JP3117074U - 足サポータ - Google Patents
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Abstract
【課題】足指間を離間する機能に加え、マイナスイオンを発生させ、しかも、足裏のつぼを刺激することが可能な足サポータを提供する。
【解決手段】足サポータ1は、伸縮性を有する繊維からなり、足先に着用される本体2の先端が各々足指に対応して分岐され、足指が露出するように開口されている。この足サポータ1には、マイナスイオンを発生する主成分がシリコンからなるマイナスイオン発生体10を足裏に対応する内面に設けられている。マイナスイオン発生体10の突起部10aは、足のつぼを刺激すると共につぼに対してマイナスイオンを発生させる。
【選択図】図2
【解決手段】足サポータ1は、伸縮性を有する繊維からなり、足先に着用される本体2の先端が各々足指に対応して分岐され、足指が露出するように開口されている。この足サポータ1には、マイナスイオンを発生する主成分がシリコンからなるマイナスイオン発生体10を足裏に対応する内面に設けられている。マイナスイオン発生体10の突起部10aは、足のつぼを刺激すると共につぼに対してマイナスイオンを発生させる。
【選択図】図2
Description
本考案は、特に足裏をカバーする足サポータに関し、詳しくは、足裏の肌に接触した状態で足に向けてマイナスイオン等を放射するマイナスイオン発生体を設けた足サポータに関する。
従来から、足指間を離間するとともに、足指を露出して通気性を良くする足サポータが知られている。これは、例えば特開平9−99004号公報(特許文献1)のように、足先に着用される環状本体の先端が足指に対応して分岐された筒部とされ、爪先が露出するように前記筒部の先端を開口するように構成されている。この足サポータは、足に装着することにより、足指間の接触を防止すると共に、通気性を良くして、特に足指間や足指の付根等に小水疱疹が発生する水虫と言われる皮膚病の症状を抑えるようにしている。
上記特許文献1に示された足サポータは、足指間を離間すること、足指を露出して通気性を良くすることはできるが、足自体に上記皮膚病を発生させないようにすることができず、従って、治癒効果が乏しかった。
本考案が解決しようとする課題は、足指間を離間する機能に加え、マイナスイオンを発生させ、しかも、足裏のつぼを刺激することが可能な足サポータを提供することにある。
そこで、本考案の請求項1に関わる足サポータは、伸縮性を有する繊維からなり、足先に着用される本体の先端が各々足指に対応して分岐され、足指が露出するように開口された足サポータであって、上記足サポータには、マイナスイオンを発生する主成分がシリコンからなるマイナスイオン発生体を足裏に対応する内面に設けたことを要旨としている。
また、請求項2に関わる足サポータは、マイナスイオン発生体が、略半球状の突起部と、底面側からラジアル方向に延出した鍔部とを有し、上記突起部には複数の溝や凹所が形成され、上記鍔部は縫製可能に形成されていることを要旨としている。
また、請求項3に関わる足サポータは、足裏に対応する内面には、セラミックパウダー、ブラックシリカ或いはジャモンストン、及びゲルマニウムパウダー等の鉱物の粉体を含有する遠赤外線発生膜が形成されることを要旨としている。
本考案によれば、足サポータの内面には足裏に対応させて、マイナスイオンを発生する主成分がシリコンからなるマイナスイオン発生体が設けられているので、マイナスイオンによって、足の不調個所を改善する効果を高めることができる。また、本体の先端が各々足指に対応させて分岐しているので、足指を露出することができ、水虫等の皮膚病の症状を抑えられ、さらに、マイナスイオン発生体によって治癒力を高めるので、症状を一層改善させることが可能となる。
また、マイナスイオン発生体には鍔部が形成されているので、この鍔部を足サポータに縫製することにより、強固に固定することが可能であり、しかも、人体表面からマイナスイオン発生体が陥没した場合であっても、鍔部により陥没が抑制されるので、適度な押圧力でつぼ等を刺激することが可能となる。
さらに、足サポータの内面には、セラミックパウダー及びゲルマニウムパウダー等の鉱物の粉体からなる遠赤外線発生膜が設けられているので、大きな放射強度の遠赤外線が放射され、身体を適度に暖めることにより保温性を高めることが可能となる。しかも、同時にマイナスイオンが発生することから、足の不調個所を改善する効果を高めることを維持させることができる。そのうえ、足サポータを装着したときに、マイナスイオン発生体の突起部が足のつぼを刺激すると共につぼに対してマイナスイオンを発生させるので、足の不調個所の改善に対してさらに効果を発揮する。
足サポータは、伸縮性を有する繊維からなり、足先に着用される本体の先端が各々足指に対応して分岐され、足指が露出するように開口されている。この足サポータには、マイナスイオンを発生する主成分がシリコンからなるマイナスイオン発生体を足裏に対応する内面に設けられている。マイナスイオン発生体の突起部は、足のつぼを刺激すると共につぼに対してマイナスイオンを発生させる。
以下、図面に基づいて本考案の実施例を詳細に説明する。図1は、本考案に関わる足サポータの第1の実施例を示している。足サポータ1は、木綿、羊毛などの動植物繊維、或いは、ポリウレタン、ナイロン、テトロン等の合成繊維等からなる伸縮性を有するストレッチ材を使用している。本考案による足サポータ1は、一般に周知の靴下のように編み物ではなく、布地を縫製によって形成されている。
この足サポータ1は、二点鎖線で示す人体の足Lの足先に着用される本体2の先端が各々足指に対応して分岐するように、先端側が足指L1の大きさに対応させて縫製結合され、それらの間は開口している。そして、これらの開口に各足指L1を挿入することによって、図1に示すように、足指L1が露出するように構成されている。また、足サポータ1の後端側には、図3に示すように、足Lを挿入すると共に足首に装着するための穴部3が形成されている。この穴部3の周囲には、ゴムベルト4等が挿入され、着用したときに離脱しないようにしている。
上記足サポータ1には、マイナスイオンを発生するマイナスイオン発生体10が足裏に対応する内面に設けられている。マイナスイオン発生体10は、図4および図5に示すように、上面側には半球状の突起部10aが形成され、底面は平坦に形成されている。そして、底面側の周囲には、ラジアル方向に延出した肉薄の鍔部10bが形成されている。さらに、突起部10aには複数状の溝10cが形成されている。尚、突起部10aには、溝の他、凹所であっても良い。
このマイナスイオン発生体10は、主成分がシリコンからなる成形体であり、その硬さは、およそ人の親指程度になっている。また、鍔部10bにはミシン等の針を通すことが可能であり、従って、足サポータ1に縫製することができる。なお、マイナスイオン発生体10は、主成分のシリコンに対して例えば適量のゲルマニウムのパウダーを混合しても良い。その他、シリコンに対して少量のシリカや、微量の抗菌材や香料を混合した素材を使用してもよい。
マイナスイオン発生体10から発生するマイナスイオンの量は、温度が摂氏20度、湿度30%乃至50%の環境において測定したところ、少なくとも250NS/cc以上が発生している。この発生量は温度と湿度によっても発生量が多少変化し、温度と湿度が高くなるに従って発生量が増加する傾向がある。また、時間の経過によっても変化するが、これは被測定体の場所の環境変化によるものと推測される。尚、マイナスイオン発生量の測定方式は東大NY方式であり、測定機器は、神戸電波製KST−900を使用した。
以上のように構成したマイナスイオン発生体10は、図1に示すように4個配置している。この配置は、足裏に対応する足サポータ1の内面に設けられていて、足に足サポータ1を装着したときに、足裏のつぼに突起部10aが当接する位置が好ましい。また、個々のマイナスイオン発生体10は、図4に示すように、足サポータ1の内面に糸4によって縫製されている。尚、マイナスイオン発生体10の底面が平坦に形成されているので、接着によって固定しても良い。
マイナスイオン発生体10を足サポータ1の内面に配設することによって、マイナスイオン発生体10は、突起部によって人体のつぼを刺激すると共につぼに対してマイナスイオンを発生させ、足裏に対する改善効果が得られる。
また、足サポータ1の内面には、遠赤外線発生膜5が形成されている。遠赤外線発生膜5は、セラミックパウダー、ブラックシリカ、ジャモンストン、ゲルマニウムパウダー等の粉体の1種或いは複数種を繊維に接着可能な液状の原料接着剤に混合した状態で塗布した後に固化させることにより、足サポータ1の内面に膜を形成している。
上記遠赤外線発生膜5は、まず、繊維に接着可能な液状接着剤に上記粉体を均一に分散するように混合すると共に撹拌して液状の原料接着液6を製作し、この原料接着液6を図6に示すように、スクリーン印刷法によって足サポータ1に対して印刷塗布される。そして、足サポータ1の内面にスクリーン7を載せた後に、スキージ8を移動することによって原料接着液6が足サポータ1に塗布される。この結果、原料接着液6は、足サポータ1の繊維内に一部が含浸する。その後、原料接着液6を固化させることによって約10乃至150ミクロンの厚さの上記遠赤外線発生膜5が形成される。
このように形成された遠赤外線発生からはマイナスイオンが放射される。このマイナスイオンの量は、温度が摂氏20度、湿度30%乃至50%の環境において測定したところ、少なくとも200NS/cc以上が発生している。この発生量は、温度と湿度によっても発生量が多少変化し、温度と湿度が高くなるに従って発生量が増加する傾向がある。また、足サポータ1を着用したときには、遠赤外線発生膜5が足裏に直接接触すると共に、身体の動きによって皮膚との間で摩擦が生ずることから、マイナスイオンの量は200NS/cc以上に上昇する。このとき、遠赤外線発生膜5が足裏に直接接触しているので、マイナスイオンが直接身体内に浸透することになる。尚、マイナスイオン発生量の測定方式は東大NY方式であり、測定機器は、神戸電波製KST−900を使用した。
上述したように、繊維からなる足サポータ1の足裏対応個所に、遠赤外線発生膜5を形成することによって、遠赤外線発生膜5から大きな放射エネルギー強度の遠赤外線が放射される。この遠赤外線が足を適度に暖め、足サポータ1としての保温性を高められる。しかも、同時にマイナスイオンが発生するので、足の不調個所の改善効果を高められる。
図8は、本考案からなる足サポータの他の実施例を示している。この図8に示す足サポータ20において、図1に示す足サポータ1と相違する点は、足サポータ1を足の土踏まずまでとしたことである。すなわち、足サポータ20は、足サポータ1と同様に、木綿、羊毛などの動植物繊維、或いは、ポリウレタン、ナイロン、テトロン等の合成繊維等からなる伸縮性を有するストレッチ材を使用し、布地を縫製によって形成されている。
この足サポータ20においても、足Lの足先に着用される本体21の先端が各々足指に対応して分岐するように、先端側が足指の大きさに対応させて縫製結合され、それらの間は開口している。そして、これらの開口に各足指を挿入することによって足指が露出するように構成されている。また、足サポータ20の後端側には、足Lの土踏まずL2に対応する位置の周囲には、ゴムベルト22等が挿入され、着用したときに離脱しないようにしている。
上記足サポータ20には、前述した実施例と同じマイナスイオンを発生するマイナスイオン発生体10が足裏に対応する内面に設けられている。但し、上記足サポータ20は、足LのかかとL3をカバーしないので、このかかとに対応する部位にはマイナスイオン発生体10が存在しない。
以上、本考案を実施例に基づき具体的に説明したが、本考案は上記実施例に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変形可能であることは言うまでもない。前述した実施例において、遠赤外線発生膜を設ける位置や大きさについても適宜に変更可能である。さらに、上述したセラミックパウダー、ブラックシリカ或いはジャモンストンを示したが、これらは主成分であって、足サポータに接着する上で必要な粉体や素材を混合しても良い。
本考案は、足サポータに適用可能である。
1 足サポータ
2 本体
5 遠赤外線発生膜
10 マイナスイオン発生体
10a 突起部
2 本体
5 遠赤外線発生膜
10 マイナスイオン発生体
10a 突起部
Claims (3)
- 伸縮性を有する繊維からなり、足先に着用される本体の先端が各々足指に対応して分岐され、足指が露出するように開口された足サポータであって、上記足サポータには、マイナスイオンを発生する主成分がシリコンからなるマイナスイオン発生体を足裏に対応する内面に設けたことを特徴とする足サポータ。
- マイナスイオン発生体は、略半球状の突起部と、底面側からラジアル方向に延出した鍔部とを有し、上記突起部には複数の溝や凹所が形成され、上記鍔部は縫製可能に形成されている請求項1に記載の足サポータ。
- 足裏に対応する内面には、セラミックパウダー、ブラックシリカ或いはジャモンストン、及びゲルマニウムパウダー等の鉱物の粉体を含有する遠赤外線発生膜が形成された請求項1または2に記載の足サポータ。
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JP2005007883U JP3117074U (ja) | 2005-09-26 | 2005-09-26 | 足サポータ |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2005007883U JP3117074U (ja) | 2005-09-26 | 2005-09-26 | 足サポータ |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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JP3117074U true JP3117074U (ja) | 2006-01-05 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2010100538A (ja) * | 2008-10-21 | 2010-05-06 | J Make:Kk | タトゥーシール |
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2005
- 2005-09-26 JP JP2005007883U patent/JP3117074U/ja not_active Expired - Fee Related
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