetic field having an intensity distribution can be formed by an electromagnet on the entire molding surface on which the layer of the molding material is formed. The arrangement, shape, and the like of the ferromagnetic material portion and the nonmagnetic material portion in the mosaic layer are determined based on the anisotropic conductive sheet to be manufactured. That is, the ferromagnetic portion is disposed at a position corresponding to the conductive portion of the anisotropic conductive sheet, and the shape of the ferromagnetic portion is adapted to the cross-sectional shape of the conductive portion.

【0007】以上のようなモザイク層を有する金型は、
例えば、強磁性体の板から非磁性体部分を構成すべき部
分を切削もしくはエッチング等の方法により除去し、形
成された除去部分に樹脂を流し込むかもしくは銅をメッ
キする等の方法で非磁性体を充填してモザイク層を形成
することにより製造される。
The mold having the mosaic layer as described above is
For example, a portion to constitute a non-magnetic material portion is removed from a ferromagnetic plate by a method such as cutting or etching, and a non-magnetic material is formed by pouring a resin or plating copper into the formed removed portion. To form a mosaic layer.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】しかし、上記のような
金型の製造において、エッチングの方法によってモザイ
ク層を形成する場合には、サイドエッチングが生じるた
めに、強磁性体部分のピッチ、すなわち隣接する強磁性
体部分の中心間距離が小さくて例えば0.3mm以下で
あるようなモザイク層を形成することは相当に困難であ
る、という問題がある。また、切削の方法によってモザ
イク層を形成する場合には、エッチングの方法に比較し
て、隣接する強磁性体部分の中心間距離が小さい、例え
ば0.1mm程度のモザイク層を形成することが可能で
あるが、強磁性体部分と非磁性体部分の配列が複雑なモ
ザイク層を形成するためには、手間や時間がかかりす
ぎ、従って、得られる金型は製造コストの高いものとな
る、という問題がある。さらに、強磁性体部分と非磁性
体部分の配列が非常に複雑なモザイク層を形成すること
が困難である、という問題がある。
However, when a mosaic layer is formed by an etching method in the manufacture of a mold as described above, side etching occurs. There is a problem that it is considerably difficult to form a mosaic layer in which the center-to-center distance of the ferromagnetic portion is small, for example, 0.3 mm or less. Further, when the mosaic layer is formed by a cutting method, it is possible to form a mosaic layer having a small center-to-center distance between adjacent ferromagnetic portions, for example, about 0.1 mm as compared with the etching method. However, in order to form a mosaic layer in which the arrangement of the ferromagnetic material portion and the non-magnetic material portion is complicated, it takes too much work and time, and therefore, the obtained mold has a high manufacturing cost. There's a problem. Further, there is a problem that it is difficult to form a mosaic layer in which the arrangement of the ferromagnetic material portion and the nonmagnetic material portion is extremely complicated.

【0009】以上のような理由により、強磁性体部分と
非磁性体部分の配列が複雑で微細化されたモザイク層を
有する金型、すなわち、導電部の配列が複雑で隣接する
導電部の中心間距離が小さいようなパターンを有する異
方導電性シートを製造することが可能な金型を、容易に
製作することは困難であった。そこで、本発明の目的
は、強磁性体部分と非磁性体部分の配列が複雑で微細化
されたモザイク層の形成が容易で、所望の異方導電性シ
ートを製造することができる金型、および当該金型の製
造方法、並びに異方導電性シートを提供することにあ
る。
For the reasons described above, a mold having a mosaic layer in which the arrangement of the ferromagnetic material portion and the nonmagnetic material portion is complicated and miniaturized, that is, the arrangement of the conductive portions is complicated and the center of the adjacent conductive portion is It has been difficult to easily manufacture a mold capable of manufacturing an anisotropic conductive sheet having a pattern with a small distance. Therefore, an object of the present invention is to form a mosaic layer in which the arrangement of the ferromagnetic material portion and the non-magnetic material portion is complicated and miniaturized easily, and a mold capable of manufacturing a desired anisotropic conductive sheet , And the mold
Another object of the present invention is to provide a manufacturing method and an anisotropic conductive sheet .

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明の異方導電性シー
ト製造用金型は、磁性金属よりなる基板の表面に沿っ
て、金属よりなる磁性体部分と非磁性体部分とが配列さ
れて構成され、前記非磁性体部分は、フォトリソグラフ
ィーの手法により、放射線によって硬化された耐熱性の
高分子物質により形成され、前記磁性体部分は、メッキ
により形成されていることを特徴とする。本発明の異方
導電性シート製造用金型の製造方法は、磁性金属よりな
る基板の表面に沿って、金属よりなる磁性体部分と非磁
性体部分とが配列されて構成された異方導電性シート製
造用金型の製造方法であって、前記基板の表面に沿っ
て、フォトリソグラフィーの手法により、放射線によっ
て硬化された耐熱性の高分子物質よりなる非磁性体部分
を形成し、前記基板の表面における非磁性体部分が形成
されていない部分に、メッキおよびメッキ部分を研磨す
ることにより、表面が平坦な磁性体部分を形成すること
を特徴とする。 また、本発明の異方導電性シート製造用
金型の製造方法は、磁性金属よりなる基板の表面に沿っ
て、金属よりなる磁性体部分と非磁性体部分とが配列さ
れて構成された異方導電性シート製造用金型の製造方法
であって、前記基板の表面に沿って、フォトリソグラフ
ィーの手法により、放射線によって硬化された耐熱性の
高分子物質よりなる第1層の非磁性体部分を形成し、前
記基板の表面における非磁性体部分が形成されていない
部分に、メッキおよびメッキ部分を研磨することによ
り、表面が平坦な磁性体部分を形成し、更に、前記第1
層の非磁性体部分の上に第2層の非磁性体部分を形成す
ることを特徴とする。 本発明の異方導電性シートは、上
記の異方導電性シート製造用金型を用いて製造されたこ
とを特徴とする。
According to the present invention, there is provided a mold for producing an anisotropic conductive sheet, in which a magnetic portion and a non-magnetic portion made of metal are arranged along a surface of a substrate made of magnetic metal.
Which is constituted by the non-magnetic portion is photolithography
According to the method of ィ, formed of a heat-resistant polymer material cured by radiation , the magnetic material portion is plated
Characterized in that it is formed by. Anisotropy of the present invention
The method for manufacturing the conductive sheet manufacturing mold is made of a magnetic metal.
Along with the surface of the substrate,
Made of anisotropic conductive sheet composed of sexual parts arranged
A method for manufacturing a molding die, the method comprising:
And by photolithography,
Non-magnetic part made of heat-resistant polymer material cured by heating
Forming a non-magnetic material portion on the surface of the substrate.
Polish the plated and plated parts to the parts that are not
To form a magnetic part with a flat surface
It is characterized by. Also, for producing the anisotropic conductive sheet of the present invention
The manufacturing method of the mold is based on the surface of
The magnetic and non-magnetic parts made of metal are arranged
For manufacturing anisotropically conductive sheet-producing mold constituted by
And a photolithography along the surface of the substrate.
The heat resistance cured by radiation
Forming a nonmagnetic portion of the first layer made of a polymer material,
Non-magnetic part on the surface of the substrate is not formed
By plating the part and polishing the plated part
Forming a magnetic material portion having a flat surface,
Forming a non-magnetic portion of the second layer on the non-magnetic portion of the layer
It is characterized by that. The anisotropic conductive sheet of the present invention
Manufactured using the mold for manufacturing an anisotropic conductive sheet described above.
And features.

【0011】[0011]

【作用】以上のような構成の金型によれば、非磁性体部
分をフォトリソグラフィーの手法によって形成し、その
後、メッキによって強磁性体部分を形成するため、強磁
性体部分と非磁性体部分の配列が複雑で微細化されたパ
ターンであっても、きわめて容易にかつ確実にモザイク
層を形成することができ、所望の異方導電性シートを製
造することができる。
According to the mold having the above structure , the non-magnetic portion is formed by photolithography.
Later, since the ferromagnetic portion is formed by plating , the mosaic layer can be formed very easily and reliably even if the ferromagnetic portion and the nonmagnetic portion are arranged in a complicated and fine pattern. As a result, a desired anisotropic conductive sheet can be manufactured.

【0012】[0012]

【実施例】図4は、本発明の異方導電性シート製造用金
型の具体的構成を示す説明図である。この図において、
1は磁性金属よりなる基板であり、この基板1上に、モ
ザイク層を形成する非磁性体部分2と強磁性体部分3と
が設けられている。そして、非磁性体部分2は、強磁性
体部分3と同一の厚みを有する第1の非磁性体層2a
と、この第1の非磁性体層2a上に設けられた第2の非
磁性体層2bとよりなり、これら第1の非磁性体層2a
および第2の非磁性体層2bはいずれも放射線によって
硬化された高分子物質よりなるものとされている。
FIG. 4 is an explanatory view showing a specific structure of a mold for producing an anisotropic conductive sheet according to the present invention. In this figure,
Reference numeral 1 denotes a substrate made of a magnetic metal, on which a non-magnetic portion 2 and a ferromagnetic portion 3 forming a mosaic layer are provided. The nonmagnetic portion 2 has a first nonmagnetic layer 2 a having the same thickness as the ferromagnetic portion 3.
And a second non-magnetic layer 2b provided on the first non-magnetic layer 2a.
The second nonmagnetic layer 2b is made of a polymer material cured by radiation.

【0013】上記のような構成の金型は、次のような方
法によって製造される。 (1)非磁性体層2aの形成 図1に示すように、磁性金属よりなる基板1上に強磁性
体部分が形成されるべき部分を残した状態で第1の非磁
性体層2aが形成される。非磁性体層2aを形成する方
法として、フォトリソグラフィーの手法を用いることが
でき、この場合には、基板1上に、後述するフォトレジ
ストをラミネート、スクリーン印刷、スピンコート、ア
プリケーター塗工などの方法により塗工し、その上に、
図5に示すように、強磁性体部分3に対応するパターン
を有する放射線遮光部5を有するフィルムマスク6をか
ぶせて放射線を照射し、その後これを現像することによ
って、非磁性体層2aを形成することができる。
The mold having the above-described structure is manufactured by the following method. (1) Formation of Non-Magnetic Layer 2a As shown in FIG. 1, a first non-magnetic layer 2a is formed on a substrate 1 made of a magnetic metal while leaving a portion where a ferromagnetic portion is to be formed. Is done. As a method of forming the nonmagnetic layer 2a, a photolithography method can be used. In this case, a method of laminating a later-described photoresist on the substrate 1, screen printing, spin coating, applicator coating, or the like is used. Coating, and on top of that,
As shown in FIG. 5, a non-magnetic material layer 2a is formed by applying a radiation over a film mask 6 having a radiation shielding part 5 having a pattern corresponding to the ferromagnetic material part 3, and then developing the radiation. can do.

【0014】基板1は、例えば、鉄、鉄−ニッケル合
金、鉄−コバルト合金、ニッケル、コバルトなどの強磁
性金属により構成される。基板1は、厚さが0.1mm
〜50mmであることが好ましく、表面が平滑で、化学
的に脱脂処理され、また、機械的に研磨処理されたもの
であることが好ましい。第1の非磁性体層2aは、放射
線によって硬化された高分子物質により構成され、その
材料としては、例えば、アクリル系のドライフィルムレ
ジスト、エポキシ系の液状レジスト、ポリイミド系の液
状レジストなどのフォトレジストが挙げられる。第1の
非磁性体層2aの厚さは10μm以上であることが好ま
しい。
The substrate 1 is made of, for example, a ferromagnetic metal such as iron, iron-nickel alloy, iron-cobalt alloy, nickel, and cobalt. The substrate 1 has a thickness of 0.1 mm
It is preferable that the surface is smooth, chemically degreased, and mechanically polished. The first nonmagnetic layer 2a is made of a polymer material cured by radiation, and is made of, for example, a photo resist such as an acrylic dry film resist, an epoxy liquid resist, or a polyimide liquid resist. Resist. It is preferable that the thickness of the first nonmagnetic layer 2a is 10 μm or more.

【0015】(2)強磁性体部分の形成 図2に示すように、基板1上の第1の非磁性体層2aが
形成されていない部分に強磁性体部分3を形成する。強
磁性体部分3の形成方法としては、例えば、電解鍍金法
を用いることができる。強磁性体部分3を形成した後、
強磁性体部分3の表面を研磨することによって、図3に
示すように、表面を平坦な状態とする。
(2) Formation of Ferromagnetic Portion As shown in FIG. 2, a ferromagnetic portion 3 is formed on a portion of the substrate 1 where the first nonmagnetic layer 2a is not formed. As a method for forming the ferromagnetic portion 3, for example, an electrolytic plating method can be used. After forming the ferromagnetic part 3,
By polishing the surface of the ferromagnetic material portion 3, the surface is made flat as shown in FIG.

【0016】強磁性体部分3は、例えば、鉄、鉄−ニッ
ケル合金、鉄−コバルト合金、ニッケル、コバルトなど
の強磁性金属により構成される。強磁性体部分3の厚さ
は10μm以上であることが好ましい。強磁性体部分3
の厚さが10μm未満のときには、異方導電性シートを
製造する際に、充分な強度分布を有する磁場を作用させ
ることが困難となり、この結果、後述する図7に示す工
程において、金型の成形空間内の強磁性体部分3にはさ
まれた部分、すなわち導電部を形成すべき部分に成形材
料中の導電性粒子を高密度に集合させることが困難とな
るため、得られるシートは良好な異方導電性を有するも
のとならない。
The ferromagnetic material portion 3 is made of, for example, a ferromagnetic metal such as iron, iron-nickel alloy, iron-cobalt alloy, nickel, and cobalt. It is preferable that the thickness of the ferromagnetic portion 3 is 10 μm or more. Ferromagnetic part 3
When the thickness is less than 10 μm, it is difficult to apply a magnetic field having a sufficient intensity distribution when manufacturing the anisotropic conductive sheet. As a result, in the process shown in FIG. Since it is difficult to concentrate the conductive particles in the molding material at a high density in a portion sandwiched between the ferromagnetic portions 3 in the molding space, that is, a portion where the conductive portion is to be formed, the obtained sheet is good. It does not have any anisotropic conductivity.

【0017】(3)第2の非磁性体層2bの形成 図3に示した状態のものに、前述の第1の非磁性体層2
aの形成と同様の処理を施すことにより、第1の非磁性
体層2a上に第2の非磁性体層2bを形成すると、図4
に示すように、第1の非磁性体層2aと第2の非磁性体
層2bとにより構成される非磁性体部分2と、強磁性体
部分3とによるモザイク層が形成される。
(3) Formation of Second Non-Magnetic Layer 2b The above-described first non-magnetic layer 2b is added to the state shown in FIG.
By forming the second non-magnetic material layer 2b on the first non-magnetic material layer 2a by performing the same processing as the formation of the first non-magnetic material layer 2a, FIG.
As shown in FIG. 1, a mosaic layer is formed by the nonmagnetic portion 2 composed of the first nonmagnetic layer 2a and the second nonmagnetic layer 2b, and the ferromagnetic portion 3.

【0018】第2の非磁性体層2bを構成する材料とし
ては、第1の非磁性体層2aと同様の範囲から選ぶこと
ができ、第1の非磁性体層2aと同じ種類のものを用い
ることができるが、層間の接続が保たれるものであれ
ば、第1の非磁性体層2aと異なる種類のものを用いる
ことができる。また、第2の非磁性体層2bの厚さは、
製作しようとする異方導電性シートに基づいて設計され
るが、10μm〜200μm、好ましくは20μm〜2
00μmとなる範囲で設計される。
The material constituting the second non-magnetic layer 2b can be selected from the same range as that of the first non-magnetic layer 2a, and is made of the same material as the first non-magnetic layer 2a. Although it can be used, a type different from the first nonmagnetic layer 2a can be used as long as the connection between the layers is maintained. The thickness of the second nonmagnetic layer 2b is
It is designed based on the anisotropic conductive sheet to be manufactured, but is 10 μm to 200 μm, preferably 20 μm to 2 μm.
It is designed within the range of 00 μm.

【0019】以上のような方法によれば、非磁性体部分
2と強磁性体部分3の配列が複雑で微細化されたパター
ンであっても、この配列に合わせたパターンを有するフ
ィルムマスク6を製作することによって、モザイク層を
容易に形成することが可能である。すなわち、非磁性体
部分2を第1の非磁性体層2aおよび第2の非磁性体層
2bの2層に分けて形成しているので、第1の非磁性体
層2aまたは第2の非磁性体層2bを形成する際のフォ
トリソグラフィーの解像性が、非磁性体部分2を1層で
形成した場合のフォトリソグラフィーの解像性に比較し
て確実に良好なものとなるため、フィルムマスク6に対
する忠実度が高いパターンのモザイク層を形成すること
ができる。さらに、図4に示すように、非磁性体部分2
の厚さを強磁性体部分3の厚さよりも大きくすることに
よって、図8に示すような、絶縁部17に対して突出し
た導電部16を有する異方導電性シートを確実に製造す
ることができる。
According to the above-described method, even if the arrangement of the non-magnetic portion 2 and the ferromagnetic portion 3 is a complicated and fine pattern, the film mask 6 having a pattern corresponding to this arrangement can be formed. By manufacturing, the mosaic layer can be easily formed. That is, since the non-magnetic portion 2 is formed by being divided into the first non-magnetic layer 2a and the second non-magnetic layer 2b, the first non-magnetic layer 2a or the second non-magnetic layer 2a is formed. Since the resolution of photolithography at the time of forming the magnetic layer 2b is surely better than the resolution of photolithography at the time of forming the nonmagnetic portion 2 in one layer, the film A mosaic layer having a pattern with high fidelity to the mask 6 can be formed. Further, as shown in FIG.
By making the thickness of the ferromagnetic portion 3 larger than the thickness of the ferromagnetic portion 3, it is possible to reliably manufacture an anisotropic conductive sheet having the conductive portion 16 protruding from the insulating portion 17 as shown in FIG. it can.

【0020】以下、本発明の具体例について説明する
が、本発明はこれに限定されるものではない。 〔金型製作例〕縦10mm、横15mm、厚み1.6m
mの軟鉄板からなる基板に、エポキシ系の液状レジスト
(日本ポリテック社製「NPR60−5P」)をスクリ
ーン印刷機よって120メッシュのスクリーン製版を介
して塗布して乾燥した。乾燥後の塗布層の厚さは70μ
mであった。この表面に、図5のようなパターンを有す
るフィルムマスクを位置合わせして設置し、超高圧水銀
灯を光源として200mJ/cm2 の露光量で密着露光
した後、現像液として1%炭酸ナトリウム水溶液(溶液
温度30℃)を用いて2分間スプレー現像することによ
って、図1に示すように非磁性体層を形成した。
Hereinafter, specific examples of the present invention will be described, but the present invention is not limited thereto. [Mold manufacturing example] 10 mm long, 15 mm wide, 1.6 m thick
An epoxy liquid resist ("NPR60-5P", manufactured by Japan Polytech Co., Ltd.) was applied to a substrate made of a soft iron plate with a thickness of 120 m using a screen printing machine through a 120-mesh screen plate and dried. The thickness of the coating layer after drying is 70 μ
m. On this surface, a film mask having a pattern as shown in FIG. 5 is positioned and installed, and is contact-exposed at a light exposure of 200 mJ / cm 2 using an ultra-high pressure mercury lamp as a light source. A non-magnetic layer was formed as shown in FIG. 1 by spray development for 2 minutes using a solution temperature of 30 ° C.).

【0021】基板の非磁性体層が形成されていない面
を、メッキ用リード電極部として利用する部分を残して
レジストテープでマスキングし、その後、スルファミン
酸ニッケルを主剤とするニッケルメッキ浴中で、温度4
5℃、電流値2A/dm2 の条件で3時間、メッキ処理
することによって、図2に示すように強磁性体部分を形
成した。その後、ラッピング装置(日本エギンス社製
「ハイプレッツEJ−380」)によって、研磨剤とし
てダイヤモンド砥粒コンパウンド(日本エギンス社製)
を用いて、80rpmで30分間、表面を研磨し、図3
に示すように表面を平坦な状態とした後、水洗乾燥し
た。
The surface of the substrate on which the nonmagnetic layer is not formed is masked with a resist tape except for a portion to be used as a lead electrode for plating, and then, in a nickel plating bath containing nickel sulfamate as a main component, Temperature 4
By performing plating treatment at 5 ° C. and a current value of 2 A / dm 2 for 3 hours, a ferromagnetic material portion was formed as shown in FIG. Then, a diamond abrasive compound (Nippon Eggins Co., Ltd.) was used as an abrasive by a lapping device ("Hi-Plates EJ-380", Nippon Eggins Co., Ltd.)
The surface was polished at 80 rpm for 30 minutes using
After the surface was flattened as shown in FIG.

【0022】非磁性体層および強磁性体部分が形成され
た面に、エポキシ系の液状レジスト(日本ポリテック社
「NPR60−5P」)をスクリーン印刷機よって12
0メッシュのスクリーン版を介して塗布して乾燥した。
乾燥後の塗布層の厚さは30μmであった。この表面
に、前回と同一のフィルムマスクを位置合わせして設置
し、プリント基板用紫外線照射装置(オーク製作所製
「フェニックス−3000」)により超高圧水銀灯を光
源として245mJ/cm2 の露光量で密着露光した
後、現像液として1%炭酸ナトリウム水溶液(溶液温度
30℃)を用いて2分間スプレー現像することによっ
て、非磁性体層を形成し、図4に示すような金型の下型
を得た。
On the surface on which the nonmagnetic layer and the ferromagnetic portion are formed, an epoxy liquid resist ("NPR60-5P", manufactured by Japan Polytech Co., Ltd.) is applied by a screen printing machine.
It was applied through a 0 mesh screen plate and dried.
The thickness of the coating layer after drying was 30 μm. On this surface, the same film mask as the previous one was positioned and installed, and it was adhered by an ultraviolet irradiation device for printed circuit boards ("Phoenix-3000" manufactured by Oak Manufacturing Co., Ltd.) at an exposure amount of 245 mJ / cm 2 using an ultra-high pressure mercury lamp as a light source. After exposure, a non-magnetic layer was formed by spray development using a 1% aqueous solution of sodium carbonate (solution temperature 30 ° C.) for 2 minutes as a developing solution to obtain a lower mold of a mold as shown in FIG. Was.

【0023】このようにして得られた金型の下型の非磁
性体部分に、メタルハライドを光源とするベルトコンベ
アー式の紫外線照射装置(オーク製作所製)により、1
500mJ/cm2 の露光量で紫外線を照射した後、1
50℃の熱風乾燥機にて30分間加熱することによっ
て、非磁性体部分のポストキュアを行った。
A non-magnetic material portion of the lower die of the mold thus obtained is applied to a belt conveyor type ultraviolet irradiator (manufactured by Oak Works) using a metal halide as a light source.
After irradiating with ultraviolet light at an exposure amount of 500 mJ / cm 2 ,
The non-magnetic material portion was post-cured by heating for 30 minutes in a hot air dryer at 50 ° C.

【0024】上記の方法と同様にして、非磁性体部分と
強磁性体部分の配列が上記の下型と鏡像関係にあるパタ
ーンを有する上型を得た。
In the same manner as described above, an upper die having a pattern in which the arrangement of the non-magnetic portion and the ferromagnetic portion had a mirror image relationship with the lower die was obtained.

【0025】〔異方導電性シート製造例〕金型製作例に
よって得られた金型の上型および下型の成形面に、フッ
素系離型剤(ダイキン工業社製「ダイフリーA44
1」)をスプレー塗工した。次いで、図6に示すよう
に、枠状スペーサーとして厚さ70μmのポリイミドシ
ート7を用い、平均粒径40μmのニッケル粒子が25
体積%となる割合で混合された室温硬化型シリコーンゴ
ム組成物よりなる成形材料8を注入し、金型の上型を位
置合わせして重ね合わせ、図7に示すように、平行磁場
磁極板9を有する加熱装置10によって、3000ガウ
スの磁場を作用させた状態で120℃で30分間加熱し
た後、脱型し、図8に示すように、外周がポリイミドシ
ート7と一体化された、絶縁部17に対して突出した導
電部16を有する異方導電性シート11を得た。このシ
ートの厚さは190μm、導電部の中心間距離は250
μm、表面の突起高さは30μmであった。
[Production Example of Anisotropic Conductive Sheet] A fluorine-based release agent (“Daifree A44” manufactured by Daikin Industries, Ltd.) is applied to the molding surfaces of the upper and lower dies obtained by the die production example.
1)). Next, as shown in FIG. 6, a polyimide sheet 7 having a thickness of 70 μm was used as a frame spacer, and nickel particles having an average particle diameter of 40 μm were 25
A molding material 8 composed of a room-temperature-curable silicone rubber composition mixed at a ratio of volume% is injected, the upper molds are aligned and overlapped, and as shown in FIG. After heating at 120 ° C. for 30 minutes in a state where a magnetic field of 3000 Gauss is applied by the heating device 10 having the above structure, the mold is removed, and the outer periphery is integrated with the polyimide sheet 7 as shown in FIG. An anisotropic conductive sheet 11 having a conductive portion 16 protruding from 17 was obtained. The thickness of this sheet is 190 μm, and the distance between the centers of the conductive parts is 250 μm.
μm, and the projection height of the surface was 30 μm.

【0026】〔異方導電性シートの評価〕異方導電性シ
ート製造例で得られた異方導電性シートについて、図9
に示すように、抵抗測定器12(日置電機社製「ミリオ
ームハイテスター」)、短絡板13、プローブピン1
4、リード線15により構成された抵抗測定装置を用い
て、各導電部16の抵抗測定を行ったところ、全導電部
とも完全な導通が得られ、その抵抗値は15mΩ〜33
mΩの範囲内にあり、非常に低いものであった。また、
図10に示すように、隣接する導電部間の短絡抵抗を測
定したところ、その抵抗値はいずれも2MΩ以上であ
り、良好な絶縁抵抗を示した。
[Evaluation of Anisotropic Conductive Sheet] The anisotropic conductive sheet obtained in the production example of the anisotropic conductive sheet is shown in FIG.
As shown in FIG. 1, a resistance measuring instrument 12 (“Milliohm Hi Tester” manufactured by Hioki Electric Co., Ltd.), a short-circuit plate 13, and a probe pin 1
4. When the resistance of each conductive part 16 was measured using a resistance measuring device composed of the lead wire 15, complete conduction was obtained in all the conductive parts, and the resistance value was 15 mΩ to 33 mΩ.
It was in the range of mΩ and very low. Also,
As shown in FIG. 10, when the short-circuit resistance between the adjacent conductive portions was measured, the resistance values were all 2 MΩ or more, indicating good insulation resistance.

【0027】[0027]

【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明の異
方導電性シート製造用金型は、非磁性体部分が、フォト
リソグラフィーの手法により、放射線によって硬化され
た高分子物質により形成され、強磁性体部分がメッキに
よって形成されるため、強磁性体部分と非磁性体部分の
配列が複雑で微細化されたパターンであっても、モザイ
ク層の形成が容易なものとなる。また、本発明の金型に
よれば、導電部と絶縁部の配列が複雑なパターンを有
し、隣接する導電部の中心間距離が小さく、しかも、良
好な異方導電性を有するシートを製造することができ
る。
As described above in detail, in the mold for manufacturing an anisotropic conductive sheet according to the present invention, the nonmagnetic portion
Cured by radiation by lithographic techniques
Ferromagnetic material is formed by
Therefore , the mosaic layer can be easily formed even if the ferromagnetic portion and the nonmagnetic portion are arranged in a complicated and fine pattern. Further, according to the mold of the present invention, a sheet having a complicated pattern of arrangement of conductive portions and insulating portions, a small center-to-center distance between adjacent conductive portions, and good anisotropic conductivity is manufactured. can do.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】実施例においてフォトリソグラフィーの手法に
より非磁性体層が形成された状態を示す説明図である。
FIG. 1 is an explanatory view showing a state in which a non-magnetic layer is formed by a photolithographic technique in an example.

【図2】実施例において電解鍍金法により強磁性体部分
が形成された状態を示す説明図である。
FIG. 2 is an explanatory view showing a state in which a ferromagnetic material portion is formed by an electrolytic plating method in an example.

【図3】実施例において非磁性体層および強磁性体部分
が形成された表面を研磨した後の状態を示す説明図であ
る。
FIG. 3 is an explanatory view showing a state after polishing a surface on which a nonmagnetic layer and a ferromagnetic portion are formed in an example.

【図4】実施例に係る金型の具体的構成を示す説明図で
ある。
FIG. 4 is an explanatory diagram showing a specific configuration of a mold according to the embodiment.

【図5】実施例に係る金型の強磁性体部分に対応するパ
ターンを有する放射線遮光部を有するフィルムマスクの
説明図である。
FIG. 5 is an explanatory diagram of a film mask having a radiation shielding portion having a pattern corresponding to a ferromagnetic portion of a mold according to an example.

【図6】実施例において金型に異方導電性シート材料を
注入した状態を示す説明図である。
FIG. 6 is an explanatory view showing a state in which an anisotropic conductive sheet material is injected into a mold in Examples.

【図7】実施例における異方導電性シート製造装置の構
成を示す説明図である。
FIG. 7 is an explanatory diagram illustrating a configuration of an anisotropic conductive sheet manufacturing apparatus in an example.

【図8】実施例において製作した異方導電性シートの説
明図である。
FIG. 8 is an explanatory diagram of an anisotropic conductive sheet manufactured in an example.

【図9】実施例において作製した異方導電性シートの導
電部の抵抗を測定する装置の構成を示す説明図である。
FIG. 9 is an explanatory view showing the configuration of an apparatus for measuring the resistance of the conductive portion of the anisotropic conductive sheet produced in the example.

【図10】実施例において作製した異方導電性シートの
導電部間の抵抗を測定する装置の構成を示す説明図であ
る。
FIG. 10 is an explanatory view showing a configuration of an apparatus for measuring a resistance between conductive portions of an anisotropic conductive sheet manufactured in an example.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 基板 2a 第1の非
磁性体層 2b 第2の非磁性体層 2 非磁性体
部分 3 強磁性体部分 4 放射線透
過部 5 放射線遮光部 6 フィルム
マスク 7 ポリイミドシート 8 成形材料 9 平行磁場磁極板 10 加熱装置 11 異方導電性シート 12 抵抗測定
器 13 短絡板 14 プローブ
ピン 15 リード線 16 導電部 17 絶縁部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Substrate 2a 1st nonmagnetic layer 2b 2nd nonmagnetic layer 2 Nonmagnetic part 3 Ferromagnetic part 4 Radiation transmitting part 5 Radiation shielding part 6 Film mask 7 Polyimide sheet 8 Molding material 9 Parallel magnetic field pole plate REFERENCE SIGNS LIST 10 heating device 11 anisotropic conductive sheet 12 resistance measuring device 13 short-circuit plate 14 probe pin 15 lead wire 16 conductive part 17 insulating part

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 木村 潔 東京都中央区築地2丁目11番24号 日本 合成ゴム株式会社内 (56)参考文献 特開 平4−151889(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01B 13/00 H01B 5/00 - 5/16 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of front page (72) Inventor Kiyoshi Kimura 2--11-24 Tsukiji, Chuo-ku, Tokyo Japan Synthetic Rubber Co., Ltd. (56) References JP-A-4-151889 (JP, A) (58) Field surveyed (Int. Cl. 7 , DB name) H01B 13/00 H01B 5/00-5/16

Claims (6)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 磁性金属よりなる基板の表面に沿って、
金属よりなる磁性体部分と非磁性体部分とが配列されて
構成され、 前記非磁性体部分は、フォトリソグラフィーの手法によ
り、放射線によって硬化された耐熱性の高分子物質によ
り形成され、前記磁性体部分は、メッキにより形成され
ていることを特徴とする異方導電性シート製造用金型。
Along a surface of a substrate made of a magnetic metal,
A magnetic part and a non-magnetic part made of metal are arranged and arranged, and the non-magnetic part is formed by photolithography.
Ri, heat resistance of the polymeric substance cured by radiation
The magnetic material portion is formed by plating.
A mold for producing an anisotropic conductive sheet, comprising:
【請求項2】 磁性体部分の表面が平坦であり、非磁性
体部分の厚さが磁性体部分の厚さよりも大きいことを特
徴とする請求項1に記載の異方導電性シート製造用金
型。
2. The surface of a magnetic material portion is flat and non-magnetic.
The thickness of the body part is larger than the thickness of the magnetic body part.
2. The gold for producing an anisotropic conductive sheet according to claim 1.
Type.
【請求項3】 磁性金属よりなる基板の表面に沿って、
金属よりなる磁性体部分と非磁性体部分とが配列されて
構成された異方導電性シート製造用金型の製造方法であ
って、 前記基板の表面に沿って、フォトリソグラフィーの手法
により、放射線によって硬化された耐熱性の高分子物質
よりなる非磁性体部分を形成し、前記基板の表面におけ
る非磁性体部分が形成されていない部分に、メッキおよ
びメッキ部分を研磨することにより、表面が平坦な磁性
体部分を形成することを特徴とする異方導電性シート製
造用金型の製造方法。
3. Along the surface of a substrate made of a magnetic metal,
A magnetic part and a non-magnetic part made of metal are arranged
A method for manufacturing a mold for manufacturing a structured anisotropic conductive sheet.
I, along the surface of the substrate, a technique of photolithography.
Heat-resistant polymer material cured by radiation
Forming a non-magnetic material portion consisting of
Plating and non-magnetic portions
The surface is flat and magnetic by polishing the plated part.
Made of an anisotropic conductive sheet characterized by forming a body part
Manufacturing method of molding die.
【請求項4】 磁性金属よりなる基板の表面に沿って、
金属よりなる磁性体部分と非磁性体部分とが配列されて
構成された異方導電性シート製造用金型の製造方法であ
って、 前記基板の表面に沿って、フォトリソグラフィーの手法
により、放射線によって硬化された耐熱性の高分子物質
よりなる第1層の非磁性体部分を形成し、前記基板の表
面における非磁性体部分が形成されていない部分に、メ
ッキおよびメッキ部分を研磨することにより、表面が平
坦な磁性体部分を形成し、更に、前記第1層の非磁性体
部分の上に第2層の非磁性体部分を形成することを特徴
とする異方導電性シート製造用金型の製造方法。
4. Along the surface of a substrate made of a magnetic metal,
A magnetic part and a non-magnetic part made of metal are arranged
A method for manufacturing a mold for manufacturing a structured anisotropic conductive sheet.
I, along the surface of the substrate, a technique of photolithography.
Heat-resistant polymer material cured by radiation
Forming a non-magnetic portion of the first layer comprising:
In the area where the non-magnetic part is not formed,
The surface is flat by polishing the
Forming a flat magnetic material portion, further comprising a non-magnetic material of the first layer;
Forming a nonmagnetic portion of the second layer on the portion
A method for manufacturing a mold for manufacturing an anisotropic conductive sheet.
【請求項5】 請求項1または請求項2に記載の異方導
電性シート製造用金型を用いて製造されたことを特徴と
する異方導電性シート。
5. An anisotropic conductor according to claim 1 or claim 2.
It is manufactured using a mold for manufacturing conductive sheets.
Anisotropic conductive sheet.
【請求項6】 請求項3または請求項4に記載の方法に
よって製造された異 方導電性シート製造用金型を用いて
製造されたことを特徴とする異方導電性シート。
6. The method according to claim 3 or 4,
Therefore , using the manufactured anisotropic conductive sheet manufacturing mold
An anisotropic conductive sheet, which is manufactured.
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