JP3088604B2 - 高周波誘導熱プラズマ装置 - Google Patents
高周波誘導熱プラズマ装置Info
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- JP3088604B2 JP3088604B2 JP06042260A JP4226094A JP3088604B2 JP 3088604 B2 JP3088604 B2 JP 3088604B2 JP 06042260 A JP06042260 A JP 06042260A JP 4226094 A JP4226094 A JP 4226094A JP 3088604 B2 JP3088604 B2 JP 3088604B2
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、管内に適宜な圧力のガ
スを供給し、管の外側に配置した誘導コイルに高周波を
供給することにより管内にプラズマを発生させるように
した高周波誘導熱プラズマ装置に関する。
スを供給し、管の外側に配置した誘導コイルに高周波を
供給することにより管内にプラズマを発生させるように
した高周波誘導熱プラズマ装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】図１は、高周波誘導プラズマを用いた成
膜装置に使用されるプラズマトーチを示しており、高周
波誘導プラズマトーチ１は、外管に石英および内管に窒
化珪素などの絶縁性物質で形成された円筒状の水冷の二
重管２、ガスリング３および二重管２の周囲に巻回され
た誘導コイル４などより構成されている。誘導コイル４
には、絶縁のためにテフロンチューブが被覆されてい
る。
膜装置に使用されるプラズマトーチを示しており、高周
波誘導プラズマトーチ１は、外管に石英および内管に窒
化珪素などの絶縁性物質で形成された円筒状の水冷の二
重管２、ガスリング３および二重管２の周囲に巻回され
た誘導コイル４などより構成されている。誘導コイル４
には、絶縁のためにテフロンチューブが被覆されてい
る。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】このような高周波誘導
熱プラズマトーチでは、ガスリング３先端が高温のプラ
ズマに接するため、先端部が溶融しないように、ガスリ
ング３などへ加熱させた冷却媒体の循環路を設ける必要
がある。図１において、３０はガスリング３の先端部に
設けられたキャップであり、キャップ３０は耐腐食性及
び電気絶縁性で熱の良伝導体材料、例えば窒化珪素（Ｓ
ｉ3Ｎ4）などで形成されている。またキャップ３０は薄
肉構造となっており、その内側の一部Ｓにはネジが切ら
れており、ガスリングのベース部材３１に対してネジ止
めされている。キャップ３０とベース部材３１との間は
冷却媒体の通路３２となり、通路３２には入口通路３３
から冷却媒体が供給され、出口通路３４から媒体が排出
される構造となっている。なお、Ｏはオーリングシール
である。このような構成の動作を次に説明する。
熱プラズマトーチでは、ガスリング３先端が高温のプラ
ズマに接するため、先端部が溶融しないように、ガスリ
ング３などへ加熱させた冷却媒体の循環路を設ける必要
がある。図１において、３０はガスリング３の先端部に
設けられたキャップであり、キャップ３０は耐腐食性及
び電気絶縁性で熱の良伝導体材料、例えば窒化珪素（Ｓ
ｉ3Ｎ4）などで形成されている。またキャップ３０は薄
肉構造となっており、その内側の一部Ｓにはネジが切ら
れており、ガスリングのベース部材３１に対してネジ止
めされている。キャップ３０とベース部材３１との間は
冷却媒体の通路３２となり、通路３２には入口通路３３
から冷却媒体が供給され、出口通路３４から媒体が排出
される構造となっている。なお、Ｏはオーリングシール
である。このような構成の動作を次に説明する。
【０００４】ガスリング３の組み立ては、ベース部材３
１に対してキャップ３０を捩じ込むことによって行われ
る。その後、入口通路３３，通路３２，出口通路３４に
冷却媒体を流すと共に、図１では図示していないが、ベ
ース部材３１に設けられた孔を介してリング状の通路Ｂ
にプラズマガスを流し、誘導コイル４に高周波電力を供
給し、図示してない点火機構を用いて点火すれば、二重
管２内に高周波誘導プラズマを形成することができる。
１に対してキャップ３０を捩じ込むことによって行われ
る。その後、入口通路３３，通路３２，出口通路３４に
冷却媒体を流すと共に、図１では図示していないが、ベ
ース部材３１に設けられた孔を介してリング状の通路Ｂ
にプラズマガスを流し、誘導コイル４に高周波電力を供
給し、図示してない点火機構を用いて点火すれば、二重
管２内に高周波誘導プラズマを形成することができる。
【０００５】さらに、通路Ｂを介して二重管２内に成膜
材料（気体）を供給すれば、成膜材料をプラズマ化する
ことができる。この結果、キャップ３０部分は高温のプ
ラズマに晒されることになる。しかしながら、キャップ
３０は冷却媒体によって冷却されるため、長期間使用し
ても溶融されることはない。なお、入口通路３３から通
路３２に供給される冷却媒体として、１８０℃程度の温
度の熱媒体油が使用される。この熱媒体油はプラズマに
対してはキャップ３０を冷却する効果があり、ベース部
材３１中の孔を介して通路Ｂから二重管２内に供給され
る成膜材料に対しては凝縮を防ぐための加熱の役割を有
している。
材料（気体）を供給すれば、成膜材料をプラズマ化する
ことができる。この結果、キャップ３０部分は高温のプ
ラズマに晒されることになる。しかしながら、キャップ
３０は冷却媒体によって冷却されるため、長期間使用し
ても溶融されることはない。なお、入口通路３３から通
路３２に供給される冷却媒体として、１８０℃程度の温
度の熱媒体油が使用される。この熱媒体油はプラズマに
対してはキャップ３０を冷却する効果があり、ベース部
材３１中の孔を介して通路Ｂから二重管２内に供給され
る成膜材料に対しては凝縮を防ぐための加熱の役割を有
している。
【０００６】上記した構造の問題点は、油を循環媒体と
していることである。もし、ガスリング先端のキャップ
３０部分が高温のプラズマにより破損した場合、二重管
２や排出管および容器が全て油まみれになり、その後は
使用できなくなってしまう。冷却媒体として、高圧水
（１００°Ｃ以上に加熱した水）を用いることも考えら
れるが、その場合には設備が複雑となるほか、高圧水の
配管が破裂する危険を考慮しなければならないなど他の
問題が生じる。
していることである。もし、ガスリング先端のキャップ
３０部分が高温のプラズマにより破損した場合、二重管
２や排出管および容器が全て油まみれになり、その後は
使用できなくなってしまう。冷却媒体として、高圧水
（１００°Ｃ以上に加熱した水）を用いることも考えら
れるが、その場合には設備が複雑となるほか、高圧水の
配管が破裂する危険を考慮しなければならないなど他の
問題が生じる。
【０００７】本発明は、このような点に鑑みてなされた
もので、その目的は、冷却媒体として油を用いず冷却水
によって安全にガスリング先端部の冷却を行うことがで
きる高周波誘導熱プラズマ装置を実現するにある。
もので、その目的は、冷却媒体として油を用いず冷却水
によって安全にガスリング先端部の冷却を行うことがで
きる高周波誘導熱プラズマ装置を実現するにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明に基づく高周波誘
導熱プラズマ装置は、絶縁性物質で形成された管と、管
の一端に設けられ、プラズマガスを管内に供給するため
のガスリングと、管の外側に配置された高周波誘導コイ
ルとを備え、管内でプラズマを発生させるようにした高
周波誘導熱プラズマ装置において、ガスリングの先端部
分の内部に冷却水を供給するように構成すると共に、ガ
スリングのプラズマガス供給路に沿って加熱手段を配設
したことを特徴としている。
導熱プラズマ装置は、絶縁性物質で形成された管と、管
の一端に設けられ、プラズマガスを管内に供給するため
のガスリングと、管の外側に配置された高周波誘導コイ
ルとを備え、管内でプラズマを発生させるようにした高
周波誘導熱プラズマ装置において、ガスリングの先端部
分の内部に冷却水を供給するように構成すると共に、ガ
スリングのプラズマガス供給路に沿って加熱手段を配設
したことを特徴としている。
【０００９】
【作用】本発明に基づく高周波誘導熱プラズマ装置は、
プラズマガスを供給するためのガスリングの冷却を通常
の冷却水で行い、更に、プラズマガスの供給路に沿って
加熱手段を配設し、プラズマガスが冷却され凝縮される
ことを防ぐ。
プラズマガスを供給するためのガスリングの冷却を通常
の冷却水で行い、更に、プラズマガスの供給路に沿って
加熱手段を配設し、プラズマガスが冷却され凝縮される
ことを防ぐ。
【００１０】
【実施例】以下、図面を参照して本発明の実施例を詳細
に説明する。図２は、本発明に基づく高周波誘導熱プラ
ズマ装置を示しており、図１に示した従来の装置と同一
ないしは類似要素には同一番号が付されている。この図
２において、絶縁性支持棒５０には入口通路５１と出口
通路５２とを形成するフランジ５３，５４が取り付けら
れ、また、フランジ５３，５４の間に二重管２が配置さ
れている。入口通路５１からの冷却水は、二重管２内部
を通り、出口通路５２から排出される。二重管２の外側
には誘導コイル４が設けられている。
に説明する。図２は、本発明に基づく高周波誘導熱プラ
ズマ装置を示しており、図１に示した従来の装置と同一
ないしは類似要素には同一番号が付されている。この図
２において、絶縁性支持棒５０には入口通路５１と出口
通路５２とを形成するフランジ５３，５４が取り付けら
れ、また、フランジ５３，５４の間に二重管２が配置さ
れている。入口通路５１からの冷却水は、二重管２内部
を通り、出口通路５２から排出される。二重管２の外側
には誘導コイル４が設けられている。
【００１１】二重管２の上部にはガスリング３が設けら
れているが、このガスリング３は基本的には図１の構成
と同一である。すなわち、３０はガスリング３の先端部
に設けられたキャップであり、キャップ３０は耐腐食性
及び電気絶縁性で熱の良伝導体材料、例えば、ジルコニ
ウム、ジルコニア、窒化珪素などで形成されている。ま
たキャップ３０は薄肉構造となっており、その内側の一
部Ｓにはネジが切られており、ガスリングのベース部材
３１に対してネジ止めされている。キャップ３０とベー
ス部材３１との間は冷却媒体の通路３２となり、通路３
２には入口通路３３から冷却媒体とに通常の冷却水が供
給され、出口通路３４から冷却水が排出される構造とな
っている。なお、Ｏはオーリングシールである。
れているが、このガスリング３は基本的には図１の構成
と同一である。すなわち、３０はガスリング３の先端部
に設けられたキャップであり、キャップ３０は耐腐食性
及び電気絶縁性で熱の良伝導体材料、例えば、ジルコニ
ウム、ジルコニア、窒化珪素などで形成されている。ま
たキャップ３０は薄肉構造となっており、その内側の一
部Ｓにはネジが切られており、ガスリングのベース部材
３１に対してネジ止めされている。キャップ３０とベー
ス部材３１との間は冷却媒体の通路３２となり、通路３
２には入口通路３３から冷却媒体とに通常の冷却水が供
給され、出口通路３４から冷却水が排出される構造とな
っている。なお、Ｏはオーリングシールである。
【００１２】ベース部材３１の側面には、ベース部材３
１に熱が奪われないようにセラミックスなどの保温材５
５を介してパイプ状のヒーターが取り付けられている。
フランジ５４上には、フランジ５７と５８とが設けら
れ、フランジ５７には、プラズマガスの供給路５９と、
供給路５９と連通したリング状の溝６０とが内部に形成
されている。
１に熱が奪われないようにセラミックスなどの保温材５
５を介してパイプ状のヒーターが取り付けられている。
フランジ５４上には、フランジ５７と５８とが設けら
れ、フランジ５７には、プラズマガスの供給路５９と、
供給路５９と連通したリング状の溝６０とが内部に形成
されている。
【００１３】また、フランジ５８には、プラズマガスの
供給路６１と、供給路６１と連通したリング状の溝６２
とが内部に形成されている。溝６０と６２の内側には、
プレート６３が貼り付けられており、このプレート６３
にはプラズマガスを通路Ｂに噴き出させるための複数の
微小孔６４が穿たれている。フランジ５７と５８との境
界部には、円盤状のヒーター６５が設けられている。な
お、フランジ５７とフランジ５４との間、および、フラ
ンジ５８とガスリング３との間には、テフロンなどの熱
伝導の悪い材料で形成された保温用のフランジ６６，６
７が配設されている。
供給路６１と、供給路６１と連通したリング状の溝６２
とが内部に形成されている。溝６０と６２の内側には、
プレート６３が貼り付けられており、このプレート６３
にはプラズマガスを通路Ｂに噴き出させるための複数の
微小孔６４が穿たれている。フランジ５７と５８との境
界部には、円盤状のヒーター６５が設けられている。な
お、フランジ５７とフランジ５４との間、および、フラ
ンジ５８とガスリング３との間には、テフロンなどの熱
伝導の悪い材料で形成された保温用のフランジ６６，６
７が配設されている。
【００１４】前記パイプ状のヒーター５６は、真空導入
端子６８を介して図示していない加熱電源に接続され、
また、円盤状ヒーター６５は、真空導入端子６９を介し
て図示していない加熱電源に接続されている。また、真
空導入端子６８，６９の装着部分は、セラミックスなど
で固められており、水蒸気等による電気ショートを防ぐ
ように構成されている。また、各ヒーターの表面には、
セラミックスやフロン等の電気絶縁コーティングが全面
にわたり施されている。このような構成の動作を次に説
明する。
端子６８を介して図示していない加熱電源に接続され、
また、円盤状ヒーター６５は、真空導入端子６９を介し
て図示していない加熱電源に接続されている。また、真
空導入端子６８，６９の装着部分は、セラミックスなど
で固められており、水蒸気等による電気ショートを防ぐ
ように構成されている。また、各ヒーターの表面には、
セラミックスやフロン等の電気絶縁コーティングが全面
にわたり施されている。このような構成の動作を次に説
明する。
【００１５】管２内におけるプラズマの着火は、図１に
示した従来構成と同様に、最初ガスリング３のプラズマ
ガス供給路５９と６１にアルゴンガスのみを供給して行
う。その後、成膜材料のガスが供給路５９と６１からそ
れぞれ溝６０，６２に入り、更に、溝内部からプレート
６３に穿たれた微小孔６４を通って通路Ｂ内に噴き出さ
れ、プラズマＰ中に導入される。
示した従来構成と同様に、最初ガスリング３のプラズマ
ガス供給路５９と６１にアルゴンガスのみを供給して行
う。その後、成膜材料のガスが供給路５９と６１からそ
れぞれ溝６０，６２に入り、更に、溝内部からプレート
６３に穿たれた微小孔６４を通って通路Ｂ内に噴き出さ
れ、プラズマＰ中に導入される。
【００１６】ここで、ガスリング３の先端部のキャップ
３０部分は高温のプラズマに晒されることになる。しか
しながら、入口通路３３から通路３２に通常の冷却水が
供給されており、キャップ３０は冷却水によって冷却さ
れるため、長期間使用しても溶融されることはない。一
方、冷却水の供給により、キャップ３０部分の冷却が効
率良く行われることは好ましいが、冷却水によって混合
ガスの供給路５９，６１や通路Ｂの側面も冷却されるこ
とになる。
３０部分は高温のプラズマに晒されることになる。しか
しながら、入口通路３３から通路３２に通常の冷却水が
供給されており、キャップ３０は冷却水によって冷却さ
れるため、長期間使用しても溶融されることはない。一
方、冷却水の供給により、キャップ３０部分の冷却が効
率良く行われることは好ましいが、冷却水によって混合
ガスの供給路５９，６１や通路Ｂの側面も冷却されるこ
とになる。
【００１７】この供給路５９，６１や通路Ｂが冷却され
ると、供給される成膜材料ガスが冷やされ、凝縮する。
凝縮した液滴がプラズマＰ中に導入されると、プラズマ
の状態を不安定とし、極端な場合にはプラズマが消えて
しまうこともある。そのため、本実施例では、プラズマ
ガス供給路５９，６１を形成するフランジ５７，５８を
円盤状ヒーター６５によって加熱するように構成してい
る。また、通路Ｂの側面にはパイプ状ヒーター５６が設
けられており、このヒーターにも外部の加熱電源から加
熱電流を供給して加熱するようにしている。その結果、
プラズマガス供給路５９，６１を通り、更に通路Ｂを通
る成膜材料のガスは、ヒーター６５，５６により適宜加
熱されるため、凝縮することなく管２内に形成されてい
るプラズマＰ中に導入される。従って、プラズマを長時
間安定に維持することができる。
ると、供給される成膜材料ガスが冷やされ、凝縮する。
凝縮した液滴がプラズマＰ中に導入されると、プラズマ
の状態を不安定とし、極端な場合にはプラズマが消えて
しまうこともある。そのため、本実施例では、プラズマ
ガス供給路５９，６１を形成するフランジ５７，５８を
円盤状ヒーター６５によって加熱するように構成してい
る。また、通路Ｂの側面にはパイプ状ヒーター５６が設
けられており、このヒーターにも外部の加熱電源から加
熱電流を供給して加熱するようにしている。その結果、
プラズマガス供給路５９，６１を通り、更に通路Ｂを通
る成膜材料のガスは、ヒーター６５，５６により適宜加
熱されるため、凝縮することなく管２内に形成されてい
るプラズマＰ中に導入される。従って、プラズマを長時
間安定に維持することができる。
【００１８】上記したように、ガスリング３内に供給す
る冷却媒体として、通常の冷却水を用いたので、万一キ
ャップ３０部分が破損し、冷却媒体が管２内部などに飛
散したとしても、冷却媒体が従来の油を用いず通常の冷
却水であるため、その後の管２内部や排気管１２５およ
び容器１７や１３０の回復を容易に行うことができる。
又、高い加熱温度とするための高圧水を用いる必要がな
いため、冷却媒体の供給管などの冷却媒体通路について
高圧対策などの特別な安全対策を施す必要もない。
る冷却媒体として、通常の冷却水を用いたので、万一キ
ャップ３０部分が破損し、冷却媒体が管２内部などに飛
散したとしても、冷却媒体が従来の油を用いず通常の冷
却水であるため、その後の管２内部や排気管１２５およ
び容器１７や１３０の回復を容易に行うことができる。
又、高い加熱温度とするための高圧水を用いる必要がな
いため、冷却媒体の供給管などの冷却媒体通路について
高圧対策などの特別な安全対策を施す必要もない。
【００１９】図３は本発明の他の実施例を示している
が、この実施例で図２の実施例と同一ないしは類似の構
成要素には同一番号を付しその詳細な説明は省略する。
この実施例で、ガスリングの構造が図２に示した実施例
と異なっている。図３において、ガスリング８０はベー
ス部材８１の中心に可動の水冷プローブ（三重管構造）
８２を設け、更に、プローブ８２の中心に加熱ヒーター
８３を取り付けている。又、水冷プローブ８２にヒータ
ーパイプ８３の熱が奪われないように、プローブ８２の
内壁とヒーターパイプ８３との間に熱伝導の悪いセラミ
ックスパイプ８４を入れている。ヒーターパイプ８３は
真空導入端子８５を介して加熱電源８６に繋がってい
る。なお、プローブ８２は入口通路８７を介して冷却水
が供給され、出口通路８８からその冷却水が排出され
る。
が、この実施例で図２の実施例と同一ないしは類似の構
成要素には同一番号を付しその詳細な説明は省略する。
この実施例で、ガスリングの構造が図２に示した実施例
と異なっている。図３において、ガスリング８０はベー
ス部材８１の中心に可動の水冷プローブ（三重管構造）
８２を設け、更に、プローブ８２の中心に加熱ヒーター
８３を取り付けている。又、水冷プローブ８２にヒータ
ーパイプ８３の熱が奪われないように、プローブ８２の
内壁とヒーターパイプ８３との間に熱伝導の悪いセラミ
ックスパイプ８４を入れている。ヒーターパイプ８３は
真空導入端子８５を介して加熱電源８６に繋がってい
る。なお、プローブ８２は入口通路８７を介して冷却水
が供給され、出口通路８８からその冷却水が排出され
る。
【００２０】上記した構成は、プラズマＰ中へ原料、例
えば、ＳｉＣｌ4などのＣＶＤ用ガスを供給する場合に
用いられる。一般に、物質は温度を上昇させると固体か
ら液体となり、更に気体へと変化する。この気体を更に
高温に加熱すると、プラズマ状態となることが知られて
いる。従って、原料をよりスムーズに反応させるために
は、プラズマに原料を供給する前段階として、なるべく
プラズマに近い状態、すなわち、気体状態とすることが
望ましい。又、液体よりも気体のほうがより拡散しやす
く、均一な反応が期待できることや、プラズマそのもの
を乱さないなど、より良い効果をもたらす。従って、Ｓ
ｉＣｌ4など常温で液体の原料を加熱させて気体化さ
せ、プラズマに供給することは重要なポイントとなる。
えば、ＳｉＣｌ4などのＣＶＤ用ガスを供給する場合に
用いられる。一般に、物質は温度を上昇させると固体か
ら液体となり、更に気体へと変化する。この気体を更に
高温に加熱すると、プラズマ状態となることが知られて
いる。従って、原料をよりスムーズに反応させるために
は、プラズマに原料を供給する前段階として、なるべく
プラズマに近い状態、すなわち、気体状態とすることが
望ましい。又、液体よりも気体のほうがより拡散しやす
く、均一な反応が期待できることや、プラズマそのもの
を乱さないなど、より良い効果をもたらす。従って、Ｓ
ｉＣｌ4など常温で液体の原料を加熱させて気体化さ
せ、プラズマに供給することは重要なポイントとなる。
【００２１】このような点に鑑みて、図３の構成では、
気体状態に加熱した原料Ｇをガスリング８０のプローブ
８２の中心から供給するようにしている。そしてガスリ
ング８０の水冷プローブは水冷されているものの、中心
部分には加熱ヒーターパイプ８３が設けられており、こ
の加熱ヒーターパイプ８３を加熱することにより、この
パイプ８３を通る気体状態の原料Ｇを、その状態を維持
してプラズマＰ中に導入することができる。
気体状態に加熱した原料Ｇをガスリング８０のプローブ
８２の中心から供給するようにしている。そしてガスリ
ング８０の水冷プローブは水冷されているものの、中心
部分には加熱ヒーターパイプ８３が設けられており、こ
の加熱ヒーターパイプ８３を加熱することにより、この
パイプ８３を通る気体状態の原料Ｇを、その状態を維持
してプラズマＰ中に導入することができる。
【００２２】以上本発明の実施例を説明したが、本発明
はこの実施例に限定されない。例えば、主として成膜用
のプラズマ装置について説明したが、他の用途のための
プラズマ装置にも本発明を適用することができる。
はこの実施例に限定されない。例えば、主として成膜用
のプラズマ装置について説明したが、他の用途のための
プラズマ装置にも本発明を適用することができる。
【００２３】
【発明の効果】以上説明したように、本発明に基づく高
周波誘導熱プラズマ装置は、プラズマガスを供給するた
めのガスリングの冷却を通常の冷却水で行い、更に、プ
ラズマガスの供給路に沿って加熱手段を配設するように
構成した。その結果、プラズマガス供給路を通り、プラ
ズマ中に向かうガスは、加熱手段により適宜加熱される
ため、凝縮することなくプラズマ中に導入される。従っ
て、プラズマを長時間安定に維持することができる。ま
た、ガスリング内に供給する冷却媒体として、通常の冷
却水を用いたので、万一プラズマに晒されるガスリング
先端部分が破損し、冷却媒体が管内部などに飛散したと
しても、冷却媒体が従来の油を用いず通常の冷却水であ
るため、その後の管内部の回復を容易に行うことができ
る。又、高い加熱温度とするための高圧水を用いる必要
がないため、冷却媒体の供給管などの高圧冷却媒体通路
について特別な安全対策を施す必要もない。
周波誘導熱プラズマ装置は、プラズマガスを供給するた
めのガスリングの冷却を通常の冷却水で行い、更に、プ
ラズマガスの供給路に沿って加熱手段を配設するように
構成した。その結果、プラズマガス供給路を通り、プラ
ズマ中に向かうガスは、加熱手段により適宜加熱される
ため、凝縮することなくプラズマ中に導入される。従っ
て、プラズマを長時間安定に維持することができる。ま
た、ガスリング内に供給する冷却媒体として、通常の冷
却水を用いたので、万一プラズマに晒されるガスリング
先端部分が破損し、冷却媒体が管内部などに飛散したと
しても、冷却媒体が従来の油を用いず通常の冷却水であ
るため、その後の管内部の回復を容易に行うことができ
る。又、高い加熱温度とするための高圧水を用いる必要
がないため、冷却媒体の供給管などの高圧冷却媒体通路
について特別な安全対策を施す必要もない。
【図１】従来の高周波誘導プラズマトーチを示す図であ
る。
る。
【図２】本発明に基づく高周波誘導熱プラズマ装置の一
実施例におけるガスリング部分の一部詳細を示す図であ
る。
実施例におけるガスリング部分の一部詳細を示す図であ
る。
【図３】本発明に基づく高周波誘導熱プラズマ装置の他
の実施例におけるガスリング部分の一部詳細を示す図で
ある。
の実施例におけるガスリング部分の一部詳細を示す図で
ある。
【符号の説明】 ２ 二重管 ３ ガスリング ４ 誘導コイル ３０ キャップ ３１ ベース部材 ３２ 冷却媒体通路 ３３ 入口通路 ３４ 出口通路 ５６ パイプ状ヒーター ５３，５４，５７，５８ フランジ ５５ 保温材 ５９，６１ プラズマガス供給路 ６０，６２ 溝 ６３ プレート ６４ 微小孔 ６５ 円盤状ヒーター ６８，６９ 真空導入端子
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) H05H 1/30 H05H 1/46 C23C 4/00 C23C 16/50
Claims (1)
- 【請求項１】 絶縁性物質で形成された管と、管の一端
に設けられ、プラズマガスを管内に供給するためのガス
リングと、管の外側に配置された高周波誘導コイルとを
備え、管内でプラズマを発生させるようにした高周波誘
導熱プラズマ装置において、ガスリングの先端部分の内
部に冷却水を供給するように構成すると共に、ガスリン
グのプラズマガス供給路に沿って加熱手段を配設したこ
とを特徴とする高周波誘導熱プラズマ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP06042260A JP3088604B2 (ja) | 1994-03-14 | 1994-03-14 | 高周波誘導熱プラズマ装置 |
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| JP06042260A JP3088604B2 (ja) | 1994-03-14 | 1994-03-14 | 高周波誘導熱プラズマ装置 |
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1994
- 1994-03-14 JP JP06042260A patent/JP3088604B2/ja not_active Expired - Fee Related
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