JP3101397B2 - 光走査装置 - Google Patents
光走査装置Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は光走査装置に関し、特に
光源として半導体レーザを用いた光走査装置に関する。
光源として半導体レーザを用いた光走査装置に関する。
【０００２】バーコードを利用した情報管理システム
は、ストア・オートメーションを中心としたＰＯＳ（ポ
イント・オブ・セールス）システムをはじめ、ＯＡ（オ
フィスオートメーション）やＦＡ（ファクトリ−オーン
メーション）の分野へとますます進展、拡大している。
は、ストア・オートメーションを中心としたＰＯＳ（ポ
イント・オブ・セールス）システムをはじめ、ＯＡ（オ
フィスオートメーション）やＦＡ（ファクトリ−オーン
メーション）の分野へとますます進展、拡大している。
【０００３】このバーコードを利用した情報管理システ
ムのデバイスの一つであるＰＯＳスキャナは、定置式の
レーザスキャナが主流である。これらの中には、装置の
読み取り性能を維持したままで、装置の小型化をはかる
ため、読み取り窓の部分にホログラムを用いた「ホロウ
ィンド方式」のＰＯＳスキャナが提案されている。ま
た、装置の一層の小型化を図るかめ、レーザ光源にＨｅ
−Ｎｅレーザの代わりに半導体レーザを使用した装置が
提案されてきた。
ムのデバイスの一つであるＰＯＳスキャナは、定置式の
レーザスキャナが主流である。これらの中には、装置の
読み取り性能を維持したままで、装置の小型化をはかる
ため、読み取り窓の部分にホログラムを用いた「ホロウ
ィンド方式」のＰＯＳスキャナが提案されている。ま
た、装置の一層の小型化を図るかめ、レーザ光源にＨｅ
−Ｎｅレーザの代わりに半導体レーザを使用した装置が
提案されてきた。
【０００４】
【従来の技術】半導体レーザは素子の構成上、図９に示
す如く出力特性が楕円形状となる。この半導体レーザの
ビーム整形手段としては、図１０に示す如く、半導体レ
ーザ１０の出射レーザビームをコリメータレンズ１１で
平行光とし、アパーチャ１２で整形した後シリンドリカ
ルレンズ１３を通して出射する。
す如く出力特性が楕円形状となる。この半導体レーザの
ビーム整形手段としては、図１０に示す如く、半導体レ
ーザ１０の出射レーザビームをコリメータレンズ１１で
平行光とし、アパーチャ１２で整形した後シリンドリカ
ルレンズ１３を通して出射する。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】半導体レーザではビー
ムの伝達する面において光量分布がガウス分布する性質
がないので，アパーチャ１２やレンズ１１，１３のケラ
レによって像評価面１４での光量分布は図１１（Ａ）に
示す如くなり、焦点位置の像評価面１５での光量分布は
図１１（Ｂ）に示す如くなり、フレネル回析による複雑
な光量分布を持つ。
ムの伝達する面において光量分布がガウス分布する性質
がないので，アパーチャ１２やレンズ１１，１３のケラ
レによって像評価面１４での光量分布は図１１（Ａ）に
示す如くなり、焦点位置の像評価面１５での光量分布は
図１１（Ｂ）に示す如くなり、フレネル回析による複雑
な光量分布を持つ。
【０００６】これに対して図１２に示す如く半導体レー
ザ１０とコリメータレンズ１２との間にガウス分布フィ
ルタ１６を配置すると、出射レーザビームの伝達経路上
の像評価面１７での光量分布は図１３に示す如くガウス
分布となる。しかしながらこの場合も出射ビーム径を可
変することはできなかった。
ザ１０とコリメータレンズ１２との間にガウス分布フィ
ルタ１６を配置すると、出射レーザビームの伝達経路上
の像評価面１７での光量分布は図１３に示す如くガウス
分布となる。しかしながらこの場合も出射ビーム径を可
変することはできなかった。
【０００７】バーコードは通常規格の大きさのバーコー
ドの他に、小さな商品に付けられる通常規格の０．８倍
のバーコード、及び通常規格の０．６倍のバーコード等
があり、この通常規格の０．６倍のバーコードを読取可
能なように出射ビーム径を設定すると、焦点位置を中心
とした読取可能範囲が狭くなってしまうという問題があ
った。
ドの他に、小さな商品に付けられる通常規格の０．８倍
のバーコード、及び通常規格の０．６倍のバーコード等
があり、この通常規格の０．６倍のバーコードを読取可
能なように出射ビーム径を設定すると、焦点位置を中心
とした読取可能範囲が狭くなってしまうという問題があ
った。
【０００８】更に、従来より図１４に示す如くヘリウム
・ネオン・レーザ９９より出射されビーム整形系１００
で整形されたレーザビームをポリゴンミラー１０１で走
査し、ミラー１０２，１０３で３分割してホロウィンド
ウ１０４上のホログラム１０５，１０６ａ，１０６ｂ，
１０７ａ，１０７ｂ夫々で回析及び絞ることにより空間
上に５方向の走査線パターンＡＡ，ＢＢ，ＣＣ，ＤＤ，
ＥＥを形成する定量式のレーザスキャナがある。上記の
各走査線ＡＡ，ＢＢ，ＤＤ夫々は図１５（Ａ），
（Ｂ），（Ｃ）に夫々示す如く、ミラー１０２，１０３
からの走査レーザ光を受けてホログラム１０５，１０６
ａ，１０７ａによって形成されている。
・ネオン・レーザ９９より出射されビーム整形系１００
で整形されたレーザビームをポリゴンミラー１０１で走
査し、ミラー１０２，１０３で３分割してホロウィンド
ウ１０４上のホログラム１０５，１０６ａ，１０６ｂ，
１０７ａ，１０７ｂ夫々で回析及び絞ることにより空間
上に５方向の走査線パターンＡＡ，ＢＢ，ＣＣ，ＤＤ，
ＥＥを形成する定量式のレーザスキャナがある。上記の
各走査線ＡＡ，ＢＢ，ＤＤ夫々は図１５（Ａ），
（Ｂ），（Ｃ）に夫々示す如く、ミラー１０２，１０３
からの走査レーザ光を受けてホログラム１０５，１０６
ａ，１０７ａによって形成されている。
【０００９】しかるに、各ホログラム１０５，１０６ａ
（，１０６ｂ），１０７ａ（，１０７ｂ）夫々は図１６
（Ａ），（Ｂ），（Ｃ）に示す如く互いに異なった結像
特性を有し、各ホログラム１０５，１０６ａ（，１０６
ｂ），１０７ａ（，１０７ｂ）が最大読取り深度（読取
可能範囲）の出射ビームを得るための最適な入射ビーム
は図１６（Ｄ），（Ｅ），（Ｆ）に示す如く互いに異な
っている。
（，１０６ｂ），１０７ａ（，１０７ｂ）夫々は図１６
（Ａ），（Ｂ），（Ｃ）に示す如く互いに異なった結像
特性を有し、各ホログラム１０５，１０６ａ（，１０６
ｂ），１０７ａ（，１０７ｂ）が最大読取り深度（読取
可能範囲）の出射ビームを得るための最適な入射ビーム
は図１６（Ｄ），（Ｅ），（Ｆ）に示す如く互いに異な
っている。
【００１０】図１４の従来装置は各ホログラム１０５，
１０６ａ（，１０６ｂ），１０７ａ（，１０７ｂ）夫々
に同一のビーム整形レンズ系（１００）で整形した入射
ビームを照射しているため必ずしも最適な入射ビームで
はなくなり、図１６（Ｇ），（Ｈ），（Ｉ）に示す如
く、各走査線の読取深度は縮小され、実際の読取り可能
範囲が狭くなるという問題があった。
１０６ａ（，１０６ｂ），１０７ａ（，１０７ｂ）夫々
に同一のビーム整形レンズ系（１００）で整形した入射
ビームを照射しているため必ずしも最適な入射ビームで
はなくなり、図１６（Ｇ），（Ｈ），（Ｉ）に示す如
く、各走査線の読取深度は縮小され、実際の読取り可能
範囲が狭くなるという問題があった。
【００１１】本発明は上記の点に鑑みてなされたもの
で、焦点位置でのビーム径及び読取可能範囲を可変して
各種のバーコードを好適に読取可能な光走査装置を提供
することを目的とする。
で、焦点位置でのビーム径及び読取可能範囲を可変して
各種のバーコードを好適に読取可能な光走査装置を提供
することを目的とする。
【００１２】
【課題を解決するための手段】本発明の光走査装置は、
半導体レーザから発射されたレーザビームをガウス分布
フィルタでビーム整形した後、ビーム整形手段に入射
し、更に光走査手段で走査させる光走査装置において、
半導体レーザとガウス分布フィルタとの相対距離を可変
するフィルタ移動手段を有する。
半導体レーザから発射されたレーザビームをガウス分布
フィルタでビーム整形した後、ビーム整形手段に入射
し、更に光走査手段で走査させる光走査装置において、
半導体レーザとガウス分布フィルタとの相対距離を可変
するフィルタ移動手段を有する。
【００１３】
【作用】本発明においては、半導体レーザとガウス分布
フィルタとの相対位置を可変することにおいて、ビーム
整形手段に入射するレーザビームのビーム径を可変して
焦点位置でのビーム径及び読取可能範囲を可変し、読取
ろうとするバーコードの大きさに応じた読取解像度及び
読取可能範囲を得ることができる。
フィルタとの相対位置を可変することにおいて、ビーム
整形手段に入射するレーザビームのビーム径を可変して
焦点位置でのビーム径及び読取可能範囲を可変し、読取
ろうとするバーコードの大きさに応じた読取解像度及び
読取可能範囲を得ることができる。
【００１４】
【実施例】図１は本発明装置の原理説明図を示す。同図
中、半導体レーザ２０の出射レーザビームはガウス分布
フィルタ２１を通った後コリメータレンズ２３に入射さ
れ、ここで平行光とされる。この後シリンドリカルレン
ズ２３で収束されて出射される。
中、半導体レーザ２０の出射レーザビームはガウス分布
フィルタ２１を通った後コリメータレンズ２３に入射さ
れ、ここで平行光とされる。この後シリンドリカルレン
ズ２３で収束されて出射される。
【００１５】上記半導体レーザ２０とコリメータレンズ
２２との間に配置されたガウス分布フィルタ２１は光軸
方向に移動自在とされている。
２２との間に配置されたガウス分布フィルタ２１は光軸
方向に移動自在とされている。
【００１６】ここで、ガウス分布フィルタ２１面に照射
されるレーザビーム径は半導体レーザ２０とガウス分布
フィルタ２１との距離によって決まり、ガウス分布フィ
ルタ２１より出射するレーザビーム径はフィルタに入射
するビーム径とフィルタの透過率分布により決まる。図
２（Ａ）に示すガウス分布フィルタ２１に入射するビー
ム光量分布の光量がピークの１／ｅ2 となるビーム径を
Ｗ1 とし、図２（Ｂ）に示すガウス分布フィルタ２１の
透過率分布の透過率がピークの１／ｅ2 となる径をＷｆ
とし、図２（Ｃ）に示すガウス分布フィルタ２１から出
射されるビーム光量分布の光量がピークの１／ｅ2 とな
る径をＷ2 とすると、ビーム径Ｗ2 は次式で表わされ
る。
されるレーザビーム径は半導体レーザ２０とガウス分布
フィルタ２１との距離によって決まり、ガウス分布フィ
ルタ２１より出射するレーザビーム径はフィルタに入射
するビーム径とフィルタの透過率分布により決まる。図
２（Ａ）に示すガウス分布フィルタ２１に入射するビー
ム光量分布の光量がピークの１／ｅ2 となるビーム径を
Ｗ1 とし、図２（Ｂ）に示すガウス分布フィルタ２１の
透過率分布の透過率がピークの１／ｅ2 となる径をＷｆ
とし、図２（Ｃ）に示すガウス分布フィルタ２１から出
射されるビーム光量分布の光量がピークの１／ｅ2 とな
る径をＷ2 とすると、ビーム径Ｗ2 は次式で表わされ
る。
【００１７】１／Ｗ2 2 ＝１／Ｗ1 2 ＋１／Ｗｆ2 つまりガウス分布フィルタ２１の設定位置を可変するこ
とにより所望のビーム径Ｗ2 を得ることができる。
とにより所望のビーム径Ｗ2 を得ることができる。
【００１８】また、シリンドリカルレンズ２２に入射す
るビーム径が相対的に大きい場合には焦点位置でのビー
ム径を小さくすることができるが読取可能範囲が狭くな
る。一方、シリンドリカルレンズ２２に入射するビーム
径が小さい場合には焦点位置でのビーム径が大きくなる
が読取可能範囲は広くなる。
るビーム径が相対的に大きい場合には焦点位置でのビー
ム径を小さくすることができるが読取可能範囲が狭くな
る。一方、シリンドリカルレンズ２２に入射するビーム
径が小さい場合には焦点位置でのビーム径が大きくなる
が読取可能範囲は広くなる。
【００１９】これによって図１において、ガウス分布フ
ィルタ２１を実線で示す如く、半導体レーザ２０に近づ
けた位置に置くと、ガウス分布フィルタ２１から出射す
るビームは実線Ｉ1 に示す如く大きくなり、焦点位置で
のビーム径は小さくなり、読取解像度は高く通常規格の
０．６倍のバーコードを読取れるが読取可能範囲Ｄ1は
小さくなる。逆に、ガウス分布フィルタ２１を破線で示
す如く半導体レーザ２０から遠ざけた位置に置くと、ガ
ウス分布フィルタ２１から出射するビームは破線Ｉ2 で
示す如く小さくなり、焦点位置でのビーム径は大きくな
り、読取解像度は低く通常規格の１倍又は０．８倍のバ
ーコードしか読取れないが読取可能範囲Ｄ2 は大きくな
る。
ィルタ２１を実線で示す如く、半導体レーザ２０に近づ
けた位置に置くと、ガウス分布フィルタ２１から出射す
るビームは実線Ｉ1 に示す如く大きくなり、焦点位置で
のビーム径は小さくなり、読取解像度は高く通常規格の
０．６倍のバーコードを読取れるが読取可能範囲Ｄ1は
小さくなる。逆に、ガウス分布フィルタ２１を破線で示
す如く半導体レーザ２０から遠ざけた位置に置くと、ガ
ウス分布フィルタ２１から出射するビームは破線Ｉ2 で
示す如く小さくなり、焦点位置でのビーム径は大きくな
り、読取解像度は低く通常規格の１倍又は０．８倍のバ
ーコードしか読取れないが読取可能範囲Ｄ2 は大きくな
る。
【００２０】図３は本発明装置を適用した定置式レーザ
スキャナの第１実施例の構造図を示す。同図中、図１と
同一部分には同一符号を付す。
スキャナの第１実施例の構造図を示す。同図中、図１と
同一部分には同一符号を付す。
【００２１】図３において、コリメータレンズ２２を出
射したレーザビームは反射鏡３０，３１夫々で反射され
てポリゴンミラー３２に入射される。ポリゴンミラー３
２は軸３３を中心に高速回転されており、ここで、反射
されたレーザビームは反射型のホログラム３４を走査す
る。ホログラム３４はシリンドリカルレンス２３と同一
特性を有するもので、このホログラム３４で反射された
レーザビーム３５が出射され、バーコード３６の読取り
を行なう。
射したレーザビームは反射鏡３０，３１夫々で反射され
てポリゴンミラー３２に入射される。ポリゴンミラー３
２は軸３３を中心に高速回転されており、ここで、反射
されたレーザビームは反射型のホログラム３４を走査す
る。ホログラム３４はシリンドリカルレンス２３と同一
特性を有するもので、このホログラム３４で反射された
レーザビーム３５が出射され、バーコード３６の読取り
を行なう。
【００２２】フィルタ移動駆動部４０は切換スイッチ４
１の操作に応じて、ガウス分布フィルタ２１を矢印Ａ
（又はＢ）方向させて半導体レーザ２０に近づけた位置
（又は遠ざけた位置）に置く。これによって近づけた位
置では読取用のレーザビーム３５のビーム径が小さく読
取可能範囲Ｄ1 は小さくなり、遠ざけた位置ではビーム
径が大きく読取可能範囲Ｄ2 は大きくなって、読取用の
レーザビーム３５のビーム径及び読取可能範囲が可変さ
れる。
１の操作に応じて、ガウス分布フィルタ２１を矢印Ａ
（又はＢ）方向させて半導体レーザ２０に近づけた位置
（又は遠ざけた位置）に置く。これによって近づけた位
置では読取用のレーザビーム３５のビーム径が小さく読
取可能範囲Ｄ1 は小さくなり、遠ざけた位置ではビーム
径が大きく読取可能範囲Ｄ2 は大きくなって、読取用の
レーザビーム３５のビーム径及び読取可能範囲が可変さ
れる。
【００２３】また、図４（Ａ），（Ｂ）に示す如くハン
ディ式のレーザスキャナに本発明を適用することも可能
である。図４（Ａ）に示すハンドル部４５内に図４
（Ｂ）に示す如く半導体レーザ２０，ガウス分布フィル
タ２１，コリメータレンズ２２，シリンドリカルレンズ
２３，フィルタ移動駆動部４０が収納されており、コリ
メータレンズ２２を出射したレーザビームがミラー４
６，４７で反射されてモータ４８で回転駆動されるポリ
ゴンミラー４９により反射され透過型ホログラム５０を
走査し、ホログラム５０より出射されたレーザビーム５
１でバーコード読取りを行なう。
ディ式のレーザスキャナに本発明を適用することも可能
である。図４（Ａ）に示すハンドル部４５内に図４
（Ｂ）に示す如く半導体レーザ２０，ガウス分布フィル
タ２１，コリメータレンズ２２，シリンドリカルレンズ
２３，フィルタ移動駆動部４０が収納されており、コリ
メータレンズ２２を出射したレーザビームがミラー４
６，４７で反射されてモータ４８で回転駆動されるポリ
ゴンミラー４９により反射され透過型ホログラム５０を
走査し、ホログラム５０より出射されたレーザビーム５
１でバーコード読取りを行なう。
【００２４】この場合も、図４（Ａ）に示す切換スイッ
チ５２の操作に応じてガウス分布フィルタ２１を半導体
レーザ２０に近づけた位置又は遠ざけた位置に置き、レ
ーザビーム５１のビーム径及び読取可能範囲を可変す
る。
チ５２の操作に応じてガウス分布フィルタ２１を半導体
レーザ２０に近づけた位置又は遠ざけた位置に置き、レ
ーザビーム５１のビーム径及び読取可能範囲を可変す
る。
【００２５】次に本発明装置の第２実施例を説明する
に、半導体レーザ２０に対してガウス分布フィルタ２１
と、コリメータレンズ２２及びシリンドリカルレンズ２
３よりなるレンズ系６０は互いの相対位置関係を変化す
ることなく半導体レーザ２０及びホロウィンド６１に対
する相対位置関係を図５（Ａ），（Ｂ），（Ｃ）夫々に
示す如く可変可能とされている。
に、半導体レーザ２０に対してガウス分布フィルタ２１
と、コリメータレンズ２２及びシリンドリカルレンズ２
３よりなるレンズ系６０は互いの相対位置関係を変化す
ることなく半導体レーザ２０及びホロウィンド６１に対
する相対位置関係を図５（Ａ），（Ｂ），（Ｃ）夫々に
示す如く可変可能とされている。
【００２６】上記のレンズ系６０より出射されたレーザ
ビームは図６に示すレーザスキャナの等速回転するホロ
グラムディスクで回析されてミラー６３ａ〜６３ｃを順
次操作し、ミラー６４ａ〜６４ｂで反射されてホロウィ
ンドウ６１上のホログラム６５ａ及び６５ｂ，６６，６
７ａ及び６７ｂに入射され、これによって操作線パター
ンＡＡ，ＢＢ，ＣＣ，ＤＤ，ＥＥが形成される。
ビームは図６に示すレーザスキャナの等速回転するホロ
グラムディスクで回析されてミラー６３ａ〜６３ｃを順
次操作し、ミラー６４ａ〜６４ｂで反射されてホロウィ
ンドウ６１上のホログラム６５ａ及び６５ｂ，６６，６
７ａ及び６７ｂに入射され、これによって操作線パター
ンＡＡ，ＢＢ，ＣＣ，ＤＤ，ＥＥが形成される。
【００２７】ここで、ミラー６４ａ，６４ｂ，６４ｃの
両端位置には図７に示す如く光センサ７０〜７３が設け
られており、この光センサ７０〜７３でレーザビームの
走査位置を検出する。
両端位置には図７に示す如く光センサ７０〜７３が設け
られており、この光センサ７０〜７３でレーザビームの
走査位置を検出する。
【００２８】この光センサ７０〜７３夫々の検出信号は
例えば図８（Ａ）に示す端子７５より電流駆動回路７６
に供給される。電流駆動回路７６は光センサ７０，７１
の光検出期間でコイル７７に所定電流を流して永久磁石
７８を挿抜駆動し、ガウス分布フィルタ２１とレンズ系
６０を図５（Ａ）の状態とする。また光センサ７１，７
２の光検出期間でコイル７７に流す電流を可変してガウ
ス分布フィルタ２１とレンズ系６０を図５（Ｂ）の状態
とし、光センサ７２，７３の光検出期間でコイル７７に
流す電流を可変してガウス分布フィルタ２１とレンズ系
６０を図５（Ｃ）の状態とする。これによってホログラ
ム６５ａ及び６５ｂ，６６，６７ａ及び６７ｂ夫々には
最適入射ビームが供給され、各走査線ＡＡ，ＢＢ，Ｃ
Ｃ，ＤＤ，ＥＥの読取深度が最大となり、実際の読取可
能範囲が拡大すると共に、各走査線ＡＡ，ＢＢ，ＣＣ，
ＤＤ，ＥＥ夫々の読取可能範囲をあわせることができ
る。
例えば図８（Ａ）に示す端子７５より電流駆動回路７６
に供給される。電流駆動回路７６は光センサ７０，７１
の光検出期間でコイル７７に所定電流を流して永久磁石
７８を挿抜駆動し、ガウス分布フィルタ２１とレンズ系
６０を図５（Ａ）の状態とする。また光センサ７１，７
２の光検出期間でコイル７７に流す電流を可変してガウ
ス分布フィルタ２１とレンズ系６０を図５（Ｂ）の状態
とし、光センサ７２，７３の光検出期間でコイル７７に
流す電流を可変してガウス分布フィルタ２１とレンズ系
６０を図５（Ｃ）の状態とする。これによってホログラ
ム６５ａ及び６５ｂ，６６，６７ａ及び６７ｂ夫々には
最適入射ビームが供給され、各走査線ＡＡ，ＢＢ，Ｃ
Ｃ，ＤＤ，ＥＥの読取深度が最大となり、実際の読取可
能範囲が拡大すると共に、各走査線ＡＡ，ＢＢ，ＣＣ，
ＤＤ，ＥＥ夫々の読取可能範囲をあわせることができ
る。
【００２９】上記図８（Ａ）の代りに図８（Ｂ）に示す
如く光センサ７０〜７３の検出信号をペルチェ駆動回路
８０に供給し、光センサ７０，７１間、７１，７２間、
７２，７３間夫々の光検出期間でペルチェ素子８１，８
２夫々に供給する電流を可変し、ペルチェ素子８１，８
２夫々で加熱又は吸熱される。空気シリンダ８３，８４
の共通ピストン８５によりガウス分布フィルタ２１とレ
ンズ系６０を駆動しても良い。
如く光センサ７０〜７３の検出信号をペルチェ駆動回路
８０に供給し、光センサ７０，７１間、７１，７２間、
７２，７３間夫々の光検出期間でペルチェ素子８１，８
２夫々に供給する電流を可変し、ペルチェ素子８１，８
２夫々で加熱又は吸熱される。空気シリンダ８３，８４
の共通ピストン８５によりガウス分布フィルタ２１とレ
ンズ系６０を駆動しても良い。
【００３０】更に図８（Ｃ）に示す如く、光センサ７０
〜７３の検出信号をピエゾ駆動回路９０に供給し、光セ
ンサ７０，７１間、７１，７２間、７２，７３間夫々の
光検出期間でピエゾ素子９１に印加する電圧を可変し、
ピエゾ素子の変位によりガウス分布フィルタ２１とレン
ズ系６０を駆動しても良い。
〜７３の検出信号をピエゾ駆動回路９０に供給し、光セ
ンサ７０，７１間、７１，７２間、７２，７３間夫々の
光検出期間でピエゾ素子９１に印加する電圧を可変し、
ピエゾ素子の変位によりガウス分布フィルタ２１とレン
ズ系６０を駆動しても良い。
【００３１】
【発明の効果】上述の如く、本発明の光走査装置によれ
ば、焦点位置でのビーム径及び読取可能範囲を可変して
各種のバーコードを好適に読取ることができ、実用上き
わめて有用である。
ば、焦点位置でのビーム径及び読取可能範囲を可変して
各種のバーコードを好適に読取ることができ、実用上き
わめて有用である。
【図１】本発明装置の原理説明図である。
【図２】本発明の第１実施例を説明するための図であ
る。
る。
【図３】本発明を適用したレーザスキャナの構造図であ
る。
る。
【図４】本発明を適用したレーザスキャナの構造図であ
る。
る。
【図５】本発明の第２実施例を説明するための図であ
る。
る。
【図６】本発明を適用したレーザスキャナの構造図であ
る。
る。
【図７】光センサの配置を示す図である。
【図８】ガウス分布フィルタ及びレンズ系の駆動部を示
す図である。
す図である。
【図９】半導体レーザを説明するための図である。
【図１０】従来装置の構造図である。
【図１１】光量分布を示す図である。
【図１２】従来装置の構造図である。
【図１３】光量分布を示す図である。
【図１４】従来のレーザスキャナの構造図である。
【図１５】図１４の光走査を示す図である。
【図１６】ホログラムの結像特性及び読取可能範囲を示
す図である。
す図である。
２０ 半導体レーザ ２１ ガウス分布フィルタ ２２ コリメータレンズ ２３ シリンドリカルレンズ ３４，５０ ホログラム ４０ フィルタ移動駆動部 ４１，５２ 切換スイッチ ６０ レンズ系 ７６ 電流駆動回路 ８０ ペルチェ駆動回路 ９０ ピエゾ駆動回路
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山岸 文雄 神奈川県川崎市中原区上小田中1015番地 富士通株式会社内 (72)発明者 高島 裕一郎 神奈川県川崎市中原区上小田中1015番地 富士通株式会社内 (56)参考文献 特開 昭64−26817（ＪＰ，Ａ) 特開 昭64−72117（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−174013（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G02B 26/10 G02B 27/09
Claims (2)
- 【請求項１】 半導体レーザ（２０）から発射されたレ
ーザビームをガウス分布フィルタ（２１）でビーム整形
した後、ビーム整形手段（２２，２３）に入射し、更に
光走査手段（３２）で走査させる光走査装置において、 該半導体レーザ（２０）とガウス分布フィルタ（２１）
との相対距離を可変するフィルタ移動手段（４０）を有
することを特徴とする光走査装置。 - 【請求項２】 該フィルタ移動手段はガウス分布フィル
タ（２１）とビーム整形手段（６０）とを同時に移動す
ることを特徴とする請求項１記載の光走査装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2025492A JP3101397B2 (ja) | 1992-02-05 | 1992-02-05 | 光走査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2025492A JP3101397B2 (ja) | 1992-02-05 | 1992-02-05 | 光走査装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05215979A JPH05215979A (ja) | 1993-08-27 |
| JP3101397B2 true JP3101397B2 (ja) | 2000-10-23 |
Family
ID=12022064
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2025492A Expired - Fee Related JP3101397B2 (ja) | 1992-02-05 | 1992-02-05 | 光走査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3101397B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011018798A (ja) * | 2009-07-09 | 2011-01-27 | Sumitomo Electric Ind Ltd | レーザモジュール、バーコードスキャナーおよび光電センサー |
-
1992
- 1992-02-05 JP JP2025492A patent/JP3101397B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05215979A (ja) | 1993-08-27 |
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