JP3136093B2 - テルル含有硫酸銅溶液中からのテルルの除去方法 - Google Patents
テルル含有硫酸銅溶液中からのテルルの除去方法Info
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- JP3136093B2 JP3136093B2 JP08131942A JP13194296A JP3136093B2 JP 3136093 B2 JP3136093 B2 JP 3136093B2 JP 08131942 A JP08131942 A JP 08131942A JP 13194296 A JP13194296 A JP 13194296A JP 3136093 B2 JP3136093 B2 JP 3136093B2
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P10/00—Technologies related to metal processing
- Y02P10/20—Recycling
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- Manufacture And Refinement Of Metals (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、硫酸銅溶液中から
のテルルの除去方法に関する。本発明は、特に、脱銅浸
出後液からのテルルの除去に適した方法に関する。
のテルルの除去方法に関する。本発明は、特に、脱銅浸
出後液からのテルルの除去に適した方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】銅の電解精錬により生じたアノードスラ
イムから銅を回収し銅電解精製の電解液として再利用す
るために硫酸を使用して脱銅浸出が行われるが、浸出処
理後に得られる浸出後液及び浸出残査の洗浄液の後液に
は、銅の他にヒ素、テルルなどが含まれる。テルルは、
微量であっても、電気銅の品質に有意的な悪影響を及ぼ
すものであるから、浸出後液及び洗浄後液は、そのまま
電解工程に戻すことはできない。
イムから銅を回収し銅電解精製の電解液として再利用す
るために硫酸を使用して脱銅浸出が行われるが、浸出処
理後に得られる浸出後液及び浸出残査の洗浄液の後液に
は、銅の他にヒ素、テルルなどが含まれる。テルルは、
微量であっても、電気銅の品質に有意的な悪影響を及ぼ
すものであるから、浸出後液及び洗浄後液は、そのまま
電解工程に戻すことはできない。
【０００３】そのため、浸出後液及び洗浄後液からテル
ルを除去するために種々の方法が提案されているが、そ
の一つに、テルルと金属銅とを反応させてテルル化銅を
析出させる方法がある。この方法は、浸出後液及び洗浄
後液の全量を連続的に処理でき、しかも処理後液中に含
まれるテルルの濃度を５０ｍｇ／Ｌ以下に下げることが
可能である（”銅電解スライムの浸出液の処理” 小西
ら 日本鉱業会誌／１０４ １２０２（８８’−４）
ｐｐ．226＜10＞−228＜12＞）。
ルを除去するために種々の方法が提案されているが、そ
の一つに、テルルと金属銅とを反応させてテルル化銅を
析出させる方法がある。この方法は、浸出後液及び洗浄
後液の全量を連続的に処理でき、しかも処理後液中に含
まれるテルルの濃度を５０ｍｇ／Ｌ以下に下げることが
可能である（”銅電解スライムの浸出液の処理” 小西
ら 日本鉱業会誌／１０４ １２０２（８８’−４）
ｐｐ．226＜10＞−228＜12＞）。
【０００４】この方法の具体的な実施装置は、例えば、
図１に概略的に示すような装置である。この装置を使用
する場合には、反応槽１に浸出後液及び／又は洗浄後液
を入れ、該液中に銅片（銅体）２を浸漬させて、更に該
液をヒーター３を使用して８０〜９０℃程度に加熱し且
つ撹拌機４（撹拌羽根５）を使用して撹拌して銅片２上
へのテルル化銅の析出を促進する。
図１に概略的に示すような装置である。この装置を使用
する場合には、反応槽１に浸出後液及び／又は洗浄後液
を入れ、該液中に銅片（銅体）２を浸漬させて、更に該
液をヒーター３を使用して８０〜９０℃程度に加熱し且
つ撹拌機４（撹拌羽根５）を使用して撹拌して銅片２上
へのテルル化銅の析出を促進する。
【０００５】テルルと金属銅を反応させてテルル化銅を
析出させる反応は、金属銅の表面のみでおこり、反応時
間が比較的長いため、上記の方法の実操業化に当たって
は、大量の液を処理するために処理時間を短縮すること
が重要になる。このため、反応装置には反応設備の縮小
や銅体量の減少を目的として、種々の工夫が凝らされて
いる。
析出させる反応は、金属銅の表面のみでおこり、反応時
間が比較的長いため、上記の方法の実操業化に当たって
は、大量の液を処理するために処理時間を短縮すること
が重要になる。このため、反応装置には反応設備の縮小
や銅体量の減少を目的として、種々の工夫が凝らされて
いる。
【０００６】例えば、銅体を浸漬した反応槽にポンプで
テルルを含む反応液を送り、反応液をポンプ輸送によっ
てできる流れにのって銅体に次々と接触させることで、
反応液の銅体への接触機会を増して反応させる方法や、
反応槽内に撹拌機を設置し反応槽内の液を撹拌すること
で、テルルを含む液の銅体に対する接触機会を多くする
ことで反応時間を短縮する方法が考えられている。
テルルを含む反応液を送り、反応液をポンプ輸送によっ
てできる流れにのって銅体に次々と接触させることで、
反応液の銅体への接触機会を増して反応させる方法や、
反応槽内に撹拌機を設置し反応槽内の液を撹拌すること
で、テルルを含む液の銅体に対する接触機会を多くする
ことで反応時間を短縮する方法が考えられている。
【０００７】このような装置を使用した処理例として
は、撹拌機を設置した反応槽内に表面積が２８８ｍ2の
銅片を浸漬し、連続的に反応液を給液してテルル化銅の
析出を実施した例が報告されている。このときの反応槽
入口におけるテルル濃度と、反応槽に送液されて１６時
間経過した後に反応槽から出てきた反応槽の出口におけ
る該溶液のテルル濃度は以下の通りであった。
は、撹拌機を設置した反応槽内に表面積が２８８ｍ2の
銅片を浸漬し、連続的に反応液を給液してテルル化銅の
析出を実施した例が報告されている。このときの反応槽
入口におけるテルル濃度と、反応槽に送液されて１６時
間経過した後に反応槽から出てきた反応槽の出口におけ
る該溶液のテルル濃度は以下の通りであった。
【０００８】
【表１】 また、このときの反応槽の硫酸濃度は２１０ｇ／Ｌであ
った。
った。
【０００９】また、銅体を別の容器に充填し、テルルを
含有する反応液を貯蔵した容器からその液の一部をポン
プで抜き出し、銅体を充填した容器内に流して反応させ
る装置も考えられる。
含有する反応液を貯蔵した容器からその液の一部をポン
プで抜き出し、銅体を充填した容器内に流して反応させ
る装置も考えられる。
【００１０】このような装置を利用した処理例として
は、表面積が４５０ｍ2の銅片を別の容器に充填しこの
容器に反応液を循環させた例があるが、液の循環を開始
して５時間後の反応槽出口の該溶液のテルル濃度は以下
の通りであった。
は、表面積が４５０ｍ2の銅片を別の容器に充填しこの
容器に反応液を循環させた例があるが、液の循環を開始
して５時間後の反応槽出口の該溶液のテルル濃度は以下
の通りであった。
【００１１】
【表２】 このときの硫酸濃度は２００ｇ／Ｌであった。
【００１２】これらの例において、溶液中のテルル濃度
を低下させるにはそれぞれ１６時間あるいは４時間が必
要となり、そのときのテルル濃度は０．０２〜０．０４
４ｇ／Ｌであった。
を低下させるにはそれぞれ１６時間あるいは４時間が必
要となり、そのときのテルル濃度は０．０２〜０．０４
４ｇ／Ｌであった。
【００１３】
【発明が解決しようとする課題】更に高品位の電気銅を
得るべく、テルルの濃度を今まで以上に低減することが
求められている。
得るべく、テルルの濃度を今まで以上に低減することが
求められている。
【００１４】また、実操業においては、経済的な観点か
ら、操業を複雑化させることなく更に操業時間を短縮化
することが求められる。
ら、操業を複雑化させることなく更に操業時間を短縮化
することが求められる。
【００１５】
【課題を解決するための手段】本願の発明者は、上記の
方法を実施する操業時間の短縮化を図るべく、種々の観
点から鋭意研究の結果、驚くべきことに、従来に比べて
硫酸の濃度、即ち酸濃度を高くしてテルル化銅の生成反
応（テルルのセメンテーション）を促進し、且つ、銅片
表面近傍での液の流速を高めることにより単位時間当た
りの液の銅体への接触回数を増加させて見かけの反応時
間を短縮することにより、従来に比べて銅体の表面積を
小さくし且つ動力の小さい撹拌機を使用しても、テルル
を従来以上に除去できる、即ち、液中のテルルの濃度を
０．００１ｇ／Ｌ未満にでき、しかも、それが短時間に
達成できることを見いだし、本発明を完成させた。
方法を実施する操業時間の短縮化を図るべく、種々の観
点から鋭意研究の結果、驚くべきことに、従来に比べて
硫酸の濃度、即ち酸濃度を高くしてテルル化銅の生成反
応（テルルのセメンテーション）を促進し、且つ、銅片
表面近傍での液の流速を高めることにより単位時間当た
りの液の銅体への接触回数を増加させて見かけの反応時
間を短縮することにより、従来に比べて銅体の表面積を
小さくし且つ動力の小さい撹拌機を使用しても、テルル
を従来以上に除去できる、即ち、液中のテルルの濃度を
０．００１ｇ／Ｌ未満にでき、しかも、それが短時間に
達成できることを見いだし、本発明を完成させた。
【００１６】即ち、本発明は、テルルを含有する硫酸銅
溶液に銅体を接触させることによりテルル化銅を生成し
て該溶液中からテルルを選択的に除去する方法におい
て、該溶液の硫酸濃度として２５０ｇ／Ｌ以上とし、且
つ、該硫酸溶液を空気を巻き込まないよう流動化させな
がら実施することを特徴とする。
溶液に銅体を接触させることによりテルル化銅を生成し
て該溶液中からテルルを選択的に除去する方法におい
て、該溶液の硫酸濃度として２５０ｇ／Ｌ以上とし、且
つ、該硫酸溶液を空気を巻き込まないよう流動化させな
がら実施することを特徴とする。
【００１７】該銅体の全表面積が、該溶液１Ｌに対し
て、０．０１〜０．２ｍ2の場合により一層好適な効果
が得られる。
て、０．０１〜０．２ｍ2の場合により一層好適な効果
が得られる。
【００１８】
【発明の実施の形態】本発明の方法では、テルル含有硫
酸銅溶液中の硫酸濃度は２５０ｇ／Ｌ以上である。従来
は、アノードスライムを浸出して得た銅を電解工場に送
り電解操作により銅を回収するため、銅電解液の硫酸濃
度に近い硫酸濃度にすることを考えたために、硫酸濃度
は１９０〜２１０ｇ／Ｌ程度であったが、本発明の方法
では、２５０ｇ／Ｌ以上としている。
酸銅溶液中の硫酸濃度は２５０ｇ／Ｌ以上である。従来
は、アノードスライムを浸出して得た銅を電解工場に送
り電解操作により銅を回収するため、銅電解液の硫酸濃
度に近い硫酸濃度にすることを考えたために、硫酸濃度
は１９０〜２１０ｇ／Ｌ程度であったが、本発明の方法
では、２５０ｇ／Ｌ以上としている。
【００１９】また、銅体上の表面上でのテルル含有硫酸
銅溶液の流速を速くするために、該硫酸銅溶液を撹拌す
るが、このとき、空気を巻き込まないように調節する。
空気中の酸素（Ｏ2）がテルル化銅（Ｃｕ2Ｔｅ）と接触
すると、以下のような反応が起こるからである：
銅溶液の流速を速くするために、該硫酸銅溶液を撹拌す
るが、このとき、空気を巻き込まないように調節する。
空気中の酸素（Ｏ2）がテルル化銅（Ｃｕ2Ｔｅ）と接触
すると、以下のような反応が起こるからである：
【化１】 酸化テルルは液中へ溶解するため、酸化テルルが生成す
ることで液中のテルル濃度が高くなり好ましくない。撹
拌機の撹拌羽根は、２枚羽根でも３枚羽根でも、或いは
その他の形状でも液体を撹拌できるものであればよい。
ることで液中のテルル濃度が高くなり好ましくない。撹
拌機の撹拌羽根は、２枚羽根でも３枚羽根でも、或いは
その他の形状でも液体を撹拌できるものであればよい。
【００２０】本発明の方法によれば、テルル含有硫酸銅
溶液１Ｌに対して、銅体の全表面積は多いほど好ましい
が、実用的には、０．０１〜０．２ｍ2の場合により、
テルルの除去がより促進され反応時間が短縮される。な
お、銅体は、一つに限らず、複数使用してもよい。銅体
を複数使用する場合には、使用する銅体の表面積が、合
計して、テルル含有硫酸銅溶液１Ｌに対して、０．０１
〜０．２ｍ2であればよい。
溶液１Ｌに対して、銅体の全表面積は多いほど好ましい
が、実用的には、０．０１〜０．２ｍ2の場合により、
テルルの除去がより促進され反応時間が短縮される。な
お、銅体は、一つに限らず、複数使用してもよい。銅体
を複数使用する場合には、使用する銅体の表面積が、合
計して、テルル含有硫酸銅溶液１Ｌに対して、０．０１
〜０．２ｍ2であればよい。
【００２１】テルル含有硫酸銅溶液を空気を巻き込まな
い限度で撹拌するには、液体の容量を念頭におきつつ、
撹拌子の長手方向の長さと回転数との間の関係を考慮し
て、撹拌子の回転数を適宜定める必要がある。例えば、
図２に示すようなビーカーを使用した試験では、ビーカ
ーに硫酸濃度２００〜４００ｇ／Ｌで、テルルの濃度が
１，４００〜４，３００ｍｇ／Ｌの水溶液を３Ｌ入れ、
表面積が２００ｃｍ2のＣｕ種板１５枚（全表面積は
０．３ｍ2）を該水溶液中に浸漬した。次に、該水溶液
を８０℃以上に保持し、撹拌機を１００〜２００ｒｐｍ
で回転させた上で、浸漬開始後３時間経過後に、ビーカ
ーからろ過機に該水溶液を移してろ過したところ、ろ過
後液中のテルル濃度は、０．００１ｇ／Ｌ未満であっ
た。
い限度で撹拌するには、液体の容量を念頭におきつつ、
撹拌子の長手方向の長さと回転数との間の関係を考慮し
て、撹拌子の回転数を適宜定める必要がある。例えば、
図２に示すようなビーカーを使用した試験では、ビーカ
ーに硫酸濃度２００〜４００ｇ／Ｌで、テルルの濃度が
１，４００〜４，３００ｍｇ／Ｌの水溶液を３Ｌ入れ、
表面積が２００ｃｍ2のＣｕ種板１５枚（全表面積は
０．３ｍ2）を該水溶液中に浸漬した。次に、該水溶液
を８０℃以上に保持し、撹拌機を１００〜２００ｒｐｍ
で回転させた上で、浸漬開始後３時間経過後に、ビーカ
ーからろ過機に該水溶液を移してろ過したところ、ろ過
後液中のテルル濃度は、０．００１ｇ／Ｌ未満であっ
た。
【００２２】更なる追加試験の結果も考慮したところ、
このビーカーを使用した試験では、回転数が２００〜３
００ｒｐｍが適当であるとわかった。実操業では、バッ
チ方式で、反応槽（内容量：約２５ｍ3、３ｍφ×３．
５ｍ）に２０ｍ3程度の処理液（典型的には、浸出（硫
酸）処理後の浸出後液及び浸出残査の洗浄後液）を入
れ、長手方向の長さｄが１．０〜１．５ｍの４枚羽根を
撹拌羽根として使用することを想定していることから、
撹拌羽根の回転数は１６０〜３００ｒｐｍが適当である
と想定される。液の温度は、７０〜８５℃に保持される
のが好ましい。
このビーカーを使用した試験では、回転数が２００〜３
００ｒｐｍが適当であるとわかった。実操業では、バッ
チ方式で、反応槽（内容量：約２５ｍ3、３ｍφ×３．
５ｍ）に２０ｍ3程度の処理液（典型的には、浸出（硫
酸）処理後の浸出後液及び浸出残査の洗浄後液）を入
れ、長手方向の長さｄが１．０〜１．５ｍの４枚羽根を
撹拌羽根として使用することを想定していることから、
撹拌羽根の回転数は１６０〜３００ｒｐｍが適当である
と想定される。液の温度は、７０〜８５℃に保持される
のが好ましい。
【００２３】
【実施例】図１に示す装置を使用して、以下の実験を実
施した。
施した。
【００２４】実施例１ ３０００ｃｃのテルル含有硫酸銅溶液（Ｈ2ＳＯ4：２７
９ｇ／Ｌ、Ｔｅ：３．０ｇ／Ｌ）を反応槽に入れ、ヒー
タ−を使用して該浸出後液を８５℃に保温し、また、撹
拌機を使用して該浸出後液を２００ｒｐｍで撹拌させ
た。表面積が２００ｃｍ2のＣｕ種板を１５枚準備し
（全表面積は０．３ｍ2、それを上方から懸垂しながら
該浸出後液中に浸漬した。浸漬開始後１００分経過後
に、該浸出後液をろ過した場合には、テルルの濃度は
０．０５ｇ／Ｌであった。また、浸漬開始後１８０分経
過後に、該浸出後液をろ過した場合には、ろ過後液中の
テルルの濃度は０．００１ｇ／Ｌ未満であった。
９ｇ／Ｌ、Ｔｅ：３．０ｇ／Ｌ）を反応槽に入れ、ヒー
タ−を使用して該浸出後液を８５℃に保温し、また、撹
拌機を使用して該浸出後液を２００ｒｐｍで撹拌させ
た。表面積が２００ｃｍ2のＣｕ種板を１５枚準備し
（全表面積は０．３ｍ2、それを上方から懸垂しながら
該浸出後液中に浸漬した。浸漬開始後１００分経過後
に、該浸出後液をろ過した場合には、テルルの濃度は
０．０５ｇ／Ｌであった。また、浸漬開始後１８０分経
過後に、該浸出後液をろ過した場合には、ろ過後液中の
テルルの濃度は０．００１ｇ／Ｌ未満であった。
【００２５】比較例１ ３０００ｃｃのテルル含有硫酸銅溶液（Ｈ2ＳＯ4：１０
５ｇ／Ｌ、Ｔｅ：３．０ｇ／Ｌを反応槽に入れ、ヒータ
−を使用して該浸出後液を８５℃に保温し、また、撹拌
機を使用して該浸出後液を２００ｒｐｍで撹拌させた。
表面積が２００ｃｍ2のＣｕ種板を１５枚準備し（全表
面積は０．３ｍ2、それを上方から懸垂しながら該浸出
後液中に浸漬した。浸漬開始後１００分経過後に、該浸
出後液をろ過した場合には、テルルの濃度は１．４ｇ／
Ｌであった。また、浸漬開始後１８０分経過後に、該浸
出後液をろ過した場合には、ろ過後液中のテルルの濃度
は０．５ｇ／Ｌ未満であった。
５ｇ／Ｌ、Ｔｅ：３．０ｇ／Ｌを反応槽に入れ、ヒータ
−を使用して該浸出後液を８５℃に保温し、また、撹拌
機を使用して該浸出後液を２００ｒｐｍで撹拌させた。
表面積が２００ｃｍ2のＣｕ種板を１５枚準備し（全表
面積は０．３ｍ2、それを上方から懸垂しながら該浸出
後液中に浸漬した。浸漬開始後１００分経過後に、該浸
出後液をろ過した場合には、テルルの濃度は１．４ｇ／
Ｌであった。また、浸漬開始後１８０分経過後に、該浸
出後液をろ過した場合には、ろ過後液中のテルルの濃度
は０．５ｇ／Ｌ未満であった。
【００２６】実施例１と比較例１の試験結果を、図２に
示す。図２から明らかなように、硫酸濃度が２５０ｇ／
Ｌ以上の場合には、ＣｕとＴｅの還元速度が有意的に速
くなる。
示す。図２から明らかなように、硫酸濃度が２５０ｇ／
Ｌ以上の場合には、ＣｕとＴｅの還元速度が有意的に速
くなる。
【００２７】実施例２ ３０００ｃｃのオートクレーブ浸出後液（Ｈ2ＳＯ4：２
５０ｇ／Ｌ、Ｔｅ：４．３ｇ／Ｌ）を反応槽に入れ、ヒ
ータ−を使用して該浸出後液を８５℃に保温し、また、
撹拌機を使用して該浸出後液を２００ｒｐｍで撹拌させ
た。表面積が２００ｃｍ2のＣｕ種板を１５枚準備し
（全表面積は０．３ｍ2、それを上方から懸垂しながら
該浸出後液中に浸漬した。浸漬開始後２時間経過後に、
該浸出後液をろ過した場合には、ろ過後液中のテルルの
濃度は０．００１ｇ／Ｌ未満であった。
５０ｇ／Ｌ、Ｔｅ：４．３ｇ／Ｌ）を反応槽に入れ、ヒ
ータ−を使用して該浸出後液を８５℃に保温し、また、
撹拌機を使用して該浸出後液を２００ｒｐｍで撹拌させ
た。表面積が２００ｃｍ2のＣｕ種板を１５枚準備し
（全表面積は０．３ｍ2、それを上方から懸垂しながら
該浸出後液中に浸漬した。浸漬開始後２時間経過後に、
該浸出後液をろ過した場合には、ろ過後液中のテルルの
濃度は０．００１ｇ／Ｌ未満であった。
【００２８】実施例３ ３０００ｃｃの浸出後液（Ｈ2ＳＯ4：２５０ｇ／Ｌ、Ｔ
ｅ：１．９ｇ／Ｌ）を反応槽に入れ、ヒータ−を使用し
て該浸出後液を８５℃に保温し、また、撹拌機を使用し
て該浸出後液を１００ｒｐｍで撹拌させた。表面積が１
００ｃｍ2のＣｕ種板を３枚準備し（全表面積は０．０
３ｍ2、それを上方から懸垂しながら該浸出後液中に浸
漬した。浸漬開始後２、４、６、８、１０、１２時間経
過後に該浸出後液をろ過した場合には、ろ過後液中のテ
ルルの濃度は以下の通りであった。
ｅ：１．９ｇ／Ｌ）を反応槽に入れ、ヒータ−を使用し
て該浸出後液を８５℃に保温し、また、撹拌機を使用し
て該浸出後液を１００ｒｐｍで撹拌させた。表面積が１
００ｃｍ2のＣｕ種板を３枚準備し（全表面積は０．０
３ｍ2、それを上方から懸垂しながら該浸出後液中に浸
漬した。浸漬開始後２、４、６、８、１０、１２時間経
過後に該浸出後液をろ過した場合には、ろ過後液中のテ
ルルの濃度は以下の通りであった。
【００２９】
【表３】
【００３０】実施例２と実施例３とを比較すると、実施
例２では、液１Ｌに対して銅板の表面積は０．１ｍ2で
あり、実施例３では、液１Ｌに対して銅板の表面積は
０．０１ｍ2であるから、ある程度の大きさの銅板を使
用することが操業時間の短縮化に必要であることがわか
る。
例２では、液１Ｌに対して銅板の表面積は０．１ｍ2で
あり、実施例３では、液１Ｌに対して銅板の表面積は
０．０１ｍ2であるから、ある程度の大きさの銅板を使
用することが操業時間の短縮化に必要であることがわか
る。
【００３１】実施例４ ３０００ｃｃのオートクレーブ浸出後液（Ｈ2ＳＯ4：３
６７ｇ／Ｌ、Ｔｅ：１，４６ｇ／Ｌ）を反応槽に入れ、
ヒータ−を使用して該浸出後液を８５℃に保温し、ま
た、撹拌機を使用して該浸出後液を１００ｒｐｍで撹拌
させた。表面積が２００ｃｍ2のＣｕ種板を１５枚準備
し（全表面積は０．３ｍ2）、それを上方から懸垂しな
がら該浸出後液中に浸漬した。浸漬開始後２時間経過後
に、該浸出後液をろ過したところ、ろ過後液中のテルル
の濃度は０．００２ｇ／Ｌであった。浸漬開始後４時間
経過後に、該浸出後液をろ過したところ、ろ過後液中の
テルルの濃度は０．００２ｇ／Ｌ未満であった。
６７ｇ／Ｌ、Ｔｅ：１，４６ｇ／Ｌ）を反応槽に入れ、
ヒータ−を使用して該浸出後液を８５℃に保温し、ま
た、撹拌機を使用して該浸出後液を１００ｒｐｍで撹拌
させた。表面積が２００ｃｍ2のＣｕ種板を１５枚準備
し（全表面積は０．３ｍ2）、それを上方から懸垂しな
がら該浸出後液中に浸漬した。浸漬開始後２時間経過後
に、該浸出後液をろ過したところ、ろ過後液中のテルル
の濃度は０．００２ｇ／Ｌであった。浸漬開始後４時間
経過後に、該浸出後液をろ過したところ、ろ過後液中の
テルルの濃度は０．００２ｇ／Ｌ未満であった。
【００３２】実施例５ ３０００ｃｃのオートクレーブ浸出後液（Ｈ2ＳＯ4：３
６７ｇ／Ｌ、Ｔｅ：４．３ｇ／Ｌ）を反応槽に入れ、ヒ
ータ−を使用して該浸出後液を８５℃に保温し、また、
撹拌機を使用して該浸出後液を２００ｒｐｍで撹拌させ
た。表面積が２００ｃｍ2のＣｕ種板を１５枚準備し
（全表面積は０．３ｍ2）、それを上方から懸垂しなが
ら該浸出後液中に浸漬した。浸漬開始後２時間経過後
に、該浸出後液をろ過したところ、ろ過後液中のテルル
の濃度は０．００２ｇ／Ｌであった。浸漬開始後４時間
経過後に、該浸出後液をろ過したところ、ろ過後液中の
テルルの濃度は０．００１ｇ／Ｌ未満であった。
６７ｇ／Ｌ、Ｔｅ：４．３ｇ／Ｌ）を反応槽に入れ、ヒ
ータ−を使用して該浸出後液を８５℃に保温し、また、
撹拌機を使用して該浸出後液を２００ｒｐｍで撹拌させ
た。表面積が２００ｃｍ2のＣｕ種板を１５枚準備し
（全表面積は０．３ｍ2）、それを上方から懸垂しなが
ら該浸出後液中に浸漬した。浸漬開始後２時間経過後
に、該浸出後液をろ過したところ、ろ過後液中のテルル
の濃度は０．００２ｇ／Ｌであった。浸漬開始後４時間
経過後に、該浸出後液をろ過したところ、ろ過後液中の
テルルの濃度は０．００１ｇ／Ｌ未満であった。
【００３３】実施例４と実施例５を比較すると、空気を
液中に巻き込まない限度で強く撹拌すると、操業時間の
短縮化を図れることがわかる。
液中に巻き込まない限度で強く撹拌すると、操業時間の
短縮化を図れることがわかる。
【００３４】
【発明の効果】本発明の方法によれば、テルル含有硫酸
銅溶液中のテルルの濃度を簡便な手法で短時間に低減で
きる。従って、銅精錬で生じたアノードスライムの浸出
後液に含まれるようなテルルの濃度を短時間に低減でき
る。
銅溶液中のテルルの濃度を簡便な手法で短時間に低減で
きる。従って、銅精錬で生じたアノードスライムの浸出
後液に含まれるようなテルルの濃度を短時間に低減でき
る。
【図１】本発明の方法を実施するための装置の概略図で
ある。
ある。
【図２】実施例１と比較例１において得られた、時間経
過に対する溶液中のＴｅ（テルル）濃度の低下傾向を示
す図である。
過に対する溶液中のＴｅ（テルル）濃度の低下傾向を示
す図である。
１：反応槽 ２：銅片 ３：ヒーター ４：撹拌
機 ５：撹拌羽根 ６：温度計
機 ５：撹拌羽根 ６：温度計
フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭53−28519（ＪＰ，Ａ) 特開 昭53−142914（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−223139（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−227906（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C22B 15/14 C22B 3/44 C22B 61/00
Claims (1)
- 【請求項１】 銅精錬で生じたアノードスライムの硫酸
による銅の浸出後液及びその洗浄後液であるテルルを含
有する硫酸銅溶液に銅体を接触させることによりテルル
化銅を生成して該溶液中からテルルを選択的に除去する
方法において、 ａ） 該溶液の硫酸濃度として２５０ｇ／Ｌ以上とし、 ｂ） 攪拌機の回転数を１００−３００ｒｐｍに調節し
て該溶液に空気を巻き込まないように攪拌しながら実施
し、且つ ｃ） 該銅体の全表面積が該溶液１Ｌに対して０．０１
−０．２ｍ2であることにより、該溶液中のテルルの濃
度を０．００１ｇ／Ｌ未満に短時間で達成することを特
徴とする方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP08131942A JP3136093B2 (ja) | 1996-05-27 | 1996-05-27 | テルル含有硫酸銅溶液中からのテルルの除去方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP08131942A JP3136093B2 (ja) | 1996-05-27 | 1996-05-27 | テルル含有硫酸銅溶液中からのテルルの除去方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09316563A JPH09316563A (ja) | 1997-12-09 |
| JP3136093B2 true JP3136093B2 (ja) | 2001-02-19 |
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ID=15069818
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP08131942A Expired - Fee Related JP3136093B2 (ja) | 1996-05-27 | 1996-05-27 | テルル含有硫酸銅溶液中からのテルルの除去方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3136093B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6325938B1 (en) | 1998-08-12 | 2001-12-04 | Mitsubishi Rayon Co., Ltd. | Method of cleaning membrane assembly with detergent |
| JP2015105386A (ja) * | 2013-11-28 | 2015-06-08 | 住友金属鉱山株式会社 | 銅電解スライムの硫酸浸出液からのテルルの除去方法 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4574826B2 (ja) * | 2000-09-28 | 2010-11-04 | 古河機械金属株式会社 | テルルを回収する方法 |
| JP4574825B2 (ja) * | 2000-09-28 | 2010-11-04 | 古河機械金属株式会社 | テルルの回収方法 |
-
1996
- 1996-05-27 JP JP08131942A patent/JP3136093B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| US6325938B1 (en) | 1998-08-12 | 2001-12-04 | Mitsubishi Rayon Co., Ltd. | Method of cleaning membrane assembly with detergent |
| JP2015105386A (ja) * | 2013-11-28 | 2015-06-08 | 住友金属鉱山株式会社 | 銅電解スライムの硫酸浸出液からのテルルの除去方法 |
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|---|---|
| JPH09316563A (ja) | 1997-12-09 |
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