JP3116909B2 - レーザテクスチャ加工エネルギー制御装置 - Google Patents
レーザテクスチャ加工エネルギー制御装置Info
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、レーザテクスチャ
加工エネルギー制御装置に関し、特に、電気光学変調器
を駆動する電圧にバイアス電圧を重畳してレーザテクス
チャ加工エネルギを一定に保つレーザテクスチャ加工エ
ネルギー制御装置に関する。
加工エネルギー制御装置に関し、特に、電気光学変調器
を駆動する電圧にバイアス電圧を重畳してレーザテクス
チャ加工エネルギを一定に保つレーザテクスチャ加工エ
ネルギー制御装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】レーザテクスチャ加工では、レーザ光の
エネルギーの安定性が加工精度に非常に大きな影響を及
ぼしている。従来、レーザテクスチャ加工装置において
加工エネルギーの制御は、アテネータによる調整とパル
ス幅のＯＮ時間により行っていた。アテネータによる調
整は減光板を機械的な歯車により回転させレーザ光の入
射角度によりエネルギーの調整を行っていた。
エネルギーの安定性が加工精度に非常に大きな影響を及
ぼしている。従来、レーザテクスチャ加工装置において
加工エネルギーの制御は、アテネータによる調整とパル
ス幅のＯＮ時間により行っていた。アテネータによる調
整は減光板を機械的な歯車により回転させレーザ光の入
射角度によりエネルギーの調整を行っていた。
【０００３】図７は、従来の機械式アテネータの平面図
である。図７に示すように、このアテネータは、ＹＡＧ
レーザ等の光量を光学素子の回転によって連続的に変化
させるものである。光学素子としては、誘電体多層膜コ
ートを施したバリアブルアテネータと、無反射コートを
行ったコンペンセータを採用しており、これらの回転を
同期させることで、ビームシフトを防止している。又、
バリアブルアテネータからの反射光は、筐体内部に設け
られたダンパにより吸収され、外部への漏れ光をなくし
ている。又、バリアブルアテネータの制御は駆動歯車の
手動又はモータ駆動により行い、更に、モータをコンピ
ュータ制御することもできる。又、図７中のフォトイン
タラプタは、バリアブルアテネータの回転角度の下限と
上限を検出するためのセンサである。
である。図７に示すように、このアテネータは、ＹＡＧ
レーザ等の光量を光学素子の回転によって連続的に変化
させるものである。光学素子としては、誘電体多層膜コ
ートを施したバリアブルアテネータと、無反射コートを
行ったコンペンセータを採用しており、これらの回転を
同期させることで、ビームシフトを防止している。又、
バリアブルアテネータからの反射光は、筐体内部に設け
られたダンパにより吸収され、外部への漏れ光をなくし
ている。又、バリアブルアテネータの制御は駆動歯車の
手動又はモータ駆動により行い、更に、モータをコンピ
ュータ制御することもできる。又、図７中のフォトイン
タラプタは、バリアブルアテネータの回転角度の下限と
上限を検出するためのセンサである。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上述した従来
の技術では、バリアブルアテネータの回転に歯車を用い
ているために、レーザエネルギーを微妙に調節すること
ができなかった。
の技術では、バリアブルアテネータの回転に歯車を用い
ているために、レーザエネルギーを微妙に調節すること
ができなかった。
【０００５】又、レーザ光の入射角に依存してバリアブ
ルアテネータでの照射面積が異なるため、減光板の傾き
により減光率が変化するという問題があった。
ルアテネータでの照射面積が異なるため、減光板の傾き
により減光率が変化するという問題があった。
【０００６】又、バリアブルアテネータの回転角度は約
４５度の角度範囲であり、この範囲で０％から１００％
の減光を行っているため、制御分解能が粗いという問題
があった。
４５度の角度範囲であり、この範囲で０％から１００％
の減光を行っているため、制御分解能が粗いという問題
があった。
【０００７】そこで、本発明は、非機械的にテクスチャ
加工エネルギーを一定に保つレーザテクスチャ加工エネ
ルギー制御装置を提供することを課題としている。
加工エネルギーを一定に保つレーザテクスチャ加工エネ
ルギー制御装置を提供することを課題としている。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
の本発明は、電気光学変調器を駆動する基準電圧にオフ
セット電圧を加えてレーザテクスチャ加工エネルギーを
一定に保持するレーザテクスチャ加工エネルギー制御装
置であって、前記基準電圧と、前記オフセット電圧とを
記憶するコンピュータと、前記コンピュータから前記基
準電圧を受け取り、前記基準電圧で発振するパルス信号
を出力するパルス発振器と、前記コンピュータからＤ／
Ａ変換器を介してオフセット電圧を受け取るオフセット
回路とを備え、前記オフセット回路は、前記Ｄ／Ａ変換
器の出力を入力する演算増幅器と、前記演算増幅器の出
力と前記パルス発振器の出力とを入力してオフセットパ
ルスを出力するアナログスイッチとを備え、前記オフセ
ットパルスを前記基準電圧パルスに同期させるようにし
ている。
の本発明は、電気光学変調器を駆動する基準電圧にオフ
セット電圧を加えてレーザテクスチャ加工エネルギーを
一定に保持するレーザテクスチャ加工エネルギー制御装
置であって、前記基準電圧と、前記オフセット電圧とを
記憶するコンピュータと、前記コンピュータから前記基
準電圧を受け取り、前記基準電圧で発振するパルス信号
を出力するパルス発振器と、前記コンピュータからＤ／
Ａ変換器を介してオフセット電圧を受け取るオフセット
回路とを備え、前記オフセット回路は、前記Ｄ／Ａ変換
器の出力を入力する演算増幅器と、前記演算増幅器の出
力と前記パルス発振器の出力とを入力してオフセットパ
ルスを出力するアナログスイッチとを備え、前記オフセ
ットパルスを前記基準電圧パルスに同期させるようにし
ている。
【０００９】又、本発明においては、上記の構成に加え
て、前記電気光学変調器で変調された変調レーザ光を、
前記変調レーザ光の偏光方向に応じてテクスチャ加工を
行う加工光路と前記テクスチャ加工を行わない非加工光
路とに分離する偏向素子と、前記加工光路及び非加工光
路に導かれた前記変調レーザ光をそれぞれ検出するセン
サと、前記それぞれのセンサの出力を入力する比較回路
とを備え、前記オフセット回路は、前記Ｄ／Ａ変換器の
出力と前記比較回路の出力とを入力する差動増幅器と、
前記差動幅器の出力と前記パルス発振器の出力とを入力
してオフセットパルスを出力するアナログスイッチとを
備え、前記比較器は、前記センサのいずれか一方の出力
と所定値との差を出力し、前記オフセット回路は、前記
オフセットパルスを前記基準電圧パルスに同期させるよ
うにしてもよい。
て、前記電気光学変調器で変調された変調レーザ光を、
前記変調レーザ光の偏光方向に応じてテクスチャ加工を
行う加工光路と前記テクスチャ加工を行わない非加工光
路とに分離する偏向素子と、前記加工光路及び非加工光
路に導かれた前記変調レーザ光をそれぞれ検出するセン
サと、前記それぞれのセンサの出力を入力する比較回路
とを備え、前記オフセット回路は、前記Ｄ／Ａ変換器の
出力と前記比較回路の出力とを入力する差動増幅器と、
前記差動幅器の出力と前記パルス発振器の出力とを入力
してオフセットパルスを出力するアナログスイッチとを
備え、前記比較器は、前記センサのいずれか一方の出力
と所定値との差を出力し、前記オフセット回路は、前記
オフセットパルスを前記基準電圧パルスに同期させるよ
うにしてもよい。
【００１０】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して、本発明の
実施の形態について説明する。
実施の形態について説明する。
【００１１】図１は、本発明のレーザテクスチャ加工エ
ネルギー制御装置の構成を示すブロック図である。図１
に示すように、本発明のレーザテクスチャ加工エネルギ
ー制御装置は、コンピュータ（ＣＰＵ）２により制御さ
れたパルス発振器３及びＤ／Ａ変換器４と、パルス発振
器３の出力Ｖｐ及びＤ／Ａ変換器４の出力とを入力して
オフセット信号Ｖｏｆを出力するオフセット回路５と、
オフセット信号Ｖｏｆとパルス発振器３の出力Ｖｐとを
重畳した出力信号ＶｄでＥＯ変調器８を駆動するドライ
バ６と、ＥＯ変調器８から出力されるレーザ光を加工用
レーザ光１０と非加工用レーザ光１１に分離する偏向素
子９とを有している。
ネルギー制御装置の構成を示すブロック図である。図１
に示すように、本発明のレーザテクスチャ加工エネルギ
ー制御装置は、コンピュータ（ＣＰＵ）２により制御さ
れたパルス発振器３及びＤ／Ａ変換器４と、パルス発振
器３の出力Ｖｐ及びＤ／Ａ変換器４の出力とを入力して
オフセット信号Ｖｏｆを出力するオフセット回路５と、
オフセット信号Ｖｏｆとパルス発振器３の出力Ｖｐとを
重畳した出力信号ＶｄでＥＯ変調器８を駆動するドライ
バ６と、ＥＯ変調器８から出力されるレーザ光を加工用
レーザ光１０と非加工用レーザ光１１に分離する偏向素
子９とを有している。
【００１２】まず、ＣＰＵ２は、ＥＯ変調器８を駆動す
るための基準電圧とオフセット電圧の入出力・記憶を行
うためのものであり、パーソナルコンピュータ等が好適
に用いられる。
るための基準電圧とオフセット電圧の入出力・記憶を行
うためのものであり、パーソナルコンピュータ等が好適
に用いられる。
【００１３】又、パルス発振器３は、ＣＰＵ２から基準
電圧を受け取り、レーザテクスチャ加工において所望の
微少突起をハードディスク基板表面に形成するのに適し
た時間間隔で基準電圧を出力する。
電圧を受け取り、レーザテクスチャ加工において所望の
微少突起をハードディスク基板表面に形成するのに適し
た時間間隔で基準電圧を出力する。
【００１４】又、Ｄ／Ａ変換機４は、ＣＰＵ２からデジ
タル値のオフセット電圧Ｖｏｓを受け取り、これをアナ
ログ変換して出力する。
タル値のオフセット電圧Ｖｏｓを受け取り、これをアナ
ログ変換して出力する。
【００１５】又、オフセット回路５は、アナログ値のオ
フセット電圧を、基準電圧パルスの持続時間に同期して
出力する。このようなオフセット回路５は、図２に示す
ように演算増幅器とアナログスイッチによって構成する
ことができる。
フセット電圧を、基準電圧パルスの持続時間に同期して
出力する。このようなオフセット回路５は、図２に示す
ように演算増幅器とアナログスイッチによって構成する
ことができる。
【００１６】図２は、演算増幅器２０とアナログスイッ
チオ２１で構成したオフセット回路の一例である。
チオ２１で構成したオフセット回路の一例である。
【００１７】演算増幅器２０はＤ／Ａ変換器より入力さ
れたオフセット電圧を、ドライバ６の入出力信号レベル
に適合するレベルまで増幅する。そして、これらの増幅
されたオフセット電圧と基準電圧パルスＶｐがアナログ
スイッチ２１に入力されている。アナログスイッチ２１
の開閉はパルス発振器３の出力である基準電圧パルス信
号Ｖｐにより行われる。すなわち、Ｖｐが基準電圧のと
きは、アナログスイッチ２１はオフセット電圧Ｖｏｆを
出力するが、Ｖｐがゼロボルトのときは、アナログスイ
ッチ２１はゼロボルトを出力する。
れたオフセット電圧を、ドライバ６の入出力信号レベル
に適合するレベルまで増幅する。そして、これらの増幅
されたオフセット電圧と基準電圧パルスＶｐがアナログ
スイッチ２１に入力されている。アナログスイッチ２１
の開閉はパルス発振器３の出力である基準電圧パルス信
号Ｖｐにより行われる。すなわち、Ｖｐが基準電圧のと
きは、アナログスイッチ２１はオフセット電圧Ｖｏｆを
出力するが、Ｖｐがゼロボルトのときは、アナログスイ
ッチ２１はゼロボルトを出力する。
【００１８】ドライバ６はパルス発振器３からの基準電
圧パルス信号Ｖｐとオフセット回路５からのオフセット
パルス電圧Ｖｏｆを入力し、これらの和の電圧Ｖｄ（＝
Ｖｐ＋Ｖｏｆ）を出力する。
圧パルス信号Ｖｐとオフセット回路５からのオフセット
パルス電圧Ｖｏｆを入力し、これらの和の電圧Ｖｄ（＝
Ｖｐ＋Ｖｏｆ）を出力する。
【００１９】従って、電気光学変調器（ＥＯ変調器）８
は基準電圧Ｖｐにオフセット電圧Ｖｏｆを重畳した変調
電圧Ｖｄにより駆動される。
は基準電圧Ｖｐにオフセット電圧Ｖｏｆを重畳した変調
電圧Ｖｄにより駆動される。
【００２０】ところで、ＥＯ変調器に電圧が印加されて
いないときは、入射レーザ光の偏光方向は回転されな
い。このような無変調光は、偏光素子９により非加工用
レーザ光１１として、非加工光路１１に偏向される。こ
こで、偏光素子９には、偏光ビームスプリッタが好適に
用いられる。一方、ＥＯ変調器８に電圧Ｖｄが印加され
ているときは、入射レーザ光の偏光方向は回転され、こ
の偏光回転量に応じた光量が偏光素子９により加工用レ
ーザ光として加工光路１０に導かれる。
いないときは、入射レーザ光の偏光方向は回転されな
い。このような無変調光は、偏光素子９により非加工用
レーザ光１１として、非加工光路１１に偏向される。こ
こで、偏光素子９には、偏光ビームスプリッタが好適に
用いられる。一方、ＥＯ変調器８に電圧Ｖｄが印加され
ているときは、入射レーザ光の偏光方向は回転され、こ
の偏光回転量に応じた光量が偏光素子９により加工用レ
ーザ光として加工光路１０に導かれる。
【００２１】図３はオフセット電圧Ｖｏｆがゼロのとき
に、偏光素子９から出力される光量を説明するためのタ
イムチャートである。
に、偏光素子９から出力される光量を説明するためのタ
イムチャートである。
【００２２】ＣＰＵ２のオフセット電圧Ｖｏｓがゼロの
ときは、Ｄ／Ａ変換器４の出力電圧はゼロであり、従っ
て、オフセット回路５の出力Ｖｏｆは常にゼロとなる。
この時、ドライバ６の出力Ｖｄは、基準電圧Ｖｐに等し
い。
ときは、Ｄ／Ａ変換器４の出力電圧はゼロであり、従っ
て、オフセット回路５の出力Ｖｏｆは常にゼロとなる。
この時、ドライバ６の出力Ｖｄは、基準電圧Ｖｐに等し
い。
【００２３】この基準電圧Ｖｐで変調された光は、所定
の偏光回転を受け、偏光素子９により入射光量のすべて
（１００％）が加工光路（Ａ）１０に導かれる。ここ
で、偏光素子９が偏光ビームスプリッタであるときは、
所定の偏光回転が９０°となるように基準電圧を設定す
る。
の偏光回転を受け、偏光素子９により入射光量のすべて
（１００％）が加工光路（Ａ）１０に導かれる。ここ
で、偏光素子９が偏光ビームスプリッタであるときは、
所定の偏光回転が９０°となるように基準電圧を設定す
る。
【００２４】一方、ドライバ出力電圧Ｖｄがゼロのとき
は、入射レーザ光はなんら偏光回転を受けず、入射光量
のすべて（１００％）が偏光素子９により非加工光路
（Ｂ）１１に導かれる。
は、入射レーザ光はなんら偏光回転を受けず、入射光量
のすべて（１００％）が偏光素子９により非加工光路
（Ｂ）１１に導かれる。
【００２５】次に、図４はオフセット電圧Ｖｏｓがゼロ
でないときに、偏光素子９から出力される光量を説明す
るためのタイムチャートである。
でないときに、偏光素子９から出力される光量を説明す
るためのタイムチャートである。
【００２６】オフセット電圧Ｖｏｓがゼロでないときに
は、ドライバ出力電圧がＶｄがＶｓｔ＋Ｖｏｓとなり、
１００％変調時の電圧Ｖｓｔと異なる。したがって、こ
のようなドライバ出力Ｖｄでレーザ光を変調すると、加
工光路（Ａ）１０に導かれる光量は１００％変調時より
も減少し、その減少分が非加工光路（Ｂ）１１に導かれ
ることになる。
は、ドライバ出力電圧がＶｄがＶｓｔ＋Ｖｏｓとなり、
１００％変調時の電圧Ｖｓｔと異なる。したがって、こ
のようなドライバ出力Ｖｄでレーザ光を変調すると、加
工光路（Ａ）１０に導かれる光量は１００％変調時より
も減少し、その減少分が非加工光路（Ｂ）１１に導かれ
ることになる。
【００２７】従って、オフセット電圧Ｖｏｓを変化させ
ることにより加工光路（Ａ）に導かれるレーザエネルギ
ーを制御することができる。
ることにより加工光路（Ａ）に導かれるレーザエネルギ
ーを制御することができる。
【００２８】すなわち、本発明においては、レーザ発振
器からのレーザ光の出力変動を検出し、その変動値に基
づいて、ＣＰＵ２からの制御により、バイアス電圧Ｖｏ
ｓを発生させ、ＥＯ変調器８に印加する基準電圧Ｖｓｔ
に重畳させることにより、テクスチャ加工エネルギーを
常に一定に保つことができる。
器からのレーザ光の出力変動を検出し、その変動値に基
づいて、ＣＰＵ２からの制御により、バイアス電圧Ｖｏ
ｓを発生させ、ＥＯ変調器８に印加する基準電圧Ｖｓｔ
に重畳させることにより、テクスチャ加工エネルギーを
常に一定に保つことができる。
【００２９】一方、レーザ発振器からのレーザ光の出力
が変動せず安定しているときでも、光学系の汚れ等のた
め、加工エネルギーが低下することがある。このような
場合には、ＣＰＵ２に、基準電圧Ｖｓｔ、バイアス電圧
Ｖｏｓ、その他を入力し直して、テクスチャ加工エネル
ギーを一定に維持することができる。
が変動せず安定しているときでも、光学系の汚れ等のた
め、加工エネルギーが低下することがある。このような
場合には、ＣＰＵ２に、基準電圧Ｖｓｔ、バイアス電圧
Ｖｏｓ、その他を入力し直して、テクスチャ加工エネル
ギーを一定に維持することができる。
【００３０】以上、本発明の一つの実施形態について説
明した。本発明の実施形態は、これにとどまらず、図５
に示すように、偏光素子９の出力をモニタし、オフセッ
ト回路にフィードバックしてもよい。
明した。本発明の実施形態は、これにとどまらず、図５
に示すように、偏光素子９の出力をモニタし、オフセッ
ト回路にフィードバックしてもよい。
【００３１】図５に示すように、加工光路１０と非加工
光路１１のエネルギーを検出するセンサ５０，５１とこ
れらのセンサの出力を入力する比較回路３１が設けられ
ている。そして、比較回路３１はセンサ５０，５１の出
力の一方と所定値との差をバイアス電圧補正信号として
出力する。センサを２つ備えているのは、センサの感
度、ノイズ特性、表面の汚染等を考慮しいずれかを使用
するためである。このようなセンサの切り替えは、ＣＰ
Ｕ２により行うようにしてもよい。
光路１１のエネルギーを検出するセンサ５０，５１とこ
れらのセンサの出力を入力する比較回路３１が設けられ
ている。そして、比較回路３１はセンサ５０，５１の出
力の一方と所定値との差をバイアス電圧補正信号として
出力する。センサを２つ備えているのは、センサの感
度、ノイズ特性、表面の汚染等を考慮しいずれかを使用
するためである。このようなセンサの切り替えは、ＣＰ
Ｕ２により行うようにしてもよい。
【００３２】上記のバイアス電圧補正信号は、オフセッ
ト回路５１に入力される。
ト回路５１に入力される。
【００３３】図６は、オフセット回路５１の一例のブロ
ック図である。
ック図である。
【００３４】図６によれば、オフセット回路５１は、Ｄ
／Ａ変換器４の出力とと比較回路３１の出力とを入力す
る差動増幅器２５と、アナログスイッチ２１とで構成さ
れている。
／Ａ変換器４の出力とと比較回路３１の出力とを入力す
る差動増幅器２５と、アナログスイッチ２１とで構成さ
れている。
【００３５】この回路においては差動増幅器２５の出力
が補正されたバイアス値となっており、この差動増幅器
２５の出力をアナログスイッチ２１に入力することによ
り、バイアス回路５と同様に、基準電圧パルス信号Ｖｐ
に同期したバイアス信号Ｖｏｆが得られる。
が補正されたバイアス値となっており、この差動増幅器
２５の出力をアナログスイッチ２１に入力することによ
り、バイアス回路５と同様に、基準電圧パルス信号Ｖｐ
に同期したバイアス信号Ｖｏｆが得られる。
【００３６】
【発明の効果】以上説明した本発明によれば、機械式ア
テネータが不要となる。
テネータが不要となる。
【００３７】すなわち、本発明によれば、オフセット電
圧の大きさ、分解能を変化させることにより、レーザテ
クスチャ加工エネルギーの制御範囲を任意に設定出来
る。
圧の大きさ、分解能を変化させることにより、レーザテ
クスチャ加工エネルギーの制御範囲を任意に設定出来
る。
【００３８】又、本発明によれば、パルス周期を変化さ
せるともにバイアス電圧を変化させることができるた
め、テクスチャ加工条件を最適にして、微少突起形状を
変化させることができる。
せるともにバイアス電圧を変化させることができるた
め、テクスチャ加工条件を最適にして、微少突起形状を
変化させることができる。
【図１】本発明のレーザテクスチャ加工エネルギー制御
装置のブロック図。
装置のブロック図。
【図２】バイアス回路の一例のブロック図。
【図３】オフセット電圧がゼロの場合のテクスチャ加工
エネルギーを示すタイムチャート。
エネルギーを示すタイムチャート。
【図４】オフセット電圧がゼロでない場合のテクスチャ
加工エネルギーを示すタイムチャート。
加工エネルギーを示すタイムチャート。
【図５】オフセット電圧を自動補正する本発明のレーザ
テクスチャ加工エネルギー制御装置のブロック図。
テクスチャ加工エネルギー制御装置のブロック図。
【図６】バイアス電圧を自動補正するためのオフセット
回路のブロック図。
回路のブロック図。
【図７】従来の機械式アテネータの平面図。
２ ＣＰＵ ３ パルス発振器 ４ Ｄ／Ａ変換器 ５、５１ オフセット回路 ６ ドライバ ８ ＥＯ変調器 ９ 偏光素子 １０ 加工光路Ａ １１ 非加工光路Ｂ ２０ 演算増幅器 ２１ アナログスイッチ ２５ 差動増幅器 ３１ 比較回路 ６１、６２ センサ Ｖｐ 基準電圧パルス Ｖｏｆ オフセット電圧パルス Ｖｄ ドライバ出力 Ｖｓｔ 基準電圧レベル Ｖｏｓ オフセット電圧レベル
フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G11B 5/84 B23K 26/00 G02F 1/03
Claims (4)
- 【請求項１】 電気光学変調器を駆動する基準電圧にオ
フセット電圧を加えてレーザテクスチャ加工エネルギー
を一定に保持するレーザテクスチャ加工エネルギー制御
装置であって、 前記基準電圧と、前記オフセット電圧とを記憶するコン
ピュータと、 前記コンピュータから前記基準電圧を受け取り、前記基
準電圧で発振するパルス信号を出力するパルス発振器
と、 前記コンピュータからＤ／Ａ変換器を介してオフセット
電圧を受け取るオフセット回路とを備え、 前記オフセットパルスを前記基準電圧パルスに同期させ
ることを特徴とするレーザテクスチャ加工エネルギー制
御装置。 - 【請求項２】 前記オフセット回路は、前記Ｄ／Ａ変換
器の出力を入力する演算増幅器と、前記演算増幅器の出
力と前記パルス発振器の出力とを入力してオフセットパ
ルスを出力するアナログスイッチとを備えることを特徴
とする請求項１記載のレーザテクスチャ加工エネルギー
制御装置。 - 【請求項３】 電気光学変調器を駆動する基準電圧にオ
フセット電圧を加えてレーザテクスチャ加工エネルギー
を一定に保持するレーザテクスチャ加工エネルギー制御
装置であって、 前記基準電圧と、前記オフセット電圧とを記憶するコン
ピュータと、 前記コンピュータから前記基準電圧を受け取り、前記基
準電圧で発振するパルス信号を出力するパルス発振器
と、 前記コンピュータからＤ／Ａ変換器を介してオフセット
電圧を受け取るオフセット回路と、 前記電気光学変調器で変調された変調レーザ光を、前記
変調レーザ光の偏光方向に応じてテクスチャ加工を行う
加工光路と前記テクスチャ加工を行わない非加工光路と
に分離する偏向素子と、 前記加工光路及び非加工光路に導かれた前記変調レーザ
光をそれぞれ検出するセンサと、 前記それぞれのセンサの出力を入力する比較回路とを備
え、 前記比較器は、前記センサのいずれか一方の出力と所定
値との差を出力し、 前記オフセット回路は、前記オフセットパルスを前記基
準電圧パルスに同期させることを特徴とするレーザテク
スチャ加工エネルギー制御装置。 - 【請求項４】 前記オフセット回路は、前記Ｄ／Ａ変換
器の出力と前記比較回路の出力とを入力する差動増幅器
と、前記差動幅器の出力と前記パルス発振器の出力とを
入力してオフセットパルスを出力するアナログスイッチ
とを備えることを特徴とする請求項３記載のレーザテク
スチャ加工エネルギー制御装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10185238A JP3116909B2 (ja) | 1998-06-30 | 1998-06-30 | レーザテクスチャ加工エネルギー制御装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
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