JP3095751B2 - 放射線像を得る方式 - Google Patents
放射線像を得る方式Info
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- JP3095751B2 JP3095751B2 JP62165088A JP16508887A JP3095751B2 JP 3095751 B2 JP3095751 B2 JP 3095751B2 JP 62165088 A JP62165088 A JP 62165088A JP 16508887 A JP16508887 A JP 16508887A JP 3095751 B2 JP3095751 B2 JP 3095751B2
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- G06T15/55—Radiosity
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は放射線像を得る方式に関する。本方式はコ
ンピュータ・グラフィック応用に特に役立つ。 現実の２次元ピクチャを作る３次元データのコンピュ
ータ処理について多くの仕事が行われてきた。現実の像
を作るために、環境内の光の相互反射から導かれるグロ
ーバルな照明は正しくモデル化されなければならない。
大部分の在来モデルでは、グローバルな照明を表わすも
のとして一定の周囲要素が使用されている。陰および境
界照明はシミュレートされていない。このような方法は
手っ取り早いが、特にシミュレートされた環境が複雑な
照明および物体の配列を有する場合に極めて不満足であ
る。 実際の環境における多くの表面は拡散反射体であり、
すなわち光の入射ビームは反射面より上の全半球内であ
らゆる方向に反射されたり散乱される。拡散反射の特殊
な場合は、いわゆる「理想の」拡散または「ランベルト
の」反射である。この場合には、入射光はあらゆる方向
に等しい強さで表面から反射される。理想の拡散反射を
想定するモデルは多くのコンピュータ・グラフィック応
用に適している。包囲体内の表面間における熱放射エネ
ルギーの交換を測定する方法がこれまでに開発されてい
る。1978年、ヘミスファイア出版社（Hemisphere Publi
shing Corp.）発行の、ロバート・シーゲル（Robert Si
egel）およびジョン・アール・ハウエル（John R.Howel
l）共著による熱放射熱伝達（Thermal Radiation Heat
Transfer）、ならびに1978年、ヘミスフィア出版社発行
のイー・エム・スパロウ（E.M.Sparrow）およびアール
・ディー・セス（R.D.Cess）共著による放射熱伝達（Ra
diation Heat Transfer）参照。コンピュータ・グラフ
ィックの放射密度（radiosity）法として知られる、包
囲体内における光エネルギーの交換に同じ考えを応用し
たものがACMコンピュータ・グラフィック（プローシデ
ィング1984）の第213頁〜222頁にシンディー・エム・ゴ
ーラル（Cindy M.Goral）らによって記載された報告書
「拡散表面間の光の相互作用のモデル化」に略記されて
いる。在来の方法と違って、放射密度法は特に環境が多
くの拡散表面を含む場合に、陰を作りかつ一段と現実的
な像を提供する環境内の表面間における光の相互反射を
モデル化している。 鏡のように反射される光反射のモデルとして、光線追
跡法も開発されている。1980年６月、コミュニケーショ
ン・オブ・ACM、第23巻、第６号のターナー・ホイッテ
ッド（Turner Whitted）による「陰影表示用の改良され
た照明モデル」参照。放射密度法のように、光線追跡法
は環境内の表面間における陰および光の相互反射を考慮
して、在来の方法よりも一段と現実的な像を作る。 放射密度法および光線追跡法は在来の方法よりも良好
な像を提供するが、これらの方法は市販で入手し得るミ
ニコンピュータを用いて多くの計算時間を要する。これ
らの方法の照明計算は、観測者に見える表面をテストし
て、１個以上の光源に関して陰があるか否かを決定しな
ければならないので、多大の時間を必要とすることがあ
る。こうして、１個の像を作るのに多大の計算時間が必
要とされる。かくて既知の方法よりも高速の改良された
放射密度および光線追跡方式を提供することが望まし
い。 上記の在来形の放射密度および光線追跡法では、環境
の１つの像を作るのに多数のステップが要求される。し
ばしば、異なる観測位置からの多数の像が静環境である
ことが望ましいことがある。かかる場合には、在来の放
射密度および光線追跡法で像を作るステップは、追加の
像を作るためには、全体をそっくり繰り返されなければ
ならない。放射密度法では、あるステップのみを繰り返
すだけで済む。一般に、同じ環境の異なる像を作る場合
に、第１の像に要するステップを以後の像についてもそ
っくり繰り返す必要がなく、プロセスを加速させる方法
を提供することが望ましい。 この発明は、異なる観測位置から見た２つまたはもっ
と多くの像が必要な場合には、従来のプロセスにおける
ステップのうちのいくつかを繰り返す必要がなく、それ
により多くの時間を節約できるという知見に基づいてい
る。かくて、もし環境が静止したままであれば、照度計
算の少なくとも一部は観測者が移動するときに変化しな
い。 本発明の１つの面は、観測位置から環境の放射線像を
作る方法に向けられている。放射線はこの場合、光、
熱、音、放射性放射線または他の形のエネルギー放射線
であることができる。本方法は、環境内の表面および放
射線源のモデルを形成し、そして環境の放射線データを
形成および決定することを含むが、この場合決定される
放射線データは観測位置に無関係である。問題の放射線
が光である場合は、放射線データは環境内の表面の照度
に関するものである。本方法はさらに、環境から観測位
置に到達する放射線が事実上平行な光線となるように遠
近変換を行う。また、本方法は、放射線を観測位置で観
察できる表面あるいはその一部分を決定するとともに、
放射線データを用いてこのような放射線の強度を決定す
るステップも含む。放射線像が次に表示される。 上記の方法において、放射線データを決定するステッ
プの一部である観測位置に無関係な強度計算は、遠近変
換に伴う幾何計算と切り離して行われることが注目され
る。これらの計算は観測位置に無関係であるので、幾何
計算と平行にまたはその前に行うことができる。計算の
観測位置次第の（鏡面反射）部分だけを各観測位置につ
いて行うだけでよい。 本発明のもう１つの面は、環境内の表面の放射密度を
測定しかつ計算する改良形の装置に向けられている。環
境内の第１表面から第２表面が受けた拡散放射線は、第
１表面から第２表面に向う形状因子（form factor）と
して定義される。本発明のこの面は、第１表面から第２
表面が受けた拡散放射線の形状因子を定める方法を意味
する。本方法は第１表面と事実上共面のベースを持つ半
多面体および半多面体の各面上のグリッド・セルを定め
ることを含む。本方法はさらに、第２表面から見て多面
体の前記各面上に第１表面の像を投影しかつ波形率を決
定することを含む。放射線を受ける環境のすべての表面
の形状因子がいったん決定されると、どんな観測位置か
らの放射線像でも簡単な方法で決定することができる。 本発明の第３の面は、光線追跡法を用いるコンピュー
タ・グラフィックに役立つ放射線像を作る改良方式に関
するものである。好適な実施例の方法は、環境内の表面
と放射線源との間の放射線データを定める。本方法は放
射線源を囲む多面体を定め、また放射線源と環境との間
の多面体の少なくとも１つの面にグリッド・セルを定
め、そして任意な表面の投影によってどのグリッド・セ
ルがカバーされるかを決定することを含む。この方法を
用いて、環境内のすべての表面について、表面またはそ
の任意な部分が任意の特定な放射線源から放射線を受け
ることができるか否かを決定することができる。この情
報は、各グリッド・セルについて記録リストとして記憶
される。したがって、特定の観測位置からどの表面が見
えるかが知られると、かかる表面が環境内の放射線表面
から放射線を受けるか否かが在来の方法より短い時間で
決定される。 本発明の第４の面は、代表的な走査変換および可視表
面操作を行うが、強度情報や多角形や物体識別子のよう
な異なる形式で合成データを記憶するとともに、汎用記
憶装置に直接送り返されるデータの通路を持つ、変形ハ
ードウェア・イメージ・プロセッサを使用することであ
る。拡散または反射環境、あるいは拡散および反射環境
の組合せの両方に関するグローバルな照明の効果をシミ
ュレートするアルゴリズムは、変形されたハードウェア
実施を利用するように作り直すことができる。このハー
ドウェアを用いて、放射密度および光線追跡のようなア
ルゴリズムは前に得られたよりも数段速い速度で実行す
ることができ、それによって高品位の像が極めて迅速に
作られる。 本発明は光像を作るコンピュータ・グラフィックに特
に役立つ。本発明の説明を簡単にしかつ理解を容易にす
るため、本発明は光像を作るその応用において説明さ
れ、音響、熱および放射性体のような他の形の放射線像
が同様な方法で作られることを理解させる。 第1A図は光像を作る在来のコンピュータ・グラフィッ
ク・パイプラインを示す流れ図である。在来のグラフィ
ック・パイプライン装置は、多くのステップを用いる順
次プロセスとしてコンピュータによって像の作成を処理
している。普通、環境のモデルは環境内の表面を多角形
に分割することによって作られる（ブロック20）。各色
帯の光の反射度および放射値が各多角形について選択さ
れる。 特定の観測位置および視野が選択される。環境のため
に作られたモデルは、物体空間から像空間へ、観測位置
および視野と適当な関係に遠近変換される（ブロック2
2）が、そのプロセスは以下に説明される通りであり、
観測者の可視表面の決定を簡単にする。次に環境内の表
面は、観測位置から可視表面を見出すためにテストされ
る（ブロック24）。次に、グローバルな照明について一
定の周囲要素を用いながら、各可視表面から反射された
放射線の強度Ｉが下記の式により計算される（ブロック
26）： ただしIaは周囲放射線による強度、 kdは拡散反射定数、 ｍは環境内の放射線源の数、 Ｎは単位表面の正規ベクトル、 Ljは第ｊ放射線源の方向のベクトル、 ksは鏡面反射係数、 pjは放射線源ｊからの光の反射ベクトルと観測位置の方
向のベクトルとの間の角度、そしてｃは定数、 ｎは表面の光沢度による指数である。 表面からの反射強度を計算する上記の式において、第
１項Iaはすべての表面について一定に保たれる周囲の項
である。第２項、 は表面の単位正規ベクトルとすべてのｊについて第ｊ放
射線源の方向の単位ベクトルとのドット積の和である。
第３項は表面から鏡面反射する第ｊ放射線源からの光の
単位反射ベクトルとすべてのｊについての観測方向の単
位ベクトルとのドット積の和である。在来モデルの強度
計算のもう１つの改良についは、コミュニケーションズ
・オブACMの1980年６月、第23巻、第６号に記載された
ターナー・ホイッテッドによる「陰影表示に関する改良
された照明モデル」を参照のこと。 照度計算は各ピクセルについて行うことができるが、
多角形の頂点で常時行われる。次に多角形の走査変換が
像面のピクセルについて行われる（ブロック28）。プロ
セスは下記の通りである。角多角形は走査変換されて、
その深さはカバーされる各ピクセルで計算される。各ピ
クセルで最も近い多角形の深さは、しばしば深さバッフ
ァと呼ばれるバッファの中に記憶される。ピクセルの照
度値は直線内挿されて、しばしば強度バッファと呼ばれ
るバッファの中に記憶され、次にこれらの値は表示され
る（ブロック30）。 モデルの作成を除き、上述の全プロセスは異なるすべ
ての像について反復されなければならない。多くのコン
ピュータ・グラフィック応用では、同じ静止環境の像で
あるが異なる位置で観測される像を作ることが必要であ
る。かかる応用では、ブロック22−30のステップが各フ
レームについて反復されなければならない。 第1B図は第1A図の在来方法を実施するのに適したグラ
フィック・プロセッサ・パイプラインのブロック図であ
る。使用者は中央処理装置すなわちCPU21を用いて環境
のモデルを作る（第1A図のブロック20）。ブロック22の
遠近変換は変換装置23で行われる。像処理装置25は観測
に見える表面を決定して、かかる表面の照度を計算する
（第1A図のブロック24,26）。照度計算の結果は像記憶
装置27に記憶されて、ビデオ表示装置29によって表示さ
れる。 像処理装置は多角形の走査変換動作およびハードウェ
アの深さ・バッファ可視表面アルゴリズムを実行すると
ともに、生じた情報を局部記憶装置に記憶させる。 多角形の走査変換ルーチンはよく知られかつ明確に文
書化されている（1982年、エジソン−ウェスリー出版社
発行のジェー・ディー・フォーリー（J.D.Foley）およ
びエー・ヴァン・ダム（A.Van Dam）共著によるコンピ
ュータ・グラフィックの基礎の第456−462頁、ならびに
1979年マグロー・ヒル発行のダブリュー・エム・ニュー
マン（W.M.Newman）およびアール・エフ・スプロール
（R.F.Sproull）共著による対話式コンピュータ・グラ
フィックの原理の第232−243頁、第286−278頁）。標準
の走査変換アルゴリズムは、多角形走査線およびピクセ
ル・コヒーレンスを利用し、ハードウェアで容易に実行
することができる。最も広く使用される方法は多角形の
縁を受けてそれらをそのｙ（垂直）座標により分類す
る。与えられた走査線では、縁の若干は走査線と交差
し、「活性」縁と呼ばれる。活性縁はｘ（水平）方向に
分類され、分類されたリストは維持される。多角形によ
ってカバーされるセグメントは、付近の活性縁の走査線
交差によって決定される。縁走査線の交差は線の形状
（多角形コヒーレンス）を知ることによって容易に予測
できるので、計算は簡潔化される。さらに、分類された
縁のリストは、新しい縁が現われたり古い縁が消える場
合を除き走査線から走査線まで同じ状態を保つ傾向があ
る。最後に、セグメントに沿う各ピクセルにおける多角
形の深さおよび色は、走査線に沿って増分的に計算され
る（ピクセル・コヒーレンス）。 最も簡単な可視表面ルーチンは、深さバッファまたは
Ｚバッファ・アルゴリズムとして知られている。深さバ
ッファは、すべてのピクセルで現在見られる多角形の深
さを記憶する。新しい多角形が走査変換されると、この
多角形の深さはカバーされるすべてのピクセルで比較さ
れる。多角形が観測者により近づくと、新しい多角形の
深さは深さバッファに記憶される。 これらの両アルゴリズムは、その簡潔性により、シェ
ン（Shen）に対する米国特許第4,475,104号のようなハ
ードウェアで容易に実行できる。ハードウェア実行は、
多角形データのピクセル・データへの変換をソフトウェ
ア実行よりはるかに速い速度で生じさせる。しかし、こ
れまでのハードウェア実行にはいくつかの基本的制限が
ある。走査変換プロセスは三角形または凸面多角形に制
限され、また凹面多角形や孔つき多角形を扱うことはで
きない。深さおよび強度情報のみが維持されたが、与え
られたピクセルでどんな多角形が見えるかを決定するこ
とはできなかった。最後に、強度は表示装置に直接送ら
れるので、アルゴリズム実行後に情報を検索することは
不可能でなくても困難であった。 走査変換および可視表面動作を実行し、強度情報や多
角形または物体識別子のような合成データを記憶し、か
つデータを汎用記憶装置に送り返すことができる、ハー
ドウェア像処理装置を作ることによって、新しい１組の
像発生アルゴリズムは前に達成された速度よりも数倍速
い速度で実行することができる。さらに、このハードウ
ェアを用いて迅速に計算できるグローバルな照度情報
は、極めて高品位の像を作ることになる。本発明の理解
の目的で、新しいアルゴリズムの若干を新しいハードウ
ェア実行前にまず説明する。 第２図は本発明を示す流れ図である。第２図に示され
た方法は、光、音、熱、放射性放射線または同様な性質
の他の放射線であることができる放射線の像を作るのに
適用される。環境のモデルは第1A図のブロック20と同様
に作られる（ブロック32）が、ただし物体の面が分割さ
れる表面は多角形である必要はない。その代わり、それ
らはより小さい表面であったり、平面でも平面でないこ
ともある表面要素であるかもしれない。これらの表面ま
たは要素は点によって形成されたり、定義式と共に点に
よって形成されることがある。観測位置に無関係な放射
線データが次に計算される（ブロック34）。この発明
は、上記の反射された放射線強度の式の最初の２つの項
が観測位置に無関係でありかつ同じ静止環境の後続像を
作るために繰り返す必要がないという見解に基づいてい
る。さらに、（cos cpj）ｎの値はpjの値の多数につい
てあらかじめ計算されて、探索表に記憶されることがあ
る。これらのステップは、ブロック34において観測位置
に無関係な放射線データを計算する際に実行される。 次に、観測位置が選択され、また物体空間から像空間
へ遠近変換が行われる（ブロック36）。第ｊ放射線源の
pjの値が決定され、探索表から得られた（cos cpj）ｎ
の値がブロック34における観測位置に無関係な計算の間
にコンパイルされる。反射された放射線に関する上記の
放射線強度の式の第３項が計算される（ブロック37）。
観測位置から観測し得る環境内の表面が決定される（ブ
ロック38）。次にピクセルの強度が計算されたり、多角
形が前述の通り走査変換される（ブロック40）。次にピ
クセル強度が表示される（円42）。 第２図の方法で、第１の像を作る場合に、上記の全ス
テップが行われなければならない。しかし、以後の新し
い像を作るために、ブロック36−42のステップを繰り返
す必要がある。観測位置に無関係な放射線データ計算
は、第１像を作るに要する時間の意義ある一部を占める
ことができる。第２図の方法を用いて以後の像を作る場
合に、そのような時間は節約することができる。したが
って第２図に示された方法が第1A図の方法より有利であ
るのは、同じ環境の異なる観測位置から多数の像が所望
される場合に、最初の像の後の像が第1A図の方法よりも
はるかに速く作ることができる点である。 上記の説明において、第２図の方法は表面間の反射す
なわち陰が考慮されない応用で示されている。しかし言
うまでもなく、第２図の方法は放射密度および光線追跡
法にも適用されるが、そのような場合は以下に詳しく説
明される通り同じ静止環境の多数の像を作るプロセスを
加速することが報告されている。 本発明をさらに詳しく説明する前に、在来の方法にお
ける第1A図のブロック22に言及された遠近変換を、本発
明の背景として第3A図、第3B図、第3C図および第3D図に
関して以下に説明する。ブロック22に関して、遠近変換
は第3A図に示される相対位置にある観測者に関して環境
内にある物体について行われる。第3A図に示される通
り、観測者は面52によって定められる視野を持つ位置50
にある。像面は54である。像面の位置58でピクセルを通
る任意な光線56は、物体60の点Ａおよび点Ｂを通る。第
3A図から明白な通り、点Ｂは位置50で見えないように物
体60の前面でブロックされている。任意な光線と任意に
配向される表面との交差点を決定するには時間がかか
る。この目的で、真の物体空間からの環境を像空間と呼
ばれるものに変換すると決定が簡単になり、すなわち観
測者は極めて遠く（無限大）から環境を観測するので、
像面のピクセルを通るすべての光線は本質的に第3B図に
示される通り相互に平行である。第3B図に示されている
通り、観測者は位置50′にあり、視野は平行面52′、像
面54′、像面の点58′を通る任意な光線56′、および像
空間にある物体60′交差点Ａ′ならびにＢ′によって定
められる。 像空間で操作しながら、点Ｂ′が位置50′で見えない
ように数学的に決定することは比較的簡単である。これ
は、物体60から位置50′の観測者まで走る光線が平行で
あることによる。像面54′がX,Y面として取られ、面か
ら物体までの距離がＺで表わされるならば、座標
（Ｘ′,Y′,Z′）を有する任意な点が位置50′で見える
かどうかは点のＺ座標を同じＸおよびＹ座標と比較する
ことによって簡単に決定することができる。かくて点
Ａ′およびＢ′は同じＸおよびＹ座標を有するが、点
Ａ′は点Ｂ′よりもそのＺ座標の値が小さい。したがっ
て、点Ｂ′は位置50′で見えない。もし面54′からのＺ
の距離が深さの値と呼ばれるならば、同じＸおよびＹ座
標を有する２つの点のどちらが見えるかはそれぞれの深
さの値を比較することによって決定することができる。 像面は所望解像度のピクセルに分割することができ
る。深さおよび強度バッファは、観測者に見える表面の
点および第3C図、第3Dに図示されるようなピクセルごと
の光度を記憶することができる。各表面はどのピクセル
が表面によってカバーされているかを決定するために走
査変換される。次に表面の深さは第3C図に示されるよう
に記憶される。第1A図のブロック24における可視表面決
定プロセスは次に、すべての多角形の処理が終ってから
完了される。 可視表面の異なる帯域幅（普通は赤、緑および青のチ
ャネル）における光度が計算されてから、それらは第3D
図に示される通りしばしばフレーム・バッファとして知
られる強度バッファにピクセルごとに記憶される。第1A
図のブロック26で言及された照度計算が次に完了され
る。像面54′のピクセルが次に表示される。 半立方体 放射密度決定用の本発明の方式を説明する前に、ACM
コンピュータ・グラフィックス（プロシーディング198
4）のシンディM.ゴラールらの報告「拡散表面間の光の
相互作用のモデル化」の第213−222頁に開示された方法
をまず説明することが役に立つと思われる。以下二，三
項において、ゴラールらにより開示された放射密度法が
要約されている。 放射密度とは、光源の場合に、光を放射することも反
射することもできる表面から出るエネルギーの全割合で
ある。不活性表面の場合には、表面は光を反射するだけ
で放射しない。したがって問題のエネルギーが光である
ときは、放射密度は与えられた表面から反射された光と
表面から直接放射された光との和である。放射密度の計
算には、すべての反射面と透過面の幾何学的関係、なら
びに他のすべての面から出る光の完全な明細が必要であ
る。かくて光を受ける表面ｉについて、この関係は下記
の式で表わされる： ただしBiは放射密度すなわち表面ｉを出る単位面積当た
りの（光の）エネルギーの全割合であり、Eiは表面ｉか
ら出された単位面積当たりの（光の）エネルギーの割合
であり、 ρｉは入射光のうちの表面ｉによって反射されるものの
比率であり、 Fijは表面ｉから出るエネルギーのうちの表面ｊに入る
ものの比率であり、Ｎは環境内の表面の総数であり、Bj
は表面ｊを出る単位面積当たりの（光の）エネルギーの
全割合である。 上記の式において、環境はおのおの一定の放射密度を
有する微小な分離表面素子に細分されるものと考えられ
る。かくて環境内に合計Ｎ個の表面があるならば、形状
因子（form factor）の連立方程式の組は以下の通りで
ある。 物体の色は可視スペクトルの各波長でのその反射率
（光源の場合は放射率）の総和によって決定される。し
たがって上記の式における反射率および放射率の項は特
定の波長または波長帯について有効である。各表面素子
の完全放射密度を決定するために、問題の各帯について
上記マトリックスを作りかつ解く必要がある。形状因子
はもっぱら幾何学的寸法の関数であり、したがってどん
な色についても無関係である。 形状因子を得る在来の方法は第4A図、第4B図に関して
説明される。２つの異なる表面素子dAi、dAjが第３の表
面によってさえぎられないならば、素子dAjによって出
されdAiに入る放射線の形状因子は下記の式で与えられ
る： ２つの有限表面素子の間の形状因子は面積平均と定義さ
れ、したがって： 熱放射線の熱伝達の中でシーゲル（Siegel）らはナッセ
ルト（Nusselt）によって開発された方法を検討した
が、その方法は写真および面積測定の両方によって形状
因子を得るように上記の波形率積分について幾何アナロ
グを使用している。有限面積に関して第4B図に示される
通り、形状因子は、表面Ajを半球の上に投影し次に基部
に垂線を下ろすことによってカバーされる半球の基部の
円面積の小部分に等しい。 ２つの表面素子間の距離がそれらの大きさに比べて長
大であるならば、素子から素子までの波形率は素子ｉの
平均位置を表わす素子ｉの中心点を使用することによっ
て概算される。各素子は、環境のその「観測位置」とし
て、第4B図に示される通りその法線を囲む半球を有して
いる。 しかし、ナッセルトによって提案された上記の解は、
形状因子の容易な計算解に不向きである。本発明は、環
境にある任意な２つの表面素子が第4B図の半球に投影さ
れるとき、それらは同じ面積および位置を占めるととも
に、表面素子ｉに関して同じ形状因子値を有するという
認識に基づいている。したがって第5A図に示される通
り、表面素子A,B,C,DおよびＥはすべて第5A図の半球を
観測位置とする表面素子に関して同じ形状因子を有す
る。本発明はさらに、形状因子の計算が半球の代わりに
半多角形を使用することにより簡潔化されるという別の
見解に基づいている。実際に計算を簡潔化する半多角形
は半立方体のそれである。 したがって、半球形を用いる代わりに、仮想の半立方
体が本発明の好適な実施例を示す第5B図、第5C図に示さ
れるような受け表面素子の中心のまわりに作られる。第
5B図に示される通り、環境は素子の中心が原点となり、
素子の法線がＺ軸に一致するように変換される。この位
置において、ナッセルトによって使用された半球は、中
心が表面素子の中心と一致するＸ−Ｙ面上に基部を持つ
半立方体に置き替えられる。基部の上の半立方体の面
は、与えられた解像度のグリッド・セルに分割されてい
る。走査を容易にするため、これらのグリッド・セルは
矩形または正方形であることが望ましい。素子AjとAiと
の間の形状因子は、第5B図に示されるような半立方体の
面に素子Ajを投影することにより、かつ半立方体の面に
投影された像内のすべてのグリッド・セルの波形率の寄
与を加えることによって、簡単に決定することができ
る。 同様な方法で、環境にあるすべての表面は半立方体の
５つの面に投影される。 半立方体の面上の各グリッド・セルの形状因子値に対
する寄与は変化し、その位置と方角に左右される。グリ
ッド・セルの寄与はデルタ形状因子と呼ばれることがあ
る。半立方体の上面のグリッド・セルによって寄与され
るデルタ形状因子は第5D図に関して下記の通り計算され
る： 上記の式において、半立方体の解像度はグリッド・セル
の中心点がセルの平均位置を表わすように使用できるよ
うに選択されている。半立方体の側面上のグリッド・セ
ルによって寄与されたデルタ波形率は下記の通り計算さ
れ、第5E図に関して説明される：半立方体の形をした半多面体の選択が有利であるのは、
デルタ形状因子の計算が上記の式に示される通り大幅に
簡潔化されるからである。さらに、立方体の対称を利用
して、上部面の1/8および１つの側面の1/4のデルタ形状
因子のみを計算すればよい。第5B図について、表面素子
AiとAjとの間の形状因子は、半立方体に投影された素子
Ajの像内のグリッド・セルのデルタ形状因子の和によっ
て与えられる。 第６図は本発明の１つの面の好適な実施例を示す環境
の可視像を作る放射密度法の流れ図である。第２図およ
び第６図を比較すると、第６図は作るべき放射線像が拡
散表面を持つ環境の像である第２図の方法の一段と詳細
な実施であることが分かると思う。したがって、２つの
図において同じであるステップは同じ数字で表示されて
いる。しかし放射密度法では、計算された放射線データ
はすべて観測位置に無関係であるので、観測位置による
計算（第２図のブロック37）は不要である。 環境のモデルが作られ（ブロック32）、放射線データ
（第２図のブロック34）は第６図では２つのステップで
計算される（ブロック34′、34″）。環境内にあるすべ
ての表面素子に関する形状因子は表面素子の放射密度の
連立マトリックス方程式が計算される（ブロック34″）
ように計算される。式の解を以下に詳しく説明する： 環境内のすべての表面の放射密度がいったん知られる
と、照度計算は完成し、遠近変換、可視表面の決定、レ
ンダリングおよび表示（ブロック36−42）の後続ステッ
プが第１図のブロック22、24、28および30に関する上述
の方法に似た方法で行われる。異なる観測位置に第２の
像が取られることが望ましい場合は、形状因子の計算お
よび表面放射密度の計算は、繰り返す必要がない。繰り
返す必要のあるのはブロック36−42のステップであり、
それによって同じ静止境界の第２および他の後続の像を
作るプロセスが大幅に加速される。 物体は静止しているが異なる色または異なる照明によ
って照射される場合、第６図の方法もこれらの異なる像
を以前の方法よりもはるかに高速で作らせる。波形率は
色や照明の変化に伴って変化しないので、波形率計算は
繰り返す必要がないが、放射密度計算はマトリックス式
の放射線の項がいまや異なるので繰り返す必要がある。
これらの方法は変形することによって、動環境にも適用
することができる。形状因子計算は通常、プロセスの全
ステップの内で最も時間がかかるので、第６図の方法は
これまでの方法よりもはるかに有利である。 第６図のブロック34′で行われた形状因子計算が第７
図にさらに詳しく示されている。まず、半立方体解像度
は第5B図に関して面当たり２つの各方向におけるグリッ
ド・セルの数を定めることによって定められる（ブロッ
ク100）。次にデルタ波形率が各グリッド・セルについ
て計算され、次にデルタ形状因子は探索表に記憶される
（ブロック102）。 表面素子ｉが選択され、半立方体の基部の中心は素子
ｉの選択された点に置かれるが、ただし素子のその点は
素子の平均位置を表わすように使用できるように選択さ
れている。普通、これは素子の中心である（ブロック10
4）が、素子の頂点にも置くことができる。 次に環境は、半立方体が上述のような適当な方角で原
点となるように幾何学的に変換される（ブロック10
6）。環境は在来の方法で１つの半立方体の面によって
定められる視野の錐台に切り取られる（ブロック10
8）。在来式の１つの切取り法は、サザーランド（Suthe
rland）らの米国特許第3,816,726号に説明されている。
環境は第3A図、第3B図に関して前述した方法に似た方法
で、物体空間からの像空間に遠近変換される（ブロック
110）。走査変換および可視表面の決定が次に行われ
て、どの表面またはその部分が第3C図に示される通り深
さバッファのような標準の方法を用いて半立方体の面の
各グリッド・セルで立方体の中心に最も近い（すなわち
見える）かを見出す（ブロック112）。表面素子の強度
値を記憶する代わりに、面の各グリッド・セルで最も近
い表面の実体が記憶される（第3D図、ブロック114）。 次に、５つの半立方体の面から、切取り動作を受ける
べきもう１つの面があるかどうかをチェックする（菱形
116）。かくて、もし切り取られるべきもう１つの面が
あるならば、ブロック106−114のステップがかかる面に
ついて繰り返され、その結果半立方体のすべての５つの
面に関する各グリッド・セルで最も近い表面の実体がい
まや記憶される。１つの表面素子ｊによってカバーされ
るすべてのグリッド・セルが次に記憶装置から取り出さ
れ、かかるグリッド・セルのデルタ形状因子が次に一緒
に加算される（ブロック118）。その和は形状因子Fijで
ある。このプロセスは、表面素子ｉを出る光の環境にあ
る他のすべての表面が受ける光の小部分を定めるすべて
の形状因子を得るために、環境内のすべての表面につい
て繰り返される（ブロック118）。次に形状因子を計算
すべきもう１つの素子が環境内にあるかどうかをチェッ
クする（菱形120）。もしあれば、ブロック104−114、
菱形116およびブロック118がかかる受光素子について繰
り返される。このようにして、すべての形状因子が計算
される。 すべての形状因子が計算されると、環境内にあるすべ
ての表面素子の反射率、放射密度および放射率に関する
行列式を解く準備がいま整う。行列式は任意な標準の方
程式解法によって解くことができる。かくて、最初の反
復を受けなければならない放射密度の最初の推測は単に
各素子の放射率に過ぎない（１次光源のみが任意な初度
放射密度を有する）。各反復の間、各放射密度は他の放
射密度について既に見出された値を用いて解かれる。放
射密度の値があらかじめ選択された割合を越えて変化し
なくなるまで、反復は続けられる。反復のプロセスは速
やかに収束し、解は標準の消去法に要する時間のごく一
部で見出すことができる。 第８図は、第６図および第７図の方法を実施するため
に使用されるグラフィック・パイプラインのブロック図
である。モデル作成（第６図のブロック32）はCPU 50で
行われる。第７図および第８図に関して、半立方体解像
度の定義づけおよびデルタ形状因子の計算（ブロック10
0、102）はCPUに入力されて、CPU記憶装置に記憶され
る。 CPU150は半立方体解像度、デルタ形状因子に関する情
報を与えるとともに、浮動小数点加速器152に対して作
られたモデルに関する他の情報を与え、第７図の流れ図
における次の数ステップが浮動小数点加速器で行われ
る。加速器において、表面素子ｉが選択され、半立方体
の基部の中心は素子の選択された点に置かれる。環境
は、半立方体が正しい向きの原点となるように幾何学変
換される。次に環境は１つの半立方体の面によって定め
られる錐台に切り取られる。次に環境は遠近変換され
る。第７図のブロック104−110参照。これらのステップ
はすべて、浮動小数点加速器によって行われる。次に加
速器はその作動の結果を像処理装置154に供給し、像処
理装置は第７図のブロック112の走査変換および可視表
面決定を行う。 像処理装置の構造は第９図に詳しく示されている。第
９図に関して、表面素子縁分類器156は、Ｙ座標のよう
なそれらの座標の１つによって環境内の表面素子を分類
する。活性縁分類器158は、Ｘのようなもう１つの方向
に分類し、そのとき特定の縁は像処理装置によって一度
に処理することができる。次に増分計算器160は、頂点
と頂点との間の中間点でＸおよびＺ方向のような残りの
座標方向における縁増分を計算する。走査変換器170お
よび深さ比較処理装置172は次に、同じＸおよびＹ位置
の他の表面素子上の内挿された点の位置を計算しかつ比
較して、どの特定表面素子が半立方体の中心から見える
かを決定する。次に最も近い表面の実体（第７図のブロ
ック114）が制御記憶装置174の一時記憶部に記憶され、
CPUの一部であることができる汎用記憶装置に送られ
る。 記憶装置174の記憶容量が半立方体の全５面に環境を
投影する結果を記憶するに足る大きさである場合は、第
８図のグラフィック・パイプラインは半立方体の異なる
面に環境を投影する浮動小数点加速器152に簡単に戻
り、プロセッスは繰り返される。最も近い表面の実体が
再び記憶装置174に記憶される。半立法体の全５面の上
に環境が投影され終ると、半立方体の５面上のグリット
・セルに最も近い表面素子の実体は次にCPU記憶装置に
送られる。 次にCPUは、特定の表面素子によってカバーされるグ
リッド・セルをすべて見出すことによって第７図のブロ
ック118のステップを実行し、かつデルタ形状因子を加
算して、かかる表面素子と半立方体の中心における表面
素子との間の形状因子を得る。これはすべての表面素子
について反復される。次のCPUは、形状因子行列式にあ
る形状因子の行を計算しなければならないもう１つの素
子が環境内にあるかどうかをチェックする（第７図の菱
形120）。もしあれば、上記プロセスはCPU150、浮動小
数点が加速器152および像処理装置154を用いて反復され
る。もしなければ、第６図のブロック34′の形状因子計
算は済んでいる。 第６図に関し、第８図のグラフィック・パイプライン
は次に第６図の残りのステップを実行する用意を整えて
いる。CPUおよび浮動小数点加速器は、行列式を解くこ
とによってブロック34″の表面放射密度計算を実行す
る。浮動小数点加速器152はブロック36の遠近変換を実
行し、また像処理装置154はブロック38の可視表面決定
を行う。環境内の異なる表面素子の放射密度は知られて
いるので、特定の観測位置で見える表面がいったん決定
されると、その放射密度はCPU記憶装置から取り出され
て、走査変換器170によって像処理装置内で走査変換さ
れ、像面にあるピクセルの光度が与えられる。かかる情
報は次に、像記憶装置182に送られてビデオ表示装置184
により表示される。 第1B図と第８図とを比較すると、本発明の好適な実施
例のグラフィック・パイプラインが第８図に示される帰
還通路186を通してCPU記憶装置のような記憶装置に計算
済の放射線データが記憶されるという点で在来のパイプ
ラインと異なることが示される。かかる通路は第1B図の
在来のパイプラインにはない。この帰還通路によって、
計算済の放射線データを記憶装置に記憶することができ
る。かかるデータは次に、照度計算を加速するために後
に取り出される。第８図のグラフィック・パイプライン
が上述の放射密度計算に使用される場合、ブロック34′
のすべての形状因子はあらかじめ計算されてCPU記憶装
置に記憶される。静止環境の色または照明が変化ない場
合は、ブロック34″の表面放射密度計算の結果も同じ帰
還通路を介してCPU記憶装置に記憶されることがある。
このようにして、放射密度計算の最も時間のかかる部分
はあらかじめ計算されているので、同一環境の多数の像
が迅速に作られる。さらに、在来のハードウェアが上述
の走査変換プロセスを行うために存在する。本発明は、
半多面体のグリッド・セルが同じ形状のグリッド・セル
の順次配列から成る場合に、走査変換用の既存の在来形
ハードウェアが波形率を計算する第９図の像処理装置に
採用されるという見解にも基づいている。グリッド・セ
ルは基本的に同じであるので、それらは在来の走査変換
器によって走査される多角形に似た方法で処理される。
半立方体上のグリッド・セルは規則正しい形状であるこ
とが望ましく、なるべく矩形、三角形または正方形であ
ることが望ましい。 光バッファ 光線追跡において、観測者に見える表面が特定の光源
に関して照射されているか陰になっているかをテストす
る必要がある。陰テストは時間がかかり、光線追跡法に
よってコンピュータ像を作る処理時間の内の無視できな
い部分を占める。本発明の１つの面は、どの物体がまず
さえぎるかを見出す必要なしに陰になる点を決定できる
という知見に基づく。さらに、陰テストは以下「光バッ
ファ」という概念的な装置の中で光線の方向に表面を向
けることによって達成できる。かくて理想的な光バッフ
ァは下記の２つのアルゴリズムを有するものと定義され
る： 1.各光の位置に関して環境を分割する手順。 2.与えられた点が環境のこの分割定義の使用によって陰
になるかどうかをテストする手順。 この場合もまた、環境のモデルが作られて、環境内の
表面が定義される。特定の光源から出る光線の方向を用
いてデータを参照するために、光バッファが構成され
る。光バッファは、光源を包囲する多面体であることが
できる。好適な実施例では、多面体は立方体である。 第10A図および第10B図は、環境内の物体による光バッ
ファの簡潔化された遠近図ならびに本発明の好適な実施
例を示す光バッファの特定なグリッド・セルの記録一覧
表である。第10A図に示される通り、光バッファ204は光
源202を囲むように形成されている。光源の中心に光バ
ッファ204の中心を置くことが望ましい。光バッファ204
を用いて、環境は光源202に関して分割することができ
る。この手順により光源202に関する以後の陰テスト手
順は在来の方法に比べて加速される。 光源202に関する光バッファ204を作る手順を、第10A
図、第10B図および第11図に関してこれから説明する。
以下の説明は光像および光反射に関するものであるが、
言うまでもなく、同じ装置は他の形の放射線像の作成に
も適用できる。すべてのかかる構成は本発明の範囲内で
ある。第10A図、第10B図の光バッファ204はそれぞれの
中心が光源202の中心である立方体としてここに説明さ
れているが、言うまでもなく立方体以外の多面体が光バ
ッファに使用され、また光バッファ多面体はその中心が
光源の中心から離して置かれることがあり、ここに説明
される本発明は基本的に同じような機能を果たす。 バッファ204を使用する光源202に関する環境の分割を
第11図の流れ図に関してこれから説明する。光バッファ
解像度は、光バッファ面の２つの各直角方向にあるグリ
ッド・セルの数を規定することによって定められる（ブ
ロック222）。立方体の中心は光源202の中心に置かれる
（ブロック224）。環境は、光バッファが正しい方角で
原点に置かれるように幾何変換される（ブロック22
6）。環境は、物体番号７に対する面206のような１つの
光バッファ面によって定められる視野の錐台に切り取ら
れる（ブロック228）。次に環境は物体空間から像空間
へ遠近変換されて、面206のどのグリッド・セルが物体
７の面３のような選択された被投影表面によってカバー
されるかを見出す走査変換が行われる（ブロック230、2
32）。 被投影表面の像によってカバーされる各グリッド・セ
ルについて、表面はグリッド・セルの記録一覧表に挿入
される。すべての表面の強度およびそれらの距離または
光源202からの相対距離、すなわちここで深さ値と呼ば
れる値が一覧表に記憶される。第10A図は説明のための
セル208に関するグリッド・セル一覧表を示す。その一
覧表に示される通り、物体７の面３が識別されて、光源
からのその深さ値と共に一覧表に記憶されている。次
に、ブロック228で定められた視野の錐台にある面206に
投影すべき環境内のもう１つの表面があるかどうかをチ
ェックする（菱形236）。もしあれば、かかる表面の投
影像によってカバーされるグリッド・セルの一覧表記録
に表面を加えるブロック232および234のステップが繰り
返される。もし面206の視野の錐台内にあるすべての表
面が投影されているならば、ブロック226、228の視野変
換および切取り操作がまだ行われていないもう１つの光
バッファ面があるか否をチェックする（菱形238）、も
しあれば、環境はＺ軸がかかる面を通るように幾何変換
される。ブロック228−234および菱形236のステップが
次に行われて、かかる面上に表面の投影像によってカバ
ーされるすべてグリッド・セルの一覧表記録をコンパイ
ルする。上述のプロセスが光バッファ204の全６面につ
いて完了されたとき、光バッファを作るべきもう１つの
光源が存在するかどうかをチェックする（菱形240）。
もしあれば、ブロック224−234および菱形236、238のス
テップが繰り返されて、かかる光源の光バッファのグリ
ッド・セルの一覧表記録をコンパイルする。このように
して、環境は存在するすべての光源に関して分割され
る。 表面の強度およびその深さ値は、陰テストにおける以
後の使用が容易にされるような方法で一覧表記録に記憶
することができる。これは第10B図について示されてい
る。第10B図はかかる簡潔化の方法を説明するための環
境内の光バッファおよび一定の物体の簡潔化された遠近
図である。バッファ204はその面の１つにグリッド・セ
ル252を備えている。物体１−４の部分はセル252によっ
て定められる視野の錐台254の中にある。第11図に説明
されたプロセス後のセル252の一覧表記録は第10B図の記
録Ｉとして図示されている。物体の形状が複雑な場合
は、かかる物体が光線によって交差されるかどうかをテ
ストする在来の方法は、光線追跡テストにおいて物体を
囲む隣接する容積によって物体を置き換えることにより
仕事を簡潔化することである。かくて第10B図に示され
る通り、物体２は隣接する容積の中に囲まれる。隣接す
る容積の存在をフラグ表示するために、面を（０）と識
別された負の識別子（−２）が記録IIに挿入される。 物体３は、物体４が完全に陰になるように錐台254を
完全にさえぎることが認められると思う。この状態の検
出は、記録の一覧表および以後の陰プロセスを大幅に簡
潔化するのに用いられる。かくて、観測者に見える表面
素子が物体３よりも光源から離れていることが検出され
るならば、かかる表面素子は陰になり、さえぎりのテス
トはそれ以上不要となる。この理由で、物体番号３を越
えるすべての表面の実体および深さ値は、一覧表を切り
詰めるために削除される。一覧表記録の記入は、記録
Ｉ、IIおよびIIIに示される通り深さ値の上昇順に配列
される。錐台254の全体をさえぎる物体３の記録は完全
さえぎり記録として知られ、そのＺ深さについて負の識
別子によって識別され、第10B図の記録IIIに示される通
り一覧表記録の最終記録として一覧表に示されている。
かくて、可視表面が完全にさえぎられているかどうかを
調べる便利な手順は、一覧表記録の最終記入を調べるこ
とである。最終記入が可視表面素子よりも小さい深さ値
で完全さえぎり記録であるならば、可視表面素子はさえ
ぎられる。 アイテム・バッファおよび光バッファを作って記憶す
る能力を持つ像処理装置のハードウェアが光線追跡を加
速するのにどう使用されるかは、第12図および第13図に
ついて以下に説明される。ある光環境では、特定の表面
から観測される光は、観測される表面から反射されたり
それを透過される他の表面から出る光であるかもしれな
い。第12図および第13図は、観測される表面で観測され
る他の表面から出る光の寄与を決定する装置をも示す。 第12図は本発明の好適な実施例を示す、多数の光源ま
たは表面から出る表面からの光のような放射線を観測す
る観測者の概略図である。第12図に示される通り、観測
者300はピクチャ面302で環境内にある表面S1を観測す
る。光線V1−V4は、表面S1からピクチャ面302を通って
目300に達する光線を表わす。かくて、目で観測される
光度は代表的な光線V1−V4のような光線の光度である。
光線V1−V4は、表面S1から直接反射さる光源からの光、
表面S1から反射される表面S2のような他の表面からの
光、および表面S3のような他の表面から表面S1を透過さ
れる光を含むことがある。したがって、現実的な像を作
るために、表面S2、S3からそれぞれ出る光R1−R4、T1−
T4の寄与は、直接反射された光線V1−V4の強度に加算さ
れる。 第13図は、他の光源から直接出たり、環境内の他の表
面から間接的に出る、表面から目によって観測される光
度の寄与を計算するステップを示す流れ図である。第13
図に示される通り、環境のモデルが上述のように再び作
成される（ブロック32）。第11図に関して上記に説明さ
れるように、環境内の各光源について光バッファが作ら
れる（ブロック360）。次に環境は、その基準装置が第1
2図の位置300における観測者のそれと両立するように変
換される（ブロック362）。像処理装置ハードウェアを
用いて、走査変換アルゴリズムは上述のように観測者に
見える表面を決定するために加えられる。可視表面また
はその部分は次にアイテム・バッファに記憶される（ブ
ロック364）。 環境内の各表面は、一部が鏡面であるかどうかテスト
される（ブロック366、菱形368）。鏡面性をテストする
１つの簡単な方法は、表面の鏡面反射係数が０であるか
否かを決定することである。係数がゼロであるならば表
面は非鏡面であり、係数が非ゼロであるならば表面は鏡
面または一部鏡面である。表面が鏡面または一部鏡面で
あるならば、下記のステップが行われる。まず、表面に
よってカバーされる像面のピクセルはアイテム・バッフ
ァから検索される（ブロック370）。カバーされる各ピ
クセルを通る目からの光線による表面上の正確な交差位
置が計算されて保存される（ブロック372）。各ピクセ
ルの所定の点が光線追跡のために選択される。かくて光
線は目からピクセルの１つの特定の隅に進む。次に交差
点は光線と表面との交差を見出すことによって見出され
る。交差位置は、それらが作られた光バッファを用いて
環境内で光源に関して陰になるかどうかをテストされる
（ブロック374）。照度の周囲および拡散成分ならびに
直接照明により寄与される照度の鏡面成分がいまや、第
１図のブロック26に関して示された反射照度の方程式に
より計算される（ブロック376）。結果はフレーム・バ
ッファに記憶される（ブロック378）。この点で第12図
の表面S1の直接照明に起因する鏡面照度成分に対する寄
与のみが計算される。第12図の表面S2、S3のような他の
表面による鏡面照度成分に対する寄与は、これら追加の
寄与が下記のステップを用いて簡単に決定できるという
見解に基づいている。かかる寄与が無視できるならば、
装置はより多い表面について上記プロセスを繰り返すた
めに菱形414に簡単に進むことができる。 第12図について、表面S1により反射された光に起因す
る鏡面成分に対する寄与は、表面S1を横切る観測位置30
0の鏡像および表面S1を横切る仮想ピクチャ面310に過ぎ
ない仮想焦点304を作ることによって決定することがで
きる。第12図に示される通り、これらは単に位置300の
鏡像およびS1を横切るピクチャ面302に過ぎない。面302
にあるピクセルの鏡像は、面310にある仮想ピクセルを
定める。次に目に向って表面S1により反射される代表的
な光線R1−R4のような光線に寄与する環境内の表面は簡
単な方法で決定することができる。かくて、まず仮想点
304および仮想ピクチャ面310が決定される（第13図のブ
ロック380）。光線の交差位置を囲む隣接ボックスが仮
想焦点装置の仮想ピクチャ像面310に作られる（ブロッ
ク382）。隣接ボックスに対して切取りが行われ、走査
変換アルゴリズムが仮想点で見られる表面を決定するた
めに適用される。これらの表面は光を表面S1に仮想反射
し、これは順次これらの光線を目に反射させる。これら
の表面の照度は、仮想点用のアイテム・バッファに記憶
される（ブロック384）。 反射された光線（第12図のR1−R4）の正確な交差点が
次に決定されなければならない（ブロック386）。仮想
ピクチャ面にある仮想ピクセルは面302にあるピクセル
の鏡像であるので、またアイテム・バッファは隣接ボッ
クス内の各仮想ピクセルを通して見られる表面を記憶す
るので、反射光線の正確な交差位置を見出す仕事は大幅
に簡潔化される。さらに、光線R1−R4のような、同じ多
角形に当たるすべての光線の多重交差が同時に計算でき
る。 交差点（第12図の表面S2上の点306のような）が次に
テストされて、それらが環境内の光源に関して陰になっ
ているかどうかを調べる（ブロック388）。テストは前
に作られた光バッファを用いて行われる。かかる光線の
交差点（点306のような）から出る光によって寄与され
る間接鏡面成分が次に計算される（ブロック390）。表
面S1から反射される表面S2からの光によって寄与される
表面S1から位置300で見られる照度の間接鏡面成分が次
に下記の式によつて計算される： ただし式中の量は第１図のブロック26に関して説明され
た反射照度の式で前に定めらている。 反射照度の式における周囲の項Iaは二度カウントされ
てはならないことに注意する。光源により照射される点
306のような交差点では、S1からの反射によって寄与さ
れる鏡面成分が次に前述の通り計算される。これらの寄
与はフレーム・バッファに記憶された値に加えられ、次
に新しい合計が代わってバッファに記憶される（39
1）。これで、表面S2からの反射の寄与を加えるプロセ
スが完了する。 表面S1が鏡面でない場合は、照度の周囲および拡散成
分を計算しなければならない。まず、アイテム・バッフ
ァを用いて、表面によりカバーされる各光源に関する正
確な光線交差点を見出す必要がある（ブロック392）。
次に、光バッファを用いて陰テストが行われる（ブロッ
ク393）。次に周囲および拡散照度成分が計算され（ブ
ロック394）てフレーム・バッファに記憶される（ブロ
ック395）。 第12図の表面S1が透明であるならば、光源または表面
S3のような表面から出る光は表面S1に送られて目300で
見られる。透明な表面を含む環境の現実像を作ることが
できるように、下記ステップが使用される。 まず表面は、それが透明であるかどうかを決定するた
めにテストされる（396）。もしそうであれば、観測点
は第12図の位置300で簡単にセットされる。変換はブロ
ック362で既に行われているので、それ以上の変換は不
要である。アイテム・バッファに記憶された表面の実体
（ブロック364で行われる）が検索される（ブロック40
0）。 像面（第12図のピクチャ面302のような）の上に隣接
ボックスが作られる（ブロック402）。次に隣接ボック
スは切取り境界として使用されるので、像面のごく少数
のピクセルのみを観測すればよい。次に表面S1は環境か
ら除去され、目で見られかつ隣接ボックス内にある最も
近い表面の実体が次に計算し直される。アイテム・バッ
ファを用いて、表面S1が取り除かれた後に表面による各
光線の正確な光線交差点が次に物体空間で計算され、陰
テストはこれらの点のどれが照射されるかを決定するた
めに行われる（ブロック408−412）。概算として、表面
S1のような透明な表面は厚さが０であると考えられる。
かくて、透過した光線は、その前の表面として表面S1を
有する透明板の黒色表面の代わりに環境内の別の物体ま
たは表面に当たる。さらに、屈折は考慮する必要がな
い。透過された鏡面成分は下記の式によって計算するこ
とができる： ただし式中の量は第１図のブロック26に関する前述の反
射照度の式に定められている。目300で観測された照度
に対する透過鏡面寄与は次にフレーム・バッファに記憶
された値に加えられ、これによって極めて現実的な像が
作られる。 次に装置はテストすべき環境内の表面がもっとあるか
どうかをチェックし、必要な場合上記プロセスを反復す
る。もしなければ、第13図のプロセスは完了されてい
る。 第13図の上記プロセスでは、第12図の点306、308のよ
うな交差点は、観測される光線V1−V4の照度に寄与する
間接鏡面成分が決定できるように見出されるべきであ
る。これまでに知られている方法で行われたような境界
内の表面とのそれぞれの交差を見出す光線追跡法の代わ
りに、第13図の方法はプロセスを簡潔化しかつ処理時間
を短縮する物体コヒアレンスおよび「多角形」コヒアレ
ンスを利用している。 物体空間における交差点が例えば点306、308のように
いったん見出されると、かかる表面から表面S1に反射さ
れる光の照度が計算されなければならない。多角形は普
通100〜900ピクセルを含むので、テスト時間は大幅に短
縮される。すなわち、与えられた多角形のすべての交差
は同じ変換を用いて見出され、個々の光線に関する分類
手順は全面的に除かれる。 第８図および第９図のグラフィック・パイプラインを
用いる第10A図、第10B図、第11図〜第13図の方法の実施
をこれから説明する。第11図に関して、ブロック222、2
24のステップはCPU150で実行される。ブロック228、230
のステップは浮動小数点加速器152によって実行され
る。ブロック232の走査変換は像処理装置154で行われ、
ブロック234のグリッド・セル一覧表記録のコンパイル
はCPU150の記憶装置のようなコンピュータ記憶装置に保
持される。投影された表面の像によってカバーされるグ
リッド・セルを定めるブロック232の走査変換は、前述
の第７図のブロック112と基本的に同じように行われ
る。カバーされるグリッド・セルの一覧表記録にある表
面識別子および深さ精度は制御記憶装置174に記憶され
て、適当な時点でCPU記憶装置に送られる。かくて、第1
1図のプロセスが完了すると、CPU記憶装置は作られたす
べての光バッファのグリッド・セルに関する一覧表記録
を記憶する。そのように計算された放射線データは次に
陰テストを加速するのに用いられる。 第13図に関して、環境のモデルがCPU150において作ら
れる（ブロック32）。光バッファはCPU150および像処理
装置154によって上述の通り作られる（ブロック360）。
光バッファにあるグリッド・セルの一覧表記録はCPU記
憶装置に記憶される。環境は浮動小数点加速器152にお
いてブロック362で変換される。像処理装置154はブロッ
ク364の走査変換を行う。アイテム・バッファを構成す
る目に最も近い表面は、帰還通路186を経てCPU記憶装置
150に記憶される。CPUは菱形368およびブロック370のス
テップを実行する。浮動小数点加速器152はブロック372
で正確な交差位置を計算して保持し、そしてCPUはブロ
ック374で陰テストを実行する。浮動小数点加速器は、
ブロック376において物体空間の照度の周囲、直接拡
散、および直接鏡面反射の諸成分を計算する。これらの
成分は次にフーム・バッファ182に記憶される（ブロッ
ク378）。仮想点および仮想ピクチャ面ならびに隣接ボ
ックスはCPUによって決定される（ブロック380、38
2）。CPU、浮動小数点加速器、および像処理装置は共に
ブロック384のステップを実行し、仮想点用のアイテム
・バッファをCPU記憶装置に記憶する。浮動小数点加速
器152は、ブロック386において表面によりカバーされる
各ピクセルの正確な光線交差点を見出す。CPUはブロッ
ク388用の光バッファを用いて交差点の陰テストを行
い、加速器152はブロック390に関して鏡面反射成分を計
算する。ブロック391に関してS2から出てS1から反射さ
れる光の鏡面反射成分は次にフレーム・バッファ182に
加えられる。 表面が鏡面でない場合は、CPUはアイテム・バッファ
からピクセルを検索し、また浮動小数点加速器は表面に
よってカバーされるピクセル用の交差点を見出す。CPU1
50はブロック393の陰テストを行う。浮動小数点加速器1
52はブロック394のステップを実行する。像記憶装置182
はこの場合もまたフレーム・バッファに対する周囲およ
び直接拡散成分を記憶する。 表面が透明である場合は、CPU150はブロック400−406
のステップを実行する。加速器152および像処理装置154
と共にCPUはブロック408の隣接ボックス内のアイテム・
バッファを計算し直し、アイテム・バッファは像処理装
置の制御記憶装置174に記憶される。加速器152はブロッ
ク410で正確な照明光線の交差点を計算する。これらの
点はCPUによって陰テストされ、照度計算は加速器152で
行われる。次に透過された鏡面成分は像記憶装置182に
加えられる。 上記の説明に示された通り、第８図の帰還通路186に
より、あらかじめ計算済の放射線データ、この場合は光
バッファ情報が、CPU記憶装置に記憶される。かかるデ
ータは次に後の時点（ブロック374、388および412のス
テップで示されるような）で取り出される。また像処理
装置にある制御記憶装置174のような局部記憶装置によ
っても、アイテム・バッファ情報のような制限された量
の放射線データがブロック364、384および408に関して
記憶される。換言すれば、像処理装置の局部記憶装置に
より、制限された量の放射線データはその時点で包含さ
れる特定の計算の速度を上げる目的で記憶される。光バ
ッファ情報が代わりにCPU記憶装置に記憶される。光バ
ッファは著しい記憶スペースを要求することがあり、し
たがって像処理装置にあるような局部記憶装置ではなく
CPU記憶装置に記憶されることが望ましい。さらに、陰
テストはCPUによって行われるので、光バッファ情報はC
PU記憶装置から最も具合よく取り出される。別法とし
て、アイテム・バッファ情報も通路186を介してCPU記憶
装置に記憶することができる。 上述の通り、光線追跡計算の最も時間のかかる部分は
あらかじめ計算されてCPU記憶装置に記憶されるので、
多数の像を迅速に作ることができる。第８図のグラフィ
ック・パイプラインの各成分は、走査変換用の在来のハ
ードウェアのような、在来形ハードウェアから作ること
ができる。 また本発明は、光バッファ用の半多面体のグリッド・
セルが同じ形状のグリッド・セルのアレイから成る場
合、走査変換用の既存の在来ハードウェアを第９図の像
処理装置に採用して、グリッド・セルの一覧表記録を構
成することができる。グリッド・セルは基本的には同一
であるので、それらは在来の走査変換器によって走査さ
れる多角形に似た方法で処理することができる。光線追
跡方式用の半多面体のグリッド・セルは形状が規則正し
く、矩形または正方形であることが望ましい。 上記から明らかな通り、第８図の帰還通路186によ
り、放射密度法の波形率計算および光線追跡法の光バッ
ファ計算の結果が記憶される。後の時点で記憶された放
射線データは照度計算および陰テストの速度を上げるの
に使用される。対象的に、第1B図の在来方式はかかる記
憶を許さない。 また本出願には、ここに主張される本発明の異なる面
の細部をさらに詳しく示す補助材料として、共に提案さ
れる２つの報告をも包含する。これら２つの報告は下記
の通りである： 1.1985年、SIGGRAPH会議議事録、第19巻、第３号、第31
−40頁に記載されたミカエル・エフ・コーエン（Michae
l F.Cohen）およびドナルド・ピー・グリーンバーグ（D
onald P.Greenberg）による「半立方体−−複合環境の
放射密度解法」。 2.1985年12月の日付けのエリック・エイ・ヘインズ（Er
ic A.Haines）およびドナルド・ピー・グリーンバーグ
による「光バッファ；光追跡陰テスト加速器」。 上述の装置および方法はそれを説明するためのものに
過ぎず、細部の色々な変化および色々なステップの順序
とその実施は特許請求の範囲内であると思われる。
ンピュータ・グラフィック応用に特に役立つ。 現実の２次元ピクチャを作る３次元データのコンピュ
ータ処理について多くの仕事が行われてきた。現実の像
を作るために、環境内の光の相互反射から導かれるグロ
ーバルな照明は正しくモデル化されなければならない。
大部分の在来モデルでは、グローバルな照明を表わすも
のとして一定の周囲要素が使用されている。陰および境
界照明はシミュレートされていない。このような方法は
手っ取り早いが、特にシミュレートされた環境が複雑な
照明および物体の配列を有する場合に極めて不満足であ
る。 実際の環境における多くの表面は拡散反射体であり、
すなわち光の入射ビームは反射面より上の全半球内であ
らゆる方向に反射されたり散乱される。拡散反射の特殊
な場合は、いわゆる「理想の」拡散または「ランベルト
の」反射である。この場合には、入射光はあらゆる方向
に等しい強さで表面から反射される。理想の拡散反射を
想定するモデルは多くのコンピュータ・グラフィック応
用に適している。包囲体内の表面間における熱放射エネ
ルギーの交換を測定する方法がこれまでに開発されてい
る。1978年、ヘミスファイア出版社（Hemisphere Publi
shing Corp.）発行の、ロバート・シーゲル（Robert Si
egel）およびジョン・アール・ハウエル（John R.Howel
l）共著による熱放射熱伝達（Thermal Radiation Heat
Transfer）、ならびに1978年、ヘミスフィア出版社発行
のイー・エム・スパロウ（E.M.Sparrow）およびアール
・ディー・セス（R.D.Cess）共著による放射熱伝達（Ra
diation Heat Transfer）参照。コンピュータ・グラフ
ィックの放射密度（radiosity）法として知られる、包
囲体内における光エネルギーの交換に同じ考えを応用し
たものがACMコンピュータ・グラフィック（プローシデ
ィング1984）の第213頁〜222頁にシンディー・エム・ゴ
ーラル（Cindy M.Goral）らによって記載された報告書
「拡散表面間の光の相互作用のモデル化」に略記されて
いる。在来の方法と違って、放射密度法は特に環境が多
くの拡散表面を含む場合に、陰を作りかつ一段と現実的
な像を提供する環境内の表面間における光の相互反射を
モデル化している。 鏡のように反射される光反射のモデルとして、光線追
跡法も開発されている。1980年６月、コミュニケーショ
ン・オブ・ACM、第23巻、第６号のターナー・ホイッテ
ッド（Turner Whitted）による「陰影表示用の改良され
た照明モデル」参照。放射密度法のように、光線追跡法
は環境内の表面間における陰および光の相互反射を考慮
して、在来の方法よりも一段と現実的な像を作る。 放射密度法および光線追跡法は在来の方法よりも良好
な像を提供するが、これらの方法は市販で入手し得るミ
ニコンピュータを用いて多くの計算時間を要する。これ
らの方法の照明計算は、観測者に見える表面をテストし
て、１個以上の光源に関して陰があるか否かを決定しな
ければならないので、多大の時間を必要とすることがあ
る。こうして、１個の像を作るのに多大の計算時間が必
要とされる。かくて既知の方法よりも高速の改良された
放射密度および光線追跡方式を提供することが望まし
い。 上記の在来形の放射密度および光線追跡法では、環境
の１つの像を作るのに多数のステップが要求される。し
ばしば、異なる観測位置からの多数の像が静環境である
ことが望ましいことがある。かかる場合には、在来の放
射密度および光線追跡法で像を作るステップは、追加の
像を作るためには、全体をそっくり繰り返されなければ
ならない。放射密度法では、あるステップのみを繰り返
すだけで済む。一般に、同じ環境の異なる像を作る場合
に、第１の像に要するステップを以後の像についてもそ
っくり繰り返す必要がなく、プロセスを加速させる方法
を提供することが望ましい。 この発明は、異なる観測位置から見た２つまたはもっ
と多くの像が必要な場合には、従来のプロセスにおける
ステップのうちのいくつかを繰り返す必要がなく、それ
により多くの時間を節約できるという知見に基づいてい
る。かくて、もし環境が静止したままであれば、照度計
算の少なくとも一部は観測者が移動するときに変化しな
い。 本発明の１つの面は、観測位置から環境の放射線像を
作る方法に向けられている。放射線はこの場合、光、
熱、音、放射性放射線または他の形のエネルギー放射線
であることができる。本方法は、環境内の表面および放
射線源のモデルを形成し、そして環境の放射線データを
形成および決定することを含むが、この場合決定される
放射線データは観測位置に無関係である。問題の放射線
が光である場合は、放射線データは環境内の表面の照度
に関するものである。本方法はさらに、環境から観測位
置に到達する放射線が事実上平行な光線となるように遠
近変換を行う。また、本方法は、放射線を観測位置で観
察できる表面あるいはその一部分を決定するとともに、
放射線データを用いてこのような放射線の強度を決定す
るステップも含む。放射線像が次に表示される。 上記の方法において、放射線データを決定するステッ
プの一部である観測位置に無関係な強度計算は、遠近変
換に伴う幾何計算と切り離して行われることが注目され
る。これらの計算は観測位置に無関係であるので、幾何
計算と平行にまたはその前に行うことができる。計算の
観測位置次第の（鏡面反射）部分だけを各観測位置につ
いて行うだけでよい。 本発明のもう１つの面は、環境内の表面の放射密度を
測定しかつ計算する改良形の装置に向けられている。環
境内の第１表面から第２表面が受けた拡散放射線は、第
１表面から第２表面に向う形状因子（form factor）と
して定義される。本発明のこの面は、第１表面から第２
表面が受けた拡散放射線の形状因子を定める方法を意味
する。本方法は第１表面と事実上共面のベースを持つ半
多面体および半多面体の各面上のグリッド・セルを定め
ることを含む。本方法はさらに、第２表面から見て多面
体の前記各面上に第１表面の像を投影しかつ波形率を決
定することを含む。放射線を受ける環境のすべての表面
の形状因子がいったん決定されると、どんな観測位置か
らの放射線像でも簡単な方法で決定することができる。 本発明の第３の面は、光線追跡法を用いるコンピュー
タ・グラフィックに役立つ放射線像を作る改良方式に関
するものである。好適な実施例の方法は、環境内の表面
と放射線源との間の放射線データを定める。本方法は放
射線源を囲む多面体を定め、また放射線源と環境との間
の多面体の少なくとも１つの面にグリッド・セルを定
め、そして任意な表面の投影によってどのグリッド・セ
ルがカバーされるかを決定することを含む。この方法を
用いて、環境内のすべての表面について、表面またはそ
の任意な部分が任意の特定な放射線源から放射線を受け
ることができるか否かを決定することができる。この情
報は、各グリッド・セルについて記録リストとして記憶
される。したがって、特定の観測位置からどの表面が見
えるかが知られると、かかる表面が環境内の放射線表面
から放射線を受けるか否かが在来の方法より短い時間で
決定される。 本発明の第４の面は、代表的な走査変換および可視表
面操作を行うが、強度情報や多角形や物体識別子のよう
な異なる形式で合成データを記憶するとともに、汎用記
憶装置に直接送り返されるデータの通路を持つ、変形ハ
ードウェア・イメージ・プロセッサを使用することであ
る。拡散または反射環境、あるいは拡散および反射環境
の組合せの両方に関するグローバルな照明の効果をシミ
ュレートするアルゴリズムは、変形されたハードウェア
実施を利用するように作り直すことができる。このハー
ドウェアを用いて、放射密度および光線追跡のようなア
ルゴリズムは前に得られたよりも数段速い速度で実行す
ることができ、それによって高品位の像が極めて迅速に
作られる。 本発明は光像を作るコンピュータ・グラフィックに特
に役立つ。本発明の説明を簡単にしかつ理解を容易にす
るため、本発明は光像を作るその応用において説明さ
れ、音響、熱および放射性体のような他の形の放射線像
が同様な方法で作られることを理解させる。 第1A図は光像を作る在来のコンピュータ・グラフィッ
ク・パイプラインを示す流れ図である。在来のグラフィ
ック・パイプライン装置は、多くのステップを用いる順
次プロセスとしてコンピュータによって像の作成を処理
している。普通、環境のモデルは環境内の表面を多角形
に分割することによって作られる（ブロック20）。各色
帯の光の反射度および放射値が各多角形について選択さ
れる。 特定の観測位置および視野が選択される。環境のため
に作られたモデルは、物体空間から像空間へ、観測位置
および視野と適当な関係に遠近変換される（ブロック2
2）が、そのプロセスは以下に説明される通りであり、
観測者の可視表面の決定を簡単にする。次に環境内の表
面は、観測位置から可視表面を見出すためにテストされ
る（ブロック24）。次に、グローバルな照明について一
定の周囲要素を用いながら、各可視表面から反射された
放射線の強度Ｉが下記の式により計算される（ブロック
26）： ただしIaは周囲放射線による強度、 kdは拡散反射定数、 ｍは環境内の放射線源の数、 Ｎは単位表面の正規ベクトル、 Ljは第ｊ放射線源の方向のベクトル、 ksは鏡面反射係数、 pjは放射線源ｊからの光の反射ベクトルと観測位置の方
向のベクトルとの間の角度、そしてｃは定数、 ｎは表面の光沢度による指数である。 表面からの反射強度を計算する上記の式において、第
１項Iaはすべての表面について一定に保たれる周囲の項
である。第２項、 は表面の単位正規ベクトルとすべてのｊについて第ｊ放
射線源の方向の単位ベクトルとのドット積の和である。
第３項は表面から鏡面反射する第ｊ放射線源からの光の
単位反射ベクトルとすべてのｊについての観測方向の単
位ベクトルとのドット積の和である。在来モデルの強度
計算のもう１つの改良についは、コミュニケーションズ
・オブACMの1980年６月、第23巻、第６号に記載された
ターナー・ホイッテッドによる「陰影表示に関する改良
された照明モデル」を参照のこと。 照度計算は各ピクセルについて行うことができるが、
多角形の頂点で常時行われる。次に多角形の走査変換が
像面のピクセルについて行われる（ブロック28）。プロ
セスは下記の通りである。角多角形は走査変換されて、
その深さはカバーされる各ピクセルで計算される。各ピ
クセルで最も近い多角形の深さは、しばしば深さバッフ
ァと呼ばれるバッファの中に記憶される。ピクセルの照
度値は直線内挿されて、しばしば強度バッファと呼ばれ
るバッファの中に記憶され、次にこれらの値は表示され
る（ブロック30）。 モデルの作成を除き、上述の全プロセスは異なるすべ
ての像について反復されなければならない。多くのコン
ピュータ・グラフィック応用では、同じ静止環境の像で
あるが異なる位置で観測される像を作ることが必要であ
る。かかる応用では、ブロック22−30のステップが各フ
レームについて反復されなければならない。 第1B図は第1A図の在来方法を実施するのに適したグラ
フィック・プロセッサ・パイプラインのブロック図であ
る。使用者は中央処理装置すなわちCPU21を用いて環境
のモデルを作る（第1A図のブロック20）。ブロック22の
遠近変換は変換装置23で行われる。像処理装置25は観測
に見える表面を決定して、かかる表面の照度を計算する
（第1A図のブロック24,26）。照度計算の結果は像記憶
装置27に記憶されて、ビデオ表示装置29によって表示さ
れる。 像処理装置は多角形の走査変換動作およびハードウェ
アの深さ・バッファ可視表面アルゴリズムを実行すると
ともに、生じた情報を局部記憶装置に記憶させる。 多角形の走査変換ルーチンはよく知られかつ明確に文
書化されている（1982年、エジソン−ウェスリー出版社
発行のジェー・ディー・フォーリー（J.D.Foley）およ
びエー・ヴァン・ダム（A.Van Dam）共著によるコンピ
ュータ・グラフィックの基礎の第456−462頁、ならびに
1979年マグロー・ヒル発行のダブリュー・エム・ニュー
マン（W.M.Newman）およびアール・エフ・スプロール
（R.F.Sproull）共著による対話式コンピュータ・グラ
フィックの原理の第232−243頁、第286−278頁）。標準
の走査変換アルゴリズムは、多角形走査線およびピクセ
ル・コヒーレンスを利用し、ハードウェアで容易に実行
することができる。最も広く使用される方法は多角形の
縁を受けてそれらをそのｙ（垂直）座標により分類す
る。与えられた走査線では、縁の若干は走査線と交差
し、「活性」縁と呼ばれる。活性縁はｘ（水平）方向に
分類され、分類されたリストは維持される。多角形によ
ってカバーされるセグメントは、付近の活性縁の走査線
交差によって決定される。縁走査線の交差は線の形状
（多角形コヒーレンス）を知ることによって容易に予測
できるので、計算は簡潔化される。さらに、分類された
縁のリストは、新しい縁が現われたり古い縁が消える場
合を除き走査線から走査線まで同じ状態を保つ傾向があ
る。最後に、セグメントに沿う各ピクセルにおける多角
形の深さおよび色は、走査線に沿って増分的に計算され
る（ピクセル・コヒーレンス）。 最も簡単な可視表面ルーチンは、深さバッファまたは
Ｚバッファ・アルゴリズムとして知られている。深さバ
ッファは、すべてのピクセルで現在見られる多角形の深
さを記憶する。新しい多角形が走査変換されると、この
多角形の深さはカバーされるすべてのピクセルで比較さ
れる。多角形が観測者により近づくと、新しい多角形の
深さは深さバッファに記憶される。 これらの両アルゴリズムは、その簡潔性により、シェ
ン（Shen）に対する米国特許第4,475,104号のようなハ
ードウェアで容易に実行できる。ハードウェア実行は、
多角形データのピクセル・データへの変換をソフトウェ
ア実行よりはるかに速い速度で生じさせる。しかし、こ
れまでのハードウェア実行にはいくつかの基本的制限が
ある。走査変換プロセスは三角形または凸面多角形に制
限され、また凹面多角形や孔つき多角形を扱うことはで
きない。深さおよび強度情報のみが維持されたが、与え
られたピクセルでどんな多角形が見えるかを決定するこ
とはできなかった。最後に、強度は表示装置に直接送ら
れるので、アルゴリズム実行後に情報を検索することは
不可能でなくても困難であった。 走査変換および可視表面動作を実行し、強度情報や多
角形または物体識別子のような合成データを記憶し、か
つデータを汎用記憶装置に送り返すことができる、ハー
ドウェア像処理装置を作ることによって、新しい１組の
像発生アルゴリズムは前に達成された速度よりも数倍速
い速度で実行することができる。さらに、このハードウ
ェアを用いて迅速に計算できるグローバルな照度情報
は、極めて高品位の像を作ることになる。本発明の理解
の目的で、新しいアルゴリズムの若干を新しいハードウ
ェア実行前にまず説明する。 第２図は本発明を示す流れ図である。第２図に示され
た方法は、光、音、熱、放射性放射線または同様な性質
の他の放射線であることができる放射線の像を作るのに
適用される。環境のモデルは第1A図のブロック20と同様
に作られる（ブロック32）が、ただし物体の面が分割さ
れる表面は多角形である必要はない。その代わり、それ
らはより小さい表面であったり、平面でも平面でないこ
ともある表面要素であるかもしれない。これらの表面ま
たは要素は点によって形成されたり、定義式と共に点に
よって形成されることがある。観測位置に無関係な放射
線データが次に計算される（ブロック34）。この発明
は、上記の反射された放射線強度の式の最初の２つの項
が観測位置に無関係でありかつ同じ静止環境の後続像を
作るために繰り返す必要がないという見解に基づいてい
る。さらに、（cos cpj）ｎの値はpjの値の多数につい
てあらかじめ計算されて、探索表に記憶されることがあ
る。これらのステップは、ブロック34において観測位置
に無関係な放射線データを計算する際に実行される。 次に、観測位置が選択され、また物体空間から像空間
へ遠近変換が行われる（ブロック36）。第ｊ放射線源の
pjの値が決定され、探索表から得られた（cos cpj）ｎ
の値がブロック34における観測位置に無関係な計算の間
にコンパイルされる。反射された放射線に関する上記の
放射線強度の式の第３項が計算される（ブロック37）。
観測位置から観測し得る環境内の表面が決定される（ブ
ロック38）。次にピクセルの強度が計算されたり、多角
形が前述の通り走査変換される（ブロック40）。次にピ
クセル強度が表示される（円42）。 第２図の方法で、第１の像を作る場合に、上記の全ス
テップが行われなければならない。しかし、以後の新し
い像を作るために、ブロック36−42のステップを繰り返
す必要がある。観測位置に無関係な放射線データ計算
は、第１像を作るに要する時間の意義ある一部を占める
ことができる。第２図の方法を用いて以後の像を作る場
合に、そのような時間は節約することができる。したが
って第２図に示された方法が第1A図の方法より有利であ
るのは、同じ環境の異なる観測位置から多数の像が所望
される場合に、最初の像の後の像が第1A図の方法よりも
はるかに速く作ることができる点である。 上記の説明において、第２図の方法は表面間の反射す
なわち陰が考慮されない応用で示されている。しかし言
うまでもなく、第２図の方法は放射密度および光線追跡
法にも適用されるが、そのような場合は以下に詳しく説
明される通り同じ静止環境の多数の像を作るプロセスを
加速することが報告されている。 本発明をさらに詳しく説明する前に、在来の方法にお
ける第1A図のブロック22に言及された遠近変換を、本発
明の背景として第3A図、第3B図、第3C図および第3D図に
関して以下に説明する。ブロック22に関して、遠近変換
は第3A図に示される相対位置にある観測者に関して環境
内にある物体について行われる。第3A図に示される通
り、観測者は面52によって定められる視野を持つ位置50
にある。像面は54である。像面の位置58でピクセルを通
る任意な光線56は、物体60の点Ａおよび点Ｂを通る。第
3A図から明白な通り、点Ｂは位置50で見えないように物
体60の前面でブロックされている。任意な光線と任意に
配向される表面との交差点を決定するには時間がかか
る。この目的で、真の物体空間からの環境を像空間と呼
ばれるものに変換すると決定が簡単になり、すなわち観
測者は極めて遠く（無限大）から環境を観測するので、
像面のピクセルを通るすべての光線は本質的に第3B図に
示される通り相互に平行である。第3B図に示されている
通り、観測者は位置50′にあり、視野は平行面52′、像
面54′、像面の点58′を通る任意な光線56′、および像
空間にある物体60′交差点Ａ′ならびにＢ′によって定
められる。 像空間で操作しながら、点Ｂ′が位置50′で見えない
ように数学的に決定することは比較的簡単である。これ
は、物体60から位置50′の観測者まで走る光線が平行で
あることによる。像面54′がX,Y面として取られ、面か
ら物体までの距離がＺで表わされるならば、座標
（Ｘ′,Y′,Z′）を有する任意な点が位置50′で見える
かどうかは点のＺ座標を同じＸおよびＹ座標と比較する
ことによって簡単に決定することができる。かくて点
Ａ′およびＢ′は同じＸおよびＹ座標を有するが、点
Ａ′は点Ｂ′よりもそのＺ座標の値が小さい。したがっ
て、点Ｂ′は位置50′で見えない。もし面54′からのＺ
の距離が深さの値と呼ばれるならば、同じＸおよびＹ座
標を有する２つの点のどちらが見えるかはそれぞれの深
さの値を比較することによって決定することができる。 像面は所望解像度のピクセルに分割することができ
る。深さおよび強度バッファは、観測者に見える表面の
点および第3C図、第3Dに図示されるようなピクセルごと
の光度を記憶することができる。各表面はどのピクセル
が表面によってカバーされているかを決定するために走
査変換される。次に表面の深さは第3C図に示されるよう
に記憶される。第1A図のブロック24における可視表面決
定プロセスは次に、すべての多角形の処理が終ってから
完了される。 可視表面の異なる帯域幅（普通は赤、緑および青のチ
ャネル）における光度が計算されてから、それらは第3D
図に示される通りしばしばフレーム・バッファとして知
られる強度バッファにピクセルごとに記憶される。第1A
図のブロック26で言及された照度計算が次に完了され
る。像面54′のピクセルが次に表示される。 半立方体 放射密度決定用の本発明の方式を説明する前に、ACM
コンピュータ・グラフィックス（プロシーディング198
4）のシンディM.ゴラールらの報告「拡散表面間の光の
相互作用のモデル化」の第213−222頁に開示された方法
をまず説明することが役に立つと思われる。以下二，三
項において、ゴラールらにより開示された放射密度法が
要約されている。 放射密度とは、光源の場合に、光を放射することも反
射することもできる表面から出るエネルギーの全割合で
ある。不活性表面の場合には、表面は光を反射するだけ
で放射しない。したがって問題のエネルギーが光である
ときは、放射密度は与えられた表面から反射された光と
表面から直接放射された光との和である。放射密度の計
算には、すべての反射面と透過面の幾何学的関係、なら
びに他のすべての面から出る光の完全な明細が必要であ
る。かくて光を受ける表面ｉについて、この関係は下記
の式で表わされる： ただしBiは放射密度すなわち表面ｉを出る単位面積当た
りの（光の）エネルギーの全割合であり、Eiは表面ｉか
ら出された単位面積当たりの（光の）エネルギーの割合
であり、 ρｉは入射光のうちの表面ｉによって反射されるものの
比率であり、 Fijは表面ｉから出るエネルギーのうちの表面ｊに入る
ものの比率であり、Ｎは環境内の表面の総数であり、Bj
は表面ｊを出る単位面積当たりの（光の）エネルギーの
全割合である。 上記の式において、環境はおのおの一定の放射密度を
有する微小な分離表面素子に細分されるものと考えられ
る。かくて環境内に合計Ｎ個の表面があるならば、形状
因子（form factor）の連立方程式の組は以下の通りで
ある。 物体の色は可視スペクトルの各波長でのその反射率
（光源の場合は放射率）の総和によって決定される。し
たがって上記の式における反射率および放射率の項は特
定の波長または波長帯について有効である。各表面素子
の完全放射密度を決定するために、問題の各帯について
上記マトリックスを作りかつ解く必要がある。形状因子
はもっぱら幾何学的寸法の関数であり、したがってどん
な色についても無関係である。 形状因子を得る在来の方法は第4A図、第4B図に関して
説明される。２つの異なる表面素子dAi、dAjが第３の表
面によってさえぎられないならば、素子dAjによって出
されdAiに入る放射線の形状因子は下記の式で与えられ
る： ２つの有限表面素子の間の形状因子は面積平均と定義さ
れ、したがって： 熱放射線の熱伝達の中でシーゲル（Siegel）らはナッセ
ルト（Nusselt）によって開発された方法を検討した
が、その方法は写真および面積測定の両方によって形状
因子を得るように上記の波形率積分について幾何アナロ
グを使用している。有限面積に関して第4B図に示される
通り、形状因子は、表面Ajを半球の上に投影し次に基部
に垂線を下ろすことによってカバーされる半球の基部の
円面積の小部分に等しい。 ２つの表面素子間の距離がそれらの大きさに比べて長
大であるならば、素子から素子までの波形率は素子ｉの
平均位置を表わす素子ｉの中心点を使用することによっ
て概算される。各素子は、環境のその「観測位置」とし
て、第4B図に示される通りその法線を囲む半球を有して
いる。 しかし、ナッセルトによって提案された上記の解は、
形状因子の容易な計算解に不向きである。本発明は、環
境にある任意な２つの表面素子が第4B図の半球に投影さ
れるとき、それらは同じ面積および位置を占めるととも
に、表面素子ｉに関して同じ形状因子値を有するという
認識に基づいている。したがって第5A図に示される通
り、表面素子A,B,C,DおよびＥはすべて第5A図の半球を
観測位置とする表面素子に関して同じ形状因子を有す
る。本発明はさらに、形状因子の計算が半球の代わりに
半多角形を使用することにより簡潔化されるという別の
見解に基づいている。実際に計算を簡潔化する半多角形
は半立方体のそれである。 したがって、半球形を用いる代わりに、仮想の半立方
体が本発明の好適な実施例を示す第5B図、第5C図に示さ
れるような受け表面素子の中心のまわりに作られる。第
5B図に示される通り、環境は素子の中心が原点となり、
素子の法線がＺ軸に一致するように変換される。この位
置において、ナッセルトによって使用された半球は、中
心が表面素子の中心と一致するＸ−Ｙ面上に基部を持つ
半立方体に置き替えられる。基部の上の半立方体の面
は、与えられた解像度のグリッド・セルに分割されてい
る。走査を容易にするため、これらのグリッド・セルは
矩形または正方形であることが望ましい。素子AjとAiと
の間の形状因子は、第5B図に示されるような半立方体の
面に素子Ajを投影することにより、かつ半立方体の面に
投影された像内のすべてのグリッド・セルの波形率の寄
与を加えることによって、簡単に決定することができ
る。 同様な方法で、環境にあるすべての表面は半立方体の
５つの面に投影される。 半立方体の面上の各グリッド・セルの形状因子値に対
する寄与は変化し、その位置と方角に左右される。グリ
ッド・セルの寄与はデルタ形状因子と呼ばれることがあ
る。半立方体の上面のグリッド・セルによって寄与され
るデルタ形状因子は第5D図に関して下記の通り計算され
る： 上記の式において、半立方体の解像度はグリッド・セル
の中心点がセルの平均位置を表わすように使用できるよ
うに選択されている。半立方体の側面上のグリッド・セ
ルによって寄与されたデルタ波形率は下記の通り計算さ
れ、第5E図に関して説明される：半立方体の形をした半多面体の選択が有利であるのは、
デルタ形状因子の計算が上記の式に示される通り大幅に
簡潔化されるからである。さらに、立方体の対称を利用
して、上部面の1/8および１つの側面の1/4のデルタ形状
因子のみを計算すればよい。第5B図について、表面素子
AiとAjとの間の形状因子は、半立方体に投影された素子
Ajの像内のグリッド・セルのデルタ形状因子の和によっ
て与えられる。 第６図は本発明の１つの面の好適な実施例を示す環境
の可視像を作る放射密度法の流れ図である。第２図およ
び第６図を比較すると、第６図は作るべき放射線像が拡
散表面を持つ環境の像である第２図の方法の一段と詳細
な実施であることが分かると思う。したがって、２つの
図において同じであるステップは同じ数字で表示されて
いる。しかし放射密度法では、計算された放射線データ
はすべて観測位置に無関係であるので、観測位置による
計算（第２図のブロック37）は不要である。 環境のモデルが作られ（ブロック32）、放射線データ
（第２図のブロック34）は第６図では２つのステップで
計算される（ブロック34′、34″）。環境内にあるすべ
ての表面素子に関する形状因子は表面素子の放射密度の
連立マトリックス方程式が計算される（ブロック34″）
ように計算される。式の解を以下に詳しく説明する： 環境内のすべての表面の放射密度がいったん知られる
と、照度計算は完成し、遠近変換、可視表面の決定、レ
ンダリングおよび表示（ブロック36−42）の後続ステッ
プが第１図のブロック22、24、28および30に関する上述
の方法に似た方法で行われる。異なる観測位置に第２の
像が取られることが望ましい場合は、形状因子の計算お
よび表面放射密度の計算は、繰り返す必要がない。繰り
返す必要のあるのはブロック36−42のステップであり、
それによって同じ静止境界の第２および他の後続の像を
作るプロセスが大幅に加速される。 物体は静止しているが異なる色または異なる照明によ
って照射される場合、第６図の方法もこれらの異なる像
を以前の方法よりもはるかに高速で作らせる。波形率は
色や照明の変化に伴って変化しないので、波形率計算は
繰り返す必要がないが、放射密度計算はマトリックス式
の放射線の項がいまや異なるので繰り返す必要がある。
これらの方法は変形することによって、動環境にも適用
することができる。形状因子計算は通常、プロセスの全
ステップの内で最も時間がかかるので、第６図の方法は
これまでの方法よりもはるかに有利である。 第６図のブロック34′で行われた形状因子計算が第７
図にさらに詳しく示されている。まず、半立方体解像度
は第5B図に関して面当たり２つの各方向におけるグリッ
ド・セルの数を定めることによって定められる（ブロッ
ク100）。次にデルタ波形率が各グリッド・セルについ
て計算され、次にデルタ形状因子は探索表に記憶される
（ブロック102）。 表面素子ｉが選択され、半立方体の基部の中心は素子
ｉの選択された点に置かれるが、ただし素子のその点は
素子の平均位置を表わすように使用できるように選択さ
れている。普通、これは素子の中心である（ブロック10
4）が、素子の頂点にも置くことができる。 次に環境は、半立方体が上述のような適当な方角で原
点となるように幾何学的に変換される（ブロック10
6）。環境は在来の方法で１つの半立方体の面によって
定められる視野の錐台に切り取られる（ブロック10
8）。在来式の１つの切取り法は、サザーランド（Suthe
rland）らの米国特許第3,816,726号に説明されている。
環境は第3A図、第3B図に関して前述した方法に似た方法
で、物体空間からの像空間に遠近変換される（ブロック
110）。走査変換および可視表面の決定が次に行われ
て、どの表面またはその部分が第3C図に示される通り深
さバッファのような標準の方法を用いて半立方体の面の
各グリッド・セルで立方体の中心に最も近い（すなわち
見える）かを見出す（ブロック112）。表面素子の強度
値を記憶する代わりに、面の各グリッド・セルで最も近
い表面の実体が記憶される（第3D図、ブロック114）。 次に、５つの半立方体の面から、切取り動作を受ける
べきもう１つの面があるかどうかをチェックする（菱形
116）。かくて、もし切り取られるべきもう１つの面が
あるならば、ブロック106−114のステップがかかる面に
ついて繰り返され、その結果半立方体のすべての５つの
面に関する各グリッド・セルで最も近い表面の実体がい
まや記憶される。１つの表面素子ｊによってカバーされ
るすべてのグリッド・セルが次に記憶装置から取り出さ
れ、かかるグリッド・セルのデルタ形状因子が次に一緒
に加算される（ブロック118）。その和は形状因子Fijで
ある。このプロセスは、表面素子ｉを出る光の環境にあ
る他のすべての表面が受ける光の小部分を定めるすべて
の形状因子を得るために、環境内のすべての表面につい
て繰り返される（ブロック118）。次に形状因子を計算
すべきもう１つの素子が環境内にあるかどうかをチェッ
クする（菱形120）。もしあれば、ブロック104−114、
菱形116およびブロック118がかかる受光素子について繰
り返される。このようにして、すべての形状因子が計算
される。 すべての形状因子が計算されると、環境内にあるすべ
ての表面素子の反射率、放射密度および放射率に関する
行列式を解く準備がいま整う。行列式は任意な標準の方
程式解法によって解くことができる。かくて、最初の反
復を受けなければならない放射密度の最初の推測は単に
各素子の放射率に過ぎない（１次光源のみが任意な初度
放射密度を有する）。各反復の間、各放射密度は他の放
射密度について既に見出された値を用いて解かれる。放
射密度の値があらかじめ選択された割合を越えて変化し
なくなるまで、反復は続けられる。反復のプロセスは速
やかに収束し、解は標準の消去法に要する時間のごく一
部で見出すことができる。 第８図は、第６図および第７図の方法を実施するため
に使用されるグラフィック・パイプラインのブロック図
である。モデル作成（第６図のブロック32）はCPU 50で
行われる。第７図および第８図に関して、半立方体解像
度の定義づけおよびデルタ形状因子の計算（ブロック10
0、102）はCPUに入力されて、CPU記憶装置に記憶され
る。 CPU150は半立方体解像度、デルタ形状因子に関する情
報を与えるとともに、浮動小数点加速器152に対して作
られたモデルに関する他の情報を与え、第７図の流れ図
における次の数ステップが浮動小数点加速器で行われ
る。加速器において、表面素子ｉが選択され、半立方体
の基部の中心は素子の選択された点に置かれる。環境
は、半立方体が正しい向きの原点となるように幾何学変
換される。次に環境は１つの半立方体の面によって定め
られる錐台に切り取られる。次に環境は遠近変換され
る。第７図のブロック104−110参照。これらのステップ
はすべて、浮動小数点加速器によって行われる。次に加
速器はその作動の結果を像処理装置154に供給し、像処
理装置は第７図のブロック112の走査変換および可視表
面決定を行う。 像処理装置の構造は第９図に詳しく示されている。第
９図に関して、表面素子縁分類器156は、Ｙ座標のよう
なそれらの座標の１つによって環境内の表面素子を分類
する。活性縁分類器158は、Ｘのようなもう１つの方向
に分類し、そのとき特定の縁は像処理装置によって一度
に処理することができる。次に増分計算器160は、頂点
と頂点との間の中間点でＸおよびＺ方向のような残りの
座標方向における縁増分を計算する。走査変換器170お
よび深さ比較処理装置172は次に、同じＸおよびＹ位置
の他の表面素子上の内挿された点の位置を計算しかつ比
較して、どの特定表面素子が半立方体の中心から見える
かを決定する。次に最も近い表面の実体（第７図のブロ
ック114）が制御記憶装置174の一時記憶部に記憶され、
CPUの一部であることができる汎用記憶装置に送られ
る。 記憶装置174の記憶容量が半立方体の全５面に環境を
投影する結果を記憶するに足る大きさである場合は、第
８図のグラフィック・パイプラインは半立方体の異なる
面に環境を投影する浮動小数点加速器152に簡単に戻
り、プロセッスは繰り返される。最も近い表面の実体が
再び記憶装置174に記憶される。半立法体の全５面の上
に環境が投影され終ると、半立方体の５面上のグリット
・セルに最も近い表面素子の実体は次にCPU記憶装置に
送られる。 次にCPUは、特定の表面素子によってカバーされるグ
リッド・セルをすべて見出すことによって第７図のブロ
ック118のステップを実行し、かつデルタ形状因子を加
算して、かかる表面素子と半立方体の中心における表面
素子との間の形状因子を得る。これはすべての表面素子
について反復される。次のCPUは、形状因子行列式にあ
る形状因子の行を計算しなければならないもう１つの素
子が環境内にあるかどうかをチェックする（第７図の菱
形120）。もしあれば、上記プロセスはCPU150、浮動小
数点が加速器152および像処理装置154を用いて反復され
る。もしなければ、第６図のブロック34′の形状因子計
算は済んでいる。 第６図に関し、第８図のグラフィック・パイプライン
は次に第６図の残りのステップを実行する用意を整えて
いる。CPUおよび浮動小数点加速器は、行列式を解くこ
とによってブロック34″の表面放射密度計算を実行す
る。浮動小数点加速器152はブロック36の遠近変換を実
行し、また像処理装置154はブロック38の可視表面決定
を行う。環境内の異なる表面素子の放射密度は知られて
いるので、特定の観測位置で見える表面がいったん決定
されると、その放射密度はCPU記憶装置から取り出され
て、走査変換器170によって像処理装置内で走査変換さ
れ、像面にあるピクセルの光度が与えられる。かかる情
報は次に、像記憶装置182に送られてビデオ表示装置184
により表示される。 第1B図と第８図とを比較すると、本発明の好適な実施
例のグラフィック・パイプラインが第８図に示される帰
還通路186を通してCPU記憶装置のような記憶装置に計算
済の放射線データが記憶されるという点で在来のパイプ
ラインと異なることが示される。かかる通路は第1B図の
在来のパイプラインにはない。この帰還通路によって、
計算済の放射線データを記憶装置に記憶することができ
る。かかるデータは次に、照度計算を加速するために後
に取り出される。第８図のグラフィック・パイプライン
が上述の放射密度計算に使用される場合、ブロック34′
のすべての形状因子はあらかじめ計算されてCPU記憶装
置に記憶される。静止環境の色または照明が変化ない場
合は、ブロック34″の表面放射密度計算の結果も同じ帰
還通路を介してCPU記憶装置に記憶されることがある。
このようにして、放射密度計算の最も時間のかかる部分
はあらかじめ計算されているので、同一環境の多数の像
が迅速に作られる。さらに、在来のハードウェアが上述
の走査変換プロセスを行うために存在する。本発明は、
半多面体のグリッド・セルが同じ形状のグリッド・セル
の順次配列から成る場合に、走査変換用の既存の在来形
ハードウェアが波形率を計算する第９図の像処理装置に
採用されるという見解にも基づいている。グリッド・セ
ルは基本的に同じであるので、それらは在来の走査変換
器によって走査される多角形に似た方法で処理される。
半立方体上のグリッド・セルは規則正しい形状であるこ
とが望ましく、なるべく矩形、三角形または正方形であ
ることが望ましい。 光バッファ 光線追跡において、観測者に見える表面が特定の光源
に関して照射されているか陰になっているかをテストす
る必要がある。陰テストは時間がかかり、光線追跡法に
よってコンピュータ像を作る処理時間の内の無視できな
い部分を占める。本発明の１つの面は、どの物体がまず
さえぎるかを見出す必要なしに陰になる点を決定できる
という知見に基づく。さらに、陰テストは以下「光バッ
ファ」という概念的な装置の中で光線の方向に表面を向
けることによって達成できる。かくて理想的な光バッフ
ァは下記の２つのアルゴリズムを有するものと定義され
る： 1.各光の位置に関して環境を分割する手順。 2.与えられた点が環境のこの分割定義の使用によって陰
になるかどうかをテストする手順。 この場合もまた、環境のモデルが作られて、環境内の
表面が定義される。特定の光源から出る光線の方向を用
いてデータを参照するために、光バッファが構成され
る。光バッファは、光源を包囲する多面体であることが
できる。好適な実施例では、多面体は立方体である。 第10A図および第10B図は、環境内の物体による光バッ
ファの簡潔化された遠近図ならびに本発明の好適な実施
例を示す光バッファの特定なグリッド・セルの記録一覧
表である。第10A図に示される通り、光バッファ204は光
源202を囲むように形成されている。光源の中心に光バ
ッファ204の中心を置くことが望ましい。光バッファ204
を用いて、環境は光源202に関して分割することができ
る。この手順により光源202に関する以後の陰テスト手
順は在来の方法に比べて加速される。 光源202に関する光バッファ204を作る手順を、第10A
図、第10B図および第11図に関してこれから説明する。
以下の説明は光像および光反射に関するものであるが、
言うまでもなく、同じ装置は他の形の放射線像の作成に
も適用できる。すべてのかかる構成は本発明の範囲内で
ある。第10A図、第10B図の光バッファ204はそれぞれの
中心が光源202の中心である立方体としてここに説明さ
れているが、言うまでもなく立方体以外の多面体が光バ
ッファに使用され、また光バッファ多面体はその中心が
光源の中心から離して置かれることがあり、ここに説明
される本発明は基本的に同じような機能を果たす。 バッファ204を使用する光源202に関する環境の分割を
第11図の流れ図に関してこれから説明する。光バッファ
解像度は、光バッファ面の２つの各直角方向にあるグリ
ッド・セルの数を規定することによって定められる（ブ
ロック222）。立方体の中心は光源202の中心に置かれる
（ブロック224）。環境は、光バッファが正しい方角で
原点に置かれるように幾何変換される（ブロック22
6）。環境は、物体番号７に対する面206のような１つの
光バッファ面によって定められる視野の錐台に切り取ら
れる（ブロック228）。次に環境は物体空間から像空間
へ遠近変換されて、面206のどのグリッド・セルが物体
７の面３のような選択された被投影表面によってカバー
されるかを見出す走査変換が行われる（ブロック230、2
32）。 被投影表面の像によってカバーされる各グリッド・セ
ルについて、表面はグリッド・セルの記録一覧表に挿入
される。すべての表面の強度およびそれらの距離または
光源202からの相対距離、すなわちここで深さ値と呼ば
れる値が一覧表に記憶される。第10A図は説明のための
セル208に関するグリッド・セル一覧表を示す。その一
覧表に示される通り、物体７の面３が識別されて、光源
からのその深さ値と共に一覧表に記憶されている。次
に、ブロック228で定められた視野の錐台にある面206に
投影すべき環境内のもう１つの表面があるかどうかをチ
ェックする（菱形236）。もしあれば、かかる表面の投
影像によってカバーされるグリッド・セルの一覧表記録
に表面を加えるブロック232および234のステップが繰り
返される。もし面206の視野の錐台内にあるすべての表
面が投影されているならば、ブロック226、228の視野変
換および切取り操作がまだ行われていないもう１つの光
バッファ面があるか否をチェックする（菱形238）、も
しあれば、環境はＺ軸がかかる面を通るように幾何変換
される。ブロック228−234および菱形236のステップが
次に行われて、かかる面上に表面の投影像によってカバ
ーされるすべてグリッド・セルの一覧表記録をコンパイ
ルする。上述のプロセスが光バッファ204の全６面につ
いて完了されたとき、光バッファを作るべきもう１つの
光源が存在するかどうかをチェックする（菱形240）。
もしあれば、ブロック224−234および菱形236、238のス
テップが繰り返されて、かかる光源の光バッファのグリ
ッド・セルの一覧表記録をコンパイルする。このように
して、環境は存在するすべての光源に関して分割され
る。 表面の強度およびその深さ値は、陰テストにおける以
後の使用が容易にされるような方法で一覧表記録に記憶
することができる。これは第10B図について示されてい
る。第10B図はかかる簡潔化の方法を説明するための環
境内の光バッファおよび一定の物体の簡潔化された遠近
図である。バッファ204はその面の１つにグリッド・セ
ル252を備えている。物体１−４の部分はセル252によっ
て定められる視野の錐台254の中にある。第11図に説明
されたプロセス後のセル252の一覧表記録は第10B図の記
録Ｉとして図示されている。物体の形状が複雑な場合
は、かかる物体が光線によって交差されるかどうかをテ
ストする在来の方法は、光線追跡テストにおいて物体を
囲む隣接する容積によって物体を置き換えることにより
仕事を簡潔化することである。かくて第10B図に示され
る通り、物体２は隣接する容積の中に囲まれる。隣接す
る容積の存在をフラグ表示するために、面を（０）と識
別された負の識別子（−２）が記録IIに挿入される。 物体３は、物体４が完全に陰になるように錐台254を
完全にさえぎることが認められると思う。この状態の検
出は、記録の一覧表および以後の陰プロセスを大幅に簡
潔化するのに用いられる。かくて、観測者に見える表面
素子が物体３よりも光源から離れていることが検出され
るならば、かかる表面素子は陰になり、さえぎりのテス
トはそれ以上不要となる。この理由で、物体番号３を越
えるすべての表面の実体および深さ値は、一覧表を切り
詰めるために削除される。一覧表記録の記入は、記録
Ｉ、IIおよびIIIに示される通り深さ値の上昇順に配列
される。錐台254の全体をさえぎる物体３の記録は完全
さえぎり記録として知られ、そのＺ深さについて負の識
別子によって識別され、第10B図の記録IIIに示される通
り一覧表記録の最終記録として一覧表に示されている。
かくて、可視表面が完全にさえぎられているかどうかを
調べる便利な手順は、一覧表記録の最終記入を調べるこ
とである。最終記入が可視表面素子よりも小さい深さ値
で完全さえぎり記録であるならば、可視表面素子はさえ
ぎられる。 アイテム・バッファおよび光バッファを作って記憶す
る能力を持つ像処理装置のハードウェアが光線追跡を加
速するのにどう使用されるかは、第12図および第13図に
ついて以下に説明される。ある光環境では、特定の表面
から観測される光は、観測される表面から反射されたり
それを透過される他の表面から出る光であるかもしれな
い。第12図および第13図は、観測される表面で観測され
る他の表面から出る光の寄与を決定する装置をも示す。 第12図は本発明の好適な実施例を示す、多数の光源ま
たは表面から出る表面からの光のような放射線を観測す
る観測者の概略図である。第12図に示される通り、観測
者300はピクチャ面302で環境内にある表面S1を観測す
る。光線V1−V4は、表面S1からピクチャ面302を通って
目300に達する光線を表わす。かくて、目で観測される
光度は代表的な光線V1−V4のような光線の光度である。
光線V1−V4は、表面S1から直接反射さる光源からの光、
表面S1から反射される表面S2のような他の表面からの
光、および表面S3のような他の表面から表面S1を透過さ
れる光を含むことがある。したがって、現実的な像を作
るために、表面S2、S3からそれぞれ出る光R1−R4、T1−
T4の寄与は、直接反射された光線V1−V4の強度に加算さ
れる。 第13図は、他の光源から直接出たり、環境内の他の表
面から間接的に出る、表面から目によって観測される光
度の寄与を計算するステップを示す流れ図である。第13
図に示される通り、環境のモデルが上述のように再び作
成される（ブロック32）。第11図に関して上記に説明さ
れるように、環境内の各光源について光バッファが作ら
れる（ブロック360）。次に環境は、その基準装置が第1
2図の位置300における観測者のそれと両立するように変
換される（ブロック362）。像処理装置ハードウェアを
用いて、走査変換アルゴリズムは上述のように観測者に
見える表面を決定するために加えられる。可視表面また
はその部分は次にアイテム・バッファに記憶される（ブ
ロック364）。 環境内の各表面は、一部が鏡面であるかどうかテスト
される（ブロック366、菱形368）。鏡面性をテストする
１つの簡単な方法は、表面の鏡面反射係数が０であるか
否かを決定することである。係数がゼロであるならば表
面は非鏡面であり、係数が非ゼロであるならば表面は鏡
面または一部鏡面である。表面が鏡面または一部鏡面で
あるならば、下記のステップが行われる。まず、表面に
よってカバーされる像面のピクセルはアイテム・バッフ
ァから検索される（ブロック370）。カバーされる各ピ
クセルを通る目からの光線による表面上の正確な交差位
置が計算されて保存される（ブロック372）。各ピクセ
ルの所定の点が光線追跡のために選択される。かくて光
線は目からピクセルの１つの特定の隅に進む。次に交差
点は光線と表面との交差を見出すことによって見出され
る。交差位置は、それらが作られた光バッファを用いて
環境内で光源に関して陰になるかどうかをテストされる
（ブロック374）。照度の周囲および拡散成分ならびに
直接照明により寄与される照度の鏡面成分がいまや、第
１図のブロック26に関して示された反射照度の方程式に
より計算される（ブロック376）。結果はフレーム・バ
ッファに記憶される（ブロック378）。この点で第12図
の表面S1の直接照明に起因する鏡面照度成分に対する寄
与のみが計算される。第12図の表面S2、S3のような他の
表面による鏡面照度成分に対する寄与は、これら追加の
寄与が下記のステップを用いて簡単に決定できるという
見解に基づいている。かかる寄与が無視できるならば、
装置はより多い表面について上記プロセスを繰り返すた
めに菱形414に簡単に進むことができる。 第12図について、表面S1により反射された光に起因す
る鏡面成分に対する寄与は、表面S1を横切る観測位置30
0の鏡像および表面S1を横切る仮想ピクチャ面310に過ぎ
ない仮想焦点304を作ることによって決定することがで
きる。第12図に示される通り、これらは単に位置300の
鏡像およびS1を横切るピクチャ面302に過ぎない。面302
にあるピクセルの鏡像は、面310にある仮想ピクセルを
定める。次に目に向って表面S1により反射される代表的
な光線R1−R4のような光線に寄与する環境内の表面は簡
単な方法で決定することができる。かくて、まず仮想点
304および仮想ピクチャ面310が決定される（第13図のブ
ロック380）。光線の交差位置を囲む隣接ボックスが仮
想焦点装置の仮想ピクチャ像面310に作られる（ブロッ
ク382）。隣接ボックスに対して切取りが行われ、走査
変換アルゴリズムが仮想点で見られる表面を決定するた
めに適用される。これらの表面は光を表面S1に仮想反射
し、これは順次これらの光線を目に反射させる。これら
の表面の照度は、仮想点用のアイテム・バッファに記憶
される（ブロック384）。 反射された光線（第12図のR1−R4）の正確な交差点が
次に決定されなければならない（ブロック386）。仮想
ピクチャ面にある仮想ピクセルは面302にあるピクセル
の鏡像であるので、またアイテム・バッファは隣接ボッ
クス内の各仮想ピクセルを通して見られる表面を記憶す
るので、反射光線の正確な交差位置を見出す仕事は大幅
に簡潔化される。さらに、光線R1−R4のような、同じ多
角形に当たるすべての光線の多重交差が同時に計算でき
る。 交差点（第12図の表面S2上の点306のような）が次に
テストされて、それらが環境内の光源に関して陰になっ
ているかどうかを調べる（ブロック388）。テストは前
に作られた光バッファを用いて行われる。かかる光線の
交差点（点306のような）から出る光によって寄与され
る間接鏡面成分が次に計算される（ブロック390）。表
面S1から反射される表面S2からの光によって寄与される
表面S1から位置300で見られる照度の間接鏡面成分が次
に下記の式によつて計算される： ただし式中の量は第１図のブロック26に関して説明され
た反射照度の式で前に定めらている。 反射照度の式における周囲の項Iaは二度カウントされ
てはならないことに注意する。光源により照射される点
306のような交差点では、S1からの反射によって寄与さ
れる鏡面成分が次に前述の通り計算される。これらの寄
与はフレーム・バッファに記憶された値に加えられ、次
に新しい合計が代わってバッファに記憶される（39
1）。これで、表面S2からの反射の寄与を加えるプロセ
スが完了する。 表面S1が鏡面でない場合は、照度の周囲および拡散成
分を計算しなければならない。まず、アイテム・バッフ
ァを用いて、表面によりカバーされる各光源に関する正
確な光線交差点を見出す必要がある（ブロック392）。
次に、光バッファを用いて陰テストが行われる（ブロッ
ク393）。次に周囲および拡散照度成分が計算され（ブ
ロック394）てフレーム・バッファに記憶される（ブロ
ック395）。 第12図の表面S1が透明であるならば、光源または表面
S3のような表面から出る光は表面S1に送られて目300で
見られる。透明な表面を含む環境の現実像を作ることが
できるように、下記ステップが使用される。 まず表面は、それが透明であるかどうかを決定するた
めにテストされる（396）。もしそうであれば、観測点
は第12図の位置300で簡単にセットされる。変換はブロ
ック362で既に行われているので、それ以上の変換は不
要である。アイテム・バッファに記憶された表面の実体
（ブロック364で行われる）が検索される（ブロック40
0）。 像面（第12図のピクチャ面302のような）の上に隣接
ボックスが作られる（ブロック402）。次に隣接ボック
スは切取り境界として使用されるので、像面のごく少数
のピクセルのみを観測すればよい。次に表面S1は環境か
ら除去され、目で見られかつ隣接ボックス内にある最も
近い表面の実体が次に計算し直される。アイテム・バッ
ファを用いて、表面S1が取り除かれた後に表面による各
光線の正確な光線交差点が次に物体空間で計算され、陰
テストはこれらの点のどれが照射されるかを決定するた
めに行われる（ブロック408−412）。概算として、表面
S1のような透明な表面は厚さが０であると考えられる。
かくて、透過した光線は、その前の表面として表面S1を
有する透明板の黒色表面の代わりに環境内の別の物体ま
たは表面に当たる。さらに、屈折は考慮する必要がな
い。透過された鏡面成分は下記の式によって計算するこ
とができる： ただし式中の量は第１図のブロック26に関する前述の反
射照度の式に定められている。目300で観測された照度
に対する透過鏡面寄与は次にフレーム・バッファに記憶
された値に加えられ、これによって極めて現実的な像が
作られる。 次に装置はテストすべき環境内の表面がもっとあるか
どうかをチェックし、必要な場合上記プロセスを反復す
る。もしなければ、第13図のプロセスは完了されてい
る。 第13図の上記プロセスでは、第12図の点306、308のよ
うな交差点は、観測される光線V1−V4の照度に寄与する
間接鏡面成分が決定できるように見出されるべきであ
る。これまでに知られている方法で行われたような境界
内の表面とのそれぞれの交差を見出す光線追跡法の代わ
りに、第13図の方法はプロセスを簡潔化しかつ処理時間
を短縮する物体コヒアレンスおよび「多角形」コヒアレ
ンスを利用している。 物体空間における交差点が例えば点306、308のように
いったん見出されると、かかる表面から表面S1に反射さ
れる光の照度が計算されなければならない。多角形は普
通100〜900ピクセルを含むので、テスト時間は大幅に短
縮される。すなわち、与えられた多角形のすべての交差
は同じ変換を用いて見出され、個々の光線に関する分類
手順は全面的に除かれる。 第８図および第９図のグラフィック・パイプラインを
用いる第10A図、第10B図、第11図〜第13図の方法の実施
をこれから説明する。第11図に関して、ブロック222、2
24のステップはCPU150で実行される。ブロック228、230
のステップは浮動小数点加速器152によって実行され
る。ブロック232の走査変換は像処理装置154で行われ、
ブロック234のグリッド・セル一覧表記録のコンパイル
はCPU150の記憶装置のようなコンピュータ記憶装置に保
持される。投影された表面の像によってカバーされるグ
リッド・セルを定めるブロック232の走査変換は、前述
の第７図のブロック112と基本的に同じように行われ
る。カバーされるグリッド・セルの一覧表記録にある表
面識別子および深さ精度は制御記憶装置174に記憶され
て、適当な時点でCPU記憶装置に送られる。かくて、第1
1図のプロセスが完了すると、CPU記憶装置は作られたす
べての光バッファのグリッド・セルに関する一覧表記録
を記憶する。そのように計算された放射線データは次に
陰テストを加速するのに用いられる。 第13図に関して、環境のモデルがCPU150において作ら
れる（ブロック32）。光バッファはCPU150および像処理
装置154によって上述の通り作られる（ブロック360）。
光バッファにあるグリッド・セルの一覧表記録はCPU記
憶装置に記憶される。環境は浮動小数点加速器152にお
いてブロック362で変換される。像処理装置154はブロッ
ク364の走査変換を行う。アイテム・バッファを構成す
る目に最も近い表面は、帰還通路186を経てCPU記憶装置
150に記憶される。CPUは菱形368およびブロック370のス
テップを実行する。浮動小数点加速器152はブロック372
で正確な交差位置を計算して保持し、そしてCPUはブロ
ック374で陰テストを実行する。浮動小数点加速器は、
ブロック376において物体空間の照度の周囲、直接拡
散、および直接鏡面反射の諸成分を計算する。これらの
成分は次にフーム・バッファ182に記憶される（ブロッ
ク378）。仮想点および仮想ピクチャ面ならびに隣接ボ
ックスはCPUによって決定される（ブロック380、38
2）。CPU、浮動小数点加速器、および像処理装置は共に
ブロック384のステップを実行し、仮想点用のアイテム
・バッファをCPU記憶装置に記憶する。浮動小数点加速
器152は、ブロック386において表面によりカバーされる
各ピクセルの正確な光線交差点を見出す。CPUはブロッ
ク388用の光バッファを用いて交差点の陰テストを行
い、加速器152はブロック390に関して鏡面反射成分を計
算する。ブロック391に関してS2から出てS1から反射さ
れる光の鏡面反射成分は次にフレーム・バッファ182に
加えられる。 表面が鏡面でない場合は、CPUはアイテム・バッファ
からピクセルを検索し、また浮動小数点加速器は表面に
よってカバーされるピクセル用の交差点を見出す。CPU1
50はブロック393の陰テストを行う。浮動小数点加速器1
52はブロック394のステップを実行する。像記憶装置182
はこの場合もまたフレーム・バッファに対する周囲およ
び直接拡散成分を記憶する。 表面が透明である場合は、CPU150はブロック400−406
のステップを実行する。加速器152および像処理装置154
と共にCPUはブロック408の隣接ボックス内のアイテム・
バッファを計算し直し、アイテム・バッファは像処理装
置の制御記憶装置174に記憶される。加速器152はブロッ
ク410で正確な照明光線の交差点を計算する。これらの
点はCPUによって陰テストされ、照度計算は加速器152で
行われる。次に透過された鏡面成分は像記憶装置182に
加えられる。 上記の説明に示された通り、第８図の帰還通路186に
より、あらかじめ計算済の放射線データ、この場合は光
バッファ情報が、CPU記憶装置に記憶される。かかるデ
ータは次に後の時点（ブロック374、388および412のス
テップで示されるような）で取り出される。また像処理
装置にある制御記憶装置174のような局部記憶装置によ
っても、アイテム・バッファ情報のような制限された量
の放射線データがブロック364、384および408に関して
記憶される。換言すれば、像処理装置の局部記憶装置に
より、制限された量の放射線データはその時点で包含さ
れる特定の計算の速度を上げる目的で記憶される。光バ
ッファ情報が代わりにCPU記憶装置に記憶される。光バ
ッファは著しい記憶スペースを要求することがあり、し
たがって像処理装置にあるような局部記憶装置ではなく
CPU記憶装置に記憶されることが望ましい。さらに、陰
テストはCPUによって行われるので、光バッファ情報はC
PU記憶装置から最も具合よく取り出される。別法とし
て、アイテム・バッファ情報も通路186を介してCPU記憶
装置に記憶することができる。 上述の通り、光線追跡計算の最も時間のかかる部分は
あらかじめ計算されてCPU記憶装置に記憶されるので、
多数の像を迅速に作ることができる。第８図のグラフィ
ック・パイプラインの各成分は、走査変換用の在来のハ
ードウェアのような、在来形ハードウェアから作ること
ができる。 また本発明は、光バッファ用の半多面体のグリッド・
セルが同じ形状のグリッド・セルのアレイから成る場
合、走査変換用の既存の在来ハードウェアを第９図の像
処理装置に採用して、グリッド・セルの一覧表記録を構
成することができる。グリッド・セルは基本的には同一
であるので、それらは在来の走査変換器によって走査さ
れる多角形に似た方法で処理することができる。光線追
跡方式用の半多面体のグリッド・セルは形状が規則正し
く、矩形または正方形であることが望ましい。 上記から明らかな通り、第８図の帰還通路186によ
り、放射密度法の波形率計算および光線追跡法の光バッ
ファ計算の結果が記憶される。後の時点で記憶された放
射線データは照度計算および陰テストの速度を上げるの
に使用される。対象的に、第1B図の在来方式はかかる記
憶を許さない。 また本出願には、ここに主張される本発明の異なる面
の細部をさらに詳しく示す補助材料として、共に提案さ
れる２つの報告をも包含する。これら２つの報告は下記
の通りである： 1.1985年、SIGGRAPH会議議事録、第19巻、第３号、第31
−40頁に記載されたミカエル・エフ・コーエン（Michae
l F.Cohen）およびドナルド・ピー・グリーンバーグ（D
onald P.Greenberg）による「半立方体−−複合環境の
放射密度解法」。 2.1985年12月の日付けのエリック・エイ・ヘインズ（Er
ic A.Haines）およびドナルド・ピー・グリーンバーグ
による「光バッファ；光追跡陰テスト加速器」。 上述の装置および方法はそれを説明するためのものに
過ぎず、細部の色々な変化および色々なステップの順序
とその実施は特許請求の範囲内であると思われる。
【図面の簡単な説明】
第1A図は光像を作る在来のコンピュータ・グラフィック
・アルゴリズムを示す流れ図、第1B図は第1A図のアルゴ
リズムを実施する在来のコンピュータ・グラフィック装
置、第２図は本発明の１つの面を示す流れ図、第3A図お
よび第3B図はコンピュータ・グラフィックに使用される
遠近変換の在来方法を示す、それぞれ物体空間および像
空間にある物体を観測する観測者の概略図、第3C図およ
び第3D図は在来のコンピュータ・グラフィック応用にそ
れぞれ使用される深さバッファおよび照度バッファの概
略図、第4A図および第4B図は表面間の波形率を決定する
既知の放射密度法を示す概略図、第5A図−第5E図は本発
明の１つの面である放射密度方式を示す概略図、第６図
および第７図は第5A図−第5E図の放射密度方式を示す流
れ図、第８図および第９図は本発明のもう１つの面を示
す放射線像方式のブロック図、第10A図および第10B図は
本発明のなおもう１つの面を示す鏡面反射シミュレーシ
ョンにおける陰テストを加速する光バッファの概略図、
第11図は第10A図および第10B図の光バッファを作るアル
ゴリズムを示す流れ図、第12図は本発明の光線追跡アル
ゴリズムの特徴を示す、環境からの光を反射したり透過
する表面を観測する観測者の概略図第13図は第12図の光
線追跡アルゴリズムの特徴を示す流れ図である。 符号の説明： 32……モデル作成;34、37……放射線データ計算;36……
遠近変換;38……可視表面決定;40……レンダリング;42
……表示
・アルゴリズムを示す流れ図、第1B図は第1A図のアルゴ
リズムを実施する在来のコンピュータ・グラフィック装
置、第２図は本発明の１つの面を示す流れ図、第3A図お
よび第3B図はコンピュータ・グラフィックに使用される
遠近変換の在来方法を示す、それぞれ物体空間および像
空間にある物体を観測する観測者の概略図、第3C図およ
び第3D図は在来のコンピュータ・グラフィック応用にそ
れぞれ使用される深さバッファおよび照度バッファの概
略図、第4A図および第4B図は表面間の波形率を決定する
既知の放射密度法を示す概略図、第5A図−第5E図は本発
明の１つの面である放射密度方式を示す概略図、第６図
および第７図は第5A図−第5E図の放射密度方式を示す流
れ図、第８図および第９図は本発明のもう１つの面を示
す放射線像方式のブロック図、第10A図および第10B図は
本発明のなおもう１つの面を示す鏡面反射シミュレーシ
ョンにおける陰テストを加速する光バッファの概略図、
第11図は第10A図および第10B図の光バッファを作るアル
ゴリズムを示す流れ図、第12図は本発明の光線追跡アル
ゴリズムの特徴を示す、環境からの光を反射したり透過
する表面を観測する観測者の概略図第13図は第12図の光
線追跡アルゴリズムの特徴を示す流れ図である。 符号の説明： 32……モデル作成;34、37……放射線データ計算;36……
遠近変換;38……可視表面決定;40……レンダリング;42
……表示
フロントページの続き
(72)発明者 マイケル・エフ・コーエン
アメリカ合衆国ニュー・ヨーク州イサ
カ、イー・ステート・ストリート 116、
ナンバー ６
(72)発明者 エリック・エイ・ヘインズ
アメリカ合衆国ニュー・ヨーク州イサ
カ、スチュワート・アベニュー 211
(56)参考文献 Ｃｏｈｅｎ，Ｍ．Ｆ．＆ Ｇｒｅｅｎ
ｂｕｒｇ，Ｄ．Ｐ．：“ＴＨＥ ＨＥＭ
ＩＣＵＢＥ：Ａ ＲＡＤＩＯＳＩＴＹ
ＳＯＬＵＴＩＯＮ ＦＯＲ ＣＯＭＰＬ
ＥＸ ＥＮＶＩＲＯＮＭＥＮＴＳ"
（1985)
Claims (1)
- (57)【特許請求の範囲】 １．環境内で１つまたは複数の表面と放射源との間で放
射データを定義する方法において、 （Ａ）前記光源を囲む多面体を定義し、多面体の１つま
たは複数の面上でグリッド・セルを定義するステップ
と、 （Ｂ）各前記表面の像を放射源の方向に向かって多面体
上に投影し、像中に包含されるかまたは像と接触するグ
リッド・セルを決定するステップと、 （Ｃ）少なくとも１つのグリッド・セルについて、前記
多面体上に投影されたどの表面の像が当該グリッド・セ
ルを覆いまたは当該グリッド・セルに接触するかを決定
し、このようにして決定された表面を識別しまたその位
置を示す情報を決定するステップと、 （Ｄ）前記情報を記録リストとして記憶するステップと を設けたことを特徴とする方法。 ２．環境が少なくとも１つの第２の表面を含み、 前記ステップ（Ｃ）が、前記表面と放射源の間の距離ま
たは相対距離として定義された深さ値を決定するステッ
プを含み、 前記ステップ（Ｄ）が、前記表面の識別情報およびそれ
らの深さ値をそのようなグリッド・セルの記録リスト内
に記憶するステップを含む ことを特徴とする特許請求の範囲第１項に記載の方法。 ３．前記表面およびその放射源からの距離に関する記録
が、それらの深さ値の昇順で記憶されることを特徴とす
る特許請求の範囲第２項に記載の方法。 ４．グリッド・セルが環境内の放射を通さない少なくと
も１つの表面の像によって完全に囲まれるかどうかをテ
ストし、そのような表面の記録を完全閉塞記録として識
別し、最小深さ値を有しかつ完全閉塞記録を有する表面
よりも大きい深さ値にある表面のすべての記録を検出
し、そのように検出した記録を削除するステップを設け
たことを特徴とする特許請求の範囲第３項に記載の方
法。 ５．前記ステップ（Ｃ）が、像によって覆われるかまた
は像と接触するグリッド・セルを決定する可視表面アル
ゴリズムを適用するステップを含むことを特徴とする特
許請求の範囲第１項に記載の方法。 ６．環境が少なくとも１つの第２の表面を含み、 第２の表面を囲む境界体積を定義するステップと、 前記境界体積の像を放射源の方向に向かって多面体上に
投影し、体積の像によって覆われるかまたは体積の像と
接触するグリッド・セルを決定するステップと、 少なくとも１つのグリッド・セルについて、（ａ）多面
体上に投影された表面の像内にあるかまたは多面体上に
投影された表面の像と接触するグリッド・セルを決定
し、セルが像内にあるかまたは像と接触する場合に放射
源と表面の間の距離または相対距離を決定し、（ｂ）多
面体上に投影された体積の像内にあるかまたは多面体上
に投影された体積の像と接触するグリッド・セルを決定
し、セルが体積の像内にあるかまたは体積の像と接触す
る場合に放射源と体積の間の距離または相対距離を決定
するステップと、 前記表面および前記境界体積の識別情報および放射源か
らのそれらの距離または相対距離をそのようなグリッド
・セルの記録リスト内に記憶するステップと を設けたことを特徴とする特許請求の範囲第１項に記載
の方法。 ７．前記放射が光、熱、音または放射線であることを特
徴とする特許請求の範囲第１項に記載の方法。 ８．前記多面体が立方体であることを特徴とする特許請
求の範囲第１項に記載の方法。 ９．前記定義するステップにおいて、立方体の中心が実
質上前記放射源と一致するように立方体を定義すること
を特徴とする特許請求の範囲第８項に記載の方法。 １０．前記定義するステップにおいて定義されたグリッ
ド・セルが実質上同じ形状であることを特徴とする特許
請求の範囲第１項に記載の方法。 １１．グリッド・セルが実質上正方形であることを特徴
とする特許請求の範囲第１項に記載の方法。 １２．（ｉ）表面毎に、これらの表面からの放射がその
位置において観測できるようにその位置に最も近い表面
を見つけるステップと、 （ii）観測位置から表面上の点まで線を追跡して交点を
定義するステップと、 （iii）放射源と交点とを結ぶ線と交差するグリッド・
セルを決定するステップと、 （iv）交点と放射源の間の距離をそのようなグリッド・
セルの記録リスト内の深さ値と比較して、放射源からの
放射が交点に向かって進行している場合に環境内のいず
れかの表面によって妨害されるかどうかを判定するステ
ップと、 （ｖ）交点においてその位置に向かって反射された放射
または交点によってその位置に向かって放出された放射
の強度を計算するステップと、 （vi）各表面毎にステップ（ii）から（ｖ）を繰り返
し、交点において反射された放射の強度を合計して、環
境からの位置において観測された放射の強度を得るステ
ップと を設けたことを特徴とする特許請求の範囲第１項に記載
の方法。 １３．環境の放射データが、環境内の表面上の記録およ
びそれらの深さ値がそれらの大きさの昇順で記憶される
ように定義され、前記比較するステップにおいて、交点
と放射源の間の距離を記録内の昇順の深さ値と比較する
ことを特徴とする特許請求の範囲第12項に記載の方法。 １４．前記比較するステップが、その時に前記比較する
ステップが終了する交点と放射源の間の距離が記録内に
記憶された次の深さ値よりも小さくなるまで前記昇順で
実施されることを特徴とする、特許請求の範囲第13項に
記載の方法。 １５．環境の放射データが、環境内の表面の識別情報お
よびそれらの深さ値がグリッド・セルのリスト記録内に
それらの大きさの昇順で記憶されるように定義され、放
射データがまた、グリッド・セルが環境内の放射を通さ
ない少なくとも１つの表面の像によって完全に囲まれる
かどうかをテストするステップ（Ｗ）と、そのような表
面の記録を完全閉塞記録として識別するステップ（Ｘ）
と、最小深さ値を有しかつ完全閉塞記録を有する表面よ
りも大きい深さ値にある表面のすべての記録を検出する
ステップ（Ｙ）と、そのように検出した記録を削除する
ステップ（Ｚ）とによって定義され、 交点と放射源の間の距離を、もしあるならば、完全閉塞
記録内の深さ値に関連づけるステップと、交点と放射源
の間の距離が完全閉塞記録内の深さ値よりも大きい場合
に前記比較するステップを終了するステップと、交点と
放射源の間の距離を記録内の深さ値に昇順で関連づける
ステップと を設けたことを特徴とする、特許請求の範囲第14項に記
載の方法。 １６．その位置に最も近い少なくとも１つの表面が非鏡
面であり、前記計算するステップにおいて、表面によっ
てその位置に向かって放出された放射強度の周囲拡散反
射成分および直接拡散反射成分を計算することを特徴と
する特許請求の範囲第12項に記載の方法。 １７．その位置に最も近い少なくとも１つの表面が鏡面
であり、前記計算するステップにおいて、表面によって
その位置に向かって放出された放射強度の周囲直接拡散
成分および直接鏡面反射成分を計算することを特徴とす
る特許請求の範囲第12項に記載の方法。 １８．（ｉ）その中に所定のサイズを有するピクセルを
有するピクチャ面を定義するステップと、 （ii）その位置に最も近い表面および最も近い各表面に
よって覆われたピクセルを決定する走査変換アルゴリズ
ムを適用するステップと、 （iii）各表面毎に、観測位置から表面の１つによって
覆われたピクセル内の所定の点まで線を追跡し、そのよ
うな線と前記１つの表面との交点を決定して、前記１つ
の最も近い表面上の交点を決定するステップと （iv）放射源と交点とを結ぶ線と交差するグリッド・セ
ルを決定し、かつ交点と放射源の間の距離をそのような
グリッド・セルの記録リスト内の深さ値と比較して、放
射源からの放射が交点に向かって進行している場合に環
境内のいずれかの表面によって妨害されるかどうかを判
定することによって、各交点を陰テストするステップ
と、 （ｖ）少なくともいくつかのピクセルについて、各交点
においてその位置に向かって反射された放射または各交
点によってその位置に向かって放出された放射の強度を
計算するステップと、 （vi）各ピクセル毎に計算した放射の強度を表示して放
射像を生成するステップと を設けたことを特徴とする特許請求の範囲第１項に記載
の方法。 １９．選択した解像度を有するピクセルをその中に有す
るピクチャ面を定義するステップと、 走査変換アルゴリズムを適用して、線が追跡される最も
近い表面によって覆われるピクセルを決定するステップ
と を設け、 ここにおいて、 前記線を追跡するステップは、ピクセル中の予め定めら
れた点を通る位置から線を追跡して前記線と最も近い表
面の間の交点を見出すことによって実行され、 更に、最も近い表面上の交点毎に前記比較するステップ
（iv）と前記計算するステップ（ｖ）を繰り返すステッ
プを設け、 ここにおいて、前記合計するステップ（vi）はピクセル
毎に実行される ことを特徴とする特許請求の範囲第18項に記載の方法。 ２０．走査変換によって決定された最も近い表面によっ
て覆われたピクセルをメモリ内に記憶するステップを設
けたことを特徴とする特許請求の範囲第19項に記載の方
法。 ２１．ピクセル毎に、各交点においてその位置に向かっ
て反射された放射または各交点によってその位置に向か
って放出された放射の強度をフレーム・バッファ内に記
憶するステップと、 最も近い表面の識別情報および各最も近い表面によって
覆われたピクセルの識別情報をアイテム・バッファ内に
記憶するステップと、 鏡面反射表面を定義する最も近い表面の１つによって覆
われたピクセルを検索するステップと、 前記鏡面反射表面を横切る観測位置の鏡像を決定してそ
の位置の仮想点を定義し、前記鏡面反射表面を横切るピ
クチャ面の鏡像およびその中のピクセルを決定して仮想
ピクチャ面および仮想ピクセルを定義するステップと、 鏡面反射表面の境界ボックスを定義するステップと、 境界ボックスに対して環境をクリップし、走査変換し
て、仮想点に最も近い表面、そのような各表面によって
覆われた仮想ピクセルを決定するステップと、 仮想点に最も近い各表面毎に、観測位置からそのような
表面によって覆われた仮想ピクセル内の所定の点まで線
を追跡し、そのような線とそのような表面との交点を決
定してそのような表面上の交点を決定するステップと、 放射源と交点とを結ぶ線と交差するグリッド・セルを決
定し、かつ交点と放射源の間の距離をそのようなグリッ
ド・セルの記録リスト内の深さ値と比較して、放射源か
らの放射が交点に向かって進行している場合に環境内の
いずれかの表面によって妨害されるかどうかを判定する
ことによって、そのような表面上の各交点を陰テストす
るステップと、 仮想ピクセル毎に、そのような各交点においてその位置
に向かって反射された放射またはそのような各交点によ
ってその位置に向かって放出された放射および前記鏡面
反射表面によってその位置に向かって反射された放射の
強度を計算するステップと、 各仮想ピクセル毎に計算した放射の強度をフレーム・バ
ッファ内に記憶された対応するピクセルの強度値に加え
るステップと を設けたことを特徴とする特許請求の範囲第18項に記載
の方法。 ２２．ピクセル毎に、各交点においてその位置に向かっ
て反射された放射または各交点によってその位置に向か
って放出された放射の強度をフレーム・バッファ内に記
憶するステップと、 最も近い表面の識別情報および各最も近い表面によって
覆われたピクセルの識別情報をアイテム・バッファ内に
記憶するステップと、 最も近い表面の１つが少なくとも部分的に透過性である
かどうかをテストするステップと、 前記１つの最も近い表面によって覆われ、透過表面を定
義するピクセルを検索するステップと、 透過表面の境界ボックスを定義するステップと、 前記透過表面を環境から除去するステップと、 境界ボックスに対して環境をクリップし、走査変換し
て、観測位置に最も近い表面およびそのような各表面に
よって覆われたピクセルを決定するステップと、 そのような各表面毎に、観測位置からそのような表面に
よって覆われたピクセル内の所定の点まで線を追跡し、
そのような線とそのような表面との交点を決定してその
ような表面上の交点を決定するステップと、 放射源と交点とを結ぶ線と交差するグリッド・セルを決
定し、かつ交点と放射源の間の距離をそのようなグリッ
ド・セルの記録リスト内の深さ値と比較して、放射源か
らの放射が交点に向かって進行している場合に環境内の
いずれかの表面によって妨害されるかどうかを判定する
ことによって、そのような表面上の各交点を陰テストす
るステップと、 仮想ピクセル毎に、そのような各交点においてその位置
に向かって反射された放射またはそのような各交点によ
ってその位置に向かって放出された放射および前記鏡面
反射表面によってその位置に向かって反射された放射の
強度を計算するステップと、 前記計算するステップにおいて計算した放射の強度をフ
レーム・バッファ内に記憶された対応するピクセルの強
度値に加えるステップと を設けたことを特徴とする特許請求の範囲第18項に記載
の方法。 ２３．以下の（Ａ）から（Ｅ）を設け、環境内で表面と
放射源との間で放射データを定義する装置。 （Ａ）前記光源を囲む多面体を定義し、多面体の少なく
とも１つの面上でグリッド・セルを定義する手段。 （Ｂ）前記表面の像を放射源の方向に向かって多面体上
に投影し、前記表面の像に覆われるかまたは前記表面の
像と接触するグリッド・セルを決定する手段。 （Ｃ）少なくとも１つのグリッド・セルについて、前記
表面の像によって覆われるかまたは像と接触するセルの
表面を決定する手段。 （Ｄ）前記表面を識別しまたその位置を示す情報を決定
する手段。 （Ｅ）前記情報をそのようなグリッド・セルの記録リス
トとして記憶する手段。 ２４．前記手段（Ａ）によって定義されたグリッド・セ
ルが実質上同じ形状であることを特徴とする特許請求の
範囲第23項に記載の装置。 ２５．グリッド・セルが実質上正方形であることを特徴
とする特許請求の範囲第24項に記載の装置。 ２６．各前記表面が識別子によって表され、 前記手段（Ｄ）が、像によって覆われるかまたは像と接
触する各前記表面と放射源との間の距離または相対距離
として定義された深さ値を決定する表面に関する情報を
決定し、 記憶手段が、前記表面の識別子およびそれらの深さ値を
そのようなグリッド・セルの記録リストとして記憶する ことを特徴とする特許請求の範囲第23項に記載の装置。 ２７．（ｉ）表面毎に、これらの表面からの放射がその
位置において観測できるようにその位置に最も近い表面
を見つける手段と、 （ii）観測位置から表面上の点まで線を追跡して交点を
定義する手段と、 （iii）放射源と交点とを結ぶ線と交差するグリッド・
セルを決定する手段と、 （iv）交点と放射源の間の距離をそのようなグリッド・
セルの記録リスト内の深さ値と比較して、放射源からの
放射が交点に向かって進行している場合に環境内のいず
れかの表面によって妨害されるかどうかを判定する手段
と、 （ｖ）交点においてその位置に向かって反射された放射
または交点によってその位置に向かって放出された放射
の強度を計算する手段と、 （vi）交点において反射された放射の強度を合計して、
環境からの位置において観測された放射の強度を得る手
段と を設けたことを特徴とする特許請求の範囲第26項に記載
の装置。 ２８．環境の放射データが、環境内の表面上の記録およ
びそれらの深さ値がそれらの大きさの昇順で記憶される
ように定義され、前記比較する手段が、交点と放射源の
間の距離を記録内の昇順の深さ値と比較することを特徴
とする特許請求の範囲第27項に記載の装置。 ２９．前記比較する手段が、その時に比較が終了する交
点と放射源の間の距離が記録内に記憶された次の深さ値
よりも小さくなるまで比較を前記昇順で実行することを
特徴とする特許請求の範囲第27項に記載の装置。 ３０．（ｉ）その中に所定のサイズを有するピクセルを
有するピクチャ面を定義する手段と、 （ii）その位置に最も近い表面および各最も近い表面に
よって覆われたピクセルを決定する走査変換アルゴリズ
ムを適用する手段と、 （iii）各表面毎に、観測位置から表面の１つによって
覆われたピクセル内の所定の点まで線を追跡して、その
ような線と前記１つの表面との交点を決定して、前記表
面上の交点を決定する手段と （iv）放射源と交点とを結ぶ線と交差するグリッド・セ
ルを決定し、かつ交点と放射源の間の距離をそのような
グリッド・セルの記録リスト内の深さ値と比較して、放
射源からの放射が交点に向かって進行している場合に環
境内のいずれかの表面によって妨害されるかどうかを判
定することによって、各交点を陰テストする手段と、 （ｖ）ピクセル毎に、各交点においてその位置に向かっ
て反射された放射または各交点によってその位置に向か
って放出された放射の強度を計算する手段と、 （vi）各ピクセル毎に計算した放射の強度を表示して放
射像を生成する手段と を設けたことを特徴とする特許請求の範囲第27項に記載
の装置。 ３１．ピクセル毎に、各交点においてその位置に向かっ
て反射された放射または各交点によってその位置に向か
って放出された放射の強度を記憶するフレーム・バッフ
ァと、 最も近い表面の識別子および各最も近い表面によって覆
われたピクセルの識別子を記憶するアイテム・バッファ
と、 鏡面反射表面を定義する最も近い表面の１つによって覆
われたピクセルを検索する手段と、 前記鏡面反射表面を横切る観測位置の鏡像を決定してそ
の位置の仮想点を定義し、前記鏡面反射表面を横切るピ
クチャ面の鏡像およびその中のピクセルを決定して仮想
ピクチャ面および仮想ピクセルを定義する手段と、 鏡面反射表面の境界ボックスを定義する手段と、 境界ボックスに対して環境をクリップし、走査変換し
て、仮想点に最も近い表面、そのような各表面によって
覆われた仮想ピクセルを決定する手段と、 仮想点から所定の点まで線を追跡し、そのような線とそ
のような表面との仮想交点においてそのような表面上の
仮想交点を決定する手段と、 放射源と仮想交点とを結ぶ線と交差するグリッド・セル
を決定し、かつ仮想交点と放射源の間の距離をそのよう
なグリッド・セルの記録リスト内の深さ値と比較して、
放射源からの放射が仮想交点に向かって進行している場
合に環境内のいずれかの表面によって妨害されるかどう
かを判定することによって、そのような表面上の各仮想
交点を陰テストする手段と、 仮想ピクセル毎に、そのような各仮想交点においてその
位置に向かって反射された放射またはそのような各仮想
交点によってその位置に向かって放出された放射および
前記鏡面反射表面によってその位置に向かって反射され
た放射の強度を計算する手段と、 各仮想ピクセル毎に計算した放射の強度をフレーム・バ
ッファ内に記憶された対応するピクセルの強度値に加え
る手段と を設けたことを特徴とする特許請求の範囲第30項に記載
の装置。 ３２．ピクセル毎に、各交点においてその位置に向かっ
て反射された放射または各交点によってその位置に向か
って放出された放射の強度を記憶するフレーム・バッフ
ァと、 最も近い表面の識別情報および各最も近い表面によって
覆われたピクセルの識別情報を記憶するアイテム・バッ
ファと、 最も近い表面の１つが少なくとも部分的に透過性である
かどうかをテストする手段と、 前記１つの最も近い表面によって覆われ、透過表面を定
義するピクセルを検索する手段と、 透過表面の境界ボックスを定義する手段と、 前記透過表面を環境から除去する手段と、 境界ボックスに対して環境をクリップし、走査変換し
て、観測位置に最も近い表面およびそのような各表面に
よって覆われたピクセルを決定する手段と、観測位置か
らそのような表面によって覆われたピクセル内の所定の
点まで線を追跡し、そのような線とそのような表面との
交点を決定して、放射がそこから透過表面を通して観測
できる点のグループを定義するそのような表面上の交点
を決定する手段と、 放射源とグループ内の交点とを結ぶ線と交差するグリッ
ド・セルを決定し、かつグループ内の交点と放射源の間
の距離をそのようなグリッド・セルの記録リスト内の深
さ値と比較して、放射源の放射がグループ内の交点に向
かって進行している場合に環境内のいずれかの表面によ
って妨害されるかどうかを判定することによって、その
ような表面上のグループ内の各交点を陰テストする手段
と、 仮想ピクセル毎に、そのようなグループ内の各交点にお
いてその位置に向かって反射された放射またはそのよう
なグループ内の各交点によってその位置に向かって放出
された放射および前記鏡面反射表面によってその位置に
向かって反射された放射の強度を計算する手段と、 前記計算する手段によって計算した放射の強度をフレー
ム・バッファ内に記憶された同じピクセルの強度値に加
える手段と を設けたことを特徴とする特許請求の範囲第30項に記載
の装置。
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|---|---|
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|---|---|---|---|
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Families Citing this family (112)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5222203A (en) * | 1989-01-20 | 1993-06-22 | Daikin Industries, Ltd. | Method and apparatus for displaying translucent surface |
| EP0382495B1 (en) * | 1989-02-08 | 2000-04-26 | Canon Kabushiki Kaisha | Figure processing apparatus |
| US5058042A (en) * | 1989-04-03 | 1991-10-15 | Hewlett-Packard Company | Method for employing a hierarchical display list in global rendering |
| EP0439260B1 (en) * | 1990-01-23 | 1998-08-19 | Hewlett-Packard Company | Distributed processing apparatus and method for use in global rendering |
| JPH04222076A (ja) * | 1990-03-16 | 1992-08-12 | Hewlett Packard Co <Hp> | 半影部を備えたイメージに正反射を加えるためのコンピュータグラフィックス法 |
| GB9009127D0 (en) * | 1990-04-24 | 1990-06-20 | Rediffusion Simulation Ltd | Image generator |
| EP0459761A3 (en) * | 1990-05-31 | 1993-07-14 | Hewlett-Packard Company | Three dimensional computer graphics employing ray tracking to compute form factors in radiosity |
| JP3141245B2 (ja) * | 1990-11-01 | 2001-03-05 | ソニー株式会社 | 画像の表示方法 |
| US5268996A (en) * | 1990-12-20 | 1993-12-07 | General Electric Company | Computer image generation method for determination of total pixel illumination due to plural light sources |
| US5299298A (en) * | 1991-02-28 | 1994-03-29 | Hewlett-Packard Company | Accelerated shadow testing method for three dimensional graphics rendering system |
| GB2254751B (en) * | 1991-04-09 | 1994-11-09 | Sony Broadcast & Communication | Digital video effects system |
| US5914721A (en) * | 1991-06-28 | 1999-06-22 | Lim; Hong Lip | Visibility calculations for 3D computer graphics |
| GB2259432A (en) * | 1991-09-06 | 1993-03-10 | Canon Res Ct Europe Ltd | Three dimensional graphics processing |
| DE69130958T2 (de) * | 1991-10-10 | 1999-07-01 | Hewlett Packard Co | Graphisches ausgangs-system und -verfahren. |
| DE69129339T2 (de) * | 1991-10-10 | 1998-08-20 | Hewlett Packard Co | Graphisches ausgangssystem mit begrenzter aktualisierung. |
| JP2861647B2 (ja) * | 1992-07-08 | 1999-02-24 | 松下電器産業株式会社 | 画像生成装置 |
| GB2271260A (en) * | 1992-10-02 | 1994-04-06 | Canon Res Ct Europe Ltd | Processing image data |
| GB2271259A (en) * | 1992-10-02 | 1994-04-06 | Canon Res Ct Europe Ltd | Processing image data |
| GB2271261A (en) * | 1992-10-02 | 1994-04-06 | Canon Res Ct Europe Ltd | Processing image data |
| DE69327501D1 (de) * | 1992-10-13 | 2000-02-10 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Schallumgebungsimulator und Verfahren zur Schallfeldanalyse |
| TW241196B (ja) * | 1993-01-15 | 1995-02-21 | Du Pont | |
| JPH06223201A (ja) * | 1993-01-22 | 1994-08-12 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 並列画像生成装置 |
| GB9303009D0 (en) * | 1993-02-15 | 1993-03-31 | Canon Res Ct Europe Ltd | Processing image data |
| US5495562A (en) * | 1993-04-12 | 1996-02-27 | Hughes Missile Systems Company | Electro-optical target and background simulation |
| US5974189A (en) * | 1993-05-24 | 1999-10-26 | Eastman Kodak Company | Method and apparatus for modifying electronic image data |
| JPH0778267A (ja) * | 1993-07-09 | 1995-03-20 | Silicon Graphics Inc | 陰影を表示する方法及びコンピュータ制御表示システム |
| JPH0757117A (ja) * | 1993-07-09 | 1995-03-03 | Silicon Graphics Inc | テクスチャマップへの索引を生成する方法及びコンピュータ制御表示システム |
| US5579455A (en) * | 1993-07-30 | 1996-11-26 | Apple Computer, Inc. | Rendering of 3D scenes on a display using hierarchical z-buffer visibility |
| US5488700A (en) * | 1993-07-30 | 1996-01-30 | Xerox Corporation | Image rendering system with local, adaptive estimation of incident diffuse energy |
| US5742292A (en) * | 1993-10-29 | 1998-04-21 | Kabushiki Kaisha Toshiba | System and method for realistically displaying images indicating the effects of lighting on an object in three dimensional space |
| FR2725291B1 (fr) * | 1994-09-30 | 1996-11-29 | Thomson Broadband Systems | Procede de generation d'images de synthese par tampon spherique |
| GB9424273D0 (en) * | 1994-12-01 | 1995-01-18 | Wrigley Adrian M T | Improvements in and relating to image constrcution |
| JP3554616B2 (ja) * | 1994-12-13 | 2004-08-18 | 富士通株式会社 | ラジオシティ法を用いる描画方法および装置 |
| US6009188A (en) * | 1996-02-16 | 1999-12-28 | Microsoft Corporation | Method and system for digital plenoptic imaging |
| US6018350A (en) * | 1996-10-29 | 2000-01-25 | Real 3D, Inc. | Illumination and shadow simulation in a computer graphics/imaging system |
| US5936629A (en) * | 1996-11-20 | 1999-08-10 | International Business Machines Corporation | Accelerated single source 3D lighting mechanism |
| US6023279A (en) * | 1997-01-09 | 2000-02-08 | The Boeing Company | Method and apparatus for rapidly rendering computer generated images of complex structures |
| DE19714915A1 (de) * | 1997-04-03 | 1998-10-08 | Gmd Gmbh | Bilddarstellungsverfahren und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens |
| GB9717656D0 (en) * | 1997-08-20 | 1997-10-22 | Videologic Ltd | Shading three dimensional images |
| US6552726B2 (en) * | 1998-07-17 | 2003-04-22 | Intel Corporation | System and method for fast phong shading |
| US6496597B1 (en) * | 1999-03-03 | 2002-12-17 | Autodesk Canada Inc. | Generating image data |
| US6411297B1 (en) | 1999-03-03 | 2002-06-25 | Discreet Logic Inc. | Generating image data |
| US6366283B1 (en) | 1999-03-03 | 2002-04-02 | Discreet Logic Inc. | Generating image data |
| US6487322B1 (en) | 1999-03-03 | 2002-11-26 | Autodesk Canada Inc. | Generating image data |
| US6313842B1 (en) * | 1999-03-03 | 2001-11-06 | Discreet Logic Inc. | Generating image data |
| KR100369686B1 (ko) * | 1999-12-29 | 2003-01-30 | 엘지전자 주식회사 | 안테나의 3차원 방사패턴 도시방법 |
| US8036731B2 (en) * | 2001-01-22 | 2011-10-11 | Spectrum Dynamics Llc | Ingestible pill for diagnosing a gastrointestinal tract |
| US8489176B1 (en) | 2000-08-21 | 2013-07-16 | Spectrum Dynamics Llc | Radioactive emission detector equipped with a position tracking system and utilization thereof with medical systems and in medical procedures |
| US8565860B2 (en) | 2000-08-21 | 2013-10-22 | Biosensors International Group, Ltd. | Radioactive emission detector equipped with a position tracking system |
| US8909325B2 (en) | 2000-08-21 | 2014-12-09 | Biosensors International Group, Ltd. | Radioactive emission detector equipped with a position tracking system and utilization thereof with medical systems and in medical procedures |
| US7826889B2 (en) * | 2000-08-21 | 2010-11-02 | Spectrum Dynamics Llc | Radioactive emission detector equipped with a position tracking system and utilization thereof with medical systems and in medical procedures |
| EP1359845B1 (en) * | 2001-01-22 | 2012-11-14 | Spectrum Dynamics LLC | Ingestible device |
| GB2372188B (en) * | 2001-02-08 | 2005-07-13 | Imagination Tech Ltd | Volume clipping in computer 3-D Graphics |
| JP2002319034A (ja) * | 2001-04-23 | 2002-10-31 | Pfu Ltd | 電磁波シミュレーション装置及び方法、３次元モデルデータ生成装置 |
| JP3964646B2 (ja) * | 2001-10-25 | 2007-08-22 | 富士フイルム株式会社 | 画像処理方法、画像処理装置、および画像信号作成方法 |
| US20030137529A1 (en) * | 2002-01-07 | 2003-07-24 | Siemens Aktiengesellschaft | Method for reconstructing a surface of a workpiece |
| JP4592245B2 (ja) * | 2002-03-25 | 2010-12-01 | 株式会社日立製作所 | 輻射計算方法及びそれを用いた熱吸収分布図作成方法 |
| US20040116807A1 (en) * | 2002-10-17 | 2004-06-17 | Roni Amrami | Blood vessels wall imaging catheter |
| US20040204646A1 (en) * | 2002-11-04 | 2004-10-14 | V-Target Technologies Ltd. | Intracorporeal-imaging head |
| EP1573495B1 (en) * | 2002-11-04 | 2009-11-04 | Spectrum Dynamics LLC | Apparatus and methods for imaging and attenuation correction |
| US7968851B2 (en) | 2004-01-13 | 2011-06-28 | Spectrum Dynamics Llc | Dynamic spect camera |
| WO2008010227A2 (en) | 2006-07-19 | 2008-01-24 | Spectrum Dynamics Llc | Imaging protocols |
| WO2006075333A2 (en) | 2005-01-13 | 2006-07-20 | Spectrum Dynamics Llc | Multi-dimensional image reconstruction and analysis for expert-system diagnosis |
| WO2005067383A2 (en) * | 2004-01-13 | 2005-07-28 | Spectrum Dynamics Llc | Multi-dimensional image reconstruction |
| US8571881B2 (en) | 2004-11-09 | 2013-10-29 | Spectrum Dynamics, Llc | Radiopharmaceutical dispensing, administration, and imaging |
| US8586932B2 (en) | 2004-11-09 | 2013-11-19 | Spectrum Dynamics Llc | System and method for radioactive emission measurement |
| US9470801B2 (en) | 2004-01-13 | 2016-10-18 | Spectrum Dynamics Llc | Gating with anatomically varying durations |
| WO2007054935A2 (en) * | 2005-11-09 | 2007-05-18 | Spectrum Dynamics Llc | Dynamic spect camera |
| EP1766550A2 (en) | 2004-06-01 | 2007-03-28 | Spectrum Dynamics LLC | Methods of view selection for radioactive emission measurements |
| EP1778957A4 (en) | 2004-06-01 | 2015-12-23 | Biosensors Int Group Ltd | OPTIMIZING THE MEASUREMENT OF RADIOACTIVE EMISSIONS IN SPECIFIC BODY STRUCTURES |
| US20060017729A1 (en) * | 2004-07-22 | 2006-01-26 | International Business Machines Corporation | Method to improve photorealistic 3D rendering of dynamic viewing angle by embedding shading results into the model surface representation |
| US8189002B1 (en) * | 2004-10-29 | 2012-05-29 | PME IP Australia Pty, Ltd. | Method and apparatus for visualizing three-dimensional and higher-dimensional image data sets |
| US8000773B2 (en) * | 2004-11-09 | 2011-08-16 | Spectrum Dynamics Llc | Radioimaging |
| US8615405B2 (en) | 2004-11-09 | 2013-12-24 | Biosensors International Group, Ltd. | Imaging system customization using data from radiopharmaceutical-associated data carrier |
| US9943274B2 (en) | 2004-11-09 | 2018-04-17 | Spectrum Dynamics Medical Limited | Radioimaging using low dose isotope |
| US9316743B2 (en) | 2004-11-09 | 2016-04-19 | Biosensors International Group, Ltd. | System and method for radioactive emission measurement |
| EP1827505A4 (en) | 2004-11-09 | 2017-07-12 | Biosensors International Group, Ltd. | Radioimaging |
| US7436414B2 (en) * | 2004-11-12 | 2008-10-14 | Valve Corporation | Method for accelerated determination of occlusion between polygons |
| US7221365B1 (en) * | 2004-11-23 | 2007-05-22 | Autodesk, Inc. | System and method for distributing photons when rendering an image using photon mapping |
| US8837793B2 (en) | 2005-07-19 | 2014-09-16 | Biosensors International Group, Ltd. | Reconstruction stabilizer and active vision |
| EP1908011B1 (en) * | 2005-07-19 | 2013-09-04 | Spectrum Dynamics LLC | Reconstruction stabilizer and active vision |
| EP1909853B1 (en) | 2005-07-19 | 2015-03-18 | Biosensors International Group, Ltd. | Imaging protocols |
| EP1966984A2 (en) | 2005-12-28 | 2008-09-10 | Starhome GmbH | Optimal voicemail deposit for roaming cellular telephony |
| US8894974B2 (en) | 2006-05-11 | 2014-11-25 | Spectrum Dynamics Llc | Radiopharmaceuticals for diagnosis and therapy |
| US7601966B2 (en) | 2006-06-28 | 2009-10-13 | Spectrum Dynamics Llc | Imaging techniques for reducing blind spots |
| US8610075B2 (en) | 2006-11-13 | 2013-12-17 | Biosensors International Group Ltd. | Radioimaging applications of and novel formulations of teboroxime |
| WO2008075362A2 (en) | 2006-12-20 | 2008-06-26 | Spectrum Dynamics Llc | A method, a system, and an apparatus for using and processing multidimensional data |
| US8264487B2 (en) * | 2007-04-27 | 2012-09-11 | Sony Corporation | Method for converting polygonal surfaces to levelsets |
| US8392529B2 (en) | 2007-08-27 | 2013-03-05 | Pme Ip Australia Pty Ltd | Fast file server methods and systems |
| US8521253B2 (en) | 2007-10-29 | 2013-08-27 | Spectrum Dynamics Llc | Prostate imaging |
| WO2009067675A1 (en) | 2007-11-23 | 2009-05-28 | Mercury Computer Systems, Inc. | Client-server visualization system with hybrid data processing |
| US10311541B2 (en) | 2007-11-23 | 2019-06-04 | PME IP Pty Ltd | Multi-user multi-GPU render server apparatus and methods |
| US8548215B2 (en) | 2007-11-23 | 2013-10-01 | Pme Ip Australia Pty Ltd | Automatic image segmentation of a volume by comparing and correlating slice histograms with an anatomic atlas of average histograms |
| WO2011065929A1 (en) | 2007-11-23 | 2011-06-03 | Mercury Computer Systems, Inc. | Multi-user multi-gpu render server apparatus and methods |
| US9904969B1 (en) | 2007-11-23 | 2018-02-27 | PME IP Pty Ltd | Multi-user multi-GPU render server apparatus and methods |
| US8411087B2 (en) | 2008-02-28 | 2013-04-02 | Microsoft Corporation | Non-linear beam tracing for computer graphics |
| US8338788B2 (en) | 2009-07-29 | 2012-12-25 | Spectrum Dynamics Llc | Method and system of optimized volumetric imaging |
| US9171396B2 (en) * | 2010-06-30 | 2015-10-27 | Primal Space Systems Inc. | System and method of procedural visibility for interactive and broadcast streaming of entertainment, advertising, and tactical 3D graphical information using a visibility event codec |
| JP2012181825A (ja) * | 2011-02-09 | 2012-09-20 | Canon Inc | 画像処理装置およびその方法 |
| US9078299B2 (en) | 2011-04-14 | 2015-07-07 | Suntracker Technologies Ltd | Predictive daylight harvesting system |
| US9324182B2 (en) | 2012-08-01 | 2016-04-26 | Microsoft Technology Licensing, Llc | Single pass radiosity from depth peels |
| US8976190B1 (en) | 2013-03-15 | 2015-03-10 | Pme Ip Australia Pty Ltd | Method and system for rule based display of sets of images |
| US11183292B2 (en) | 2013-03-15 | 2021-11-23 | PME IP Pty Ltd | Method and system for rule-based anonymized display and data export |
| US10070839B2 (en) | 2013-03-15 | 2018-09-11 | PME IP Pty Ltd | Apparatus and system for rule based visualization of digital breast tomosynthesis and other volumetric images |
| US11244495B2 (en) | 2013-03-15 | 2022-02-08 | PME IP Pty Ltd | Method and system for rule based display of sets of images using image content derived parameters |
| US10540803B2 (en) | 2013-03-15 | 2020-01-21 | PME IP Pty Ltd | Method and system for rule-based display of sets of images |
| US9509802B1 (en) | 2013-03-15 | 2016-11-29 | PME IP Pty Ltd | Method and system FPOR transferring data to improve responsiveness when sending large data sets |
| EP3057067B1 (en) * | 2015-02-16 | 2017-08-23 | Thomson Licensing | Device and method for estimating a glossy part of radiation |
| US9984478B2 (en) | 2015-07-28 | 2018-05-29 | PME IP Pty Ltd | Apparatus and method for visualizing digital breast tomosynthesis and other volumetric images |
| US11599672B2 (en) | 2015-07-31 | 2023-03-07 | PME IP Pty Ltd | Method and apparatus for anonymized display and data export |
| CA3058213C (en) | 2017-06-15 | 2021-07-27 | Suntracker Technologies Ltd. | Spectral lighting modeling and control |
| US10909679B2 (en) | 2017-09-24 | 2021-02-02 | PME IP Pty Ltd | Method and system for rule based display of sets of images using image content derived parameters |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3602702A (en) * | 1969-05-19 | 1971-08-31 | Univ Utah | Electronically generated perspective images |
| FR2466061A1 (fr) * | 1979-06-15 | 1981-03-27 | Redifon Simulation Ltd | Perfectionnement aux systemes de visualisation du type a image engendree par calculateur |
| JPS5952380A (ja) * | 1982-09-17 | 1984-03-26 | Victor Co Of Japan Ltd | 補間装置 |
| US4586038A (en) * | 1983-12-12 | 1986-04-29 | General Electric Company | True-perspective texture/shading processor |
| US4734690A (en) * | 1984-07-20 | 1988-03-29 | Tektronix, Inc. | Method and apparatus for spherical panning |
| JPH0746391B2 (ja) * | 1984-09-14 | 1995-05-17 | 株式会社日立製作所 | 図形シエ−デイング装置 |
| US4625289A (en) * | 1985-01-09 | 1986-11-25 | Evans & Sutherland Computer Corp. | Computer graphics system of general surface rendering by exhaustive sampling |
| US4855934A (en) * | 1986-10-03 | 1989-08-08 | Evans & Sutherland Computer Corporation | System for texturing computer graphics images |
-
1986
- 1986-07-02 US US06/881,067 patent/US4928250A/en not_active Expired - Lifetime
-
1987
- 1987-07-01 JP JP62165088A patent/JP3095751B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1987-07-02 EP EP87305873A patent/EP0251800B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1987-07-02 DE DE3751981T patent/DE3751981T2/de not_active Expired - Lifetime
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| Ｃｏｈｅｎ，Ｍ．Ｆ．＆ Ｇｒｅｅｎｂｕｒｇ，Ｄ．Ｐ．："ＴＨＥ ＨＥＭＩＣＵＢＥ：Ａ ＲＡＤＩＯＳＩＴＹ ＳＯＬＵＴＩＯＮ ＦＯＲ ＣＯＭＰＬＥＸ ＥＮＶＩＲＯＮＭＥＮＴＳ"（１９８５） |
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| US4928250A (en) | 1990-05-22 |
| EP0251800B1 (en) | 1996-12-18 |
| EP0251800A3 (en) | 1989-09-27 |
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