JP3108962B2 - Manufacturing method of stamper for optical recording medium - Google Patents

Manufacturing method of stamper for optical recording medium

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JP3108962B2
JP3108962B2 JP04278939A JP27893992A JP3108962B2 JP 3108962 B2 JP3108962 B2 JP 3108962B2 JP 04278939 A JP04278939 A JP 04278939A JP 27893992 A JP27893992 A JP 27893992A JP 3108962 B2 JP3108962 B2 JP 3108962B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は光を用いて情報の記録、
再生または消去を行なう光記録媒体に用いる光記録媒体
用スタンパの製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to the recording of information using light,
The present invention relates to a method of manufacturing a stamper for an optical recording medium used for an optical recording medium on which reproduction or erasing is performed.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来の光記録媒体用スタンパ作成におけ
るマスタリング工程では、例えば特開平3−13294
1にあるようにまず、ガラス製の原盤の上に、ポジ型の
レジストを塗布しフォトレジスト原盤とし、レーザー光
を用いて露光するレーザーカッティングを行なった後、
アルカリ溶液によりレジストを現像し、その現像部分を
ニッケルを真空成膜することにより導体化し、その導体
化部分を電極にしてニッケルを電鋳してガラス原盤から
剥離してスタンパを形成していた。そして、そのスタン
パを用いて基板を成形し、その基板に記録層を成膜する
ことによって光記録媒体を作成していた。このように従
来は通常レジストを塗布した後50℃から90℃程度の
温度でプリベークし、そのまま集光したレーザー光によ
る露光を行なっていた。また、レジスト以外の層を形成
した後レーザーカッティングする方法としてJ.App
l.Phys.58(8),15 October 1
985にあるように酸化インジウム層の上にレジスト層
を形成し、その後露光および現像を施し、露出した酸化
インジウム層をエッチングすることなどが試みられてい
る。
2. Description of the Related Art In a conventional mastering process for producing a stamper for an optical recording medium, for example, Japanese Patent Laid-Open Publication No. Hei.
First, as described in 1, a positive resist is applied on a glass master to form a photoresist master, and laser cutting for exposing using a laser beam is performed.
The resist was developed with an alkali solution, and the developed portion was made conductive by vacuum-forming nickel, and nickel was electroformed using the conductive portion as an electrode and peeled off from the glass master to form a stamper. Then, a substrate is formed using the stamper, and a recording layer is formed on the substrate to produce an optical recording medium. As described above, in the related art, after a resist is usually applied, prebaking is performed at a temperature of about 50 ° C. to 90 ° C., and exposure is performed using a focused laser beam. Also, as a method of performing laser cutting after forming a layer other than a resist, J. J. Appl. App
l. Phys. 58 (8), 15 October 1
985, it has been attempted to form a resist layer on an indium oxide layer, and then perform exposure and development to etch the exposed indium oxide layer.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかし、従来の技術で
はレジストを塗布した後50℃から90℃程度の温度で
プリベークし、そのまま集光したレーザー光による露光
を行なっていたので、レジスト塗布から露光までの間に
レジストの表面が雰囲気により変質したり、ゴミが付着
したりして光記録媒体のエラーの増加要因となるという
課題を有していた。
However, in the prior art, after the resist is applied, it is prebaked at a temperature of about 50 ° C. to 90 ° C., and the exposure is performed with the condensed laser light as it is. In the meantime, there has been a problem that the surface of the resist is deteriorated by an atmosphere or dust adheres to the resist, which causes an increase in errors of the optical recording medium.

【0004】そこで本発明はこのような課題を解決する
もので、その目的とするところはレジストの表面を水溶
性樹脂によって保護し、露光に応じた正確な溝やピット
が形成できるようにし、これを用いて作成した光記録媒
体のエラーを低下させること、また、レジストを塗布す
る前に原盤を保護し、レジスト塗布前に原盤の表面が雰
囲気により変質したり、ゴミが付着したりして劣化しな
いような高性能高信頼性の光記録媒体を提供するところ
にある。
Accordingly, the present invention has been made to solve such a problem, and an object of the present invention is to protect a resist surface with a water-soluble resin so that accurate grooves and pits corresponding to exposure can be formed. To reduce errors in optical recording media created using, and to protect the master before applying the resist, and to deteriorate the surface of the master before the resist is applied due to the deterioration of the surface of the master due to the atmosphere or the attachment of dust. It is an object of the present invention to provide a high-performance and high-reliability optical recording medium that does not cause a problem.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明の第1の光記録媒
体用スタンパの製造方法は、原盤(1)の上にポジ型の
レジスト層(2)を形成し、光記録媒体の所定のパター
ンに露光および現像し、金属膜(6)で表面を導体化
し、さらに金属層(7)を電鋳し前記原盤(1)から剥
離して作成される光記録媒体用スタンパ(8)におい
て、前記レジスト層(2)を塗布した後に水溶性樹脂層
(3)を形成し、該水溶性樹脂層(3)の上から、また
は該水溶性樹脂層(3)を除去した後、前記ポジ型のレ
ジスト層(2)を露光することを特徴とする。
According to a first method of manufacturing a stamper for an optical recording medium of the present invention, a positive type resist layer (2) is formed on a master (1), and a predetermined resist is formed on the optical recording medium. The pattern is exposed and developed, the surface is made conductive with a metal film (6), and a metal layer (7) is electroformed and peeled off from the master (1). After applying the resist layer (2), a water-soluble resin layer (3) is formed, and after removing the water-soluble resin layer (3) from the top of the water-soluble resin layer (3), the positive mold is removed. The resist layer (2) is exposed to light.

【0006】本発明の第2の光記録媒体用スタンパの製
造方法は、原盤(9)の上にポジ型のレジスト層11を
形成する前に水溶性樹脂層(10)を形成し、該水溶性
樹脂層(10)の上または該水溶性樹脂層(10)を除
去した後、前記ポジ型のレジスト層(11)を塗布およ
び露光することを特徴とする。
According to a second method of manufacturing a stamper for an optical recording medium of the present invention, a water-soluble resin layer (10) is formed before a positive resist layer 11 is formed on a master (9). After the water-soluble resin layer (10) is removed from the water-soluble resin layer (10), the positive resist layer (11) is applied and exposed.

【0007】さらに、前述の水溶性樹脂層(2、10)
として、ポリビニルピロリドンを主体とする物質を用い
ることを特徴とする。
Further, the above-mentioned water-soluble resin layer (2, 10)
Is characterized in that a substance mainly composed of polyvinylpyrrolidone is used.

【0008】[0008]

【実施例】【Example】

(実施例1)本発明について図面に基づいて詳細に説明
する。図1は本発明の光記録媒体用スタンパの製造方法
の概念図である。
Embodiment 1 The present invention will be described in detail with reference to the drawings. FIG. 1 is a conceptual diagram of a method for manufacturing a stamper for an optical recording medium according to the present invention.

【0009】1はガラス製の原盤、2はポジ型のレジス
ト層、3は水溶性樹脂層、4は露光部分、5は現像部
分、6は金属膜、7は金属層、8は完成した光記録媒体
用スタンパである。
1 is a glass master, 2 is a positive resist layer, 3 is a water-soluble resin layer, 4 is an exposed portion, 5 is a developed portion, 6 is a metal film, 7 is a metal layer, and 8 is a completed light. This is a recording medium stamper.

【0010】ガラス原盤1の表面を清浄化し、ヘキサメ
チルジシラザンによりレジストとの密着性を良くする処
理を施した。次にポジ型のレジスト層2をスピンコート
法によって塗布することによって形成し、50℃から9
0℃程度のプリベークを施すことによりレジスト層内部
の溶剤を取り除いた。
The surface of the glass master 1 was cleaned and treated with hexamethyldisilazane to improve the adhesion to the resist. Next, a positive resist layer 2 is formed by applying a spin coat method,
The solvent in the resist layer was removed by performing prebaking at about 0 ° C.

【0011】次に、そのレジスト層の表面に水溶性樹脂
層3を形成した。その水溶性樹脂層の塗布はガラス原盤
1ごと回転させながら水溶性樹脂をレジスト上に広げる
方法で、スピンコートの要領で行なった。しかしこの塗
布方法は、ディップ法やカーテンコートなど他の方法で
も行なうことができた。水溶性樹脂の種類としてはポリ
ビニルピロリドンを主材料とするものを用いた。
Next, a water-soluble resin layer 3 was formed on the surface of the resist layer. The application of the water-soluble resin layer was performed by a method of spin-coating by spreading the water-soluble resin on the resist while rotating the glass master 1 together. However, this coating method could be performed by other methods such as dipping and curtain coating. As the kind of the water-soluble resin, a resin containing polyvinylpyrrolidone as a main material was used.

【0012】その後、ガラス原盤を加熱することによ
り、レジストおよび水溶性樹脂層をプリベークし、光記
録媒体のパターンに応じて露光して露光部分4を形成し
た。この露光は水溶性樹脂層3を純水または溶剤などで
除去した後であっても、レジスト層の保護およびゴミの
付着防止などの効果があった。この水溶性樹脂層3の除
去方法として原盤1ごと回転させながら水をかけ、その
後回転を増して水切りを行った。またこの露光は原盤1
を回転させながら集光したHeCdレーザーを用いて行
なった。それから無機または有機アルカリ系の現像液を
用いて現像し、現像部分5を形成した。そして80℃か
ら90℃程度でポストベークを行なった。この露光工程
において、レーザーの焦点がレジスト表面にあたるよう
に、レジストと水溶性樹脂の屈折率を変えることでも同
様の効果があった。通常のレジストは芳香族系のノボラ
ック樹脂が用いられているので、1.6を越す屈折率を
得られるが、水溶性樹脂を脂肪族系にすると1.4台の
屈折率にすることができた。また、この焦点を水溶性樹
脂の表面にくるようにして、レーザービームの中心部だ
けでレジストを露光するときは、レジストと水溶性樹脂
の屈折率はなるべく近づけた方がよかった。
Thereafter, by heating the glass master, the resist and the water-soluble resin layer were pre-baked, and exposed according to the pattern of the optical recording medium to form an exposed portion 4. This exposure has effects such as protection of the resist layer and prevention of adhesion of dust even after the water-soluble resin layer 3 is removed with pure water or a solvent. As a method for removing the water-soluble resin layer 3, water was applied while rotating the master 1 and then the rotation was increased to drain the water. Also, this exposure is Master 1
Was carried out using a HeCd laser focused while rotating. Then, development was performed using an inorganic or organic alkaline developer to form a developed portion 5. Then, post baking was performed at about 80 ° C. to 90 ° C. In this exposure step, a similar effect was obtained by changing the refractive indices of the resist and the water-soluble resin so that the laser focused on the resist surface. Since a normal resist uses an aromatic novolak resin, a refractive index of more than 1.6 can be obtained. However, when a water-soluble resin is made of an aliphatic resin, a refractive index of 1.4 can be obtained. Was. When the resist is exposed only at the center of the laser beam such that the focal point is located on the surface of the water-soluble resin, it is better that the refractive indices of the resist and the water-soluble resin be as close as possible.

【0013】現像した後、ニッケル膜を真空成膜によっ
て400から2000Å程度成膜して、金属膜6を形成
し、その金属膜6を電極にして金属層7であるニッケル
層を0.2から0.3ミリメートル程度電鋳した。そし
てガラス原盤1から剥離して内外径を加工してスタンパ
8を形成した。真空成膜としては、蒸着、スパッタリン
グ、CVD、イオンプレーティングなどがあり、いずれ
も同様な効果があった。また、電鋳の方法としてはスル
ファミン酸系の添加剤を用いる電解メッキの他に無電解
メッキなどの方法も用いることができた。
After the development, a nickel film is formed by vacuum film formation at a thickness of about 400 to 2000 ° to form a metal film 6, and the nickel layer which is the metal layer 7 is formed from the metal layer 6 using the metal film 6 as an electrode. Electroformed about 0.3 mm. Then, the stamper 8 was formed by peeling off the glass master 1 and processing the inner and outer diameters. Vacuum film formation includes vapor deposition, sputtering, CVD, ion plating and the like, and all have the same effect. As the electroforming method, a method such as electroless plating could be used in addition to electrolytic plating using a sulfamic acid-based additive.

【0014】次にこのスタンパ8を用いて射出成形、射
出圧縮成形あるいはフォトポリマー法等により、ポリカ
ーボネート樹脂または非晶性ポリオレフィンその他の樹
脂を用いて基板を成形した。
Next, a substrate was formed by using the stamper 8 by injection molding, injection compression molding, a photopolymer method, or the like, using a polycarbonate resin, an amorphous polyolefin, or another resin.

【0015】さらに、この基板に記録層を成膜して光デ
ィスクを作成した。この場合の記録層としては希土類金
属と遷移金属の合金よりなる光磁気記録膜、テルルと酸
化テルルの混合になる光相変化型あるいはシアニンなど
の色素を用いたものなど様々なものを用いることが可能
であった。
Further, an optical disk was prepared by forming a recording layer on the substrate. In this case, as the recording layer, various types such as a magneto-optical recording film made of an alloy of a rare earth metal and a transition metal, an optical phase change type in which tellurium and tellurium oxide are mixed, or a layer using a dye such as cyanine can be used. It was possible.

【0016】次に、本実施例で用いるレジストについて
説明する。ポジ型のレジスト層2はナフトキノンジアジ
ド系、フェノールノボラック樹脂系、そして溶剤として
主にエチルセルソルブアセテートを主溶剤としたものを
用いるが、この溶剤としてはこれに限定されるものでは
なくキシレン、酢酸ブチルなどを数10%程度添加した
ものでもよかった。そして、レジストの感剤は露光に用
いる光で高感度のものが好ましい。すなわち、HeCd
レーザーの波長で高感度のものを用いるようにした。レ
ジストの解像度を向上させるため、フェノールノボラッ
ク樹脂の分子量の分散(重量平均分子量/数平均分子
量)は3未満になるように合成されたものを用いること
が好ましかった。より好ましくは2未満であった。現像
はアルカリ液によって行なったが、ケイ酸ナトリウム
系、燐酸ナトリウム系あるいはこれらの緩衝液や水酸化
第4アルキルアンモニウムなどを用いることができた。
Next, the resist used in this embodiment will be described. The positive type resist layer 2 uses a naphthoquinonediazide type, a phenol novolak resin type, and a solvent mainly containing ethylcellosolve acetate as a main solvent. However, the solvent is not limited to xylene, acetic acid, and the like. What added several tens% of butyl etc. may be sufficient. The sensitizer of the resist is preferably one having high sensitivity to light used for exposure. That is, HeCd
High sensitivity was used at the wavelength of the laser. In order to improve the resolution of the resist, it is preferable to use a phenol novolak resin synthesized so that the molecular weight dispersion (weight average molecular weight / number average molecular weight) is less than 3. More preferably, it was less than 2. The development was performed with an alkali solution, but a sodium silicate system, a sodium phosphate system, a buffer solution thereof, a quaternary alkyl ammonium hydroxide, or the like could be used.

【0017】また、この現像液には現像の均一性をはか
るため界面活性剤を添加した方がよかった。添加する界
面活性剤は現像の阻害効果の少なく、現像液のアルカリ
との相性のよいアニオン界面活性剤が好ましく、アニオ
ン界面活性剤のなかでも現像液との相溶性や安定性など
を考慮して分子量が比較的大きく浸透性が高く安定なも
のがよかった。その例としてはアルキルスルホカルボン
酸塩、α−オレフィンスルホン酸塩、ポリオキシエチレ
ンアルキルエーテル酢酸塩、N−アシルアミノ酸および
その塩、N−アシルメチルタウリン塩、アルキル硫酸塩
ポリオキシアルキルエーテル硫酸塩、アルキル硫酸塩ポ
リオキシエチレンアルキルエーテル燐酸塩、ロジン酸石
鹸、ヒマシ油硫酸エステル塩、ラウリルアルコール硫酸
エステル塩、アルキルフェノール型燐酸エステル、アル
キル型燐酸エステル、アルキルアリルスルホン酸塩など
が挙げられ、実際同様の効果があった。
Further, it was better to add a surfactant to this developer in order to measure the uniformity of development. The surfactant to be added is preferably an anionic surfactant having a small inhibitory effect on development and having good compatibility with the alkali of the developing solution. Among the anionic surfactants, the compatibility with the developing solution and stability are taken into consideration. Those having a relatively high molecular weight and high permeability and being stable were preferred. Examples thereof include alkyl sulfocarboxylates, α-olefin sulfonates, polyoxyethylene alkyl ether acetates, N-acyl amino acids and salts thereof, N-acylmethyl taurine salts, alkyl sulfate polyoxyalkyl ether sulfates, Alkyl sulfate polyoxyethylene alkyl ether phosphate, rosin acid soap, castor oil sulfate, lauryl alcohol sulfate, alkyl phenol type phosphate, alkyl type phosphate, alkyl allyl sulfonate, etc. There was an effect.

【0018】(実施例2)次に図2について説明する。
9はガラス製の原盤、10は水溶性樹脂層、11はポジ
型のレジスト層、12は露光部分、13は現像部分、1
4は金属膜、15は金属層、16は光記録媒体用スタン
パである。
(Embodiment 2) Next, FIG. 2 will be described.
9 is a glass master, 10 is a water-soluble resin layer, 11 is a positive resist layer, 12 is an exposed portion, 13 is a developed portion,
Reference numeral 4 denotes a metal film, 15 denotes a metal layer, and 16 denotes a stamper for an optical recording medium.

【0019】ガラス製の原盤9に水溶性樹脂層10をス
ピンコート法またはディップ法によって形成した。その
上にポジ型のレジスト層11をスピンコート法によって
形成した。この場合ポジ型のレジスト層11を形成する
前に水によって水溶性樹脂層10を剥離することでも、
原盤の保護およびゴミの付着防止などの効果があった。
そして、原盤9を回転させながらレジスト層11を露光
すると露光部分12ができた。そして、この露光部分1
2を現像することによって現像部分13ができた。その
後この現像部分の上に金属膜14を真空成膜によって形
成した。ここでは金属層14として銀と銅の合金膜とニ
ッケル膜の2層膜とした。そして、金属層15を電鋳し
た。ここでは、金属層15としてニッケルをメッキし
た。そして原盤9から剥離し、内周部と外周部を加工
し、裏面を研磨することによって光記録媒体用スタンパ
16を形成した。
A water-soluble resin layer 10 was formed on a glass master 9 by spin coating or dipping. A positive resist layer 11 was formed thereon by spin coating. In this case, the water-soluble resin layer 10 may be peeled off with water before the positive resist layer 11 is formed.
This has the effect of protecting the master and preventing dust from adhering.
Then, when the resist layer 11 was exposed while rotating the master 9, an exposed portion 12 was formed. And this exposed part 1
By developing 2, a developing portion 13 was formed. Thereafter, a metal film 14 was formed on the developed portion by vacuum film formation. Here, the metal layer 14 was a two-layer film of a silver-copper alloy film and a nickel film. Then, the metal layer 15 was electroformed. Here, nickel was plated as the metal layer 15. Then, the stamper 16 for an optical recording medium was formed by peeling off the master 9, processing the inner and outer peripheral portions, and polishing the back surface.

【0020】(実施例3)ここで、従来の方法との比較
について説明する。従来のように水溶性樹脂層を形成し
ない場合は工程中の様々な要因により欠陥が多く生じ
た。しかし、本発明になる方法ではレジストコート直前
まで水溶性樹脂が存在するので、その保湿力によって表
面の導電性が維持され埃の脱離が容易であった。
(Embodiment 3) Here, a comparison with a conventional method will be described. When a water-soluble resin layer is not formed as in the conventional case, many defects are generated due to various factors during the process. However, in the method according to the present invention, since the water-soluble resin is present until immediately before the resist coating, the conductivity of the surface is maintained by the moisturizing force, and the desorption of dust is easy.

【0021】次に本発明になる方法により作成した光記
録媒体用スタンパを用いて、光記録媒体を作製した場合
について説明する。
Next, a case where an optical recording medium is manufactured using the optical recording medium stamper manufactured by the method according to the present invention will be described.

【0022】まず本実施例に示したようにして従来より
トラックピッチとピットのピッチが半分になるようにレ
ーザーカッティングマシンを用いて露光した。従来はト
ラックピッチが1.6μmであったのでこれを0.8μ
mにした。ピット列も同様に間隔を半分にした。そして
現像を行なって、本実施例に示した方法により基板を作
製した。その基板を用いて、記録層として白金とコバル
トからなる多層膜を成膜した光ディスクを用いて、83
0nmの波長のレーザーをSHG素子で415nmの波
長にした光学系で記録再生を行なったところ従来の方法
で作成した光記録媒体よりエラー発生率が10分の1に
減少した。
First, as shown in the present embodiment, exposure was performed using a laser cutting machine so that the track pitch and the pit pitch were reduced to half those of the prior art. Conventionally, the track pitch was 1.6 μm.
m. The interval of the pit row was also reduced by half. Then, development was performed, and a substrate was manufactured by the method described in this example. Using an optical disk on which a multilayer film made of platinum and cobalt is formed as a recording layer using the substrate, 83
When recording / reproducing was performed using an optical system in which a laser having a wavelength of 0 nm was converted to a wavelength of 415 nm by an SHG element, the error occurrence rate was reduced to one-tenth that of an optical recording medium prepared by a conventional method.

【0023】また、このノイズの低減化は希土類遷移金
属系の記録膜を用いた場合でも可能であった。例えば希
土類の例としてはCe、Pr、Nd、Sm、Eu、G
d、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Luから選
ばれた1種または2種以上の金属と、遷移金属としてF
e、Co、Niから選ばれた1種または2種以上の金属
膜よりなる、またはこれらにBe、B、C、N、Mg,
Al、Si、P、Sc,Ti、V、Cr、Mn、Cu、
Zn、Ga、Ge、As、Se、La、Y、Zr、N
b、Mo、Tc、Ru、Rh、Pd、Ag、Cd、I
n、Sn、Sb、Te、Hf、Ta、W、Re、Os、
Ir、Pt、Au、Pb、Bi、Poから選ばれた1種
または2種以上の金属からなる層の単独または多層膜で
構成された膜を用いることができた。多層膜の例として
は垂直磁気異方性を有する膜とカー回転角が再生波長で
大きい膜の組み合わせ、垂直磁気異方性の膜の間にカー
回転角の大きい膜を形成するもの、あるいは透明保護層
で記録層をサンドイッチした膜、さらにこれらに反射率
の高いAl、Ti、Ag、Pt、Auを主成分とする反
射膜などを有する場合などが考えられ、実際に同様な効
果があった。この場合はトラックピッチを1.6μmと
したがこれに限定されるものではなく、1.0μm程度
から1.6μm以上でも同様の効果が得られた。
Further, the noise can be reduced even when a rare earth transition metal based recording film is used. For example, examples of rare earth elements include Ce, Pr, Nd, Sm, Eu, and G.
one or more metals selected from d, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb and Lu, and F as a transition metal
e, one or two or more metal films selected from Co, Ni, or Be, B, C, N, Mg,
Al, Si, P, Sc, Ti, V, Cr, Mn, Cu,
Zn, Ga, Ge, As, Se, La, Y, Zr, N
b, Mo, Tc, Ru, Rh, Pd, Ag, Cd, I
n, Sn, Sb, Te, Hf, Ta, W, Re, Os,
A film composed of a single layer or a multilayer film of one or more metals selected from Ir, Pt, Au, Pb, Bi, and Po could be used. Examples of the multilayer film include a combination of a film having perpendicular magnetic anisotropy and a film having a large Kerr rotation angle at the reproduction wavelength, a film having a large Kerr rotation angle between the films having perpendicular magnetic anisotropy, or a transparent film. A film in which the recording layer is sandwiched by the protective layer and a reflective film mainly composed of Al, Ti, Ag, Pt, and Au having high reflectivity may be considered, and the same effect was actually obtained. . In this case, the track pitch was set to 1.6 μm, but the present invention is not limited to this. A similar effect was obtained when the track pitch was about 1.0 μm to 1.6 μm or more.

【0024】また、従来の方法で作成した光記録媒体用
スタンパと本発明による方法で作成した光記録媒体用ス
タンパを原子間力顕微鏡で観察したところ、本発明によ
る光記録媒体用スタンパは従来の方法によるものより表
面の凹凸が減少していることが観察され、これによって
記録信号ノイズ低減化が図られ、これによって光記録媒
体の性能を向上させることができるようになった。
When the stamper for an optical recording medium produced by the conventional method and the stamper for the optical recording medium produced by the method of the present invention were observed with an atomic force microscope, the stamper for an optical recording medium of the present invention was It was observed that the surface unevenness was reduced as compared with the method, whereby the recording signal noise was reduced, and the performance of the optical recording medium could be improved.

【0025】また、例えば本実施例ではレジストの露光
用光源としてHeCdレーザーを用いた例を示したが、
HeCdレーザーとしては448nmや325nmなど
の波長のもの、Arレーザー、SHG素子を用いたレー
ザーなどを用いた場合も同様の結果であった。本実施例
ではポリビニルピロリドンを主体とする水溶性樹脂を用
いる例について述べたが、これに限定されるものではな
い。アクリル酸系、アルギン酸系、カルボキシメチルセ
ルロース系、酢酸ビニル系などを用いてもよいが、水に
溶解したときに粘度が高くなる傾向があるので、ポリビ
ニルピロリドンのように水に溶解したときに粘度が低い
ものが塗布が容易であった。これら水溶性樹脂の保湿性
を確保するために界面活性剤を添加することでも同様の
結果が得られた。界面活性剤としては実施例1で述べた
アニオン系の界面活性剤の他に、ノニオン界面活性剤、
両性界面活性剤などを用いることができ、実際実験した
ところ同様な結果が得られた。
In this embodiment, for example, an example in which a HeCd laser is used as a light source for exposing a resist has been described.
Similar results were obtained when a HeCd laser having a wavelength of 448 nm or 325 nm, an Ar laser, a laser using an SHG element, or the like was used. In this embodiment, an example using a water-soluble resin mainly composed of polyvinylpyrrolidone has been described, but the present invention is not limited to this. Acrylic acid type, alginic acid type, carboxymethylcellulose type, vinyl acetate type, etc. may be used, but the viscosity tends to increase when dissolved in water. The lower ones were easier to apply. Similar results were obtained by adding a surfactant to ensure the moisture retention of these water-soluble resins. As the surfactant, in addition to the anionic surfactant described in Example 1, a nonionic surfactant,
An amphoteric surfactant or the like can be used, and similar results were obtained in an actual experiment.

【0026】尚、本発明はこれらの実施例のみに限定さ
れると考えるべきではなく、本発明の主旨を逸脱しない
限り本実施例各項における種々の変更は可能である。
It should be noted that the present invention should not be considered to be limited to only these embodiments, and various changes in each section of the embodiments are possible without departing from the gist of the present invention.

【0027】[0027]

【発明の効果】以上述べたように本発明によれば原盤お
よび/またはレジスト層の表面を水溶性樹脂によって保
護し、露光に応じた正確な溝やピットが形成できるよう
にし、これを用いて作成した光記録媒体のエラーを低下
させ、高性能高信頼性の光記録媒体を提供するという効
果を有する。
As described above, according to the present invention, the surface of the master and / or the resist layer is protected by a water-soluble resin so that accurate grooves and pits corresponding to the exposure can be formed. This has the effect of reducing errors in the created optical recording medium and providing an optical recording medium with high performance and high reliability.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の光記録媒体用スタンパの作製方法を示
す概念図である。
FIG. 1 is a conceptual diagram showing a method for manufacturing a stamper for an optical recording medium of the present invention.

【図2】本発明の光記録媒体用スタンパの作製方法を示
す概念図である。
FIG. 2 is a conceptual diagram illustrating a method for manufacturing a stamper for an optical recording medium of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 ガラス製の原盤 2 ポジ型のレジスト層 3 水溶性樹脂層 4 露光部分 5 現像部分 6 金属膜 7 金属層 8 光記録媒体用スタンパ 9 ガラス製の原盤 10 水溶性樹脂層 11 ポジ型のレジスト層 12 露光部分 13 現像部分 14 金属膜 15 金属層 16 光記録媒体用スタンパ REFERENCE SIGNS LIST 1 glass master 2 positive resist layer 3 water-soluble resin layer 4 exposed part 5 developed part 6 metal film 7 metal layer 8 stamper for optical recording medium 9 glass master 10 water-soluble resin layer 11 positive resist layer DESCRIPTION OF SYMBOLS 12 Exposure part 13 Developed part 14 Metal film 15 Metal layer 16 Stamper for optical recording media

Claims (5)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 原盤(1)の上にポジ型のレジスト層
(2)を形成し、光記録媒体の所定のパターンに露光お
よび現像し、金属膜(6)で表面を導体化し、さらに金
属層(7)を電鋳し前記原盤(1)から剥離して作成さ
れる光記録媒体用スタンパ(8)において、前記レジス
ト層(2)を塗布した後に水溶性樹脂層(3)を形成
し、該水溶性樹脂層(3)の上から、または該水溶性樹
脂層(3)を除去した後、前記ポジ型のレジスト層
(2)を露光することを特徴とする光記録媒体用スタン
パの製造方法。
1. A positive resist layer (2) is formed on a master (1), exposed and developed to a predetermined pattern of an optical recording medium, and the surface is made conductive with a metal film (6). A water-soluble resin layer (3) is formed after applying the resist layer (2) on an optical recording medium stamper (8) formed by electroforming the layer (7) and peeling the layer from the master (1). And a step of exposing the positive resist layer (2) from above or after removing the water-soluble resin layer (3). Production method.
【請求項2】 原盤(9)の上にポジ型のレジスト層1
1を形成する前に水溶性樹脂層(10)を形成し、該水
溶性樹脂層(10)の上または該水溶性樹脂層(10)
を除去した後、前記ポジ型のレジスト層(11)を塗布
および露光することを特徴とする光記録媒体用スタンパ
の製造方法。
2. A positive resist layer 1 on a master (9).
Forming a water-soluble resin layer (10) before forming 1 and on the water-soluble resin layer (10) or the water-soluble resin layer (10).
And then applying and exposing the positive resist layer (11) to the stamper for an optical recording medium.
【請求項3】 前記水溶性樹脂層(2、10)として、
ポリビニルピロリドンを主体とする物質を用いることを
特徴とする請求項1又は2記載の光記録媒体用スタンパ
の製造方法。
3. The water-soluble resin layer (2, 10)
3. The method for producing a stamper for an optical recording medium according to claim 1, wherein a substance mainly comprising polyvinylpyrrolidone is used.
【請求項4】 水溶性樹脂をスピンコート法により前記
レジスト上に塗布することにより、前記水溶性樹脂層
(3)を形成する請求項1記載の光記録媒体用スタンパ
の製造方法。
4. The method for producing a stamper for an optical recording medium according to claim 1, wherein the water-soluble resin layer is formed by applying a water-soluble resin onto the resist by a spin coating method.
【請求項5】 水溶性樹脂をスピンコート法又はディッ
プ法により前記原盤上に塗布することにより、前記水溶
性樹脂層(10)を形成する請求項2記載の光記録媒体
用スタンパの製造方法。
5. The method for producing a stamper for an optical recording medium according to claim 2, wherein the water-soluble resin layer is formed by applying a water-soluble resin onto the master by spin coating or dipping.
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