JP3136300B2 - Conductive ceramics, method for producing conductive ceramics film, method for producing conductive ceramics molded product, composition for forming conductive ceramics, and electric heating element - Google Patents

Conductive ceramics, method for producing conductive ceramics film, method for producing conductive ceramics molded product, composition for forming conductive ceramics, and electric heating element

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JP3136300B2
JP3136300B2 JP06258969A JP25896994A JP3136300B2 JP 3136300 B2 JP3136300 B2 JP 3136300B2 JP 06258969 A JP06258969 A JP 06258969A JP 25896994 A JP25896994 A JP 25896994A JP 3136300 B2 JP3136300 B2 JP 3136300B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は導電性セラミックス、
電性セラミック膜の製造方法、導電性セラミックス成形
物の製造方法、導電性セラミックス形成用組成物及び電
気発熱体に関するものである。
The present invention relates to a conductive ceramics, conductive
Manufacturing method of conductive ceramic film , conductive ceramic molding
The present invention relates to a method for producing a product, a composition for forming a conductive ceramic, and an electric heating element.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、プラスチックやゴム中に炭素粉体
や炭素繊維を分散させた構造の電気発熱体は知られてい
るが、これらのものは発熱温度が低く、その一般的発熱
温度は100℃以下である。また、電気発熱体として、
タングステン、モリブデン、白金−ロジウム合金等の金
属が知られている。これらの金属は通電することにより
500℃以上の高温に発熱させることができるが、金属
であるために高温に発熱中空気中酸素による酸化作用を
受けて劣化しやすく、耐久性の点に難点がある。一方、
電気発熱体としては、家庭用ヒータ等への用途等の点か
ら100〜500℃の中熱温度に発熱し、しかも容易に
かつ安価に製造できる発熱体が要望されているが、現在
のところ、このような要望に応える発熱体は未だ開発さ
れていない。
2. Description of the Related Art Conventionally, an electric heating element having a structure in which carbon powder or carbon fiber is dispersed in plastic or rubber is known. However, these heating elements have a low heating temperature, and the general heating temperature is 100%. It is below ° C. In addition, as an electric heating element,
Metals such as tungsten, molybdenum, and platinum-rhodium alloys are known. These metals can be heated to a high temperature of 500 ° C. or higher by energizing them. However, since they are metals, they are easily deteriorated by the oxidizing action of oxygen in the air during heating at high temperatures, and there is a difficulty in durability. is there. on the other hand,
As the electric heating element, a heating element that generates heat at a medium heat temperature of 100 to 500 ° C. and can be easily and inexpensively manufactured is demanded from the viewpoint of application to home heaters and the like. A heating element meeting such a demand has not yet been developed.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、通電により
100〜500℃の中熱温度に効率よく発熱し、しかも
容易かつ安価に製造できる導電性セラミックス及びその
製造方法を提供するとともに、そのような導電性セラミ
ックス膜の製造方法、導電性セラミックス成形物の製造
方法、導電性セラミックス形成用組成物及び電気発熱体
を提供することをその課題とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention provides a conductive ceramic which efficiently generates heat at a medium temperature of 100 to 500.degree. C. by energization and which can be easily and inexpensively manufactured, and a method for manufacturing the same. It is an object of the present invention to provide a method for producing a conductive ceramic film, a method for producing a conductive ceramic molded product, a composition for forming a conductive ceramic, and an electric heating element.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記課題
を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、本発明を完成する
に至った。
Means for Solving the Problems The present inventors have conducted intensive studies to solve the above-mentioned problems, and as a result, have completed the present invention.

【0005】即ち、本発明によれば、樹脂中に金属被覆
されたセリサイトの粉体及び/又は無機物質の短繊維と
フリット粉体とを分散させた状態で400〜1000℃
の温度条件下に加熱処理を施すことにより得られる、多
孔性の無機ガラス質体中に、金属被覆されたセリサイト
の粉体及び/又は無機物質の短繊維と、炭素粉を分散さ
せた構造を有し、該金属被覆されたセリサイトの粉体及
び/又は無機物質の短繊維の含有率が、該無機ガラス質
体と該金属被覆されたセリサイトの粉体及び/又は無機
物質の短繊維との合計量に対し、45〜65重量%であ
ることを特徴とする導電性セラミックスが提供される。
That is, according to the present invention, a resin containing metal-coated sericite powder and / or inorganic short fibers and frit powder is dispersed at 400 to 1000 ° C.
A structure in which metal-coated sericite powder and / or inorganic short fibers and carbon powder are dispersed in a porous inorganic vitreous body obtained by performing a heat treatment under the above temperature conditions. The content of the metal-coated sericite powder and / or the inorganic short fibers is the inorganic vitreous material.
Powder and / or inorganic body and the metal-coated sericite
An electrically conductive ceramic is provided, which is 45 to 65% by weight based on the total amount of the substance and the short fibers .

【0006】また、本発明によれば、金属被覆されたセ
リサイトの粉体及び/又は無機物質の短繊維とフリット
粉体と樹脂溶液又は樹脂分散液とのスラリー状混合物
、耐熱絶縁性の基体上に塗布し、乾燥させ、400〜
1000℃の温度条件下に加熱処理を施し、フリット粉
体を溶融させ、かつ樹脂を炭素化して耐熱基板上に導電
性セラミックス膜を形成することからなり、該スラリー
状混合物における、該金属被覆されたセリサイトの粉体
及び/又は無機物質の短繊維とフリット粉体との合計量
に対する該金属被覆されたセリサイトの粉体及び/又は
無機物質の短繊維の割合が45〜65重量%であること
を特徴とする導電性セラミックス膜の製造方法が提供さ
れる。
According to the present invention, a slurry mixture of metal-coated sericite powder and / or inorganic short fibers, frit powder, and a resin solution or resin dispersion is also provided.
Was applied to the heat insulation of the substrate, dried, 400
Subjected to heat treatment temperature of 1000 ° C., to melt the frit powder, and made resin from forming a conductive ceramic film heat on the substrate by carbonization, the slurry
Of the metal-coated sericite powder and / or the inorganic substance short fiber to the total amount of the metal-coated sericite powder and / or inorganic substance short fiber and the frit powder in the solid mixture. A method for producing a conductive ceramic film, wherein the proportion is 45 to 65% by weight is provided.

【0007】さらにまた、本発明によれば、金属被覆さ
れたセリサイトの粉体及び/又は無機物質の短繊維とフ
リット粉体と樹脂溶液又は樹脂分散液とのスラリー状
合物を基体上に塗布し、乾燥させ、その基体上に形成さ
れた膜を基体から剥離し、400〜1000℃の温度条
件下に加熱処理を施して、焼成させて導電性セラミック
ス膜を形成することからなり、該スラリー状混合物にお
ける該金属被覆されたセリサイトの粉体及び/又は無機
物質の短繊維とフリット粉体との合計量に対する該金属
被覆されたセリサイトの粉体及び/又は無機物質の短繊
維の割合が45〜65重量%であることを特徴とする導
電性セラミックス膜の製造方法が提供される。
Further, according to the present invention, a slurry-like mixture of metal-coated sericite powder and / or inorganic short fibers, frit powder, and a resin solution or resin dispersion is provided. An object is applied on a substrate, dried, and a film formed on the substrate is peeled from the substrate, subjected to a heat treatment at a temperature of 400 to 1000 ° C., and baked to form a conductive ceramic film. The slurry mixture
The ratio of the metal-coated sericite powder and / or the inorganic substance short fiber to the total amount of the metal-coated sericite powder and / or the inorganic substance short fiber and the frit powder is 45%. To 65% by weight, and a method for producing a conductive ceramic film.

【0008】さらにまた、本発明によれば、金属被覆さ
れたセリサイトの粉体及び/又は無機物質の短繊維とフ
リット粉体と樹脂との混合物を、所定形状に成形した
後、400〜1000℃の加熱温度条件下に加熱処理を
施しフリット粉体を溶融し、かつ樹脂を炭素化して導
電性セラミックス成形物を形成することからなり、該混
合物における該金属被覆されたセリサイトの粉体及び/
又は無機物質の短繊維とフリット粉体との合計量に対す
る該金属被覆されたセリサイトの粉体及び/又は無機物
質の短繊維の割合が45〜65重量%であることを特徴
とする導電性セラミックス成形物の製造方法が提供され
る。さらにまた、本発明によれば、金属被覆されたセリ
サイト及び/又は無機物質の短繊維とフリット粉体を樹
脂溶液又は樹脂分散液中に分散させた組成物であって、
該金属被覆されたセリサイトの粉体及び/又は無機物質
の短繊維とフリット粉体との合計量に対する該金属被覆
されたセリサイトの粉体及び/又は無機物質の短繊維の
割合が45〜65重量%であることを特徴とする導電性
セラミックス形成用組成物が提供される。
Further, according to the present invention, a mixture of metal-coated sericite powder and / or inorganic short fiber, frit powder, and resin is formed into a predetermined shape, and then subjected to 400-400. to melt the frit powder is subjected to heat treatment in the heating temperature of 1000 ° C., and becomes the resin from forming a conductive ceramic molded product was carbonized, 該混
Powder of the metal-coated sericite in a compound and / or
Alternatively, the ratio of the metal-coated sericite powder and / or the inorganic short fiber to the total amount of the inorganic short fiber and the frit powder is 45 to 65% by weight. A method for manufacturing a ceramic molded product is provided. Still further, according to the present invention, there is provided a composition obtained by dispersing a metal-coated sericite and / or an inorganic short fiber and a frit powder in a resin solution or a resin dispersion,
The ratio of the metal-coated sericite powder and / or the inorganic substance short fiber to the total amount of the metal-coated sericite powder and / or the inorganic substance short fiber and the frit powder is 45 to 45. 65% by weight of the composition for forming a conductive ceramic is provided.

【0009】さらにまた、本発明によれば、前記導電性
セラミックスからなる電気を導通させることにより10
0〜500℃の発熱を生じる加熱用発熱体が提供され
る。
Further, according to the present invention, by conducting electricity made of the conductive ceramic, 10
A heating heating element that generates heat of 0 to 500 ° C. is provided.

【0010】[0010]

【発明の実施の形態】本発明では金属被覆されたセリサ
イトの粉体又は無機物質の短繊維が用いられる。これら
は、従来公知の方法で製造することができる。この方法
としては、例えば、セリサイトの粉体又は無機物質の短
繊維を貴金属イオンを含む溶液を用いて表面活性化させ
た後、無電解金属めっき浴中に浸漬して金属被膜を無機
物質の粉体又は短繊維の表面に形成させる方法(特開昭
59−182961号、特開昭59−208064号
等)がある。この方法では、表面に導電性の金属被膜が
形成されたセリサイトの粉体及び無機物質の短繊維は、
必要に応じ、電気めっきを施し、その表面に金属被膜を
厚く付けることができる。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION In the present invention, metal-coated sericite powder or inorganic short fibers is used. These can be manufactured by a conventionally known method. As this method, for example, after activating the surface of sericite powder or short fibers of an inorganic substance using a solution containing noble metal ions, the metal coating is immersed in an electroless metal plating bath to convert the metal coating of the inorganic substance. There is a method of forming on the surface of powder or short fiber (JP-A-59-182961, JP-A-59-208064, etc.). In this method, the sericite powder having a conductive metal film formed on the surface and the inorganic short fibers are:
If necessary, electroplating can be performed, and a thick metal coating can be applied to the surface.

【0011】セリサイトの粉体又は無機物質の短繊維
は、無電解めっきが可能で600〜1000℃程度の温
度に耐熱性を示すものである。粉体の平均粒径は、10
〜100μm、好ましくは30〜60μmの範囲であ
る。また、無機物質の短繊維としては、炭化硅素ウイス
カ、チタン酸カリウムウイスカ、アルミナ繊維、ガラス
繊維、ウオラストナイト繊維等を挙げることができる。
短繊維の太さ(直径)は、5〜15μm、好ましくは5
〜10μmであり、その長さは2〜1000μm、好ま
しくは40〜50μmである。
The sericite powder or the short fiber of an inorganic substance can be subjected to electroless plating and exhibits heat resistance at a temperature of about 600 to 1000 ° C. The average particle size of the powder is 10
-100 μm, preferably 30-60 μm. Examples of the inorganic short fibers include silicon carbide whiskers, potassium titanate whiskers, alumina fibers, glass fibers, wollastonite fibers, and the like.
The thickness (diameter) of the short fiber is 5 to 15 μm, preferably 5 to 15 μm.
10 to 10 μm, and its length is 2 to 1000 μm, preferably 40 to 50 μm.

【0012】セリサイトの粉体又は無機物質の短繊維上
に形成させる金属としては、無電解めっき法に用いられ
ている各種の金属が挙げられる。このようなものには、
例えば、Ni、Co、Cu、W等の他、Ni−Co等の
合金が挙げられる。耐久性の点からは、特にニッケルの
使用が好ましい。金属被覆された無機物質の粉体又は短
繊維における金属被覆の厚さは、0.1〜5μm、好ま
しくは0.3〜1μmである。
Examples of the metal formed on the sericite powder or the inorganic short fibers include various metals used in electroless plating. Something like this,
For example, in addition to Ni, Co, Cu, W and the like, alloys such as Ni-Co and the like can be mentioned. From the viewpoint of durability, use of nickel is particularly preferable. The thickness of the metal coating on the metal-coated inorganic substance powder or short fiber is 0.1 to 5 μm, preferably 0.3 to 1 μm.

【0013】本発明で用いるフリットとしては、本発明
品である導電性セラミックスの使用範囲温度より高い溶
融温度を有するものであればよく、従来公知の各種のも
のが用いられる。フリットの一般的溶融開始温度は、2
50℃以上、好ましくは300〜800℃、より好まし
くは350〜600℃である。このようなフリットとし
ては、例えば、酸化鉛を主成分とした低温溶融ガラス、
ホウ珪酸鉛、珪酸鉛等の有鉛系の他、無鉛系の各種のも
のを挙げることができる。これらのものは単独又は混合
物の形で用いることができる。フリットは、通常、粉体
状で用いられ、その平均粒径は、5〜200μm、好ま
しくは10〜150μmである。
The frit used in the present invention only needs to have a melting temperature higher than the range of use of the conductive ceramic of the present invention, and various conventionally known ones can be used. The typical melting onset temperature of the frit is 2
The temperature is 50 ° C or higher, preferably 300 to 800 ° C, more preferably 350 to 600 ° C. As such a frit, for example, low-temperature molten glass containing lead oxide as a main component,
In addition to lead-based materials such as lead borosilicate and lead silicate, various types of lead-free materials can be mentioned. These can be used alone or in the form of a mixture. The frit is usually used in a powder form, and has an average particle size of 5 to 200 μm, preferably 10 to 150 μm.

【0014】本発明の導電性セラミックスを製造する一
例を示すと、金属被覆された無機物質であるセリサイト
の粉体及び/又は無機物質の短繊維(以下、これらを単
に金属被覆無機物質とも言う)と、フリット粉体とを混
合した後、この混合物に樹脂溶液又は樹脂分散液を加え
て撹拌し、金属被覆無機物質とフリット粉体と樹脂を含
むスラリー状混合物を得る。このスラリー状混合物は、
導電性セラミック形成用組成物として用いられる。この
スラリー状混合物において、金属被覆無機物質の割合
は、金属被覆無機物質とフリット粉体の合計量に対し
て、45〜65重量%である。また、フリット粉体の割
合は、金属被覆無機物質とフリット粉体の合計量に対し
て35〜55重量%である。スラリー状混合物中におけ
る金属被覆無機物質とフリット粉体との合計含有率は、
50〜80重量%、好ましくは60〜70重量%であ
る。また、スラリー状混合物中における樹脂の割合は、
金属被覆無機物質とフリット粉体の合計量100重量部
に対し、15〜35重量部、好ましくは20〜25重量
部の割合である。
An example of producing the conductive ceramic of the present invention is as follows: powder of sericite, which is a metal-coated inorganic substance, and / or short fibers of the inorganic substance (hereinafter, these are also simply referred to as metal-coated inorganic substance). ) And frit powder, and then a resin solution or a resin dispersion is added to the mixture and stirred to obtain a slurry mixture containing the metal-coated inorganic substance, the frit powder, and the resin. This slurry mixture is
Used as a conductive ceramic forming composition. In this slurry mixture, the ratio of the metal-coated inorganic substance is 45 to 65% by weight based on the total amount of the metal-coated inorganic substance and the frit powder. The ratio of the frit powder is 35 to 55% by weight based on the total amount of the metal-coated inorganic substance and the frit powder. The total content of the metal-coated inorganic substance and the frit powder in the slurry mixture is
It is 50 to 80% by weight, preferably 60 to 70% by weight. The ratio of the resin in the slurry mixture is
It is 15 to 35 parts by weight, preferably 20 to 25 parts by weight, based on 100 parts by weight of the total amount of the metal-coated inorganic substance and the frit powder.

【0015】樹脂としては、従来公知の熱硬化性樹脂を
任意に用いることができる。このような樹脂としては、
フェノール樹脂、グアナミン樹脂、エポキシ樹脂、ウレ
タン樹脂、メラミン樹脂、尿素樹脂、マレイン酸樹脂、
不飽和ポリエステル樹脂、キシレン樹脂等の熱硬化性樹
脂を挙げることができる。これらの樹脂は溶液又は分散
液として用いられる。これらの溶液又は分散液を与える
溶媒としては、各種の有機溶媒や水又はそれらの混合液
が用いられる。溶液又は分散液中の樹脂の濃度は、30
〜60重量%、好ましくは40〜55重量%である。本
発明においては、特に熱硬化性樹脂の使用が有利であ
る。熱硬化性樹脂は、前記スラリー状混合物を基体上に
塗布し、乾燥する際に、その乾燥をその樹脂の硬化温度
に設定することにより、硬化させることができる。この
ような硬化物は、高温における保形性のすぐれたもの
で、焼成温度への上昇中でもその形状は良好に保持され
る。
As the resin, a conventionally known thermosetting resin can be arbitrarily used. As such a resin,
Phenolic resin, guanamine resin, epoxy resin, urethane resin, melamine resin, urea resin, maleic resin,
Examples thereof include thermosetting resins such as unsaturated polyester resins and xylene resins. These resins are used as a solution or a dispersion. As a solvent that provides these solutions or dispersions, various organic solvents, water, or a mixture thereof is used. The concentration of the resin in the solution or dispersion is 30
-60% by weight, preferably 40-55% by weight. In the present invention, the use of a thermosetting resin is particularly advantageous. The thermosetting resin can be cured by applying the slurry-like mixture on a substrate and drying the resin at a curing temperature of the resin. Such a cured product has excellent shape retention at high temperatures, and its shape is favorably maintained even when the temperature rises to the firing temperature.

【0016】次に、前記のスラリー状混合物は、これを
耐熱絶縁性基体上に膜状に塗布し、乾燥した後、焼成す
る。焼成温度は、フリットが溶融し、かつ樹脂が炭化す
る範囲の温度であり、一般的には、400〜1000
℃、好ましくは500〜900℃である。焼成は、窒素
やアルゴン等の不活性ガス雰囲気が用いられる。雰囲気
中の酸素濃度は、5vol%以下、好ましくはゼロ%で
ある。このようにして、耐熱絶縁性基体上に導電性セラ
ミックス膜を形成することができる。
Next, the slurry mixture is applied on a heat-resistant insulating substrate in the form of a film, dried, and fired. The firing temperature is a temperature in a range where the frit is melted and the resin is carbonized, and is generally 400 to 1000.
° C, preferably 500-900 ° C. For firing, an inert gas atmosphere such as nitrogen or argon is used. The oxygen concentration in the atmosphere is 5 vol% or less, preferably 0%. Thus, the conductive ceramic film can be formed on the heat-resistant insulating substrate.

【0017】耐熱絶縁性基体としては、陶板、素焼粘土
板、アルミナセラミックス板、ムライト板、ジルコニア
板、コージライト板等の各種のセラミックス板の他、セ
ラミックスの円柱や筒体、容器等を挙げることができ
る。スラリー状混合物を耐熱絶縁性基体上に塗布する方
法としては、ロール塗布、スプレー塗布、印刷塗布、ハ
ケ塗り等の各種の方法を用いることができる。前記のよ
うにして得られる基体上に形成される導電性セラミック
ス膜の厚さは、200〜500μm、好ましくは300
〜400μmである。
Examples of the heat-resistant insulating substrate include various ceramic plates such as a ceramic plate, a clay clay plate, an alumina ceramic plate, a mullite plate, a zirconia plate, and a cordierite plate, as well as ceramic columns, cylinders, containers and the like. Can be. Various methods such as roll coating, spray coating, print coating, and brush coating can be used as a method for applying the slurry mixture on the heat-resistant insulating substrate. The thickness of the conductive ceramic film formed on the substrate obtained as described above is 200 to 500 μm, preferably 300 to 500 μm.
400400 μm.

【0018】本発明により基体上に支持されない導電性
セラミックス膜を製造するには、テフロンコート等の非
接着化処理した基体上に前記スラリー状混合物を塗布
し、乾燥してその基体上にその混合物からなる膜を形成
した後、この膜を剥離し、焼成すればよい。この場合、
基体としては鋼板等の導電性のものも用いることができ
る。このようにして得られる導電性セラミックス膜の厚
さは、500〜2000μm、好ましくは700〜12
00μmである。
In order to produce a conductive ceramic film which is not supported on a substrate according to the present invention, the above slurry-like mixture is applied to a substrate which has been subjected to a non-adhesion treatment such as Teflon coating, dried, and dried on the substrate. After forming a film made of, the film may be peeled off and fired. in this case,
A conductive substrate such as a steel plate can be used as the substrate. The thickness of the conductive ceramic film thus obtained is 500 to 2000 μm, preferably 700 to 12 μm.
00 μm.

【0019】本発明の導電性セラミックスを得るための
他の方法においては、金属被覆無機物質とフリット粉体
と樹脂をその樹脂の溶融温度で混合し、得られた混合物
を所定形状に熱成形し、焼成する。この場合、混合物中
の樹脂の含有割合は、10〜30重量%、好ましくは1
5〜25重量%である。また、熱成形法としては、カレ
ンダー成形や、押出し成形、射出成形等を用いることが
できる。成形物の形状は、フィルム、シート、板体、棒
体、容器状等の各種の形状であることができる。
In another method for obtaining the conductive ceramic of the present invention, a metal-coated inorganic substance, a frit powder and a resin are mixed at a melting temperature of the resin, and the obtained mixture is thermoformed into a predetermined shape. And firing. In this case, the content of the resin in the mixture is 10 to 30% by weight, preferably 1 to 30% by weight.
5 to 25% by weight. In addition, calendering, extrusion, injection molding, or the like can be used as the thermoforming method. The shape of the molded product can be various shapes such as a film, a sheet, a plate, a rod, and a container.

【0020】また、本発明においては、前記溶融混合物
を冷却し、微粉砕して、金属被覆無機物質とフリット粉
体と樹脂を含む微粒子からなる粉体とし、この粉体を導
電性セラミックス用原料として用いることもできる。こ
のような粉体を用いて導電性セラミックスを得る方法と
しては、この粉体を成形材料として熱成形し、焼成する
方法や、この粉体を流動化させ、この流動状態にある粉
体中に樹脂の軟化ないし溶融化温度に加熱された基体を
存在させてその基体表面に粉体を付着させた後、焼成す
る方法、静電塗装法により基体表面に粉体を付着させた
後、焼成する方法等を挙げることができる。
Further, in the present invention, the molten mixture is cooled and finely pulverized into a powder comprising fine particles containing a metal-coated inorganic substance, a frit powder and a resin. Can also be used. As a method of obtaining a conductive ceramic using such powder, there is a method of thermoforming this powder as a molding material and baking it, or a method of fluidizing this powder and adding the powder in the fluidized state. A method in which a substrate heated to the temperature at which the resin is softened or melted is present and the powder is attached to the surface of the substrate, followed by firing, and the powder is applied to the surface of the substrate by an electrostatic coating method and then fired. Methods and the like can be mentioned.

【0021】前記のようにして得られる本発明の導電性
セラミックスは、全体としては、多数の微細な空孔(ボ
イド)を有する多孔質構造のものであり、その比重はフ
リットの比重よりも小さい。この多孔質構造は、金属被
覆無機物質とフリット粉体と樹脂からなる成形物を焼成
する際に、樹脂が熱分解し、この熱分解により生成した
ガスにより形成されるものである。本発明の導電性セラ
ミックスの比重は、2〜4、好ましくは2.5〜3.5
の範囲である。また、本発明の導電性セラミックスは、
フリットが溶融し、冷却されて形成されたガラス質体中
に金属被覆無機物質と、樹脂の熱分解により生成した炭
化物粉(炭素粉)が分散した構造のもので、全体として
導電性を示すものである。炭化物粉は、空孔中にも存在
する。この導電性セラミックス中に含まれる金属被覆無
機物質の含有率は45〜65重量%であり、炭素粉は
0.5〜5重量%、好ましくは1〜3重量%である。ま
た、金属被覆無機物質と炭素粉との合計量は、セラミッ
クス全体に対して、45〜81重量%、好ましくは48
〜66重量%である。
The conductive ceramic of the present invention obtained as described above has a porous structure having many fine voids (voids) as a whole, and its specific gravity is smaller than that of the frit. . This porous structure is formed by a gas generated by the thermal decomposition of a resin when a molded article composed of a metal-coated inorganic substance, a frit powder, and a resin is fired. The specific gravity of the conductive ceramic of the present invention is 2 to 4, preferably 2.5 to 3.5.
Range. Further, the conductive ceramic of the present invention,
Frit is melted, cooled and formed into a vitreous body, in which metal-coated inorganic substance and carbide powder (carbon powder) generated by thermal decomposition of resin are dispersed, showing conductivity as a whole It is. Carbide powder also exists in the pores. The content of the metal-coated inorganic substance contained in the conductive ceramic is 45 to 65% by weight, and the content of the carbon powder is 0.5 to 5% by weight, preferably 1 to 3% by weight. The total amount of the metal-coated inorganic substance and the carbon powder is 45 to 81% by weight, preferably 48 to 81% by weight based on the whole ceramics.
~ 66% by weight.

【0022】本発明の導電性セラミックスは、通常、1
/10〜10Ω・cmの体積固有抵抗を有し、その
抵抗値は、金属被覆無機物質の添加量により変化させる
ことができる。また、本発明の導電性セラミックスは、
通常、その表面に金属被覆無機物質が露出しており、表
面導電性を示す。
The conductive ceramics of the present invention usually comprises 1
It has a volume resistivity of / 10 3 to 10 3 Ω · cm, and its resistance can be changed by the addition amount of the metal-coated inorganic substance. Further, the conductive ceramic of the present invention,
Usually, the metal-coated inorganic substance is exposed on the surface, and exhibits surface conductivity.

【0023】本発明の導電性セラミックスは、これに電
極を付設して電気発熱体として用いることができる。本
発明の導電性セラミックスに電極を付設する方法として
は、従来公知の各種の方法を採用することができる。こ
のような方法としては、セラミックス表面に銀ペースト
を塗布し、電極としての銀の焼結膜を形成する方法や、
セラミックス内部に金属線を埋込む方法、超音波ハンダ
付け装置と特殊ハンダを用い、セラミックス表面に金属
線をハンダ付けする方法、成形物中にあらかじめ金属線
や金網を埋込んだ後、焼成する方法等が挙げられる。ま
た、本発明の導電性セラミックスは、これを微粉砕し、
導電性セラミックス粉体とすることができる。このよう
な導電性セラミックス粉体は、プラスチックに帯電防止
性や電磁シールド性を与えるために、プラスチック中に
混入させることができる。
The conductive ceramic of the present invention can be used as an electric heating element by attaching an electrode thereto. As a method for attaching an electrode to the conductive ceramic of the present invention, various conventionally known methods can be employed. As such a method, a method of applying a silver paste on a ceramic surface to form a silver sintered film as an electrode,
Method of embedding metal wire inside ceramics, method of soldering metal wire on ceramic surface using ultrasonic soldering equipment and special solder, method of embedding metal wire or wire mesh in molded product in advance and firing And the like. Further, the conductive ceramics of the present invention is finely pulverized,
It can be a conductive ceramic powder. Such a conductive ceramic powder can be mixed into a plastic in order to give the plastic an antistatic property and an electromagnetic shielding property.

【0024】[0024]

【発明の効果】本発明の導電性セラミックスは、プラズ
マ溶射法やガス式溶射法による大型の装置を必要とせ
ず、陶器やセラミックス用の電気炉で安価に製造するこ
とができ、下記のような作用効果を奏する。 (1)金属被覆無機物質が、無機ガラス状マトリックス
中に分散された形態のため、プラスチックマトリックス
中に導電性物質を分散させて得られた電気発熱体に比
べ、高温における電気的安定性が高い。従って、高温用
の導電性回路基板、高周波誘導加熱皮膜、面状発熱体等
への適用範囲の拡大が可能となる。 (2)樹脂を成形用結合剤として使用しているため、成
形物の形状保持性にすぐれ、フリットの溶融時点まで接
着性を維持して保形される。 (3)焼成後のセラミックスはミクロボイドを持つ多孔
質体で発熱時に発生する内部応力を緩和する作用があ
り、基体との接着力も高い効果を持つ。 (4)導電性を持つため電磁波シールドや静電気防止タ
イル等として利用することもできる。
The conductive ceramics of the present invention can be manufactured inexpensively in an electric furnace for pottery and ceramics without requiring a large-scale apparatus by a plasma spraying method or a gas spraying method. It has a function and effect. (1) Since the metal-coated inorganic substance is dispersed in an inorganic glassy matrix, the electric stability at high temperatures is higher than that of an electric heating element obtained by dispersing a conductive substance in a plastic matrix. . Therefore, the range of application to a high-temperature conductive circuit board, a high-frequency induction heating film, a sheet heating element, and the like can be expanded. (2) Since the resin is used as a binder for molding, the molded article has excellent shape retention and maintains its adhesiveness until the frit is melted. (3) The fired ceramic is a porous body having microvoids, which has an effect of relaxing internal stress generated at the time of heat generation, and has a high effect of adhesion to a substrate. (4) Since it has conductivity, it can be used as an electromagnetic wave shield or an antistatic tile.

【0025】[0025]

【実施例】以下、本発明を実施例に基づいてさらに詳細
に説明する。なお、以下において示す%は重量%であ
る。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below in more detail with reference to embodiments. In addition,% shown below is% by weight.

【0026】実施例1 セリサイト(平均粒径38μm)をγ−アミノプロピル
トリエトキシシランで表面処理を行い(付着量0.5g
/セリサイト100g)、次にパラジウムイオン溶液
(PdCl 1.0g/l、濃HCl 2ml/l)
に浸漬して活性化処理をし、その後下記仕様の酸性浴を
用いて無電解ニッケルめっきを行い、金属化率38%の
無電解めっき処理粉体を得た。無電解めっきを行うため
には、DLリンゴ酸及びコハク酸の少量を溶解した水溶
液を70℃に加温し、自動的にPH調製されるめっき槽
に前述の粉体を投入し撹拌する。下記仕様の液をポンプ
で汲み上げ、滴下しながらPH6.5で粉体表面にニッ
ケルをめっきした。 (酸性浴仕様) 硫酸ニッケル 20g/l 次亜リン酸ナトリウム 15g/l DLりんご酸 30g/l コハク酸 20g/l 粉体に対して被覆するニッケル量は粉体の浴槽への投入
量及び滴下する溶液量で制御した。ニッケル被膜中に存
在するリンの含有量は分析の結果約5%であり、導電性
に優れた粉体を得た。
Example 1 Surface treatment of sericite (average particle size 38 μm) with γ-aminopropyltriethoxysilane (adhesion amount 0.5 g)
/ Sericite 100 g), then palladium ion solution (PdCl 2 1.0 g / l, concentrated HCl 2 ml / l)
To perform an activation treatment, and then electroless nickel plating was performed using an acid bath having the following specifications to obtain an electroless plating powder having a metallization ratio of 38%. In order to perform electroless plating, an aqueous solution in which a small amount of DL malic acid and succinic acid are dissolved is heated to 70 ° C., and the above-mentioned powder is charged into a plating tank automatically adjusted for pH and stirred. A solution having the following specifications was pumped up, and nickel was plated on the powder surface at PH 6.5 while dripping. (Acid bath specification) Nickel sulfate 20 g / l Sodium hypophosphite 15 g / l DL malic acid 30 g / l Succinic acid 20 g / l The amount of nickel coated on the powder is the amount of the powder charged into the bath and dropped. Controlled by solution volume. As a result of analysis, the content of phosphorus in the nickel coating was about 5%, and a powder having excellent conductivity was obtained.

【0027】得られたニッケルめっき粉体は陶磁器用フ
リット剤であるほう珪酸系フラックスのボロフラックM
−7(日陶産業株式会社製:溶解温度500℃)、低熔
融ガラスである酸化鉛系のフリット剤CT−410(岩
城硝子株式会社製:軟化点337℃)、低粘度フェノー
ル樹脂PX−1600(株式会社ホーネンコーポレーシ
ョン)及び陶磁器顔料用スキージオイルであるセラゾー
ル(株式会社三田商店)をそれぞれ表1に示す配合組成
で混合したスラリーを、アルミナセラミックス板上(厚
み:670μm)にアプリケータを用いて塗布した。メ
タノール等の溶剤の一部が揮散した後、130℃の乾燥
器中でフェノール樹脂の硬化反応を行った。さらに電気
炉を用い、窒素雰囲気下で300℃で1時間、400℃
で1時間、さらに550℃で30分間焼成した後、室温
まで徐冷する。焼成時の基板は電気炉中に垂直に保持さ
れたが被膜の脱落や部分的な剥離はみられなかった。得
られた導電性のセラミックス被膜にはエポキシ系の銀ペ
ーストを電極として塗布し、必要に応じてさらに焼成し
て銀焼成膜を導電性セラミックス被膜の両端の表面に帯
状に形成した。アルミナセラミックス板上での焼成後の
導電性セラミックス被膜(50×50mm)の厚みは4
30μmであり、その体積固有抵抗値は3.6×10
−2Ω・cmであった。両端の電極を介して電圧を徐々
に負荷した結果、8.6Vで中心付近の表面温度は35
0℃に達した。5時間この状態を保持したが、発熱状態
に異常はなく、冷却後の抵抗変化は+3%以内であっ
た。
The obtained nickel-plated powder was made of borosilicate flux of borosilicate flux which is a frit agent for ceramics.
-7 (manufactured by Nissou Sangyo Co., Ltd .: melting temperature 500 ° C.), low melting glass lead oxide type frit agent CT-410 (manufactured by Iwaki Glass Co., Ltd .: softening point 337 ° C.), low viscosity phenol resin PX-1600 (Honen Corporation) and cerazole (Mita Shoten Co., Ltd.), a squeegee oil for porcelain pigment, were each mixed with the composition shown in Table 1 on an alumina ceramic plate (thickness: 670 μm) using an applicator. Applied. After a part of the solvent such as methanol was volatilized, a curing reaction of the phenol resin was performed in a dryer at 130 ° C. Further, using an electric furnace, under nitrogen atmosphere at 300 ° C. for 1 hour, 400 ° C.
For 1 hour and further at 550 ° C. for 30 minutes, and then gradually cooled to room temperature. At the time of firing, the substrate was held vertically in the electric furnace, but no detachment or partial peeling of the coating was observed. An epoxy-based silver paste was applied to the obtained conductive ceramic film as an electrode, and further baked as necessary to form a baked silver film on both surfaces of the conductive ceramic film in a belt shape. The thickness of the conductive ceramic film (50 × 50 mm) after firing on the alumina ceramic plate is 4
30 μm, and its volume resistivity is 3.6 × 10
−2 Ω · cm. As a result of gradually applying a voltage through the electrodes at both ends, the surface temperature near the center at 8.6 V was 35
0 ° C. was reached. After maintaining this state for 5 hours, there was no abnormality in the heat generation state, and the resistance change after cooling was within + 3%.

【0028】実施例2 実施例1において、混合物の組成を表1に示す組成と
し、基体としてコージライト質焼結板(厚み:7.6m
m)を用いた以外は同様にして実験を行った。導電性セ
ラミックス被膜(80×50mm)の厚みは330μm
であり、その体積固有抵抗値は2.4Ω・cmであっ
た。100Vの負荷で中心付近の温度は350℃に達し
た。100Vで1時間放置、続いて0Vで1時間放置す
る工程を1サイクルとして、5サイクルの試験を行った
が、この場合にも外観上の変化は認められなかった。抵
抗変化は最初の1サイクル後で+4%の変化が認められ
たものの、その後の変化は少なく、5サイクル後で+5
%であった。
Example 2 In Example 1, the composition of the mixture was the composition shown in Table 1, and a cordierite sintered plate (thickness: 7.6 m) was used as a substrate.
The experiment was performed in the same manner except that m) was used. The thickness of the conductive ceramic film (80 × 50 mm) is 330 μm
And its volume resistivity was 2.4 Ω · cm. With a load of 100 V, the temperature near the center reached 350 ° C. A test was performed for 5 cycles, in which the process was left at 100 V for 1 hour and then left at 0 V for 1 hour, and a test of 5 cycles was performed. In this case, no change in appearance was observed. Although the change in resistance was + 4% after the first cycle, the change afterwards was small and +5 after 5 cycles.
%Met.

【0029】実施例3 実施例1において、混合物の組成を表1に示す組成と
し、基体として陶板(厚み:5.7mm)を用いた以外
は同様にして実験を行った。1280℃で焼成された陶
板上に形成した導電性セラミックス被膜(60×50m
m)の厚みは420μmであり、その体積固有抵抗値は
7.4×10−2Ω・cmであった。22Vで中心付近
の表面温度は約200℃となった。直ちに表面を冷却し
た場合の、発熱状態にある被膜の損傷を見るために、底
面直径90mmの枝付きガラス製三角フラスコ(300
ml)に水道水(27℃)を注ぎ、常に水が入れ替わる
ようにした後、被膜上に乗せて放置した。この間被膜の
破損は起こらず5時間後の抵抗変化は+1.5%であっ
た。
Example 3 An experiment was carried out in the same manner as in Example 1 except that the composition of the mixture was as shown in Table 1 and a ceramic plate (thickness: 5.7 mm) was used as a substrate. A conductive ceramic film (60 × 50 m) formed on a ceramic plate fired at 1280 ° C.
m) had a thickness of 420 μm and a volume resistivity of 7.4 × 10 −2 Ω · cm. At 22 V, the surface temperature near the center was about 200 ° C. In order to see the damage of the heat-producing film when the surface was immediately cooled, a 90-mm-diameter branched glass Erlenmeyer flask (300 mm) was used.
ml) of tap water (27 ° C.), and the water was constantly replaced. During this time, the coating was not damaged, and the resistance change after 5 hours was + 1.5%.

【0030】実施例4 実施例1において、混合物の組成を表1に示す組成と
し、基体としてパイレックスガラス円筒(外径56m
m、内径48mm)を用いた以外は同様にして実験を行
った。パイレックスガラス円筒の外周に沿って、リング
状に導電性セラミックス膜(幅20mm、周囲長176
mm)が形成されたが、その厚みは540μmであっ
た。焼成後、小さなクラックの発生が認められたが、被
膜の脱落は生じなかった。リング直径方向での抵抗は1
05Ωであった。150℃に調節された電気オーブン中
に7日間放置して取り出し、抵抗を測定した結果112
Ωに増加していた。しかし被膜の外観上のおおきな変化
は見られなかった。リング直径方向に相対して、エポキ
シ系銀ペーストによる2つの電極を形成して通電したと
ころ、多少の温度分布は認められたが、円滑に発熱し
た。
Example 4 In Example 1, the composition of the mixture was the composition shown in Table 1, and a Pyrex glass cylinder (outer diameter: 56 m) was used as a substrate.
m, an inner diameter of 48 mm). Along the outer periphery of the Pyrex glass cylinder, a ring-shaped conductive ceramic film (width 20 mm, circumference 176)
mm) was formed, but its thickness was 540 μm. After firing, small cracks were observed, but the coating did not fall off. The resistance in the ring diameter direction is 1
It was 05Ω. It was taken out by leaving it in an electric oven controlled at 150 ° C. for 7 days, and the resistance was measured.
Had increased to Ω. However, no significant change in the appearance of the coating was observed. When two electrodes made of an epoxy-based silver paste were formed so as to face each other in the ring diameter direction, and electricity was supplied, a slight temperature distribution was observed, but heat was generated smoothly.

【0031】[0031]

【表1】 [Table 1]

【0032】実施例5 FRP用のモノフィラメントを切断したガラス短繊維
(長さ:300μm、直径13μm)表面に、実施例1
で述べためっき前処理とめっき方法に準じてニッケルめ
っきを行い、金属化率40%の導電性繊維を得た。この
繊維を使って以下に示す組成のスラリーを調製し、アル
ミナセラミックス板上に塗布して実施例1と同様にして
焼成し、導電性セラミックス被膜(60×50mm)を
得た。その膜厚は490μmであった。最初に樹脂スラ
リー液中にガラス繊維を入れてほぐした後に、他の粉体
を投入して撹拌を行うことで、毛玉を作らず均一に分散
できた。 ニッケルめっきセリサイト粉 22.5g ニッケルめっきガラス短繊維 3.0g ほう珪酸系フリット(M−7) 17.5g 酸化鉛系フリット(CT−410) 8.0g フェノール樹脂(CX−1600) 29.0g スキージオイル(セラゾール) 1.0g 導電性セラミックス被膜を光学顕微鏡観察した結果でも
繊維が均一に分散していることが確認できた。導電繊維
を混入させることで、1.2×10−2Ω・cmの優れ
た導電性が得られ、低電圧6Vで表面温度を250℃上
昇させることが可能であった。
Example 5 A short glass fiber (length: 300 μm, diameter: 13 μm) obtained by cutting a monofilament for FRP was applied to the surface of Example 1.
Nickel plating was performed in accordance with the plating pretreatment and the plating method described above, to obtain conductive fibers having a metallization ratio of 40%. A slurry having the following composition was prepared using the fibers, applied on an alumina ceramic plate, and fired in the same manner as in Example 1 to obtain a conductive ceramic film (60 × 50 mm). The film thickness was 490 μm. First, glass fibers were put into the resin slurry liquid and loosened, and then other powders were charged and stirred, whereby uniform dispersion could be achieved without producing pills. Nickel-plated sericite powder 22.5 g Nickel-plated glass short fiber 3.0 g Borosilicate frit (M-7) 17.5 g Lead oxide frit (CT-410) 8.0 g Phenolic resin (CX-1600) 29.0 g Squeegee oil (cerazole) 1.0 g The conductive ceramic coating was observed with an optical microscope, and it was confirmed that the fibers were uniformly dispersed. By mixing the conductive fibers, excellent conductivity of 1.2 × 10 −2 Ω · cm was obtained, and it was possible to raise the surface temperature by 250 ° C. at a low voltage of 6 V.

【0033】実施例 テフロンコートした鋼板上に表1に示す実施例1のスラ
リーを塗布し、130℃で1時間硬化させ後、さらに2
00℃に60分間保持した後、その硬化膜(50×30
mm)を剥離させた。この硬化膜の厚みは1.25mm
であった。さらにこの膜を窒素雰囲気下の電気炉中で3
00、400、500、550℃で各1時間焼成処理
し、その各温度処理毎に冷却しては取り出して抵抗変化
を測定した。測定は焼成膜の両端の中間位置を鰐口クリ
ップではさんで行い、抵抗値の変化を求めた。その結果
を以下の表2に示した。但し130℃の値は剥離前のた
め表面をクリップで接触して測定した値である。通常の
抵抗値の測定では銀ペーストを両端に塗布するが、この
場合にはそれを行わなかったため、抵抗は通常より高め
になっている。400℃からはカーボンの飛散と低温用
フリットの溶解開始により、急激に抵抗が下がるのが認
められる。焼成完結後、銀ペーストを塗布して測定した
結果、0.39Ωとなり、体積固有抵抗値では3.4×
10-2Ω・cmの導電性セラミックス膜が得られた。ま
た、焼成膜を水平に浮かして保持し、電圧を変化させな
がら表面上昇温度を測定した結果を表3に示す。プラス
チック系複合導電体では得られない高温での安定した発
熱が見られる。
Example6  The slurry of Example 1 shown in Table 1 was placed on a Teflon-coated steel sheet.
After curing for 1 hour at 130 ° C,
After holding at 00 ° C. for 60 minutes, the cured film (50 × 30
mm) was peeled off. The thickness of this cured film is 1.25 mm
Met. Further, this film was placed in an electric furnace under a nitrogen atmosphere for 3 hours.
Baking treatment at 00, 400, 500, 550 ° C for 1 hour each
After cooling at each temperature treatment, take out and change resistance
Was measured. The measurement was made with a crocodile clip
At the top, we measured the change in resistance. as a result
Are shown in Table 2 below. However, the value at 130 ° C was the value before peeling.
It is a value measured by contacting the surface with a clip. Normal
In measuring the resistance value, silver paste is applied to both ends.
If you didn't do that, the resistance would be higher than normal
It has become. From 400 ° C for carbon scattering and low temperature
A sudden drop in resistance due to the start of frit dissolution is observed.
Can be After firing was completed, silver paste was applied and measured
As a result, it was 0.39Ω, and the volume resistivity was 3.4 ×.
10-2A conductive ceramic film of Ω · cm was obtained. Ma
Also, hold the fired film horizontally and keep the voltage unchanged.
Table 3 shows the results of measuring the surface temperature rise. plus
Stable emission at high temperatures that cannot be obtained with tic-based composite conductors
There is a fever.

【0034】[0034]

【表2】 [Table 2]

【0035】[0035]

【表3】 [Table 3]

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI H05B 3/14 C04B 35/00 J (72)発明者 鈴木 伸治 愛知県北設楽郡東栄町本郷赤谷37−1 合議体 審判長 金澤 俊郎 審判官 柿沢 恵子 審判官 三浦 悟 (56)参考文献 特開 昭61−203505(JP,A) 特開 昭61−85703(JP,A) 特開 平4−192208(JP,A) 特開 平2−288203(JP,A) 特開 昭63−32805(JP,A) 特開 平4−19905(JP,A) 特開 昭62−123057(JP,A) 特公 平3−77648(JP,B2) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01B 1/00 H01B 5/16 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI H05B 3/14 C04B 35/00 J (72) Inventor Shinji Suzuki 37-1 Hongo Akaya, Toei-cho, Kitashitara-gun, Aichi Pres. Judge Toshiro Keiko Kakizawa Judge Satoru Satoru Miura (56) References JP-A-61-203505 (JP, A) JP-A-61-85703 (JP, A) JP-A-4-192208 (JP, A) JP 2-288203 (JP, A) JP-A-63-32805 (JP, A) JP-A-4-19905 (JP, A) JP-A-6-1223057 (JP, A) JP-B-3-77648 (JP, A) B2) (58) Field surveyed (Int. Cl. 7 , DB name) H01B 1/00 H01B 5/16

Claims (8)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 樹脂中に金属被覆されたセリサイトの粉
体及び/又は無機物質の短繊維とフリット粉体とを分散
させた状態で400〜1000℃の温度条件下に加熱処
理を施すことにより得られ、多孔性の無機ガラス質体中
に、金属被覆されたセリサイトの粉体及び/又は無機物
質の短繊維と、炭素粉を分散させた構造を有し、該金属
被覆されたセリサイトの粉体及び/又は無機物質の短繊
維の含有率が45〜65重量%であることを特徴とする
導電性セラミックス。
1. A heat treatment is carried out at a temperature of 400 to 1000 ° C. in a state in which sericite powder and / or inorganic short fibers coated with metal in a resin and frit powder are dispersed. Having a structure in which powder of metal-coated sericite and / or short fibers of an inorganic substance and carbon powder are dispersed in a porous inorganic vitreous body. A conductive ceramic, wherein the content of the site powder and / or the inorganic short fibers is 45 to 65% by weight.
【請求項2】 膜状に形成された請求項1の導電性セラ
ミックス。
2. The conductive ceramic according to claim 1, which is formed in a film shape.
【請求項3】 耐熱絶縁性の基体上に膜状に形成された
請求項1の導電性セラミックス。
3. The conductive ceramic according to claim 1, which is formed in a film shape on a heat-resistant insulating substrate.
【請求項4】 金属被覆されたセリサイトの粉体及び/
又は無機物質の短繊維とフリット粉体と樹脂溶液又は樹
脂分散液とのスラリー状混合物を、耐熱絶縁性の基体上
に塗布し、乾燥させ、400〜1000℃の温度条件下
に加熱処理を施し、フリット粉体を溶融させ、かつ樹脂
を炭素化して耐熱基板上に導電性セラミックス膜を形成
することからなり、該スラリー状混合物における、該金
属被覆されたセリサイトの粉体及び/又は無機物質の短
繊維とフリット粉体との合計量に対する該金属被覆され
たセリサイトの粉体及び/又は無機物質の短繊維の割合
が45〜65重量%であることを特徴とする導電性セラ
ミックス膜の製造方法。
4. A powder of metal-coated sericite and / or
Alternatively , a slurry-like mixture of inorganic short fibers, frit powder, a resin solution or a resin dispersion is applied to a heat-resistant insulating substrate, dried, and subjected to a heat treatment at a temperature of 400 to 1000 ° C. Melting the frit powder and carbonizing the resin to form a conductive ceramic film on the heat-resistant substrate , wherein the metal-coated sericite powder and / or inorganic substance in the slurry-like mixture Wherein the proportion of the metal-coated sericite powder and / or inorganic short fibers to the total amount of the short fibers and the frit powder is 45 to 65% by weight. Production method.
【請求項5】 金属被覆されたセリサイトの粉体及び/
又は無機物質の短繊維とフリット粉体と樹脂溶液又は樹
脂分散液とのスラリー状混合物を基体上に塗布し、乾燥
させ、その基体上に形成された膜を基体から剥離し、4
00〜1000℃の温度条件下に加熱処理を施して、焼
成させて導電性セラミックス膜を形成することからな
り、該スラリー状混合物における該金属被覆されたセリ
サイトの粉体及び/又は無機物質の短繊維とフリット粉
体との合計量に対する該金属被覆されたセリサイトの粉
体及び/又は無機物質の短繊維の割合が45〜65重量
%であることを特徴とする導電性セラミックス膜の製造
方法。
5. A powder of metal-coated sericite and / or
Alternatively, a slurry-like mixture of inorganic short fibers, frit powder, a resin solution or a resin dispersion is applied on a substrate, dried, and a film formed on the substrate is peeled from the substrate.
A heat treatment under a temperature condition of 00 to 1000 ° C., and baking to form a conductive ceramic film. The metal-coated sericite powder and / or inorganic substance in the slurry-like mixture is formed . The production of a conductive ceramic film, wherein the ratio of the metal-coated sericite powder and / or the inorganic short fiber to the total amount of the short fiber and the frit powder is 45 to 65% by weight. Method.
【請求項6】 金属被覆されたセリサイトの粉体及び/
又は無機物質の短繊維とフリット粉体と樹脂との混合
、所定形状に成形した後、400〜1000℃の加熱
温度条件下に加熱処理を施しフリット粉体を溶融し、
かつ樹脂を炭素化して導電性セラミックス成形物を形成
することからなり、該混合物における該金属被覆された
セリサイトの粉体及び/又は無機物質の短繊維とフリッ
ト粉体との合計量に対する該金属被覆されたセリサイト
の粉体及び/又は無機物質の短繊維の割合が45〜65
重量%であることを特徴とする導電性セラミックス成形
物の製造方法。
6. A powder of metal-coated sericite and / or
Or a mixture of inorganic short fibers, frit powder and resin
And after forming into a predetermined shape, to melt the frit powder is subjected to heat treatment in the heating temperature of 400 to 1000 ° C.,
And forming a conductive ceramic molded product by carbonizing a resin, wherein the metal is coated with respect to the total amount of the metal-coated sericite powder and / or inorganic short fibers and frit powder in the mixture. The proportion of coated sericite powder and / or inorganic short fibers is between 45 and 65;
% By weight.
【請求項7】 金属被覆されたセリサイト及び/又は無
機物質の短繊維とフリット粉体を樹脂溶液又は樹脂分散
液中に分散させた組成物であって、該金属被覆されたセ
リサイトの粉体及び/又は無機物質の短繊維とフリット
粉体との合計量に対する該金属被覆されたセリサイトの
粉体及び/又は無機物質の短繊維の割合が45〜65重
量%であることを特徴とする導電性セラミックス形成用
組成物。
7. A composition comprising metal-coated sericite and / or inorganic short fibers and frit powder dispersed in a resin solution or a resin dispersion, wherein the metal-coated sericite powder is dispersed. The ratio of the metal-coated sericite powder and / or the inorganic short fiber to the total amount of the body and / or the inorganic short fiber and the frit powder is 45 to 65% by weight. For forming conductive ceramics.
【請求項8】 請求項1乃至3項のいずれかの導電性セ
ラミックスからなる電気を導通させることにより100
〜500℃の発熱を生じる加熱用発熱体。
8. The conductive ceramics according to claim 1, wherein the conductive ceramics are made to conduct electricity.
A heating heating element that generates heat of up to 500 ° C.
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