JP3102824B2 - Substrate processing equipment - Google Patents
Substrate processing equipmentInfo
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- JP3102824B2 JP3102824B2 JP13124693A JP13124693A JP3102824B2 JP 3102824 B2 JP3102824 B2 JP 3102824B2 JP 13124693 A JP13124693 A JP 13124693A JP 13124693 A JP13124693 A JP 13124693A JP 3102824 B2 JP3102824 B2 JP 3102824B2
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- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、半導体基板（以下単に
基板と称する）のゲート酸化膜等を形成する前段のいわ
ゆる前処理洗浄工程と、当該酸化膜を形成する酸化工程
・ＣＶＤ工程等の熱処理を一連のものとして行うように
した基板処理装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a so-called pre-processing cleaning step at a stage prior to forming a gate oxide film or the like on a semiconductor substrate (hereinafter simply referred to as a substrate) and an oxidation step / CVD step for forming the oxide film. The present invention relates to a substrate processing apparatus that performs heat treatment as a series.
【０００２】[0002]
【従来の技術】一般に、基板製造用クリーンルームは、
図４に示すように、中央通路の左右にリソグラフィー工
程、洗浄工程、検査工程、ＣＶＤ工程、酸化工程、メタ
ライズ工程などの各ラインが配置され、各工程毎に基板
を収容したカセットの搬送路が分岐状にレイアウトされ
ている。そして、中央通路とカセット搬送路はクリーン
ルーム作業域１３０(図４の白地部分)として、その他は
保全用作業域１３１（図４の斜線部分）として形成され
ている。なお、保全用作業域１３１は、クリーンルーム
作業域１３０よりもクリーン度は劣る。2. Description of the Related Art Generally, a clean room for manufacturing a substrate includes:
As shown in FIG. 4, lines such as a lithography process, a cleaning process, an inspection process, a CVD process, an oxidation process, and a metallization process are arranged on the left and right of the central passage, and a transport path of a cassette accommodating a substrate is provided for each process. It is laid out in a branch shape. The central passage and the cassette transport path are formed as a clean room work area 130 (white area in FIG. 4), and the others are formed as a maintenance work area 131 (hatched area in FIG. 4). The maintenance work area 131 has a lower degree of cleanliness than the clean room work area 130.
【０００３】従来では、上記前処理洗浄工程は図４の洗
浄工程において、また、ゲート酸化膜等の形成は酸化工
程におい行われていた。このため上記前処理洗浄（いわ
ゆるＲＣＡ洗浄）をした後、酸化工程で酸化膜の形成が
行われるまでには、下記のように相当の時間を要する。
即ち、図５で示すように、ある洗浄処理装置１００によ
り前処理洗浄を終えた基板はカセットＣに収容され、そ
のカセットＣはカセット搬送路Ｒ1を介して洗浄工程の
カセット停留部Ａへ戻される。そして各工程間では中央
通路Ｒ0を介して酸化工程のカセット停留部Ａにカセッ
トＣが搬入され、酸化工程ではカセット搬送路Ｒ2を介
してカセット停留部Ａから熱処理炉を有する熱処理装置
２００へカセットＣが搬入される。このため、洗浄処理
装置１００により前処理洗浄を終えてから熱処理装置２
００で酸化膜の形成が行われるまでの間に相当の時間を
要する。Conventionally, the pretreatment cleaning step has been performed in the cleaning step of FIG. 4, and the formation of a gate oxide film and the like has been performed in the oxidation step. For this reason, after the above pretreatment cleaning (so-called RCA cleaning), a considerable time is required as described below before an oxide film is formed in the oxidation step.
That is, as shown in Figure 5, there is a substrate having been subjected to the pre-treatment cleaning by cleaning apparatus 100 is housed in the cassette C, and returned to the cassette retaining area A of the cassette C is washing step through the cassette transport path R 1 It is. Then, between each process, the cassette C is carried into the cassette stopping portion A in the oxidation step via the central passage R 0 , and in the oxidation step, the cassette C is transferred from the cassette stopping portion A to the heat treatment apparatus 200 having a heat treatment furnace via the cassette transfer path R 2 . The cassette C is carried in. Therefore, after the pre-processing cleaning is completed by the cleaning processing apparatus 100, the heat treatment apparatus 2
A considerable time is required until the oxide film is formed at 00.
【０００４】上記洗浄処理装置１００は、前記クリーン
ルーム作業域（カセット搬送路Ｒ1）に臨む前方から保
全用作業域に臨む後方に向かって、基板を収容したカセ
ットＣの搬入搬出部１０１と、上記カセットＣから基板
を取り出し又はカセットＣ内へ基板を装填する基板移載
部１０２と、複数の基板を一括して洗浄する洗浄処理部
１０３と、複数の基板を一括して乾燥する基板乾燥部１
０４とを順に配置するとともに、上記カセットの搬入搬
出部１０１と基板移載部１０２との間でカセットＣを移
載するカセット移載ロボット（図示せず）と、上記基板
移載部１０２から基板乾燥部１０４にわたり複数の基板
を一括保持して搬送する基板搬送ロボット（図示せず）
とを設けて成り、アルカリ洗浄・水洗、フッ化水素洗浄
・酸洗浄、水洗・最終リンスなどの各種の洗浄処理をす
るように構成されている。The cleaning apparatus 100 includes a loading / unloading section 101 for loading and unloading a cassette C containing substrates from the front facing the clean room work area (cassette transport path R 1 ) to the rear facing the maintenance work area. A substrate transfer unit 102 for taking out substrates from the cassette C or loading substrates into the cassette C, a cleaning processing unit 103 for simultaneously cleaning a plurality of substrates, and a substrate drying unit 1 for simultaneously drying a plurality of substrates.
And a cassette transfer robot (not shown) for transferring the cassette C between the cassette loading / unloading section 101 and the substrate transfer section 102, A substrate transfer robot (not shown) that collectively holds and transfers a plurality of substrates over the drying unit 104
And various cleaning processes such as alkali cleaning / water cleaning, hydrogen fluoride cleaning / acid cleaning, water cleaning / final rinsing, and the like.
【０００５】また、上記熱処理装置２００は、前記クリ
ーンルーム作業域（カセット搬送路Ｒ2 ）に臨む前方か
ら保全用作業域に臨む後方に向かって、基板を収容した
カセットＣの搬入搬出部２０１と、上記カセットＣから
基板を取り出し又はカセットＣ内へ基板を装填する基板
移載部２０２と、上記カセットＣから取り出した基板を
基板収納ボートへ一括して移し替える基板移替部２０３
と、基板収納ボートに収容した基板を熱処理する熱処理
部２０４とを順に配置するとともに、上記カセットの搬
入搬出部２０１と基板移載部２０２との間でカセットＣ
を移載するカセット移載ロボット（図示せず）と、上記
基板移載部２０２でカセットＣから取り出した複数の基
板を一括保持して基板移替部２０３へ搬送する基板搬送
ロボット（図示せず）と、基板移替部２０３と熱処理部
２０４との間で基板収納ボートを搬送するボート搬送ロ
ボット（図示せず）とを設け、複数の基板を基板移替部
２０３で基板収納ボートに移し替え、この基板収納ボー
トを熱処理炉内に装填して基板にゲート酸化膜等を形成
するように構成されている。The heat treatment apparatus 200 includes a loading / unloading section 201 for loading and unloading a cassette C containing substrates from the front facing the clean room work area (cassette transfer path R 2 ) to the rear facing the maintenance work area. A substrate transfer unit 202 for taking out substrates from the cassette C or loading substrates into the cassette C, and a substrate transfer unit 203 for collectively transferring substrates taken out from the cassette C to a substrate storage boat.
And a heat treatment section 204 for heat-treating the substrates accommodated in the substrate storage boat are arranged in this order, and the cassette C is moved between the loading / unloading section 201 of the cassette and the substrate transfer section 202.
And a substrate transfer robot (not shown) that collectively holds a plurality of substrates taken out of the cassette C by the substrate transfer unit 202 and transfers the substrates to the substrate transfer unit 203. ) And a boat transfer robot (not shown) for transferring the substrate storage boat between the substrate transfer unit 203 and the heat treatment unit 204, and transfers a plurality of substrates to the substrate storage boat by the substrate transfer unit 203. , and it is configured to form a gate oxide film or the like on a substrate loaded with the substrate housing boat into the heat treatment furnace.
【０００６】[0006]
【発明が解決しようとする課題】上記のように前処理洗
浄をした後、酸化工程で酸化膜の形成が行われるまでの
間に高純度のゲート酸化膜を被着形成すべき基板の表面
は、クリーンルーム作業域内のガス（水分）やパーティ
クルの汚染を受ける。特にゲート酸化膜の薄膜化が要求
される今日では、上記汚染は無視できなくなりつつあ
り、この汚染を極力少なくするには、前処理洗浄終了か
ら熱処理炉による酸化膜形成までの時間を短縮すること
が必要となる。After the pretreatment cleaning as described above, the surface of the substrate on which a high-purity gate oxide film is to be formed before the oxide film is formed in the oxidation step is formed. , Subject to gas (moisture) and particle contamination in the clean room working area. In particular, today, where a thinner gate oxide film is required, the above-mentioned contamination is no longer negligible. To reduce this contamination as much as possible, shorten the time from the end of pretreatment cleaning to the formation of an oxide film by a heat treatment furnace. Is required.
【０００７】しかし、現状の各工程間距離を短縮した
り、カセット搬送手段のスピードアップを実現するには
限界がある。また、従来の基板製造用クリーンルームの
配置変更を回避するのが望ましい。本発明は、このよう
な事情に鑑みてなされたもので、 従来の基板製造用クリーンルームの枠内で、基板の
ゲート酸化膜等を形成する前段のいわゆる前処理洗浄工
程と、当該酸化膜を形成する酸化工程・ＣＶＤ工程等の
熱処理を連続的に行ない、基板の表面がクリーンルーム
作業域内のガスやパーティクルで汚染されないようにす
ること、 カセットＣの搬入搬出部１０１・２０１・基板移載
部１０２・２０２の重複配置をなくして、全体として迅
速処理を図り、基板処理装置の設置面積を小さくするこ
と、を技術的課題とする。[0007] However, there is a limit to shortening the current distance between each process or to increasing the speed of the cassette conveying means. It is also desirable to avoid changing the layout of a conventional substrate manufacturing clean room. The present invention has been made in view of such circumstances, and in a frame of a conventional substrate manufacturing clean room, a so-called pretreatment cleaning step at a preceding stage of forming a gate oxide film or the like of a substrate, and forming the oxide film. Heat treatment such as an oxidation process and a CVD process is performed continuously so that the surface of the substrate is not contaminated by gas and particles in the clean room working area. The loading / unloading unit 101/201 of the cassette C / the substrate transfer unit 102 / It is a technical problem to eliminate the overlapping arrangement of the 202s, to achieve rapid processing as a whole, and to reduce the installation area of the substrate processing apparatus.
【０００８】[0008]
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に本発明が採用した基板処理装置は、以下のように構成
される。即ち、基板を収容したカセットの搬入搬出部
と、上記カセットから基板を取り出し又はカセット内へ
基板を装填する基板移載部と、複数の基板を一括して洗
浄する洗浄処理部と、複数の基板を一括して乾燥する基
板乾燥部と、乾燥した基板を基板収納ボートへ一括して
移し替える基板移替部と、基板収納ボートに収容した基
板を熱処理する熱処理部を所定の方向に沿って一連に配
置するとともに、上記カセットの搬入搬出部と基板移載
部との間でカセットを移載するカセット移載ロボット
と、前記所定の方向に沿って移動可能に設けられるとと
もに、前記所定の方向に対して前後方向に起立整列され
た複数の基板を一括保持して、上記基板移載部から基板
移替部にわたり複数の基板を搬送する基板搬送ロボット
と、基板移替部と熱処理部との間で基板収納ボートを搬
送するボート搬送ロボットとを設け、基板搬送ロボット
から受け取った基板を基板移替部で基板収納ボートに移
し替え、この基板収納ボートをボート搬送ロボットで搬
送するように構成したことを特徴とする。Means for Solving the Problems A substrate processing apparatus adopted by the present invention to solve the above problems is configured as follows. That is, a loading / unloading section for a cassette containing substrates, a substrate transfer section for removing a substrate from the cassette or loading a substrate into the cassette, a cleaning processing section for cleaning a plurality of substrates at once, and a plurality of substrates. A substrate drying unit that collectively dry the substrates, a substrate transfer unit that collectively transfers the dried substrates to the substrate storage boat, and a heat treatment unit that heat-treats the substrates stored in the substrate storage boat along a predetermined direction. And a cassette transfer robot that transfers the cassette between the loading / unloading section of the cassette and the substrate transfer section, and is provided so as to be movable along the predetermined direction.
In addition, it is vertically aligned in the front-rear direction with respect to the predetermined direction.
Holding a plurality of substrates at once, and
A substrate transfer robot that transfers multiple substrates over the transfer unit, and a boat transfer robot that transfers a substrate storage boat between the substrate transfer unit and the heat treatment unit are provided, and the substrates received from the substrate transfer robot are transferred. And transferring the substrate storage boat to the substrate storage boat using a boat transfer robot.
【０００９】[0009]
【作 用】本発明では、上記のようにカセットの搬入搬
出部・基板移載部・洗浄処理部・基板乾燥部・基板移替
部・熱処理部は一連に配置されており、基板のゲート酸
化膜等を形成する前段のいわゆる前処理洗浄と、当該酸
化膜等を形成する熱処理とが一連の表面処理として行わ
れる。これにより、前処理洗浄を終えた基板が、熱処理
炉により酸化膜の形成が行われるまでの間に、クリーン
ルーム作業域内のガスやパーティクルで汚染されること
はなくなる。また、上記のように一連に配置することに
より、従来例のようなカセットの搬入搬出部・基板移載
部を重複配置する必要はなくなる。[Operation] In the present invention, as described above, the cassette loading / unloading section, substrate transfer section, cleaning processing section, substrate drying section, substrate transfer section, heat treatment section are arranged in series, and the gate oxidation of the substrate is performed. A so-called pretreatment cleaning before forming a film or the like and a heat treatment for forming the oxide film or the like are performed as a series of surface treatments. Thus, the substrate after the pretreatment cleaning is not contaminated by the gas or particles in the clean room working area until the oxide film is formed by the heat treatment furnace. Further, by arranging the cassettes in a series as described above, it is not necessary to arrange the cassette loading / unloading section and the substrate transfer section in a conventional manner.
【００１０】[0010]
【実施例】以下本発明の実施例を図面に基づいてさらに
詳しく説明する。図１は本発明の第１の実施例に係る基
板処理装置の斜視図、図２はその基板処理装置の概要を
示す側面図である。この基板処理装置は、前記クリーン
ルーム作業域１３０に臨む前方から保全用作業域１３１
に臨む後方に向かって、カセットの搬入搬出部１・基板
移載部２及びカセット洗浄部９・洗浄処理部３・基板乾
燥部４・基板移替部５・熱処理部６を一連に配置し、カ
セット搬入搬出部１と基板移載部２との間でカセットＣ
を移載するカセット移載ロボット１０と、上記基板移載
部２から基板移替部５にわたり複数の基板を一括保持し
て搬送する基板搬送ロボット１５と、基板移替部５と熱
処理部６との間で基板収納ボートＢを搬送するボート搬
送ロボット８０とを具備して成る。Embodiments of the present invention will be described below in more detail with reference to the drawings. FIG. 1 is a perspective view of a substrate processing apparatus according to a first embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a side view showing an outline of the substrate processing apparatus. The substrate processing apparatus includes a maintenance work area 131 from the front facing the clean room work area 130.
A cassette loading / unloading section 1, a substrate transfer section 2, a cassette cleaning section 9, a cleaning processing section 3, a substrate drying section 4, a substrate transfer section 5, and a heat treatment section 6 are arranged in series toward the rear facing the The cassette C is placed between the cassette loading / unloading section 1 and the substrate transfer section 2.
A cassette transfer robot 10 that transfers a plurality of substrates, a substrate transfer robot 15 that collectively holds and transfers a plurality of substrates from the substrate transfer unit 2 to the substrate transfer unit 5, and a substrate transfer unit 5 and a heat treatment unit 6. And a boat transport robot 80 for transporting the substrate storage boat B between them.
【００１１】上記カセットの搬入搬出部１は、前記カセ
ット停留部Ａから搬入されてきたカセットＣを一時載置
するためのローダ部１ａと、熱処理終了後の基板Ｗを収
容したカセットＣを搬出するためのアンローダ部１ｃ
と、ローダ部１ａとアンローダ部１ｃとの間のバッファ
部１ｂとから成る。上記ローダ部１ａとアンローダ部１
ｃの下側には、図２で示すように、基板Ｗのオリエンテ
ーションフラットを整合する整合ローラ１０５が設けら
れており、各カセットＣ内の基板Ｗのオリエンテーショ
ンフラットを揃えるように構成されている。The cassette loading / unloading section 1 unloads the loader section 1a for temporarily placing the cassette C loaded from the cassette stopping section A and the cassette C containing the substrate W after the heat treatment. Section 1c
And a buffer section 1b between the loader section 1a and the unloader section 1c. The loader section 1a and the unloader section 1
As shown in FIG. 2, an alignment roller 105 for aligning the orientation flat of the substrate W is provided below c, and is configured to align the orientation flat of the substrate W in each cassette C.
【００１２】上記カセット移載ロボット１０は、図１及
び図２で示すように、昇降及び回転自在で、矢印Ａ方向
へ移動可能に構成され、上記ローダ部１ａのカセットＣ
を基板移載部２のターンテーブル２１上へ、また、洗浄済
み基板を収容したカセットＣをターンテーブル２１から
アンローダ部１ｃへ移載するように構成されている。ま
た基板搬送ロボツト１５は、矢印Ｂ方向へ移動可能に設
けられ、後述する基板移載部２のリフター２３から受け
取った複数の基板Ｗを一対の基板挟持アーム１６で保持
し、洗浄処理部３・基板乾燥部４・基板移替部５へ順次
搬送するように構成されている。As shown in FIGS. 1 and 2, the cassette transfer robot 10 is configured to be movable up and down, rotatable, and movable in the direction of arrow A.
Is transferred onto the turntable 21 of the substrate transfer section 2 and the cassette C containing the cleaned substrates is transferred from the turntable 21 to the unloader section 1c. The substrate transport robot 15 is provided so as to be movable in the direction of arrow B. The substrate transport robot 15 holds a plurality of substrates W received from a lifter 23 of the substrate transfer unit 2 described later with a pair of substrate holding arms 16, and the cleaning processing unit 3. It is configured to sequentially convey to the substrate drying section 4 and the substrate transfer section 5.
【００１３】上記基板移載部２は、２個のターンテーブ
ル２１と、各ターンテーブル２１を水平回転させる駆動
モータ２２と、各ターンテーブル２１の開口とカセット
Ｃの挿通口を挿通するように昇降可能に設けられたリフ
ター２３とを具備して成り、各ターンテーブル２１上に
載置されたカセットＣの方向を９０゜回転させて後続の
処理のために基板Ｗの方向を変えるとともに、各カセッ
トＣ内の複数（２５枚＋２５枚）の基板Ｗを起立整列状
態のまま、リフター２３で一括保持して持ち上げ、それ
らの基板Ｗを上記基板搬送ロボツト１５との間で一括し
て受け渡すように構成されている。上記基板移載部２の
側方には、カセットＣの洗浄部９が配置されている。基
板Ｗを基板搬送ロボツト１５に受け渡したカセットＣ
は、移載ロボット１０により、ターンテーブル２１より
カセットＣの洗浄部９に搬送され、その洗浄がなされた
後、再度ターンテーブル２１に移載される。The substrate transfer section 2 includes two turntables 21, a drive motor 22 for horizontally rotating the turntables 21, and a vertical movement so as to pass through the openings of the turntables 21 and the insertion opening of the cassette C. And a lifter 23 provided on the turntable 21 to rotate the direction of the substrate W for subsequent processing by rotating the direction of the cassette C mounted on each turntable 21 by 90 °. A plurality of (25 + 25) substrates W in C are held and lifted collectively by the lifter 23 while standing and aligned, and the substrates W are transferred to and from the substrate transport robot 15 at once. It is configured. A cleaning unit 9 of the cassette C is disposed beside the substrate transfer unit 2. Cassette C that has transferred the substrate W to the substrate transfer robot 15
Is transferred from the turntable 21 to the cleaning section 9 of the cassette C by the transfer robot 10, and after being cleaned, is transferred to the turntable 21 again.
【００１４】上記洗浄処理部３は、単一の槽内で順次薬
液や純水を切り換えて基板の処理を行う、いわゆるワン
バス方式の３個のオーバーフロー型の洗浄処理槽３１
と、前記基板搬送ロボツト１５から基板Ｗを起立整列状
態のまま受け取って各洗浄処理槽３１内に浸漬する昇降
可能な基板保持具３２と、各洗浄処理槽３１の下側に配
置されたオーバーフロー液回収部３３と、その下側の薬
液容器等のユーティリティ部３４とから成り、各洗浄処
理槽３１はアルカリ洗浄、純水洗浄、フッ化水素洗浄、
酸洗浄、純水洗浄、最終リンスなどの一連の洗浄処理を
それぞれ各処理槽において並行して行うことができるよ
うに構成されている。なお、各洗浄処理槽３１は、例え
ば石英ガラスやフッ素樹脂製で、その下部に薬液供給管
を連結して成り、槽内に洗浄液の均一な上昇流を形成し
て基板Ｗの表面処理をするとともに、複数種の洗浄処理
毎に洗浄液を迅速に置換し得るオーバーフロー槽として
構成されている。The cleaning section 3 is a so-called three overflow type cleaning tank 31 of a so-called one-bath type, in which a substrate is processed by sequentially switching between a chemical solution and pure water in a single tank.
A substrate holder 32 capable of receiving a substrate W from the substrate transport robot 15 in an upright and aligned state and dipping the substrate W into each of the cleaning tanks 31; and an overflow liquid disposed below each of the cleaning tanks 31. The cleaning unit 31 includes a collection unit 33 and a utility unit 34 such as a chemical solution container below the cleaning unit.
A series of cleaning processes such as acid cleaning, pure water cleaning, and final rinsing can be performed in each processing tank in parallel. Each of the cleaning tanks 31 is made of, for example, quartz glass or fluororesin, and has a lower portion connected to a chemical supply pipe, and forms a uniform upward flow of the cleaning liquid in the tank to perform surface treatment on the substrate W. In addition, it is configured as an overflow tank that can quickly replace the cleaning liquid for each of a plurality of types of cleaning processes.
【００１５】上記基板乾燥部４は、遠心式乾燥機４１を
備えて成り、例えば本出願人の提案に係る特開平１−２
５５２２７号公報に開示したように、基板の主平面の中
心近傍を回転中心として基板を回転させ、その回転遠心
力で液切り乾燥するように構成されている。なお、この
遠心式乾燥機４１に代えて溶剤を用いて乾燥を促進する
ものや、減圧方式により乾燥を促進するものを採用する
こともできる。上記基板移替部５は、複数（５０枚）の
基板を収容し得る基板収容ボート５０を載置するボート
載置台５１と、そのボート５０を両端で圧接保持する一
対のボート保持具５２と、基板収容ボート５０及びボー
ト載置台５１の挿通口を挿通するように昇降可能に設け
られたリフター５３とを具備して成り、前記基板搬送ロ
ボツト１５が保持している５０枚の基板Ｗをリフター５
３を介して基板収容ボート５０内に移し替えるように構
成されている。The substrate drying section 4 is provided with a centrifugal dryer 41.
As disclosed in Japanese Patent No. 55227, the substrate is rotated around the center of the main plane of the substrate as a center of rotation, and the liquid is dried and dried by the rotational centrifugal force. Instead of the centrifugal dryer 41, a device that promotes drying by using a solvent or a device that promotes drying by a decompression method can be adopted. The substrate transfer section 5 includes a boat mounting table 51 on which a substrate storage boat 50 capable of storing a plurality of (50) substrates is mounted, a pair of boat holders 52 for pressing and holding the boat 50 at both ends, And a lifter 53 that can be lifted and lowered so as to pass through the insertion holes of the substrate storage boat 50 and the boat mounting table 51, and the 50 substrates W held by the substrate transport robot 15 are lifted by the lifter 5.
It is configured to be transferred to the substrate storage boat 50 via the third storage device 3.
【００１６】上記基板移替部５と熱処理部６との間に
は、昇降式のボート搬送ロボット８０Ａが配備されてい
る。このボート搬送ロボット８０Ａは、昇降自在の昇降
アーム８１と、この昇降アーム８１の先端部下面に水平
回動自在に設けられたスカラー方式の多関節アーム８２
と、この多関節アーム８２の先端部下面に設けられたボ
ートチャック８３とから成り、上記基板移替部５の基板
収容ボート５０をボートチャック８３で保持して、熱処
理部６の各ボート装填用ローダ６２Ａに引き渡すように
構成されている。Between the substrate transfer section 5 and the heat treatment section 6, a lifting boat transport robot 80A is provided. The boat transfer robot 80A includes an elevating arm 81 that can move up and down, and a scalar multi-joint arm 82 that is horizontally rotatable provided on the lower surface of the tip of the elevating arm 81.
And a boat chuck 83 provided on the lower surface of the distal end portion of the multi-joint arm 82. The substrate accommodating boat 50 of the substrate transfer unit 5 is held by the boat chuck 83, and the boat loading of the heat treatment unit 6 is performed. It is configured to deliver the loader 62 a.
【００１７】上記熱処理部６は、三段に積み重ねた各横
型熱処理炉６１Ａと、各熱処理炉６１Ａに基板収容ボー
ト５０を装填する上記ボート装填用ローダ６２Ａとを具
備して成り、各横型熱処理炉６１Ａは、酸化工程・ＣＶ
Ｄ工程等の熱処理を一連に行うようにしたもので、少な
くとも前記酸化膜を形成する酸化炉を有している。 上記ボート装填用ローダ６２Ａは、熱処理炉６１Ａへ向
けて進退自在に設けられた水平アーム６３と、この水平
アーム６３の先端部にクッション（図示せず）を介して
設けられた炉口キャップ６４と、炉口キャップ６４から
熱処理炉６１へ向かって水平に伸びるボート受け具６５
とを具備して成り、上記ボートチャック８３から受け取
った基板収容ボート５０を熱処理炉６１Ａ内に装填して
その炉口を閉止するように構成されている。基板Ｗは基
板収容ボート５０に収容されたまま熱処理される。The heat treatment section 6 comprises three horizontal heat treatment furnaces 61A stacked in three stages, and a boat loading loader 62A for loading the substrate accommodation boat 50 into each heat treatment furnace 61A. 61A is an oxidation step / CV
A series of heat treatments such as a process D are performed, and at least an oxidation furnace for forming the oxide film is provided. The boat loading loader 62A includes a horizontal arm 63 provided to be able to advance and retreat toward the heat treatment furnace 61A, and a furnace port cap 64 provided at a distal end of the horizontal arm 63 via a cushion (not shown). , Boat support 65 extending horizontally from furnace port cap 64 toward heat treatment furnace 61
The substrate accommodating boat 50 received from the boat chuck 83 is loaded into the heat treatment furnace 61A and its furnace port is closed. The substrate W is heat-treated while being stored in the substrate storage boat 50.
【００１８】上記のようにして熱処理を終えた基板Ｗ
は、基板収容ボート５０に収容されたまま、ボート装填
用ローダ６２Ａからボート搬送ロボット８０Ａに引き渡
され、引き続き基板移替部５へ搬送される。この基板移
替部５では、リフター５３を介して基板収容ボート５０
内の基板Ｗを前記基板搬送ロボツト１５へ引き渡す。基
板搬送ロボツト１５は基板Ｗを保持して基板移載部２へ
移動し、複数枚の基板Ｗを起立整列状態のままリフター
２３を介して前記各カセットＣ内に収容する。なお、基
板Ｗの処理の間に各カセットＣはカセット洗浄部９で洗
浄されるので、処理を終えた基板Ｗがカセット内で汚染
されるおそれはない。The substrate W which has been subjected to the heat treatment as described above
Is transferred from the boat loading loader 62A to the boat transfer robot 80A while being stored in the substrate storage boat 50, and is subsequently transferred to the substrate transfer unit 5. In the substrate transfer unit 5, a substrate storage boat 50 is connected via a lifter 53.
Is transferred to the substrate transport robot 15. The substrate transport robot 15 holds the substrate W and moves to the substrate transfer section 2, and accommodates the plurality of substrates W in the cassettes C via the lifters 23 in an upright and aligned state. In addition, since each cassette C is cleaned by the cassette cleaning unit 9 during the processing of the substrate W, there is no possibility that the processed substrate W is contaminated in the cassette.
【００１９】図３は本発明に係る基板処理装置の第２の
実施例を示す斜視図である。この実施例装置は、縦型の
熱処理炉６１Ｂを複数並設するとともに、これに対応し
て基板移替部５から受け取った基板収容ボート５０を縦
向きに持ち替えて引き渡すためのボート持ち替え機７０
と、このボート持ち替え機７０から受け取った基板収容
ボート５０を縦向きで搬送して引き渡すボート搬送ロボ
ット８０Ｂと、縦型のボート装填用ローダ６２Ｂを備え
る点が第１の実施例装置と異なり、その他の点は第１の
実施例と同様に構成されている。なお、本発明は上記実
施例に限るものではなく、洗浄処理部３や基板移替部５
の構造についても、適宜変更を加えて実施し得ることは
多言を要しない。FIG. 3 is a perspective view showing a second embodiment of the substrate processing apparatus according to the present invention. In the apparatus of this embodiment, a plurality of vertical heat treatment furnaces 61B are arranged in parallel, and correspondingly, a boat holding machine 70 for vertically holding and transferring the substrate storage boat 50 received from the substrate transfer unit 5 and delivering it.
The second embodiment is different from the first embodiment in that a boat transport robot 80B that transports and transfers the substrate-accommodating boat 50 received from the boat changing machine 70 in a vertical direction and a vertical boat loader 62B. Is similar to that of the first embodiment. The present invention is not limited to the above-described embodiment, but includes the cleaning processing unit 3 and the substrate transfer unit 5.
It is not necessary to say in a multi-language manner that the present invention can be implemented with appropriate modifications.
【００２０】[0020]
【発明の効果】本発明は上記のように構成され、基板の
ゲート酸化膜等を形成する前段のいわゆる前処理洗浄
と、当該酸化膜等を形成する熱処理とを一連の基板処理
として行うことができるので、以下の効果を奏する。 前処理洗浄を終えた基板の表面が、熱処理炉による
酸化膜形成までの間に、クリーンルーム作業域内のガス
やパーティクルで汚染されることはなくなる。 また、上記のように各処理部を１ラインに配置する
ことにより、従来例のようなカセットの搬入搬出部・基
板移載部を重複配置する必要はなくなり、全体として処
理の迅速化と設置面積を小さくすることができる。According to the present invention, the so-called pre-processing cleaning before forming a gate oxide film and the like on the substrate and the heat treatment for forming the oxide film and the like are performed as a series of substrate processing. Therefore, the following effects can be obtained. The surface of the substrate that has been subjected to the pretreatment cleaning is not contaminated by gas or particles in the clean room working area until the oxide film is formed by the heat treatment furnace. By arranging the respective processing units on one line as described above, it is not necessary to arrange the cassette loading / unloading unit / substrate transfer unit as in the conventional example. Can be reduced.
【図１】本発明の第１の実施例に係る基板処理装置の斜
視図である。FIG. 1 is a perspective view of a substrate processing apparatus according to a first embodiment of the present invention.
【図２】本発明の第１の実施例に係る基板処理装置の概
要を示す側面図である。FIG. 2 is a side view showing an outline of the substrate processing apparatus according to the first embodiment of the present invention.
【図３】本発明の第２の実施例に係る基板処理装置の斜
視図である。FIG. 3 is a perspective view of a substrate processing apparatus according to a second embodiment of the present invention.
【図４】基板製造用クリーンルームのレイアウト図であ
る。FIG. 4 is a layout diagram of a clean room for manufacturing a substrate.
【図５】基板製造用クリーンルームの要部のレイアウト
図である。FIG. 5 is a layout diagram of a main part of a clean room for manufacturing a substrate.
Ｗ…基板、 Ｃ…カセット、１…
カセットの搬入搬出部、 ２…基板移載部、３…洗
浄処理部、 ４…基板乾燥部、５…基板
移替部、 ６…熱処理部、１０…カセッ
ト移載ロボット、 １５…基板搬送ロボット、５０…
基板収納ボート、 ８０…ボート搬送ロボッ
ト、１３０…クリーンルーム作業域、 １３１…保全用
作業域。W: substrate, C: cassette, 1 ...
Cassette loading / unloading section, 2: substrate transfer section, 3: cleaning section, 4: substrate drying section, 5: substrate transfer section, 6: heat treatment section, 10: cassette transfer robot, 15: substrate transfer robot, 50 ...
Substrate storage boat, 80: boat transport robot, 130: clean room work area, 131: maintenance work area.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) H01L 21/205 H01L 21/365 H01L 21/31 H01L 21/68 C23C 16/00 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (58) Field surveyed (Int.Cl. 7 , DB name) H01L 21/205 H01L 21/365 H01L 21/31 H01L 21/68 C23C 16/00
Claims (1)
と、上記カセットから基板を取り出し又はカセット内へ
基板を装填する基板移載部と、複数の基板を一括して洗
浄する洗浄処理部と、複数の基板を一括して乾燥する基
板乾燥部と、乾燥した基板を基板収納ボートへ一括して
移し替える基板移替部と、基板収納ボートに収容した基
板を熱処理する熱処理部を所定の方向に沿って一連に配
置するとともに、 上記カセットの搬入搬出部と基板移載部との間でカセッ
トを移載するカセット移載ロボットと、前記所定の方向
に沿って移動可能に設けられるとともに、前記所定の方
向に対して前後方向に起立整列された複数の基板を一括
保持して、上記基板移載部から基板移替部にわたり複数
の基板を搬送する基板搬送ロボットと、基板移替部と熱
処理部との間で基板収納ボートを搬送するボート搬送ロ
ボットとを設け、 基板搬送ロボットから受け取った基板を基板移替部で基
板収納ボートに移し替え、この基板収納ボートをボート
搬送ロボットで搬送するように構成したことを特徴とす
る基板処理装置。1. A loading / unloading unit for a cassette containing substrates, a substrate transfer unit for removing substrates from the cassette or loading substrates into the cassette, a cleaning processing unit for cleaning a plurality of substrates collectively, A substrate drying unit for drying a plurality of substrates at once, a substrate transfer unit for collectively transferring the dried substrates to a substrate storage boat, and a heat treatment unit for heat-treating the substrates stored in the substrate storage boat in a predetermined direction. And a cassette transfer robot that transfers the cassette between the loading / unloading section of the cassette and the substrate transfer section, and the predetermined direction.
Along with the predetermined direction.
Multiple substrates that are aligned vertically in the front-rear direction
Hold and move multiple substrates from the substrate transfer unit to the substrate transfer unit.
A substrate transfer robot that transfers the substrates, and a boat transfer robot that transfers the substrate storage boat between the substrate transfer unit and the heat treatment unit. The substrate transfer boat transfers the substrates received from the substrate transfer robot. Wherein the substrate storage boat is transported by a boat transport robot.
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP13124693A JP3102824B2 (en) | 1993-05-07 | 1993-05-07 | Substrate processing equipment |
Applications Claiming Priority (1)
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|---|---|---|---|
| JP13124693A JP3102824B2 (en) | 1993-05-07 | 1993-05-07 | Substrate processing equipment |
Publications (2)
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| JPH06318587A JPH06318587A (en) | 1994-11-15 |
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| JP (1) | JP3102824B2 (en) |
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|---|---|---|---|---|
| KR100954467B1 (en) * | 2007-12-15 | 2010-04-22 | 주식회사 동부하이텍 | Wafer cassette stocker having cleaning function and method thereof |
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1993
- 1993-05-07 JP JP13124693A patent/JP3102824B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
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| JPH06318587A (en) | 1994-11-15 |
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