JP3124393B2 - Wafer carrier transfer equipment - Google Patents

Wafer carrier transfer equipment

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JP3124393B2
JP3124393B2 JP29792192A JP29792192A JP3124393B2 JP 3124393 B2 JP3124393 B2 JP 3124393B2 JP 29792192 A JP29792192 A JP 29792192A JP 29792192 A JP29792192 A JP 29792192A JP 3124393 B2 JP3124393 B2 JP 3124393B2
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wafer carrier
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arm
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清彦 池田
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  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、半導体製造工場におけ
る半導体ウエハの自動搬送システムにおいて、ウエハを
収納したウエハキャリアを所定の場所に移載するための
ウエハキャリアの移載装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a wafer carrier transfer apparatus for transferring a wafer carrier containing a wafer to a predetermined place in an automatic semiconductor wafer transfer system in a semiconductor manufacturing factory.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、半導体製造工場におけるウエハ
キャリアの搬送手段には、発塵源となる作業者の介在を
排除した、いわゆる自動搬送システムが導入されてい
る。この自動搬送システムは、大きくは、ウエハを収納
したウエハキャリアを各工程に運搬する搬送車と、この
搬送車から受け取ったウエハキャリアを所定の場所に移
載する移載機とによって構成される。そして、この種の
ウエハキャリアの移載装置としては、本出願人により実
開昭62−80334号公報にて開示されたものがあ
る。
2. Description of the Related Art Generally, a so-called automatic transfer system, which eliminates the intervention of a worker serving as a dust generation source, is introduced as a means for transferring a wafer carrier in a semiconductor manufacturing factory. This automatic transfer system is mainly composed of a transfer vehicle that transfers a wafer carrier containing a wafer to each process, and a transfer machine that transfers the wafer carrier received from the transfer vehicle to a predetermined location. An example of this type of wafer carrier transfer apparatus is disclosed in Japanese Utility Model Laid-Open No. 62-80334 by the present applicant.

【0003】図5は上記従来のウエハキャリアの移載装
置を説明する斜視図である。図において、50はガイド
部材であり、このガイド部材50は図示せぬ天井部分か
ら吊設された吊りボルトによって支持されている。ま
た、ガイド部材50は搬送路Rを形成しており、この搬
送路R上を搬送車(不図示)が走行するようになってい
る。さらに搬送車には旋回可能な載置アーム51が取り
付けられており、この載置アーム51上にウエハキャリ
ア52が載置される。一方、図中53は移載機であり、
この移載機53は建物の床部分に設置されている。移載
機53には昇降自在な移載アーム54が取り付けられて
おり、この移載アーム54によってウエハキャリア52
が所定場所に移載される。
FIG. 5 is a perspective view for explaining the conventional wafer carrier transfer apparatus. In the figure, reference numeral 50 denotes a guide member, and the guide member 50 is supported by suspension bolts suspended from a ceiling (not shown). The guide member 50 forms a transport path R, and a transport vehicle (not shown) travels on the transport path R. Further, a swingable mounting arm 51 is attached to the carrier, and a wafer carrier 52 is mounted on the mounting arm 51. On the other hand, 53 in the figure is a transfer machine,
The transfer machine 53 is installed on the floor of a building. A transfer arm 54 that can move up and down is attached to the transfer machine 53.
Is transferred to a predetermined location.

【0004】続いて、上記従来の移載装置の動作につい
て説明する。まず、載置アーム51上にウエハキャリア
52が載置された状態で、図示せぬ搬送車を搬送路R上
の所定位置に停止させる。次いで、載置アーム51をA
矢視方向に90度旋回させて図5に示す配置状態とす
る。続いて、移載機53の移載アーム54を上昇させ
て、ウエハキャリア52を載置アーム51から移載アー
ム54へと受け渡す。後は、載置アーム51を先程とは
反対方向に旋回させるとともに、移載アーム54を一番
下まで下降させてウエハキャリア52を設置台55の上
に移載する。以上の手順によって従来はウエハキャリア
の移載作業が行われていた。
Next, the operation of the above-mentioned conventional transfer device will be described. First, in a state where the wafer carrier 52 is mounted on the mounting arm 51, a transport vehicle (not shown) is stopped at a predetermined position on the transport path R. Next, the mounting arm 51 is
By turning 90 degrees in the direction of the arrow, the arrangement state shown in FIG. 5 is obtained. Subsequently, the transfer arm 54 of the transfer machine 53 is raised to transfer the wafer carrier 52 from the mounting arm 51 to the transfer arm 54. Thereafter, the mounting arm 51 is turned in the opposite direction to the previous direction, and the transfer arm 54 is lowered to the lowest position to transfer the wafer carrier 52 onto the mounting table 55. Conventionally, the transfer operation of the wafer carrier has been performed by the above procedure.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記従来
の移載装置においては、天井部分に連結して設けられた
搬送路R上を走行する搬送車(不図示)に対して、他方
の移載機53は床部分に設置されているため、建物の経
時的な寸法変化によって搬送路R上の搬送車と移載機5
3との間に相対的な位置ズレが生じ、これがウエハキャ
リア52の移載精度を低下させるという問題があった。
However, in the above-mentioned conventional transfer apparatus, a transfer machine (not shown) running on a transfer path R connected to a ceiling portion is provided with another transfer machine. Because 53 is installed on the floor, the transport vehicle on the transport path R and the transfer machine
3, there is a problem that relative displacement occurs, which lowers the transfer accuracy of the wafer carrier 52.

【0006】本発明は、上記問題を解決するためになさ
れたもので、建物の経時的な寸法変化に伴う移載精度の
低下を解消したウエハキャリアの移載装置を提供するこ
とを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-described problem, and has as its object to provide a wafer carrier transfer apparatus which can eliminate a decrease in transfer accuracy due to a dimensional change of a building over time. .

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するためになされたもので、建物の天井部分に連結し
て設けられた搬送路と、この搬送路上を走行する搬送車
と、この搬送車に取り付けられた載置アームと、建物の
床部分に設置された移載機と、この移載機に取り付けら
れた移載アームとを備え、搬送車の載置アームと移載機
の移載アームとの間でウエハキャリアの受け渡しが行わ
れるウエハキャリアの移載装置において、搬送車と移載
機との離間距離を検出する第1のセンサ手段を設けて、
この第1のセンサ手段からの検出結果を基に移載機に対
する載置アームの進退位置を制御可能とするとともに、
搬送車の走行位置を検出する第2のセンサ手段を設け
て、この第2のセンサ手段からの検出結果を基に搬送路
上における搬送車の停止位置を制御可能としたものであ
る。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to achieve the above-mentioned object, and comprises a transport path connected to a ceiling of a building, a transport vehicle traveling on the transport path, A transfer arm mounted on the floor of a building; a transfer arm mounted on the floor of the building; and a transfer arm mounted on the transfer machine. In a wafer carrier transfer device in which the transfer of a wafer carrier is performed between the transfer arm and a transfer arm, first sensor means for detecting a separation distance between the transfer vehicle and the transfer machine is provided,
The advance / retreat position of the mounting arm with respect to the transfer machine can be controlled based on the detection result from the first sensor means,
Second sensor means for detecting the traveling position of the transport vehicle is provided, and the stop position of the transport vehicle on the transport path can be controlled based on the detection result from the second sensor means.

【0008】[0008]

【作用】本発明のウエハキャリアを移載装置において
は、第1のセンサ手段からの検出結果を基に移載機に対
する載置アームの進退位置を制御するとともに、第2の
センサ手段からの検出結果を基に搬送路上における搬送
車の停止位置を制御することにより、ウエハキャリアの
受け渡しに際しては、搬送車の載置アームと移載機の移
載アームとが常に同じ配置状態となる。その結果、ウエ
ハキャリアは位置的なバラツキを生じることなく、常に
一定の位置に移載されるようになる。
In the apparatus for transferring a wafer carrier of the present invention, the position of the mounting arm with respect to the transfer machine is controlled based on the detection result from the first sensor means, and the detection from the second sensor means is performed. By controlling the stop position of the transfer vehicle on the transfer path based on the result, the delivery arm of the transfer vehicle and the transfer arm of the transfer machine are always in the same arrangement state when transferring the wafer carrier. As a result, the wafer carrier is always transferred to a fixed position without causing positional variation.

【0009】[0009]

【実施例】以下、本発明に係わるウエハキャリアの移載
装置について図面を基に詳細に説明する。図1は本発明
の一実施例を説明する平面概略図であり、図2は同側面
概略図である。図において、1はガイド部材であり、こ
のガイド部材1は天井2部分から吊設された左右一対の
吊りボルト3によって支持されている。ガイド部材1は
断面長方形の中空構造をなしており、この中空部分にて
搬送路Rを形成している。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, a wafer carrier transfer apparatus according to the present invention will be described in detail with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic plan view illustrating an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a schematic side view of the same. In the figure, reference numeral 1 denotes a guide member, and the guide member 1 is supported by a pair of left and right suspension bolts 3 suspended from a ceiling 2 portion. The guide member 1 has a hollow structure having a rectangular cross section, and the hollow portion forms a transport path R.

【0010】こうした搬送路Rは各工程間に渡って架設
されており、この搬送路R上を搬送車4が走行するよう
になっている。さらに搬送車4には平面略コ字形の載置
アーム5が取り付けられており、この載置アーム5はB
矢視方向に旋回可能で且つC矢視方向に進退可能な構造
となっている。
The transport path R is provided between the respective steps, and the transport vehicle 4 runs on the transport path R. Further, a mounting arm 5 having a substantially U-shape in plan view is attached to the transporting vehicle 4.
The structure is such that it can turn in the direction of the arrow and move back and forth in the direction of the arrow C.

【0011】一方、図中6は移載機であり、この移載機
6は建物の床部分(不図示)に設置されている。この移
載機6には昇降自在な移載アーム7が取り付けられてお
り、搬送車4によって運ばれたウエハキャリア8は、こ
の移載アーム7によって所定場所に移載されるようにな
っている。
On the other hand, reference numeral 6 in the figure denotes a transfer machine, which is installed on the floor (not shown) of the building. The transfer machine 6 is provided with a transfer arm 7 which can be moved up and down. The wafer carrier 8 carried by the carrier 4 is transferred to a predetermined location by the transfer arm 7. .

【0012】本実施例のウエハキャリアの移載装置にお
いては、まず、搬送車4と移載車6との離間距離を検出
する第1のセンサ手段が設けられている。この第1のセ
ンサ手段は、例えばL字形の反射板9と光波式或いは超
音波式の距離センサ10とから構成されており、一方の
反射板9は移載機6の前面右側部に取り付けられ、他方
の距離センサ10は載置アーム5の左腕5a先端部に取
り付けられている。この反射板9と距離センサ10と
は、ウエハキャリア8を載せた載置アーム5が図1のよ
うに旋回した状態で、互いに対向するように配置されて
いる。
In the wafer carrier transfer apparatus of the present embodiment, first, first sensor means for detecting a separation distance between the transfer vehicle 4 and the transfer vehicle 6 is provided. The first sensor means comprises, for example, an L-shaped reflector 9 and a lightwave or ultrasonic distance sensor 10. One reflector 9 is attached to the front right side of the transfer machine 6. The other distance sensor 10 is attached to the tip of the left arm 5a of the mounting arm 5. The reflection plate 9 and the distance sensor 10 are arranged to face each other in a state where the mounting arm 5 on which the wafer carrier 8 is mounted is turned as shown in FIG.

【0013】さらに本実施例では、搬送路R上の搬送車
4の走行位置を検出する第2のセンサ手段が設けられて
いる。この第2のセンサ手段は、例えばL字形のスリッ
ト板11と反射式の光センサ12とから構成されてお
り、一方のスリット板11は上述の反射板9の反対側、
つまり移載機6の前面左側部に取り付けられ、他方の光
センサ12は載置アーム5の右腕5b先端部に取り付け
られている。このスリット板11と光センサ12とは、
上記第1のセンサ手段と同様に、ウエハキャリア8を載
せた載置アーム5が図1のように旋回した状態で、互い
に対向するように配置されている。
Further, in the present embodiment, second sensor means for detecting the traveling position of the transport vehicle 4 on the transport path R is provided. This second sensor means is constituted by, for example, an L-shaped slit plate 11 and a reflection type optical sensor 12, and one slit plate 11 is provided on the opposite side of the above-mentioned reflection plate 9,
That is, the optical sensor 12 is attached to the front left side of the transfer machine 6, and the other optical sensor 12 is attached to the tip of the right arm 5 b of the placing arm 5. The slit plate 11 and the optical sensor 12
As in the case of the first sensor means, the mounting arms 5 on which the wafer carriers 8 are mounted are arranged so as to face each other in a state of turning as shown in FIG.

【0014】また、上記第1及び第2のセンサ手段から
の検出結果は図示せぬ制御部に送信されるようになって
いる。そして、各センサ手段からの検出結果を基に、移
載機6に対する載置アーム5の進退位置、並びに搬送路
R上における搬送車4の停止位置を制御部で制御する構
成となっている。
The detection results from the first and second sensor means are transmitted to a control unit (not shown). Then, based on the detection results from the respective sensor means, the control unit controls the advance / retreat position of the mounting arm 5 with respect to the transfer machine 6 and the stop position of the transport vehicle 4 on the transport path R.

【0015】なお、上記実施例の構成においては、反射
板9とスリット板11が移載機6側に取り付けられ、距
離センサ10と光センサ11が搬送車4側、つまり載置
アーム5に取り付けられているが、本発明はこれに限定
されるものではない。すなわち、反射板9と距離センサ
10、並びにスリット板11と光センサ12とは、搬送
車4と移載機6のうちのいずれか一方と他方に、それぞ
れ上述の配置条件を充たして取り付けられていればよ
い。
In the configuration of the above embodiment, the reflecting plate 9 and the slit plate 11 are mounted on the transfer machine 6 side, and the distance sensor 10 and the optical sensor 11 are mounted on the carrier 4 side, that is, on the mounting arm 5. However, the present invention is not limited to this. That is, the reflection plate 9 and the distance sensor 10 and the slit plate 11 and the optical sensor 12 are attached to one or the other of the transport vehicle 4 and the transfer machine 6 while satisfying the above-described arrangement conditions. Just do it.

【0016】続いて、本実施例の移載装置の動作につい
て、図4のフローチャートを参照しながら説明する。ま
ず、搬送車4から移載機6へとウエハキャリア8の受け
渡しを行う際は、移載機6側の移載準備として、移載ア
ーム7を所定の高さ、すなわち搬送車4の載置アーム5
よりも低くく且つその載置アーム5が旋回した際に衝突
を起こさない高さに待機させる(S1)。続いて、載置
アーム5にウエハキャリア8が載置された状態で、搬送
路R上の搬送車4を予めティーチングされた位置まで走
行させる(S2)。
Next, the operation of the transfer apparatus according to the present embodiment will be described with reference to the flowchart of FIG. First, when the transfer of the wafer carrier 8 from the carrier 4 to the transfer machine 6 is performed, the transfer arm 7 is set at a predetermined height, that is, Arm 5
It is made to stand by at a height that is lower than that and does not cause a collision when the mounting arm 5 turns (S1). Subsequently, with the wafer carrier 8 mounted on the mounting arm 5, the transport vehicle 4 on the transport path R is moved to a position where teaching has been performed in advance (S2).

【0017】次に、搬送車4の載置アーム5を90度旋
回させる(S3)。この時点で、第1のセンサ手段であ
る反射板9と距離センサ10とは図1に示すような対向
状態となり、この状態から搬送車4と移載機6との離間
距離が距離センサ10によって検出される(S4)。こ
こでは、距離センサ10から発せられたレーザ光又は超
音波が反射板9に当たって再び距離センサ10に戻って
くるまでの時間経過を基に搬送車4と移載機6との離間
距離を検出しており、この検出結果は距離センサ10か
ら制御部へと送られる。
Next, the mounting arm 5 of the carrier 4 is turned by 90 degrees (S3). At this time, the reflection plate 9 and the distance sensor 10 as the first sensor means are in the facing state as shown in FIG. 1, and from this state, the separation distance between the carrier 4 and the transfer machine 6 is determined by the distance sensor 10. It is detected (S4). Here, the separation distance between the transport vehicle 4 and the transfer machine 6 is detected based on the lapse of time until the laser light or ultrasonic wave emitted from the distance sensor 10 hits the reflecting plate 9 and returns to the distance sensor 10 again. The detection result is sent from the distance sensor 10 to the control unit.

【0018】制御部では、予め記憶された基準距離デー
タと上述の距離センサ10からの検出データとを比較演
算し、両データ値が一致するように載置アーム5を進退
動作させる(S5)。これにより、移載機6に対する載
置アーム5の進退位置が制御される。
The control unit compares the reference distance data stored in advance with the detection data from the distance sensor 10 and moves the mounting arm 5 forward and backward so that the two data values match (S5). Thereby, the position of the mounting arm 5 with respect to the transfer machine 6 is controlled.

【0019】また、上記の時点では、第2のセンサ手段
であるスリット板11と光センサ12とが以下のような
配置状態となる。すなわち、図3に示すように、搬送車
4の進行方向をD方向とすると、光センサ12の光軸焦
点位置Pは、スリット板11に一定間隔で設けられたス
リット11aとほぼ同じ高さで、しかもスリット11a
に対して未通過の状態に配置される。
At the above time, the slit plate 11 and the optical sensor 12, which are the second sensor means, are arranged as follows. That is, as shown in FIG. 3, assuming that the traveling direction of the transport vehicle 4 is the D direction, the optical axis focal position P of the optical sensor 12 is substantially the same height as the slits 11 a provided at regular intervals on the slit plate 11. And slit 11a
Is placed in a state where no passage has been made.

【0020】このような配置状態から搬送車4はゆっく
りとした微速度走行を開始する(S6)。この時、光セ
ンサ12の光軸焦点位置PはD方向(図3)へと順に移
行していき、これに伴って光センサ12はスリット11
aの通過数に応じたパルス信号を制御部へと送信する。
From such an arrangement state, the transport vehicle 4 starts traveling at a slow speed at a low speed (S6). At this time, the optical axis focal position P of the optical sensor 12 shifts sequentially in the direction D (FIG. 3), and accordingly, the optical sensor 12
A pulse signal corresponding to the number of passages a is transmitted to the control unit.

【0021】制御部では、光センサ12からのパルス信
号を順次入力し(S7)、そのパルス数が予め設定され
たパルス数に達したか否かの判定を行う(S8)。そし
て、入力パルス数が所定数に達すると同時に搬送車4の
微速度走行を停止させる(S9)。これにより、搬送路
R上における搬送車4の停止位置が制御される。
The control section sequentially receives pulse signals from the optical sensor 12 (S7), and determines whether or not the number of pulses has reached a preset number of pulses (S8). Then, at the same time when the number of input pulses reaches the predetermined number, the traveling speed of the carrier 4 is stopped (S9). Thereby, the stop position of the transport vehicle 4 on the transport path R is controlled.

【0022】続いて、移載機6の移載アーム7を上昇さ
せて、載置アーム7上のウエハキャリア8を移載アーム
7へと受け渡す(S10)とともに、載置アーム7を先
程とは反対方向に旋回させて元の位置に戻す(S1
1)。後は、移載アーム7を一番下まで下降させて、ウ
エハキャリア8を所定場所に移載する(S12)。以上
の手順によってウエハキャリア8の移載作業が完了す
る。
Subsequently, the transfer arm 7 of the transfer machine 6 is raised to transfer the wafer carrier 8 on the mounting arm 7 to the transfer arm 7 (S10), and the mounting arm 7 is moved to the previous position. Is turned in the opposite direction to return to the original position (S1
1). Thereafter, the transfer arm 7 is lowered to the bottom, and the wafer carrier 8 is transferred to a predetermined location (S12). With the above procedure, the transfer operation of the wafer carrier 8 is completed.

【0023】このように本実施例の移載装置において
は、第1のセンサ手段からの検出結果を基に移載機6に
対する載置アーム5の進退位置を制御するとともに、第
2のセンサ手段からの検出結果を基に搬送路R上におけ
る搬送車4の停止位置を制御することで、たとえ建物の
経時的な寸法変化によって搬送車4と移載機6との間に
相対的な位置ズレが生じた場合であっても、ウエハキャ
リア8の受け渡しに際しては、搬送車4の載置アーム5
と移載機6の移載アーム7とを常に同じ配置状態とする
ことができる。よって、そのような配置状態の下でウエ
ハキャリア8の受け渡しが行われれば、個々のウエハキ
ャリア8は位置的なバラツキを生じることなく、常に一
定の位置に移載されるようになる。
As described above, in the transfer device of the present embodiment, the position of the mounting arm 5 with respect to the transfer machine 6 is controlled based on the detection result from the first sensor means, and the second sensor means is controlled. By controlling the stop position of the transport vehicle 4 on the transport path R on the basis of the detection result from the vehicle, the relative positional shift between the transport vehicle 4 and the transfer machine 6 due to the dimensional change of the building over time. When the wafer carrier 8 is delivered, the mounting arm 5 of the carrier 4
And the transfer arm 7 of the transfer machine 6 can always be in the same arrangement state. Therefore, if the wafer carriers 8 are transferred under such an arrangement state, the individual wafer carriers 8 are always transferred to a fixed position without causing positional variation.

【0024】なお、本実施例においては、ウエハキャリ
ア8を搬送車4から移載機6に受け渡す場合について説
明したが、上述した移載手順を反転させることにより、
移載機6から搬送車4への受け渡しも容易に可能であ
る。
In this embodiment, the case where the wafer carrier 8 is transferred from the transfer vehicle 4 to the transfer machine 6 has been described. However, by inverting the above-described transfer procedure,
Delivery from the transfer machine 6 to the carrier 4 is also easily possible.

【0025】[0025]

【発明の効果】以上、説明したように本発明の移載装置
によれば、搬送車と移載機との間に相対的な位置ズレが
生じた場合であっても、ウエハキャリアの受け渡しに際
しては、搬送車の載置アームと移載機の移載アームとを
常に同じ配置状態とすることができる。その結果、ウエ
ハキャリアは位置的なバラツキを生じることなく、常に
一定の位置に移載されるようになることから、建物の経
時的な寸法変化に伴う移載精度の低下が解消されるとと
もに、半導体製造工場の自動搬送システムにおいては、
より高精度なウエハキャリアの移載が期待できる。
As described above, according to the transfer apparatus of the present invention, even when a relative displacement occurs between the transfer vehicle and the transfer machine, the transfer of the wafer carrier can be performed. In this method, the placement arm of the carrier and the transfer arm of the transfer machine can always be in the same arrangement state. As a result, the wafer carrier is always transferred to a fixed position without causing positional variation, so that a decrease in the transfer accuracy due to a temporal change in the building is eliminated, In an automatic transfer system at a semiconductor manufacturing plant,
Higher precision wafer carrier transfer can be expected.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施例を説明する平面概略図であ
る。
FIG. 1 is a schematic plan view illustrating an embodiment of the present invention.

【図2】本発明の一実施例を説明する側面概略図であ
る。
FIG. 2 is a schematic side view illustrating an embodiment of the present invention.

【図3】第2のセンサ手段を説明するための斜視図であ
る。
FIG. 3 is a perspective view for explaining a second sensor means.

【図4】実施例における装置の動作フローチャートであ
る。
FIG. 4 is an operation flowchart of the apparatus in the embodiment.

【図5】従来の移載装置を説明する斜視図である。FIG. 5 is a perspective view illustrating a conventional transfer device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

2 天井 4 搬送車 5 載置アーム 6 移載機 7 移載アーム 8 ウエハキャリア 9 反射板 10 距離センサ 11 スリット板 12 光センサ R 搬送路 2 ceiling 4 transfer vehicle 5 mounting arm 6 transfer machine 7 transfer arm 8 wafer carrier 9 reflection plate 10 distance sensor 11 slit plate 12 optical sensor R transfer path

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01L 21/68 B65G 47/52 101 B65G 49/07 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (58) Field surveyed (Int.Cl. 7 , DB name) H01L 21/68 B65G 47/52 101 B65G 49/07

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 建物の天井部分に連結して設けられた搬
送路と、この搬送路上を走行する搬送車と、この搬送車
に取り付けられた載置アームと、前記建物の床部分に設
置された移載機と、この移載機に取り付けられた移載ア
ームとを備え、前記搬送車の載置アームと前記移載機の
移載アームとの間でウエハキャリアの受け渡しが行われ
るウエハキャリアの移載装置において、 前記搬送車と前記移載機との離間距離を検出する第1の
センサ手段を設けて、この第1のセンサ手段からの検出
結果を基に前記移載機に対する前記載置アームの進退位
置を制御可能とするとともに、 前記搬送車の走行位置を検出する第2のセンサ手段を設
けて、この第2のセンサ手段からの検出結果を基に前記
搬送路上における前記搬送車の停止位置を制御可能とし
たことを特徴とするウエハキャリアの移載装置。
1. A transport path connected to a ceiling of a building, a transport vehicle traveling on the transport path, a mounting arm attached to the transport vehicle, and a transport arm mounted on a floor of the building. A transfer device, and a transfer arm attached to the transfer device, wherein a wafer carrier is transferred between a transfer arm of the transfer vehicle and a transfer arm of the transfer device. The transfer device according to the above, further comprising first sensor means for detecting a separation distance between the carrier and the transfer machine, and based on a detection result from the first sensor means, And a second sensor for detecting a traveling position of the carrier, and a second sensor for detecting a traveling position of the carrier, and the carrier on the carrier path based on a detection result from the second sensor. Controllable stop position Apparatus for transferring a wafer carrier, wherein the door.
【請求項2】 前記第1のセンサ手段は、前記搬送車と
前記移載機のうちのいずれか一方に取り付けられた反射
板と、同他方に前記反射板に対応して取り付けられた距
離センサとから構成されたことを特徴とする請求項1記
載のウエハキャリアの移載装置。
2. The apparatus according to claim 1, wherein the first sensor is a reflector mounted on one of the carrier and the transfer device, and a distance sensor mounted on the other corresponding to the reflector. 3. The wafer carrier transfer device according to claim 1, wherein:
【請求項3】 前記第2のセンサ手段は、前記搬送車と
前記移載機のうちのいずれか一方に取り付けられたスリ
ット板と、同他方に前記スリット板に対応して取り付け
られた光センサとから構成されたことを特徴とする請求
項1記載のウエハキャリアの移載装置。
3. The optical sensor according to claim 2, wherein said second sensor means includes a slit plate attached to one of said carrier and said transfer device, and an optical sensor attached to said other corresponding to said slit plate. 3. The wafer carrier transfer device according to claim 1, wherein:
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