JP3120793B2 - Method of manufacturing contact pins for printed circuit board inspection - Google Patents

Method of manufacturing contact pins for printed circuit board inspection

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JP3120793B2
JP3120793B2 JP10262184A JP26218498A JP3120793B2 JP 3120793 B2 JP3120793 B2 JP 3120793B2 JP 10262184 A JP10262184 A JP 10262184A JP 26218498 A JP26218498 A JP 26218498A JP 3120793 B2 JP3120793 B2 JP 3120793B2
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resin layer
circuit board
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    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R3/00Apparatus or processes specially adapted for the manufacture or maintenance of measuring instruments, e.g. of probe tips

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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は高密度プリント基板
の配線パターン等を電気的に検査するための検査装置に
用いられるプリント基板検査用コンタクトピンの製造方
法に関し、特に、微小な検査パッドにも対応することが
でき、高導電性で柔軟性に優れたプリント基板検査用コ
ンタクトピンの製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a contact pin for inspecting a printed circuit board used in an inspection apparatus for electrically inspecting a wiring pattern or the like of a high-density printed circuit board. The present invention relates to a method of manufacturing a contact pin for inspection of a printed circuit board, which is compatible and has high conductivity and excellent flexibility.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、プリント基板にはトランジス
タ、ダイオード、抵抗等の素子が所定の配線パターンで
高密度に組み込まれている。このような高密度プリント
基板の配線パターン等を電気的に検査するための検査装
置には、検査箇所に接触するためのコンタクトピンが用
いられる。
2. Description of the Related Art Generally, elements such as transistors, diodes, and resistors are incorporated in a printed circuit board at a high density in a predetermined wiring pattern. In an inspection device for electrically inspecting such a wiring pattern of a high-density printed circuit board, a contact pin for contacting an inspection location is used.

【0003】この種のプリント基板検査用コンタクトピ
ンは、高さの異なる検査パッドに対して、電気的に安定
して接続できることが求められており、従来から種々の
技術が提案されている。
[0003] This type of contact pin for printed circuit board inspection is required to be electrically stably connected to inspection pads having different heights, and various techniques have been proposed.

【0004】例えば、特開平6ー148237号公報に
は、円筒ハウジングと、その円筒ハウジング内に設けら
れたバネと、円筒ハウジング内に嵌合可能に設けられ、
バネ圧によってフラックス膜を突き破るための可動ピン
とからなり、可動ピンは、検査箇所と接触する接触片
と、表面に溝を有する回転体とを有し、円筒ハウジング
は、接触片が検査箇所に接触する時に、バネ圧によって
溝に沿って接触片を回転案内する突起を有するプリント
配線検査用コンタクトピンが開示されている(以下、従
来例1という)。
For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 6-148237 discloses a cylindrical housing, a spring provided in the cylindrical housing, and a fitting provided in the cylindrical housing.
The movable pin includes a movable pin for breaking through the flux film by a spring pressure. The movable pin has a contact piece that comes into contact with the inspection location and a rotating body having a groove on the surface. There is disclosed a contact pin for printed wiring inspection having a projection for guiding a contact piece to rotate along a groove by a spring pressure when the contact is performed (hereinafter referred to as Conventional Example 1).

【0005】従来例1のコンタクトピンによれば、可動
ピンあるいは円筒ハウジングに溝を設け、可動ピンが検
査箇所に接触する時に、可動ピンが押し下げられ、可動
ピンが押し下げられる時に、可動ピンが溝に沿って回転
し、この回転力で接触片がプリント基板上のフラックス
膜を押し退けながら検査箇所に接触する。そのため、可
動ピンと検査箇所とが確実に接触することになる。
According to the contact pin of the prior art 1, the movable pin or the cylindrical housing is provided with a groove, and when the movable pin comes into contact with the inspection position, the movable pin is pushed down. The contact piece comes into contact with the inspection location while pushing away the flux film on the printed circuit board by this rotational force. Therefore, the movable pin and the inspection location surely come into contact with each other.

【0006】また、図7は、特開昭59ー75162号
公報に開示されたプリント基板の検査方法(以下、従来
例2という)を示す説明図である。
FIG. 7 is an explanatory view showing a printed circuit board inspection method (hereinafter referred to as Conventional Example 2) disclosed in JP-A-59-75162.

【0007】まず、互いに絶縁され碁盤目状に配列され
た多数の導電路50を厚さ方向に有する弾性板51を用
意する(図7(A)参照)。弾性板51はゴム等で作ら
れ、弾性板51の導電路50は、例えば多数の金属粒子
の群によって形成される。
First, an elastic plate 51 having a large number of conductive paths 50 insulated from each other and arranged in a grid pattern is prepared (see FIG. 7A). The elastic plate 51 is made of rubber or the like, and the conductive path 50 of the elastic plate 51 is formed by, for example, a group of many metal particles.

【0008】次いで、弾性板51の一方の面をプリント
基板52の一方の面に重ねるとともに、プリント基板5
2の他方の面にスポンジ等からなる緩衝材層53を介し
て受け板54を重ねる(図7(B)参照)。
Next, one surface of the elastic plate 51 is overlaid on one surface of the printed board 52, and
The receiving plate 54 is overlaid on the other surface of the device 2 via a buffer material layer 53 made of sponge or the like (see FIG. 7B).

【0009】次いで、プリント基板52の検査箇所であ
るスルーホール部52aに位置する弾性板51の部分
に、測定器55に接続されたコンタクトピン56の先端
部を押圧する(図7(C)参照)。
Next, the tip of the contact pin 56 connected to the measuring instrument 55 is pressed against the portion of the elastic plate 51 located in the through hole 52a, which is the inspection location of the printed circuit board 52 (see FIG. 7C). ).

【0010】これによって、コンタクトピン56の先端
部とスルーホール部52aとが、弾性板51の導電路5
0を介して電気的に接続されるので、検査箇所の検査を
行うことができる。
As a result, the tip of the contact pin 56 and the through hole 52a are connected to the conductive path 5 of the elastic plate 51.
Since it is electrically connected via the “0”, it is possible to inspect the inspection location.

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】従来例1では、コンタ
クトピンの円筒ハウジング内にバネを設けなければなら
ないので、コンタクトピンの構造が複雑になり、製造コ
ストがかかる。また、微細なコンタクトピンを製造する
ことは技術的に困難であり、微小な検査パッドに対する
電気的な接続が十分ではなく、高密度なプリント基板の
配線パターンの検査に対応できないという課題がある。
In the first prior art, since a spring must be provided in the cylindrical housing of the contact pin, the structure of the contact pin becomes complicated and the manufacturing cost increases. Further, it is technically difficult to manufacture minute contact pins, and there is a problem that electrical connection to minute test pads is not sufficient, and it is not possible to cope with inspection of a wiring pattern of a high-density printed circuit board.

【0012】従来例2では、多数の金属粒子の群によっ
て形成された導電路50を備えた弾性板51を介して、
コンタクトピン56の先端部と検査箇所とを電気的に接
続しているので、微小なパッドに対する電気的な接続が
可能であり、高密度なプリント基板の配線パターン検査
において一応の効果を奏する。
In the conventional example 2, the elastic plate 51 having the conductive path 50 formed by a group of many metal particles is used.
Since the tip of the contact pin 56 is electrically connected to the inspection location, it is possible to electrically connect to minute pads, which provides a reasonable effect in high-density printed circuit board wiring pattern inspection.

【0013】しかし、コンタクトピンの導電率を向上さ
せるため、金属粒子の形成において、Crなどの金属球
の表面にAuをメッキしなければならないので、微小な
金属粒子を一様に形成することが困難であり、100μ
m□以下の検査パッドの接続を安定して行うことは困難
である。
However, in order to improve the electrical conductivity of the contact pins, Au must be plated on the surface of a metal sphere such as Cr in forming metal particles, so that fine metal particles must be formed uniformly. Difficult, 100μ
It is difficult to stably connect test pads of m □ or less.

【0014】また、弾性板51の表面がコンタクトピン
56の押圧により物理的ダメージを受けて、表面の金属
粒子が欠落すると接続抵抗が増加し、特に、表面全ての
金属粒子が無くなった場合、電気的接続ができなくなる
という課題がある。
Further, when the surface of the elastic plate 51 is physically damaged by the pressing of the contact pins 56 and the metal particles on the surface are lost, the connection resistance increases. There is a problem that the connection cannot be established.

【0015】本発明の目的は、微小な検査箇所に対して
電気的に安定した接続を行うことができるプリント基板
検査用コンタクトピンの製造方法を提供することにあ
る。
An object of the present invention is to provide a method of manufacturing a contact pin for inspecting a printed circuit board, which can electrically stably connect to a minute inspection portion.

【0016】本発明の他の目的は、検査パッドとの接触
によるコンタクトピンの破壊を防ぎ、検査装置の信頼性
を向上させるコンタクトピンの製造方法を提供すること
にある。
Another object of the present invention is to provide a method of manufacturing a contact pin which prevents damage to the contact pin due to contact with a test pad and improves the reliability of the test apparatus.

【0017】本発明のさらに他の目的は、電極パッドと
コンタクトピンとの位置ずれによる製造不良を防ぎ、検
査装置の歩留り、生産性を向上させるコンタクトピンの
製造方法を提供することにある。
Still another object of the present invention is to provide a method of manufacturing contact pins which prevents a manufacturing defect due to a displacement between an electrode pad and a contact pin and improves the yield and productivity of an inspection device.

【0018】[0018]

【課題を解決するための手段】本発明のプリント基板検
査用コンタクトピンの製造方法は、一方の面に電極パッ
ドを備えた基板を用意する工程と、電極パッドから基板
の他方の面まで厚さ方向に貫通するスルーホールを形成
する工程と、基板の一方の面に感光性樹脂層を形成する
工程と、基板の他方の面からスルーホールを介して感光
性樹脂層に光を照射して、基板の電極パッド上に光重合
部を形成する工程と、光重合部を導電性高分子の成形体
に形成するとともに、光重合部以外の感光性樹脂層を除
去する反応溶液に浸す工程と、を有することを特徴とす
るものである。
According to the present invention, there is provided a method of manufacturing a contact pin for inspecting a printed circuit board, comprising the steps of providing a substrate having an electrode pad on one surface, and providing a thickness from the electrode pad to the other surface of the substrate. A step of forming a through hole penetrating in the direction, a step of forming a photosensitive resin layer on one surface of the substrate, and irradiating the photosensitive resin layer with light through the through hole from the other surface of the substrate, A step of forming a photopolymerized portion on the electrode pad of the substrate, and forming the photopolymerized portion on a conductive polymer molded body, and immersing the photopolymerized portion in a reaction solution for removing a photosensitive resin layer other than the photopolymerized portion, It is characterized by having.

【0019】スルーホールは、電極パッドの略中心の位
置で、かつ電極パッドの内側に形成されるのが好まし
い。
The through hole is preferably formed at a position substantially at the center of the electrode pad and inside the electrode pad.

【0020】感光性樹脂層は、例えばアクリル化合物又
はアクリル化合物の重合体を主な成分とする。
The photosensitive resin layer mainly comprises, for example, an acrylic compound or a polymer of an acrylic compound.

【0021】導電性高分子は、例えば、ポリピロール、
ポリアニリン又はポリエチレンジオキシチオフェンであ
る。
The conductive polymer is, for example, polypyrrole,
Polyaniline or polyethylene dioxythiophene.

【0022】感光性樹脂層が厚さ方向に対して完全に光
重合することがないように、照射する光のエネルギーを
調整するのが好ましい。
It is preferable to adjust the energy of the irradiated light so that the photosensitive resin layer is not completely photopolymerized in the thickness direction.

【0023】形成したスルーホールの側面に電極パッド
と電気的に接続される金属体を被覆してもよい。
The side surface of the formed through hole may be covered with a metal body electrically connected to the electrode pad.

【0024】スルーホールの側面は金属体で被覆されて
おり、かつ、その金属体は電極パッドと電気的に接続さ
れていてもよい。
The side surface of the through hole may be covered with a metal body, and the metal body may be electrically connected to the electrode pad.

【0025】感光性樹脂層がスルーホール内に埋め込ま
れてもよい。
The photosensitive resin layer may be embedded in the through hole.

【0026】本発明によれば、光化学反応を用いている
ため、微細なコンタクトピンを形成することができる。
According to the present invention, since a photochemical reaction is used, fine contact pins can be formed.

【0027】また、感光性樹脂層が厚さ方向に対して完
全に光重合することがないように、照射する光のエネル
ギーを調整することにより、コンタクトピンを円錐台の
形状に形成できる。
The contact pin can be formed in a truncated cone shape by adjusting the energy of the irradiation light so that the photosensitive resin layer is not completely photopolymerized in the thickness direction.

【0028】さらに、スルーホールを介して光を照射し
ているため、スルーホールを電極パッドの略中心の位置
に形成することにより、電極パッドとコンタクトピンと
の位置ずれによる製造不良を防ぐことができる。
Further, since the light is radiated through the through-holes, by forming the through-holes at a position substantially at the center of the electrode pad, it is possible to prevent a manufacturing defect due to a positional shift between the electrode pad and the contact pin. .

【0029】[0029]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を、図
面を参照しながら説明する。図1は、本発明の製造方法
により製造されたプリント基板検査用コンタクトピンを
備えたプリント基板検査装置を示す斜視図である。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a perspective view showing a printed circuit board inspection apparatus provided with a printed circuit board inspection contact pin manufactured by the manufacturing method of the present invention.

【0030】図1に示すように、プリント基板検査装置
は、ガラスエポキシ基板11と、そのガラスエポキシ基
板11上に設けられた配線13と、その配線13に電気
的に接続される電極パッド12と、その電極パッド12
上に設けられたコンタクトピン14とを有する。
As shown in FIG. 1, the printed board inspection apparatus includes a glass epoxy board 11, a wiring 13 provided on the glass epoxy board 11, and an electrode pad 12 electrically connected to the wiring 13. , Its electrode pads 12
And a contact pin 14 provided thereon.

【0031】電極パッド12はCu等の金属で作られ
る。コンタクトピン14は、例えばポリピロール、ポリ
アニリン又はポリエチレンジオキシチオフェン等の導電
性高分子の成形体からなり、略円錐台状に形成される。
そして、被検査プリント基板の検査パッド等にコンタク
トピン14を電気的に接続するように押し付けることに
より、配線パターンの検査を行う。
The electrode pad 12 is made of a metal such as Cu. The contact pin 14 is made of, for example, a molded body of a conductive polymer such as polypyrrole, polyaniline, or polyethylenedioxythiophene, and is formed in a substantially truncated cone shape.
Then, the wiring pattern is inspected by pressing the contact pins 14 so as to be electrically connected to the inspection pads or the like of the printed circuit board to be inspected.

【0032】図2及び図3は、本発明の第1の実施の形
態に係るプリント基板検査用コンタクトピンの製造方法
を工程順に示す断面図である。
2 and 3 are sectional views showing a method of manufacturing a contact pin for printed circuit board inspection according to the first embodiment of the present invention in the order of steps.

【0033】まず、ガラスエポキシ基板11の表面に形
成された電極パッド12に、電極パッド12から基板1
1の裏面まで厚さ方向に貫通するスルーホール21を形
成する。スルーホール21は、電極パッド12の略中心
の位置で、かつ電極パッド12の内側に形成される(図
2(A)参照)。
First, the electrode pad 12 formed on the surface of the glass epoxy substrate 11
A through hole 21 penetrating in the thickness direction up to the back surface of the substrate 1 is formed. The through hole 21 is formed substantially at the center of the electrode pad 12 and inside the electrode pad 12 (see FIG. 2A).

【0034】次いで、ガラスエポキシ基板11の電極パ
ッド12が備えられている表面上に感光性樹脂層31を
塗布する(図2(B)参照)。感光性樹脂層31は、例
えばアクリル化合物又はアクリル化合物の重合体を主な
成分とする。
Next, a photosensitive resin layer 31 is applied on the surface of the glass epoxy substrate 11 on which the electrode pads 12 are provided (see FIG. 2B). The photosensitive resin layer 31 mainly includes, for example, an acrylic compound or a polymer of an acrylic compound.

【0035】次いで、ガラスエポキシ基板11の電極パ
ッド12が備えられていない裏面に紫外光32を照射す
る(図3(A)参照)。その結果、スルーホール21を
通過した紫外光32によって照射された電極パッド12
上の感光性樹脂層31は、光化学反応によって光重合部
を形成する。
Next, the back surface of the glass epoxy substrate 11 on which the electrode pads 12 are not provided is irradiated with ultraviolet light 32 (see FIG. 3A). As a result, the electrode pad 12 irradiated with the ultraviolet light 32 passing through the through hole 21
The upper photosensitive resin layer 31 forms a photopolymerized portion by a photochemical reaction.

【0036】その後、導電性高分子成形体34を形成し
うる反応溶液33に浸す(図3(B)参照)。これによ
って、光重合部に導電性高分子成形体34が形成され、
かつ光重合部以外の感光性樹脂層31は除去される。
Thereafter, it is immersed in a reaction solution 33 capable of forming a conductive polymer molded body 34 (see FIG. 3B). Thereby, the conductive polymer molded body 34 is formed in the photopolymerized portion,
In addition, the photosensitive resin layer 31 other than the photopolymerized portion is removed.

【0037】以上の工程を経て、図3(C)に示すよう
に、電極パッド12上のみに導電性高分子成形体からな
るコンタクトピン14が形成される。
Through the above steps, as shown in FIG. 3C, the contact pins 14 made of the conductive polymer molded body are formed only on the electrode pads 12.

【0038】また、コンタクトピン14は円錐台の形状
になる。この理由を図4を用いて説明する。照射する紫
外光32のエネルギーは、感光性樹脂層31が厚さ方向
に対して完全に光重合することがないように調整され
る。そのため、図4(A)に示すように、スルーホール
21近傍の感光性樹脂層31は十分に光重合可能である
が、厚み方向に従って、紫外光32の照射強度が減少し
ていく。また、紫外光32は、感光性樹脂層31の中央
部分では樹脂層31の表面まで到達するが、その他の部
分では反射して散乱光となる。そのため、反射された散
乱光により、スルーホール21の外側部分にも光重合部
が形成され、電極パッド12近傍の光重合領域はスルー
ホール21の直径より大きな径となる。その結果、図4
(B)に示すように、コンタクトピン14の形状は電極
パッド12を底面とする円錐台の形状となる。
The contact pin 14 has a truncated cone shape. The reason will be described with reference to FIG. The energy of the ultraviolet light 32 to be applied is adjusted so that the photosensitive resin layer 31 is not completely photopolymerized in the thickness direction. Therefore, as shown in FIG. 4A, the photosensitive resin layer 31 in the vicinity of the through hole 21 can be sufficiently photopolymerized, but the irradiation intensity of the ultraviolet light 32 decreases along the thickness direction. The ultraviolet light 32 reaches the surface of the resin layer 31 at the central portion of the photosensitive resin layer 31, but is reflected and scattered at other portions. Therefore, due to the reflected scattered light, a light-cured portion is also formed outside the through-hole 21, and the light-cured region near the electrode pad 12 has a diameter larger than the diameter of the through-hole 21. As a result, FIG.
As shown in (B), the shape of the contact pin 14 is a truncated cone with the electrode pad 12 as the bottom surface.

【0039】本発明によれば、光化学反応を用いている
ため、微細なコンタクトピン14を形成できる。そのた
め、微小な検査パッドを有する高密度プリント基板の検
査が可能となる。
According to the present invention, since the photochemical reaction is used, fine contact pins 14 can be formed. Therefore, it is possible to inspect a high-density printed circuit board having minute inspection pads.

【0040】また、コンタクトピン14の形状が円錐台
になるため、検査パッドと接触させる際の加圧によるコ
ンタクトピン14の破壊を防ぐことができる。その結
果、検査装置の信頼性を向上させることができる。
Further, since the contact pin 14 has a truncated cone shape, it is possible to prevent the contact pin 14 from being broken by pressure when the contact pin 14 is brought into contact with the inspection pad. As a result, the reliability of the inspection device can be improved.

【0041】さらに、電極パッド12の略中心に位置す
るスルーホール21を通して紫外光32を感光性樹脂層
31に照射しているため、電極パッド12とコンタクト
ピン14との位置ずれによる製造不良を防ぐことができ
る。その結果、検査装置の歩留り、生産性を向上させる
ことができる。
Further, since the photosensitive resin layer 31 is irradiated with the ultraviolet light 32 through the through hole 21 located substantially at the center of the electrode pad 12, a manufacturing defect due to a displacement between the electrode pad 12 and the contact pin 14 is prevented. be able to. As a result, the yield and productivity of the inspection device can be improved.

【0042】次に、本発明の第2の実施の形態について
図面を参照して説明する。図5及び図6は、本発明の第
2の実施の形態に係るプリント基板検査用コンタクトピ
ンの製造方法を工程順に示す断面図である。
Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. 5 and 6 are sectional views showing a method of manufacturing a contact pin for printed circuit board inspection according to the second embodiment of the present invention in the order of steps.

【0043】まず、ガラスエポキシ基板11上の電極パ
ッド12の略中心の位置に、電極パッド12から基板1
1の裏面まで貫通するスルーホール21を形成する。ス
ルーホール21は電極パッド12の内側に形成される。
また、スルーホール21の側面には金属体41が被覆さ
れているので、接触抵抗が小さくなる。なお、電極パッ
ド12と金属体41とは電気的に接続されている(図5
(A)参照)。
First, the substrate 1 is placed on the glass epoxy substrate 11 at a position substantially at the center of the electrode pad 12.
A through hole 21 is formed to penetrate to the back surface of No. 1. The through hole 21 is formed inside the electrode pad 12.
Further, since the metal body 41 covers the side surface of the through hole 21, the contact resistance is reduced. The electrode pad 12 and the metal body 41 are electrically connected (see FIG. 5).
(A)).

【0044】次いで、ガラスエポキシ基板11の電極パ
ッド12が備えられている表面上に感光性樹脂層31を
塗布し、かつ、スルーホール21内にも感光性樹脂層3
1を埋め込む(図5(B)参照)。
Next, a photosensitive resin layer 31 is applied on the surface of the glass epoxy substrate 11 on which the electrode pads 12 are provided, and the photosensitive resin layer 3 is also provided in the through holes 21.
1 is embedded (see FIG. 5B).

【0045】次いで、ガラスエポキシ基板11の電極パ
ッド12が備えられていない裏面に紫外光32を照射す
る(図6(A)参照)。その結果、スルーホール21内
に埋め込まれた感光性樹脂層31及び電極パッド21上
の感光性樹脂層31は紫外光32の照射による光化学反
応によって光重合部を形成する。
Next, the back surface of the glass epoxy substrate 11 on which the electrode pads 12 are not provided is irradiated with ultraviolet light 32 (see FIG. 6A). As a result, the photosensitive resin layer 31 embedded in the through hole 21 and the photosensitive resin layer 31 on the electrode pad 21 form a photopolymerized portion by a photochemical reaction caused by irradiation of the ultraviolet light 32.

【0046】その後、導電性高分子成形体34を形成し
うる反応溶液33に浸す(図6(B)参照)。これによ
って、光重合部に導電性高分子成形体34を形成し、か
つ光重合部以外の感光性樹脂層31を除去し、スルーホ
ール21内および電極パッド12上のみに導電性高分子
成形体34が形成される。
Thereafter, it is immersed in a reaction solution 33 capable of forming a conductive polymer molded body 34 (see FIG. 6B). As a result, the conductive polymer molded body 34 is formed in the photopolymerized portion, the photosensitive resin layer 31 other than the photopolymerized portion is removed, and the conductive polymer molded body is formed only in the through hole 21 and on the electrode pad 12. 34 are formed.

【0047】以上の工程を経て、図6(C)に示す形状
のコンタクトピン14が得られる。コンタクトピン14
の一部はスルーホール21内に埋め込まれた形状となっ
ている。
Through the above steps, a contact pin 14 having the shape shown in FIG. 6C is obtained. Contact pin 14
Have a shape embedded in the through hole 21.

【0048】第2の実施の形態によれば、一部がスルー
ホール21内に埋め込まれているコンタクトピン14が
得られるので、加圧によるコンタクトピン14の破壊を
より防ぐことができる。本発明は、上記実施の形態に限
定されることはなく、特許請求の範囲に記載された技術
的事項の範囲内において、種々の変更が可能である。
According to the second embodiment, since the contact pins 14 partially buried in the through holes 21 are obtained, it is possible to further prevent the contact pins 14 from being broken by pressure. The present invention is not limited to the above embodiments, and various changes can be made within the scope of the technical matters described in the claims.

【0049】[0049]

【実施例】以下、本発明の実施例を説明する。図1は、
本発明の製造方法で製造されたプリント基板の配線パタ
ーン検査用コンタクトピンを備えたプリント基板検査装
置を示す。
Embodiments of the present invention will be described below. FIG.
1 shows a printed board inspection apparatus provided with a contact pin for inspecting a wiring pattern of a printed board manufactured by the manufacturing method of the present invention.

【0050】図1に示すように、プリント基板検査装置
は、ガラスエポキシ基板11と、ガラスエポキシ基板1
1上に設けられ、被検査プリント基板の検査パッドのサ
イズおよび位置に配置されたCuからなる電極パッド1
2と、電極パッド12に電気的に接続された配線13
と、電極パッド12上に設けられたコンタクトピン14
とを有する。そして、被検査プリント基板の検査パッド
にコンタクトピン14を電気的に接続されるように押し
付けて、配線パターンの検査を行う。次に、本発明の第
1の実施の形態の一実施例について、図面を参照して詳
細に説明する。
As shown in FIG. 1, a printed board inspection apparatus comprises a glass epoxy board 11 and a glass epoxy board 1.
1, an electrode pad 1 made of Cu and arranged at the size and position of an inspection pad on a printed circuit board to be inspected.
2 and wiring 13 electrically connected to electrode pad 12
And a contact pin 14 provided on the electrode pad 12
And Then, the contact pins 14 are pressed against the inspection pads of the printed circuit board to be electrically connected, and the wiring pattern is inspected. Next, an example of the first embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

【0051】まず、ガラスエポキシ基板11上の電極パ
ッド12の略中心の位置に、電極パッド12から基板1
1の裏面まで厚さ方向に貫通するスルーホール21を形
成する。スルーホール21は、電極パッド12のサイズ
よりも小さく、例えば電極パッド12のサイズが60μ
m□の場合は、直径40μm程度の円形に形成される。
First, the substrate 1 is moved from the electrode pad 12 to a position substantially at the center of the electrode pad 12 on the glass epoxy substrate 11.
A through hole 21 penetrating in the thickness direction up to the back surface of the substrate 1 is formed. The through hole 21 is smaller than the size of the electrode pad 12, for example, when the size of the electrode pad 12 is 60 μm.
In the case of m □, it is formed in a circular shape having a diameter of about 40 μm.

【0052】スルーホール21はプリント基板11の製
造で一般的に用いられているレーザ加工などによって形
成される。電極パッド12の表面は、好ましくはAuで
メッキされているのが好ましい。なお、スルーホール2
1の形状は円形に限定されず、多角形でもよい。
The through holes 21 are formed by laser processing or the like generally used in the manufacture of the printed circuit board 11. The surface of the electrode pad 12 is preferably plated with Au. In addition, through hole 2
The shape of 1 is not limited to a circle, but may be a polygon.

【0053】次いで、ガラスエポキシ基板11の電極パ
ッド12を備えた表面上に、ドデシルベンゼンスルホン
酸第二鉄を溶解したエタノール溶液(濃度20〜30重
量%)を50重量%含むウレタンアクリレート系感光性
樹脂層31(日本化薬株式会社製KAYARAD UX
−3204、ヘキサメチレンジイソシアネート、東亜合
成株式会社製アロニックスM−5700)を60℃に加
熱して滴下し、バーコーターを用いて100μm程度の
樹脂層を形成して室温で24時間減圧乾燥する(図2
(B)参照)。
Next, a urethane acrylate photosensitive solution containing 50% by weight of an ethanol solution (concentration: 20 to 30% by weight) in which ferric dodecylbenzenesulfonate is dissolved is provided on the surface of the glass epoxy substrate 11 provided with the electrode pads 12. Resin layer 31 (KAYARAD UX manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)
-3204, hexamethylene diisocyanate, Alonix M-5700 manufactured by Toa Gosei Co., Ltd.) were heated and dropped at 60 ° C., a resin layer of about 100 μm was formed using a bar coater, and dried under reduced pressure at room temperature for 24 hours (FIG. 2
(B)).

【0054】次いで、ガラスエポキシ基板11の電極パ
ッド12を備えていない裏面に対して、紫外光32を2
0mW/cm2の照射強度で60分間照射して耐食性画
像を形成する(図3(A)参照)。ここで、耐食性画像
とは、光が照射された部分(光重合部)と光が照射され
ていない部分とを合わせもった状態にある部分をいう。
Next, the ultraviolet light 32 is applied to the back surface of the glass epoxy substrate 11 on which the electrode pads 12 are not provided.
Irradiation is performed at an irradiation intensity of 0 mW / cm 2 for 60 minutes to form a corrosion-resistant image (see FIG. 3A). Here, the corrosion-resistant image refers to a portion in which a portion irradiated with light (photopolymerized portion) and a portion not irradiated with light are combined.

【0055】紫外光32はスルーホール21を通過し
て、電極パッド12上の感光性樹脂層31にのみ照射さ
れる。その際、紫外光32はドデシルベンゼンスルホン
酸第二鉄に一部反射される。紫外光32の吸収係数を測
定したところ、光波長360nmで2.4E3であっ
た。樹脂層31が十分に光重合可能な厚みは50μm程
度で、残りの50μmは厚み方向に対して紫外光32の
照射強度が減少していく。また、反射された散乱光によ
り電極パッド12近くの光重合領域ではスルーホール2
1の直径より大きな径となる(図4(A)(B)参
照)。その結果、耐食性画像の形状は電極パッド12を
底面とする円錐台となる。
The ultraviolet light 32 passes through the through hole 21 and irradiates only the photosensitive resin layer 31 on the electrode pad 12. At that time, the ultraviolet light 32 is partially reflected by ferric dodecylbenzenesulfonate. When the absorption coefficient of the ultraviolet light 32 was measured, it was 2.4E3 at a light wavelength of 360 nm. The thickness at which the resin layer 31 can be sufficiently photopolymerized is about 50 μm, and the irradiation intensity of the ultraviolet light 32 in the remaining 50 μm decreases in the thickness direction. In addition, through-holes 2 are formed in the photopolymerized region near the electrode pad 12 due to the reflected scattered light.
1 (see FIGS. 4A and 4B). As a result, the shape of the corrosion-resistant image is a truncated cone with the electrode pad 12 as the bottom surface.

【0056】その後、基板11を5重量%のピロールを
含むブチルアルコールあるいはイソプロピルアルコール
である反応溶液33に浸漬し、室温で15〜30分間保
持して耐食性画像の現像とポリピロールの重合を同時に
行い、導電性ポリピロールが形成されたウレタンアクリ
レート系導電性高分子成形体34を得た(図3(B)参
照)。この成形体34は底面の直径60μm、上面の直
径30μm、高さ100μmの円錐台であり、プリント
配線基板検査用コンタクトピンに適した形状であった。
以上の工程を経て、図3(C)に示すように、コンタク
トピン14の形状は底面が直径60μm、上面部分が直
径30μmの円形である円錐台となった。得られたコン
タクトピン14はその高さの20%までの弾性変形が可
能であるため、異なる高さの配線パッドにも密着させる
ことができる。また、電気抵抗は5Ωであるため、プリ
ント配線基板11のオープン・ショート検査のみならず
動作試験も可能なものであった。
Thereafter, the substrate 11 is immersed in a reaction solution 33 which is butyl alcohol or isopropyl alcohol containing 5% by weight of pyrrole, and is kept at room temperature for 15 to 30 minutes to simultaneously develop a corrosion-resistant image and polymerize polypyrrole. A urethane acrylate-based conductive polymer molded body 34 on which conductive polypyrrole was formed was obtained (see FIG. 3B). The molded body 34 was a truncated cone having a bottom surface diameter of 60 μm, an upper surface diameter of 30 μm, and a height of 100 μm, and had a shape suitable for a contact pin for inspecting a printed wiring board.
Through the above steps, as shown in FIG. 3C, the shape of the contact pin 14 was a circular truncated cone having a bottom surface of 60 μm in diameter and a top surface of 30 μm in diameter. Since the obtained contact pin 14 can be elastically deformed up to 20% of its height, it can be brought into close contact with wiring pads of different heights. Further, since the electric resistance is 5Ω, not only the open / short inspection of the printed wiring board 11 but also the operation test can be performed.

【0057】これにより、円柱形に比べ検査パッドと接
触させる際の加圧に対するコンタクトピン14の強度が
向上し、30μm□サイズの微小な被検査パッドに対し
てコンタクトピン14を接触させることが可能となる。
As a result, the strength of the contact pin 14 against the pressure applied when the contact pin 14 is brought into contact with the test pad is improved as compared with the cylindrical shape, and the contact pin 14 can be brought into contact with a small test pad having a size of 30 μm square. Becomes

【0058】また、電極パッド12の中心に位置するス
ルーホール21を通して紫外光32を樹脂層31に照射
しているため、従来の光化学反応によるパターニングで
用いられるフォトマスクを不要とし、電極パッド12と
コンタクトピン14の位置ずれによる製造不良を防ぐと
いう効果が得られる。次に、本発明の第2の実施の形態
の一実施例について、図面を参照して詳細に説明する。
まず、図5(A)に示すように、ガラスエポキシ基板1
1の表面上に形成された電極パッド12の略中心の位置
に、電極パッド12から基板11の裏面まで厚さ方向に
貫通するスルーホール21を形成する。スルーホール2
1は、電極パッド12のサイズよりも小さく、例えば電
極パッド12のサイズが60μm□の場合は、直径40
μm程度の円形に形成される。
Since the resin layer 31 is irradiated with the ultraviolet light 32 through the through hole 21 located at the center of the electrode pad 12, a photomask used for patterning by the conventional photochemical reaction is not required, and the electrode pad 12 and the The effect of preventing a manufacturing defect due to a displacement of the contact pin 14 is obtained. Next, an example of the second embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
First, as shown in FIG.
At a position substantially at the center of the electrode pad 12 formed on the surface of the substrate 1, a through hole 21 is formed that penetrates from the electrode pad 12 to the back surface of the substrate 11 in the thickness direction. Through hole 2
1 is smaller than the size of the electrode pad 12. For example, when the size of the electrode pad 12 is 60 μm
It is formed in a circular shape of about μm.

【0059】また、スルーホール21の側面にはCuあ
るいはAuなどの金属体41が厚さ3〜5μm程度で被
覆されている。電極パッド12と金属体41は電気的に
接続されている。なお、スルーホール21の形状は円形
に限定されず、多角形でもよい。
The side surface of the through hole 21 is covered with a metal body 41 such as Cu or Au with a thickness of about 3 to 5 μm. The electrode pad 12 and the metal body 41 are electrically connected. The shape of the through hole 21 is not limited to a circle, but may be a polygon.

【0060】次いで、ガラスエポキシ基板11の電極パ
ッド12を備えた表面上に、ドデシルベンゼンスルホン
酸第二鉄を溶解したエタノール溶液(濃度20〜30重
量%)を50重量%含むウレタンアクリレート系感光性
樹脂層31(日本化薬株式会社製KAYARAD UX
−3204、ヘキサメチレンジイソシアネート、東亜合
成株式会社製アロニックスM−5700)を60℃に加
熱して滴下し、バーコーターを用いて100μm程度の
樹脂層31を形成する。このとき、スルーホール21内
にも樹脂層31を埋め込むため、真空内で形成するのが
好ましい。
Next, a urethane acrylate photosensitive solution containing 50% by weight of an ethanol solution (concentration: 20 to 30% by weight) in which ferric dodecylbenzenesulfonate is dissolved is formed on the surface of the glass epoxy substrate 11 provided with the electrode pads 12. Resin layer 31 (KAYARAD UX manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)
-3204, hexamethylene diisocyanate, Aronix M-5700 manufactured by Toagosei Co., Ltd.) are heated and dropped at 60 ° C., and a resin layer 31 of about 100 μm is formed using a bar coater. At this time, since the resin layer 31 is embedded in the through hole 21, it is preferable to form the through hole 21 in a vacuum.

【0061】その後、室温で24時間減圧乾燥した。以
降は第1の実施の形態の実施例と同様に、ガラスエポキ
シ基板11の電極パッド12を備えていない裏面に対し
て、紫外光32を60mW/cm2の照射強度で60分
間照射して耐食性画像を形成した。スルーホール21内
の樹脂層31およびそのスルーホール21を通過して電
極パッド12上の樹脂層31にも光32を照射させるた
め、紫外光32の強度は第1の実施の形態の実施例に比
べ高くした。この際、紫外光32はドデシルベンゼンス
ルホン酸第二鉄に一部反射される。紫外光32の吸収係
数を測定したところ、光波長360nmで2.4E3で
あった。スルーホール21内の樹脂層31は完全に光重
合されるが、電極パッド12上の樹脂層31が十分に光
重合可能な厚みは50μm程度で、残りの50μmは厚
み方向に対して紫外光32の照射強度が減少していく。
また、反射された散乱光により電極パッド12近くの光
重合領域ではスルーホール21の直径より大きな径とな
る。その結果、耐食性画像の形状は電極パッド12を底
面とする円錐台となった。
Thereafter, drying was performed under reduced pressure at room temperature for 24 hours. Thereafter, as in the example of the first embodiment, the back surface of the glass epoxy substrate 11 on which the electrode pads 12 are not provided is irradiated with ultraviolet light 32 at an irradiation intensity of 60 mW / cm 2 for 60 minutes to obtain a corrosion-resistant image. Was formed. Since the resin layer 31 in the through-hole 21 and the resin layer 31 on the electrode pad 12 passing through the through-hole 21 are also irradiated with the light 32, the intensity of the ultraviolet light 32 is less than that of the example of the first embodiment. I made it higher. At this time, the ultraviolet light 32 is partially reflected by ferric dodecylbenzenesulfonate. When the absorption coefficient of the ultraviolet light 32 was measured, it was 2.4E3 at a light wavelength of 360 nm. Although the resin layer 31 in the through hole 21 is completely photopolymerized, the resin layer 31 on the electrode pad 12 is sufficiently photopolymerized to have a thickness of about 50 μm, and the remaining 50 μm corresponds to the ultraviolet light 32 in the thickness direction. Irradiation intensity decreases.
The diameter of the through-hole 21 is larger than the diameter of the through hole 21 in the photopolymerization region near the electrode pad 12 due to the reflected scattered light. As a result, the shape of the corrosion resistance image was a truncated cone with the electrode pad 12 as the bottom surface.

【0062】その後、基板11を5重量%のピロールを
含むブチルアルコールあるいはイソプロピルアルコール
である反応溶液に浸漬し、室温で15〜30分間保持し
て耐食性画像の現像とポリピロールの重合を同時に行
い、導電性ポリピロールが形成されたウレタンアクリレ
ート系導電性高分子成形体を得た。この成形体は底面の
直径60μm、上面の直径30μm、高さ100μmの
円錐台であり、プリント配線基板検査用コンタクトピン
14に適した形状であった。以上の工程を経て、図6
(C)に示す形状のコンタクトピン14が得られる。コ
ンタクトピン14の形状は底面が直径60μm、上面部
分が直径30μmの円形である円錐台で、底面部の一部
がスルーホール21内に埋め込まれている。得られたコ
ンタクトピン14はその高さの20%までの弾性変形が
可能であるため、異なる高さの配線パッドにも密着させ
ることができる。また、電気抵抗は5Ωであるため、プ
リント配線基板11のオープン・ショート検査のみなら
ず動作試験も可能なものであった。第1の実施の形態の
実施例に対し、コンタクトピン14の一部がスルーホー
ル21内に埋め込まれているため、加圧によるコンタク
トピン14の破壊をより防ぐことができる。本発明は、
上記実施例に限定されることはなく、特許請求の範囲に
記載された技術的事項の範囲内において、種々の変更が
可能である。
Thereafter, the substrate 11 is immersed in a reaction solution of butyl alcohol or isopropyl alcohol containing 5% by weight of pyrrole, and kept at room temperature for 15 to 30 minutes to simultaneously develop the corrosion-resistant image and polymerize the polypyrrole, A urethane acrylate-based conductive polymer molded article on which a conductive polypyrrole was formed was obtained. This molded body was a truncated cone having a diameter of 60 μm on the bottom surface, a diameter of 30 μm on the top surface, and a height of 100 μm, and had a shape suitable for the contact pins 14 for inspecting a printed wiring board. Through the above steps, FIG.
The contact pin 14 having the shape shown in FIG. The shape of the contact pin 14 is a circular truncated cone having a bottom surface having a diameter of 60 μm and an upper surface portion having a diameter of 30 μm, and a part of the bottom surface portion is embedded in the through hole 21. Since the obtained contact pin 14 can be elastically deformed up to 20% of its height, it can be brought into close contact with wiring pads of different heights. Further, since the electric resistance is 5Ω, not only the open / short inspection of the printed wiring board 11 but also the operation test can be performed. As compared with the example of the first embodiment, a part of the contact pin 14 is buried in the through hole 21, so that the contact pin 14 can be more prevented from being broken by pressure. The present invention
The present invention is not limited to the above embodiments, and various modifications can be made within the scope of the technical matters described in the claims.

【0063】[0063]

【発明の効果】本発明によれば、光化学反応を用いてい
るため、微細なコンタクトピンを形成することができ
る。そのため、微小な検査パッドを有する高密度プリン
ト基板の検査が可能となる。また、感光性樹脂層が厚さ
方向に対して完全に光重合することがないように、照射
する光のエネルギーを調整することにより、コンタクト
ピンを円錐台の形状に形成できるため、検査パッドと接
触する際の加圧によるコンタクトピンの破壊を防ぐこと
ができる。その結果、検査装置の信頼性を向上させるこ
とができる。
According to the present invention, since a photochemical reaction is used, fine contact pins can be formed. Therefore, it is possible to inspect a high-density printed circuit board having minute inspection pads. In addition, by adjusting the energy of the irradiated light so that the photosensitive resin layer is not completely photopolymerized in the thickness direction, the contact pin can be formed in a truncated cone shape. It is possible to prevent the contact pin from being broken due to the pressurization at the time of contact. As a result, the reliability of the inspection device can be improved.

【0064】さらに、スルーホールを介して光を照射し
ているため、スルーホールを電極パッドの略中心の位置
に形成することにより、電極パッドとコンタクトピンと
の位置ずれによる製造不良を防ぐことができる。その結
果、検査装置の歩留り、生産性を向上させることができ
る。
Further, since the light is radiated through the through-hole, by forming the through-hole substantially at the center of the electrode pad, it is possible to prevent a manufacturing defect due to a positional shift between the electrode pad and the contact pin. . As a result, the yield and productivity of the inspection device can be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の製造方法により製造されたプリント基
板検査用コンタクトピンを備えたプリント基板検査装置
を示す斜視図である。
FIG. 1 is a perspective view showing a printed circuit board inspection apparatus provided with a printed circuit board inspection contact pin manufactured by the manufacturing method of the present invention.

【図2】本発明の第1の実施の形態に係るプリント基板
検査用コンタクトピンの製造方法を工程順に示す断面図
である。
FIG. 2 is a cross-sectional view illustrating a method for manufacturing a contact pin for printed circuit board inspection according to the first embodiment of the present invention in the order of steps.

【図3】本発明の第1の実施の形態に係るプリント基板
検査用コンタクトピンの製造方法を工程順に示す断面図
である。
FIG. 3 is a cross-sectional view illustrating a method of manufacturing a printed circuit board inspection contact pin according to the first embodiment of the present invention in the order of steps.

【図4】コンタクトピンが円錐台の形状になる理由を説
明するための説明図である。
FIG. 4 is an explanatory diagram for explaining the reason why the contact pin has a truncated cone shape.

【図5】本発明の第2の実施の形態に係るプリント基板
検査用コンタクトピンの製造方法を工程順に示す断面図
である。
FIG. 5 is a sectional view illustrating a method of manufacturing a contact pin for printed circuit board inspection according to a second embodiment of the present invention in the order of steps.

【図6】本発明の第2の実施の形態に係るプリント基板
検査用コンタクトピンの製造方法を工程順に示す断面図
である。
FIG. 6 is a sectional view illustrating a method of manufacturing a contact pin for printed circuit board inspection according to a second embodiment of the present invention in the order of steps.

【図7】(A)は従来のプリント基板の検査方法に用い
られる弾性板の平面図、(B)及び(C)は従来のプリ
ント基板の検査方法を示す断面図である。
7A is a plan view of an elastic plate used in a conventional printed circuit board inspection method, and FIGS. 7B and 7C are cross-sectional views illustrating a conventional printed circuit board inspection method.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11:ガラスエポキシ基板 12:電極パッド 13:配線 14:コンタクトピン 21:スルーホール 31:感光性樹脂層 32:紫外光 33:反応溶液 34:導電性高分子成形体 41:金属体 11: Glass epoxy substrate 12: Electrode pad 13: Wiring 14: Contact pin 21: Through hole 31: Photosensitive resin layer 32: Ultraviolet light 33: Reaction solution 34: Conductive polymer molded body 41: Metal body

フロントページの続き (72)発明者 板垣 洋輔 東京都港区芝五丁目7番1号 日本電気 株式会社内 (56)参考文献 特開 平11−326380(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G01R 1/06 - 1/073 G01R 31/26 H01L 21/66 Continuation of the front page (72) Inventor Yosuke Itagaki 5-7-1 Shiba, Minato-ku, Tokyo NEC Corporation (56) References JP-A-11-326380 (JP, A) (58) Fields surveyed ( Int.Cl. 7 , DB name) G01R 1/06-1/073 G01R 31/26 H01L 21/66

Claims (7)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】一方の面に電極パッドを備えた基板を用意
する工程と、 前記電極パッドから基板の他方の面まで厚さ方向に貫通
するスルーホールを形成する工程と、 前記基板の一方の面に感光性樹脂層を形成する工程と、 前記基板の他方の面から前記スルーホールを介して前記
感光性樹脂層に光を照射して、前記基板の電極パッド上
に光重合部を形成する工程と、 前記光重合部を導電性高分子の成形体に形成するととも
に、前記光重合部以外の前記感光性樹脂層を除去する反
応溶液に浸す工程と、 を有することを特徴とするプリント基板検査用コンタク
トピンの製造方法。
A step of preparing a substrate having an electrode pad on one surface; a step of forming a through hole extending in a thickness direction from the electrode pad to the other surface of the substrate; Forming a photosensitive resin layer on a surface; and irradiating the photosensitive resin layer with light from the other surface of the substrate via the through hole to form a photopolymerized portion on the electrode pad of the substrate. A printed circuit board comprising: a step of forming the photopolymerized portion on a conductive polymer molded body, and immersing the photopolymerized portion in a reaction solution for removing the photosensitive resin layer other than the photopolymerized portion. Manufacturing method of contact pins for inspection.
【請求項2】前記スルーホールは、前記電極パッドの略
中心の位置で、かつ電極パッドの内側に形成されること
を特徴とする請求項1に記載のプリント基板検査用コン
タクトピンの製造方法。
2. The method according to claim 1, wherein the through hole is formed at a position substantially at the center of the electrode pad and inside the electrode pad.
【請求項3】前記感光性樹脂層は、アクリル化合物又は
アクリル化合物の重合体を主な成分とすることを特徴と
する請求項1又は2に記載のプリント基板検査用コンタ
クトピンの製造方法。
3. The method according to claim 1, wherein the photosensitive resin layer mainly comprises an acrylic compound or a polymer of an acrylic compound.
【請求項4】前記導電性高分子が、ポリピロール、ポリ
アニリン又はポリエチレンジオキシチオフェンからなる
群から選択される物質であることを特徴とする請求項1
乃至3のいずれか1つの項に記載のプリント基板検査用
コンタクトピンの製造方法。
4. The method according to claim 1, wherein the conductive polymer is a substance selected from the group consisting of polypyrrole, polyaniline, and polyethylenedioxythiophene.
4. The method for manufacturing a contact pin for printed circuit board inspection according to any one of Items 3 to 3.
【請求項5】前記感光性樹脂層が厚さ方向に対して完全
に光重合することがないように、前記照射する光のエネ
ルギーを調整することを特徴とする請求項1乃至4のい
ずれか1つの項に記載のプリント基板検査用コンタクト
ピンの製造方法。
5. The energy of the irradiating light is adjusted so that the photosensitive resin layer is not completely photopolymerized in the thickness direction. A method for manufacturing a contact pin for printed circuit board inspection according to one item.
【請求項6】形成した前記スルーホールの側面に前記電
極パッドと電気的に接続される金属体を被覆することを
特徴とする請求項1乃至5のいずれか1つの項に記載の
プリント基板検査用コンタクトピンの製造方法。
6. The printed circuit board inspection according to claim 1, wherein a side surface of the formed through hole is covered with a metal body electrically connected to the electrode pad. Of manufacturing contact pins for semiconductors.
【請求項7】前記感光性樹脂層が前記スルーホール内に
埋め込まれることを特徴とする請求項1乃至6のいずれ
か1つの項に記載の記載のプリント基板検査用コンタク
トピンの製造方法。
7. The method according to claim 1, wherein the photosensitive resin layer is embedded in the through hole.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107356857A (en) * 2017-05-23 2017-11-17 惠州市金百泽电路科技有限公司 Minimum widith is the quick determination method of 1mil PCB mini-pads functional defects

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