JP3093789U - 超薄型半導体素子のパッケージ構造 - Google Patents

超薄型半導体素子のパッケージ構造

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JP3093789U JP2002006966U JP2002006966U JP3093789U JP 3093789 U JP3093789 U JP 3093789U JP 2002006966 U JP2002006966 U JP 2002006966U JP 2002006966 U JP2002006966 U JP 2002006966U JP 3093789 U JP3093789 U JP 3093789U
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正和 許
夷華 張
桂華 劉
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台湾典範半導體股▼分▲有限公司
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 パッケージ後の厚さが0.4mm以下となる超
薄型半導体素子のパッケージ構造を提供することを目的
とする。 【解決手段】 リードフレーム10はパッド11を有す
ると共に、その外側に一定の間隔をもって複数のリード
13が設置され、パッド11とリード13との間及びリ
ード13同士の間に隙間15が形成され、パッド11の
中央に厚さを抑えるためのチップ設置孔12が形成さ
れ、このチップ設置孔12の面積はチップ20の面積よ
り20%広く、チップ20は接着剤22によってリード
フレーム10におけるチップ設置孔12に設置され、チ
ップ20における複数のI/O接点はワイヤ21によって
リードフレーム10におけるリード13と接続され、封
止体30はエポキシ樹脂であるとともに、チップ20を
有するリードフレーム10側に設置されることにより、
チップ20とワイヤ21とをパッケージし、又、この封
止体30はパッド11とリード13との間及びリード1
3同士の間の隙間15に充填され、リード13の一側は
電気を出力するために外側へ延出する構成とした。

Description

【考案の詳細な説明】
【0001】
【考案の属する技術分野】
本考案は、特にパッケージ後の厚さが0.4mm以下となる超薄型半導体素子の パッケージ構造に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
より小さく、且つ薄くするために、半導体素子のパッケージ技術には片側パッ ケージという方式があり、この薄型半導体素子のパッケージ構造はリードフレー ム(Lead Frame)を有し、リードフレームにパッド(Chip Pad)を設置すると 共に、外側に一定の間隔をもって複数のリードを設置し、接着剤によってチップ (Chip)をパッドに接着し、そのチップにおけるI/O接点と対応するリードフレ ームにおけるリードとの間をワイヤによって接続して、更に、チップを有するリ ードフレーム側を封止体によってパッケージするものである。
【0003】 又、上記薄型半導体素子の片側をパッケージする封止体がリードフレームの裏 面に浸入することを防止するために、パッケージを行う前に、このリードフレー ムの裏面にポリイミド(Polyimide;PI)テープを粘着させてから、チップの接 着、ワイヤの設置、パッケージなどの工程を行い、その後、このポリイミドテー プを取り除くとともに、リードフレームの裏面に保護層のメッキ、裁断、成型の 工程を行って半導体素子のパッケージを完成させる。
【0004】
【考案が解決しようとする課題】
しかしながら、前記従来の技術では片側をパッケージすることにより、薄肉の 半導体素子のパッケージ構造を提供するが、この方式では厚さが0.4mm以下の 超薄型半導体素子のパッケージ構造を製造することができない。
【0005】 又、図5に示すように、従来の半導体のチップ40はリードフレーム41に接 着される前に、0.10〜0.15mmまで研磨されるので、チップ40及びリード フレーム41の厚さが0.20〜0.30mmとなり、更に、チップ40をリードフ レーム41に接着するための接着剤43の厚さを加えると、ワイヤ44と封止体 42の設置空間が極めて少なくなる。しかし、ワイヤ44の設置高度は一定な高 さの制限があり、かつ封止体42がワイヤ44とチップ40をパッケージするよ うになっているため、半導体の整体厚さを0.4mm以下の厚さにするという要求 に応えることができない。
【0006】 そこで、案出されたのが本考案であって、パッケージ後の厚さを0.4mm以下 とした超薄型半導体素子のパッケージ構造を提供することを目的としている。
【0007】
【課題を解決するための手段】
本願の請求項1の考案は、リードフレーム10と、チップ20と、封止体30 と、ワイヤ21とを有する超薄型半導体素子のパッケージ構造であって、前記リ ードフレーム10はパッド11を有すると共に、その外側に一定の間隔をもって 複数のリード13が設置され、パッド11とリード13との間及びリード13同 士の間に隙間15が形成され、パッド11の中央に厚さを抑えるためのチップ設 置孔12が形成され、このチップ設置孔12の面積はチップ20の面積より20 %広く、チップ20は接着剤22によってリードフレーム10におけるチップ設 置孔12に設置され、チップ20における複数のI/O接点はワイヤ21によって リードフレーム10におけるリード13と接続され、封止体30はエポキシ樹脂 であるとともに、チップ20を有するリードフレーム10側に設置されることに より、チップ20とワイヤ21をパッケージし、又、この封止体30はパッド1 1とリード13との間及びリード13同士の間の隙間15に充填され、リード1 3の一側は電気を出力するために外側へ延出することを特徴とする。 また、本願の請求項2の考案は、請求項1に記載の超薄型半導体素子のパッケ ージ構造において、チップ設置孔12の面積はパッド11と等しく、チップ設置 孔12の周囲には壁がない状態であり、リードフレーム10の底面に隙間15と 連通するエッチング孔14が形成されると共に、そのエッチング孔14に封止体 30が充填されることを特徴とする。 本願の請求項3の考案は、請求項1に記載の超薄型半導体素子のパッケージ構 造において、チップ設置孔12の面積はパッド11より小さく、チップ設置孔1 2の周囲には壁が形成され、リードフレーム10の底面に隙間15と連通するエ ッチング孔14が形成されると共に、エッチング孔14に封止体30が充填され ることを特徴とする。
【0008】
【作用】
本考案は上記の課題を解決するものであり、チップをチップ設置孔を有するパ ッドに設置して、全体を薄肉にすることより、厚さが0.4mm以下の半導体素子 のパッケージ構造を得ることができる。
【0009】 以下、添付図面を参照して本考案の好適な実施の形態を詳細に説明する。又、 下記実施例は、単に本考案の好適な実施の形態を示したものにすぎず、本考案の 技術的範囲は、下記実施例そのものに何ら限定されるものではない。
【0010】 図1は本考案に係わる超薄型半導体素子のパッケージ構造の一実施形態を示し 、リードが外部へ延出しない状態を示す断面図であり、図2は本考案に係わる超 薄型半導体素子のパッケージ構造のリードが外部へ延出する状態を示す断面図で あり、図3は本考案に係わる超薄型半導体素子のパッケージ構造におけるリード フレームの平面図であり、図4は本考案に係わる超薄型半導体素子のパッケージ 構造におけるリードフレームの一部裏面図である。
【0011】
【考案の実施の形態】
図1に示すように、本考案の超薄型半導体素子のパッケージ構造はリードフレ ーム10と、チップ20と、封止体30と、ワイヤ21とを有する。
【0012】 リードフレーム10はパッド11を有すると共に、その外側に一定の間隔をも って複数のリード13が設置され、パッド11とリード13との間及びリード1 3同士の間に隙間15が形成され、パッド11の中央に厚さを抑えるためのチッ プ設置孔12が形成されている。
【0013】 チップ20は接着剤22によってリードフレーム10におけるチップ設置孔1 2に設置され、チップ20における複数のI/O接点はワイヤ21によってリード フレーム10におけるリード13と接続される。
【0014】 封止体30はエポキシ樹脂であり、注入、点接着、塗布或いは印刷手段によっ てチップ20を有するリードフレーム10側に設置されることにより、チップ2 0とワイヤ21をパッケージし、この封止体30はパッド11とリード13との 間及びリード13同士の間の隙間15に充填され、リード13の一側は電気を出 力するために外側へ延出している。
【0015】 又、前記リードフレーム10のパッド11におけるチップ設置孔12の面積は チップ20の面積より20%広い方がよりよく、図1又は図3に示すように、チ ップ設置孔12の面積がパッド11と等しい場合は、チップ設置孔12の周囲に 壁がない状態であり、又、チップ設置孔12の面積がパッド11より小さい場合 は(図面なし)、チップ設置孔12の周囲に壁が形成され、チップ20を接着す るための接着剤22の外部へ溢出を防止できる。更に、チップ設置孔12の表面 に銀、金、ニッケル、パラジウム或いはニッケル−パラジウム合金のメッキ層を 設置することにより、パッド11とアース用ワイヤ(図面なし)との連接用部材 を提供し、或いはチップ設置孔12の表面にメッキ層を設置しないまま、壁の表 面に銀、金、ニッケル、パラジウム或いはニッケル−パラジウム合金のメッキ層 を設置することにより、パッド11とアース用ワイヤ(図面なし)との連接用部 材を提供する。
【0016】 図1に示すように、前記リードフレーム10の底面に隙間15と連通するエッ チング孔14が形成され、そのエッチング孔14に封止体30が充填されること により、封止体30とリードフレーム10との結合効果を高める。 リードフレーム10は単列のデザイン、又は、図3に示すように、マトリック ス状のよう配列にすることにより量産性を向上することができる。前記エッチン グ孔14がリードフレーム10におけるリード13の内側又は裁断部16の位置 に設置されること(図4の斜線範囲に示す)により、製品を裁断する際の裁断抵 抗が下がって、裁断スピードが向上すると共に、裁断器具の損耗も減少する。
【0017】 前記リードフレーム10はその四辺にリード13を設置する形態或いは二つの 相対する辺にリード13を設置する形態とすることができる。
【0018】
【考案の効果】
本考案は上記の構成を有するので、チップを、チップ設置孔を有するパッドに 設置して、全体を薄肉にすることにより、厚さが0.4mm以下の半導体素子のパ ッケージ構造を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本考案に係わる超薄型半導体素子のパッケージ
構造の一実施形態を示し、リードが外部へ延出しない状
態を示す断面図である。
【図2】本考案に係わる超薄型半導体素子のパッケージ
構造のリードが外部へ延出する状態を示す断面図であ
る。
【図3】本考案に係わる超薄型半導体素子のパッケージ
構造におけるリードフレームの平面図である。
【図4】本考案に係わる超薄型半導体素子のパッケージ
構造におけるリードフレームの一部裏面図である。
【図5】従来の超薄型半導体素子のパッケージ構造を示
す参考図である。
【符号の説明】
10 リードフレーム 11 パッド 12 チップ設置孔 13 リード 14 エッチング孔 15 隙間 16 裁断部 20 チップ 21 ワイヤ 22 接着剤 30 封止体 40 チップ 42 封止体 43 接着剤 44 ワイヤ

Claims (3)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 【請求項1】 リードフレーム10と、チップ20と、
    封止体30と、ワイヤ21とを有する超薄型半導体素子
    のパッケージ構造であって、 前記リードフレーム10はパッド11を有すると共に、
    その外側に一定の間隔をもって複数のリード13が設置
    され、パッド11とリード13との間及びリード13同
    士の間に隙間15が形成され、パッド11の中央に厚さ
    を抑えるためのチップ設置孔12が形成され、このチッ
    プ設置孔12の面積はチップ20の面積より20%広
    く、 前記チップ20は接着剤22によってリードフレーム1
    0におけるチップ設置孔12に設置され、チップ20に
    おける複数のI/O接点はワイヤ21によってリードフレ
    ーム10におけるリード13と接続され、 封止体30はエポキシ樹脂であるとともに、チップ20
    を有するリードフレーム10側に設置されることによ
    り、チップ20とワイヤ21をパッケージし、又、この
    封止体30はパッド11とリード13との間及びリード
    13同士の間の隙間15に充填され、リード13の一側
    は電気を出力するために外側へ延出することを特徴とす
    る超薄型半導体素子のパッケージ構造。
  2. 【請求項2】 チップ設置孔12の面積はパッド11と
    等しく、チップ設置孔12の周囲には壁がない状態であ
    り、リードフレーム10の底面に隙間15と連通するエ
    ッチング孔14が形成されると共に、そのエッチング孔
    14に封止体30が充填されることを特徴とする請求項
    1に記載の超薄型半導体素子のパッケージ構造。
  3. 【請求項3】 チップ設置孔12の面積はパッド11よ
    り小さく、チップ設置孔12の周囲には壁が形成され、
    リードフレーム10の底面に隙間15と連通するエッチ
    ング孔14が形成されると共に、エッチング孔14に封
    止体30が充填されることを特徴とする請求項1に記載
    の超薄型半導体素子のパッケージ構造。
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