JP3088090B2 - 分光計測分析用装置 - Google Patents
分光計測分析用装置Info
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- 238000004458 analytical method Methods 0.000 title claims description 46
- 238000004611 spectroscopical analysis Methods 0.000 title claims description 20
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 46
- NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N novaluron Chemical compound C1=C(Cl)C(OC(F)(F)C(OC(F)(F)F)F)=CC=C1NC(=O)NC(=O)C1=C(F)C=CC=C1F NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 34
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 29
- 230000005670 electromagnetic radiation Effects 0.000 claims description 17
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 14
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 7
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 5
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 4
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 claims description 4
- 101100269850 Caenorhabditis elegans mask-1 gene Proteins 0.000 claims description 3
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 claims description 3
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 claims 3
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims 1
- 239000011344 liquid material Substances 0.000 claims 1
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 66
- 238000002835 absorbance Methods 0.000 description 19
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 14
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 8
- 210000004027 cell Anatomy 0.000 description 6
- 229920000995 Spectralon Polymers 0.000 description 5
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 3
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 2
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 2
- 230000033001 locomotion Effects 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 238000001055 reflectance spectroscopy Methods 0.000 description 2
- 238000004497 NIR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- QPGIGKMACFTHAH-UHFFFAOYSA-L NIR-4 dye Chemical compound [K+].[K+].[O-]S(=O)(=O)CCCCN1C2=CC=C(C(O)=O)C=C2C(C)(C)C1=CC=CC=CC1=[N+](CCCCS([O-])(=O)=O)C2=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C2C1(C)C QPGIGKMACFTHAH-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000003491 array Methods 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- POIUWJQBRNEFGX-XAMSXPGMSA-N cathelicidin Chemical compound C([C@@H](C(=O)N[C@@H](CCCNC(N)=N)C(=O)N[C@@H](CCCCN)C(=O)N[C@@H](CO)C(=O)N[C@@H](CCCCN)C(=O)N[C@@H](CCC(O)=O)C(=O)N[C@@H](CCCCN)C(=O)N[C@@H]([C@@H](C)CC)C(=O)NCC(=O)N[C@@H](CCCCN)C(=O)N[C@@H](CCC(O)=O)C(=O)N[C@@H](CC=1C=CC=CC=1)C(=O)N[C@@H](CCCCN)C(=O)N[C@@H](CCCNC(N)=N)C(=O)N[C@@H]([C@@H](C)CC)C(=O)N[C@@H](C(C)C)C(=O)N[C@@H](CCC(N)=O)C(=O)N[C@@H](CCCNC(N)=N)C(=O)N[C@@H]([C@@H](C)CC)C(=O)N[C@@H](CCCCN)C(=O)N[C@@H](CC(O)=O)C(=O)N[C@@H](CC=1C=CC=CC=1)C(=O)N[C@@H](CC(C)C)C(=O)N[C@@H](CCCNC(N)=N)C(=O)N[C@@H](CC(N)=O)C(=O)N[C@@H](CC(C)C)C(=O)N[C@@H](C(C)C)C(=O)N1[C@@H](CCC1)C(=O)N[C@@H](CCCNC(N)=N)C(=O)N[C@@H]([C@@H](C)O)C(=O)N[C@@H](CCC(O)=O)C(=O)N[C@@H](CO)C(O)=O)NC(=O)[C@H](CC=1C=CC=CC=1)NC(=O)[C@H](CC(O)=O)NC(=O)CNC(=O)[C@H](CC(C)C)NC(=O)[C@@H](N)CC(C)C)C1=CC=CC=C1 POIUWJQBRNEFGX-XAMSXPGMSA-N 0.000 description 1
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 229940079593 drug Drugs 0.000 description 1
- 239000002783 friction material Substances 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000001579 optical reflectometry Methods 0.000 description 1
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 1
- -1 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 1
- 238000004451 qualitative analysis Methods 0.000 description 1
- 238000004445 quantitative analysis Methods 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 239000012926 reference standard material Substances 0.000 description 1
- 238000006748 scratching Methods 0.000 description 1
- 230000002393 scratching effect Effects 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 description 1
- 239000011800 void material Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/47—Scattering, i.e. diffuse reflection
- G01N21/49—Scattering, i.e. diffuse reflection within a body or fluid
- G01N21/51—Scattering, i.e. diffuse reflection within a body or fluid inside a container, e.g. in an ampoule
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J3/00—Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
- G01J3/02—Details
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J3/00—Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
- G01J3/02—Details
- G01J3/0205—Optical elements not provided otherwise, e.g. optical manifolds, diffusers, windows
- G01J3/0229—Optical elements not provided otherwise, e.g. optical manifolds, diffusers, windows using masks, aperture plates, spatial light modulators or spatial filters, e.g. reflective filters
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/47—Scattering, i.e. diffuse reflection
- G01N21/4738—Diffuse reflection, e.g. also for testing fluids, fibrous materials
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- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、分光計測器の分析
に関し、材料に適用される電磁放射線（通常近赤外線）
のビームから生じる反射率測定によって通常、粉末また
は液体の形のサンプル材料を分析する装置に関する。
に関し、材料に適用される電磁放射線（通常近赤外線）
のビームから生じる反射率測定によって通常、粉末また
は液体の形のサンプル材料を分析する装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】物質及び材料の量的及び質的な分析を行
う分光計測器は、よく知られており、化学、石油、食
品、農業及び医薬品工業で広範囲に使用される。通常、
赤外線反射分光計は、Pacific Scientific社のGardner
Neotec Divisionによる“COMPSCAN（商標名）"及びNIR
システム社の“MODEL6500（商標名）”として販売され
ている。通常、公知の分光計測器は、分析する材料のサ
ンプルを保持するセルまたは容器と、セル内の材料に適
用される（前述した近赤外線の）電磁放射のビームを提
供する源と、セル内の材料からの反射に応答し、分析を
行う出力を提供するセンサ及び検出器を有する。通常、
分光計測器は、材料に適用されるビームを制御し、セン
サまたは検出器からの出力の必要な分析を提供するコン
ピュータに結合される。
う分光計測器は、よく知られており、化学、石油、食
品、農業及び医薬品工業で広範囲に使用される。通常、
赤外線反射分光計は、Pacific Scientific社のGardner
Neotec Divisionによる“COMPSCAN（商標名）"及びNIR
システム社の“MODEL6500（商標名）”として販売され
ている。通常、公知の分光計測器は、分析する材料のサ
ンプルを保持するセルまたは容器と、セル内の材料に適
用される（前述した近赤外線の）電磁放射のビームを提
供する源と、セル内の材料からの反射に応答し、分析を
行う出力を提供するセンサ及び検出器を有する。通常、
分光計測器は、材料に適用されるビームを制御し、セン
サまたは検出器からの出力の必要な分析を提供するコン
ピュータに結合される。
【０００３】反射分光計測器を使用するときの主な関心
事は、センサまたは検出器に戻るストレイ(stray)電磁
放射を最小限にすることを保証することである。理解で
きるように、ビームを適用する分光計測器の部品からの
ストレイまたは疑似反射は、サンプル材料からの意図さ
れた反射と共に分析用として提出される。比較的に大量
の材料が分光計測分析において利用可能であり、このよ
うな材料がビームが当たる比較的に大きな面積上に分配
され、サンプルセルまたは容器に収容される場合におい
て、ストレイ光反射率は、分析値の精度を評価する際に
はささいなことであると見なされる。しかしながら、分
析のために比較的に少量のサンプル材料しか利用できな
いかまたは少量のサンプルが望ましい場合、疑似または
ストレイ光即ち迷光が分析測定の精度に大きな逆効果を
与えるという問題があり、この問題は、薬品産業におい
て生じる（それは、薬品産業では、分光計測に利用でき
る非常に少量の高価な薬品において共通する問題であ
る）。本発明の目的は、前述した問題を緩和する反射率
分析用分光計測装置を提供することである。本発明の目
的は、分析する比較的に少量のサンプルのセルまたは容
器を使用し、比較的に簡単で有効で経済的な方法で従来
の反射分光計測器を変換し、その変換によって電磁ビー
ムからセンサまたは検出器にストレイまたは疑似反射が
適用される前述した問題を無くす変換キットの形の装置
を提供することである。
事は、センサまたは検出器に戻るストレイ(stray)電磁
放射を最小限にすることを保証することである。理解で
きるように、ビームを適用する分光計測器の部品からの
ストレイまたは疑似反射は、サンプル材料からの意図さ
れた反射と共に分析用として提出される。比較的に大量
の材料が分光計測分析において利用可能であり、このよ
うな材料がビームが当たる比較的に大きな面積上に分配
され、サンプルセルまたは容器に収容される場合におい
て、ストレイ光反射率は、分析値の精度を評価する際に
はささいなことであると見なされる。しかしながら、分
析のために比較的に少量のサンプル材料しか利用できな
いかまたは少量のサンプルが望ましい場合、疑似または
ストレイ光即ち迷光が分析測定の精度に大きな逆効果を
与えるという問題があり、この問題は、薬品産業におい
て生じる（それは、薬品産業では、分光計測に利用でき
る非常に少量の高価な薬品において共通する問題であ
る）。本発明の目的は、前述した問題を緩和する反射率
分析用分光計測装置を提供することである。本発明の目
的は、分析する比較的に少量のサンプルのセルまたは容
器を使用し、比較的に簡単で有効で経済的な方法で従来
の反射分光計測器を変換し、その変換によって電磁ビー
ムからセンサまたは検出器にストレイまたは疑似反射が
適用される前述した問題を無くす変換キットの形の装置
を提供することである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、材料を
収容する容器が配置されるステーションと、ビームをス
テーションに向ける開口部を有し、前記開口部が所定の
断面のビームを提供する制限部を形成する一次マスク
と、電磁放射に対してほぼ非反射性であり、一次マスク
とステーションとの間に配置される二次マスクと、を有
し、前記二次マスクは、制限されたビームをステーショ
ンに向けるポート即ち開口部を有し、前記一次マスク及
び二次マスクは、前記制限ビームが前記材料に当たるよ
うにビームがポート即ち開口部全体に適応するように配
置されており、制限されたビームが当てられた材料から
の反射電磁放射は、二次マスクのポートを通過するこの
ような反射放射から分析測定のために検出される材料に
当たる電磁放射のビームから生じる反射率測定によって
材料の分光計測分析用装置が提供される。
収容する容器が配置されるステーションと、ビームをス
テーションに向ける開口部を有し、前記開口部が所定の
断面のビームを提供する制限部を形成する一次マスク
と、電磁放射に対してほぼ非反射性であり、一次マスク
とステーションとの間に配置される二次マスクと、を有
し、前記二次マスクは、制限されたビームをステーショ
ンに向けるポート即ち開口部を有し、前記一次マスク及
び二次マスクは、前記制限ビームが前記材料に当たるよ
うにビームがポート即ち開口部全体に適応するように配
置されており、制限されたビームが当てられた材料から
の反射電磁放射は、二次マスクのポートを通過するこの
ような反射放射から分析測定のために検出される材料に
当たる電磁放射のビームから生じる反射率測定によって
材料の分光計測分析用装置が提供される。
【０００５】通常、電磁ビームは、可視光線または近赤
外線であるが、便宜上近赤外線の用語を使用する。本発
明によって、一次マスクの開口部は、所定の断面の光ビ
ームを提供し、このビーム全体または大部分を二次マス
クのポート即ち開口部に向け、光ビームは、この二次マ
スクを通って分析用の材料または物質に適用される。こ
の二次マスクは、ビームの周縁部分が不意に誤った方向
に向かい、二次マスクに当たるような場合、ストレイ光
即ち迷光が二次マスクから分光計測のセンサまたは検出
器に反射することを無くすようにビームに対してほぼ非
反射性である。二次マスクの主な目的は、比較的に小さ
い目標面積であるポートを画定することであり、そのポ
ートを通って、分析用のサンプル材料が光ビームを受け
（るかまたは照射され）、またそのポートを通って分析
の目的で検出器またはセンサに反射光を利用することが
できる。二次マスクに比較的に小さいポートを有するこ
とによって、ポートは、比較的に少量のこのような材料
しか使用できないか、またはそれが望ましい場合におい
ても、サンプル材料によって完全にカバーできる。これ
を意中において、サンプル材料の容器が配置されるステ
ーションは、二次マスクのポート全体に重なるようにサ
ンプル材料の所定の場所に容器を収容及び保持する台座
を有する。その結果、光ビーム全体が二次マスクのポー
ト即ち開口部を通り、このようなポートがサンプル材料
によって完全にカバーされることによって、反射光全体
またはそのほとんどががサンプル材料から発散されるこ
とは理解できよう。容器またはセルの台座は、保持ブロ
ックに保持されることが有利であり、二次マスクは、保
持ブロックと一次マスクとの間に配置される。保持ブロ
ックは、二次マスクと一体的に形成されている。
外線であるが、便宜上近赤外線の用語を使用する。本発
明によって、一次マスクの開口部は、所定の断面の光ビ
ームを提供し、このビーム全体または大部分を二次マス
クのポート即ち開口部に向け、光ビームは、この二次マ
スクを通って分析用の材料または物質に適用される。こ
の二次マスクは、ビームの周縁部分が不意に誤った方向
に向かい、二次マスクに当たるような場合、ストレイ光
即ち迷光が二次マスクから分光計測のセンサまたは検出
器に反射することを無くすようにビームに対してほぼ非
反射性である。二次マスクの主な目的は、比較的に小さ
い目標面積であるポートを画定することであり、そのポ
ートを通って、分析用のサンプル材料が光ビームを受け
（るかまたは照射され）、またそのポートを通って分析
の目的で検出器またはセンサに反射光を利用することが
できる。二次マスクに比較的に小さいポートを有するこ
とによって、ポートは、比較的に少量のこのような材料
しか使用できないか、またはそれが望ましい場合におい
ても、サンプル材料によって完全にカバーできる。これ
を意中において、サンプル材料の容器が配置されるステ
ーションは、二次マスクのポート全体に重なるようにサ
ンプル材料の所定の場所に容器を収容及び保持する台座
を有する。その結果、光ビーム全体が二次マスクのポー
ト即ち開口部を通り、このようなポートがサンプル材料
によって完全にカバーされることによって、反射光全体
またはそのほとんどががサンプル材料から発散されるこ
とは理解できよう。容器またはセルの台座は、保持ブロ
ックに保持されることが有利であり、二次マスクは、保
持ブロックと一次マスクとの間に配置される。保持ブロ
ックは、二次マスクと一体的に形成されている。
【０００６】一次マスク及び二次マスクは、開口部から
の光ビーム全体がポート内に向かうように、開口部及び
ポートの寸法及び形状が定められる点で合体するが、ポ
ートを照射する光ビームの断面がポートの断面に正確に
対応することは本質的なものではない。実際のところ、
通常は、一次マスクの開口部が、ビームの断面を制限
し、その結果、ビームは、ポートの面積より小さいの面
積で、ポートを照射し、開口部からの制限されたビーム
はポートのほぼ中央の二次マスクのポート内に全体が入
る。通常、二次マスクのポートは円形であり、一次マス
クの開口部は、矩形の断面の制限されたビームを提供
し、円形ポートの全体を照射する。
の光ビーム全体がポート内に向かうように、開口部及び
ポートの寸法及び形状が定められる点で合体するが、ポ
ートを照射する光ビームの断面がポートの断面に正確に
対応することは本質的なものではない。実際のところ、
通常は、一次マスクの開口部が、ビームの断面を制限
し、その結果、ビームは、ポートの面積より小さいの面
積で、ポートを照射し、開口部からの制限されたビーム
はポートのほぼ中央の二次マスクのポート内に全体が入
る。通常、二次マスクのポートは円形であり、一次マス
クの開口部は、矩形の断面の制限されたビームを提供
し、円形ポートの全体を照射する。
【０００７】従来の反射率分光計測器は、透明なシート
状のウインドウ（通常オプチカルクォーツ）を通って分
析用のサンプル材料に光ビームを送り、サンプルから反
射された光はウインドウを通ってセンサまたは検出器に
向かう。このような装置において、ウインドウを構成し
ているシートは、一次マスクと二次マスクとの間に配置
されている。
状のウインドウ（通常オプチカルクォーツ）を通って分
析用のサンプル材料に光ビームを送り、サンプルから反
射された光はウインドウを通ってセンサまたは検出器に
向かう。このような装置において、ウインドウを構成し
ているシートは、一次マスクと二次マスクとの間に配置
されている。
【０００８】また本発明の装置は、分析する材料を収容
する容器またはセルと組み合わせて提供される。容器
は、好ましくは、材料がポート即ち開口部に重なり、二
次マスクのポートの全周を越えて伸びるようにステーシ
ョンに配置されることが好ましい。その結果、二次マス
クは、ポートを通って向かう光ビームが容器の周囲部分
に直接適用されることを防止し、さもなければ、これ
は、疑似的な光反射を生じ、分光計測の値の精度に悪影
響を与える。通常、容器は、ほぼ平坦な壁部分を有し、
この壁部分は、ポートに完全に重なり、ポートの全周を
越えて伸び、制限光ビームが壁部分を通って壁部分上に
伸びるサンプル材料に向かう。この壁部分は、そのポー
トに重なるように二次マスクに接触するように配置され
ることが有利である。事実、分光計測器が前述したよう
なシート状ウインドウを含む場合、二次マスクはウイン
ドウが容器によって、例えばウインドウの表面をひっか
くことによって損傷を受けないように作用する。ステー
ションの容器の前述した台座は、二次マスクのポート上
の所定の位置に容器を保持するために容器の所定の寸法
及び形状を収容する寸法及び輪郭をしている。容器の好
ましい形は、医薬品のサンプルを収容するようなほぼ円
形の平坦な底部と、ベースから同心円的に伸びているほ
ぼ円筒形の側壁とを有する従来のガラスびんである。通
常、制限光ビーム及び反射光は平坦なベースを通ってガ
ラスびんのサンプル材料に及びそこから向かう。好まし
くは、ガラスびんは、底部が二次マスクの部分に完全に
重なることを保証するように台座かまたはステーション
に配置されるが、（円筒形側壁との接合部を有する）底
部の全周は、ポートの周囲全体の外側に配置され、側壁
との接合部以外のガラスびんの底部を通ってガラスびん
のサンプル材料を照射するために一次マスクからの制限
された光ビームを当てることを保証する。二次マスクの
ポート即ち開口部は、制限光ビームが当たるようにサン
プル材料を配置するガラスびんの側壁と底部の周囲の接
合部から離れたガラスびんの底部の所定の目標領域に制
限された光ビームを画定または隔離するように作用す
る。制限された光ビームは、ガラスびんの側壁と周縁の
接合部でガラスびんの底部を照射するように二次マスク
のポートを通って制限された光ビームが適用される場
合、スプリアス光反射及び屈折が生じ、これは、反射光
から生じる分光計測の値の精度にかなりの程度悪影響を
与える。
する容器またはセルと組み合わせて提供される。容器
は、好ましくは、材料がポート即ち開口部に重なり、二
次マスクのポートの全周を越えて伸びるようにステーシ
ョンに配置されることが好ましい。その結果、二次マス
クは、ポートを通って向かう光ビームが容器の周囲部分
に直接適用されることを防止し、さもなければ、これ
は、疑似的な光反射を生じ、分光計測の値の精度に悪影
響を与える。通常、容器は、ほぼ平坦な壁部分を有し、
この壁部分は、ポートに完全に重なり、ポートの全周を
越えて伸び、制限光ビームが壁部分を通って壁部分上に
伸びるサンプル材料に向かう。この壁部分は、そのポー
トに重なるように二次マスクに接触するように配置され
ることが有利である。事実、分光計測器が前述したよう
なシート状ウインドウを含む場合、二次マスクはウイン
ドウが容器によって、例えばウインドウの表面をひっか
くことによって損傷を受けないように作用する。ステー
ションの容器の前述した台座は、二次マスクのポート上
の所定の位置に容器を保持するために容器の所定の寸法
及び形状を収容する寸法及び輪郭をしている。容器の好
ましい形は、医薬品のサンプルを収容するようなほぼ円
形の平坦な底部と、ベースから同心円的に伸びているほ
ぼ円筒形の側壁とを有する従来のガラスびんである。通
常、制限光ビーム及び反射光は平坦なベースを通ってガ
ラスびんのサンプル材料に及びそこから向かう。好まし
くは、ガラスびんは、底部が二次マスクの部分に完全に
重なることを保証するように台座かまたはステーション
に配置されるが、（円筒形側壁との接合部を有する）底
部の全周は、ポートの周囲全体の外側に配置され、側壁
との接合部以外のガラスびんの底部を通ってガラスびん
のサンプル材料を照射するために一次マスクからの制限
された光ビームを当てることを保証する。二次マスクの
ポート即ち開口部は、制限光ビームが当たるようにサン
プル材料を配置するガラスびんの側壁と底部の周囲の接
合部から離れたガラスびんの底部の所定の目標領域に制
限された光ビームを画定または隔離するように作用す
る。制限された光ビームは、ガラスびんの側壁と周縁の
接合部でガラスびんの底部を照射するように二次マスク
のポートを通って制限された光ビームが適用される場
合、スプリアス光反射及び屈折が生じ、これは、反射光
から生じる分光計測の値の精度にかなりの程度悪影響を
与える。
【０００９】好ましくは、一次マスクの開口及び二次マ
スクのポートを通過する光ビームは、実質的に垂直方向
に向かうことが好ましい。これが好ましい理由は、分析
用のサンプル材料が粉末のとき、それは、垂直方向の光
ビームが材料に当たる容器の実質的に水平方向の壁上に
粉末を一様に分散することができるからである。しかし
ながら、本発明は、光ビームが垂直方向以外の方向に向
けられる分光計測器にも適用できることは理解できよ
う。
スクのポートを通過する光ビームは、実質的に垂直方向
に向かうことが好ましい。これが好ましい理由は、分析
用のサンプル材料が粉末のとき、それは、垂直方向の光
ビームが材料に当たる容器の実質的に水平方向の壁上に
粉末を一様に分散することができるからである。しかし
ながら、本発明は、光ビームが垂直方向以外の方向に向
けられる分光計測器にも適用できることは理解できよ
う。
【００１０】本発明の装置は、液体の形のサンプル材料
の分析に使用できる。液体サンプルにおいては、容器が
細長く、その細長い程度にわたる容器の軸線が水平方向
以外の方向になるようにステーションで前述した台座に
よって保持されることが好ましい。これは、液体サンプ
ルに存在するガスの泡が容器の上端に移動し、二次マス
クの部分を通る制限された光ビームに当たる液体サンプ
ルの部分から離れることを保証する。通常、このような
細長い容器は、ガラスびんまたは試験管の形であり、こ
れは、細長い軸線の周りで円筒形で同心円的に配置さ
れ、入射光ビームまたは反射光のガスの泡が、分光計測
の精度に悪影響を与えるので（二次マスクのポートによ
って画定された）液体サンプルの目標領域内に泡が入ら
ないことを保証するため容器の上端に液体サンプルの泡
が移動するように水平方向に対して傾斜した軸線を有す
るように傾斜した軸線を有するように台座に保持され
る。
の分析に使用できる。液体サンプルにおいては、容器が
細長く、その細長い程度にわたる容器の軸線が水平方向
以外の方向になるようにステーションで前述した台座に
よって保持されることが好ましい。これは、液体サンプ
ルに存在するガスの泡が容器の上端に移動し、二次マス
クの部分を通る制限された光ビームに当たる液体サンプ
ルの部分から離れることを保証する。通常、このような
細長い容器は、ガラスびんまたは試験管の形であり、こ
れは、細長い軸線の周りで円筒形で同心円的に配置さ
れ、入射光ビームまたは反射光のガスの泡が、分光計測
の精度に悪影響を与えるので（二次マスクのポートによ
って画定された）液体サンプルの目標領域内に泡が入ら
ないことを保証するため容器の上端に液体サンプルの泡
が移動するように水平方向に対して傾斜した軸線を有す
るように傾斜した軸線を有するように台座に保持され
る。
【００１１】装置のステーションは光ビームに対して反
射性の表面を有する。この反射性表面は、容器がそれと
二次マスクのポートとの間に配置され、それによって、
ポートからので制限ビームが、容器及びサンプル材料を
通過する場合、ポートからの制限ビームは、反射面から
二次マスクのポートに向かって反射し、センサまたは検
出器に向かう。理解できるように、このような反射面
は、所望ならば、分析用のサンプル材料のサンプルが二
次マスクのポートをカバーし、十分な深さを有するか、
それが光ビームが通過しないような不透明性を有する。
通常反射面は、前述したような傾斜した容器に収容され
た液体サンプルを分析するとき設けられ、この場合、傾
斜容器において、光ビームは、容器の円筒形壁を通って
屈折し、液体サンプルを通過し、反射面から検出器に向
かって戻るように反射することが可能である。
射性の表面を有する。この反射性表面は、容器がそれと
二次マスクのポートとの間に配置され、それによって、
ポートからので制限ビームが、容器及びサンプル材料を
通過する場合、ポートからの制限ビームは、反射面から
二次マスクのポートに向かって反射し、センサまたは検
出器に向かう。理解できるように、このような反射面
は、所望ならば、分析用のサンプル材料のサンプルが二
次マスクのポートをカバーし、十分な深さを有するか、
それが光ビームが通過しないような不透明性を有する。
通常反射面は、前述したような傾斜した容器に収容され
た液体サンプルを分析するとき設けられ、この場合、傾
斜容器において、光ビームは、容器の円筒形壁を通って
屈折し、液体サンプルを通過し、反射面から検出器に向
かって戻るように反射することが可能である。
【００１２】便利で有効な方法にて同一又は異なる異な
る材料の種々のサンプルの独立した分光計測分析を容易
にするために、本発明の装置は、サンプル材料の分光計
測のためにステーションにそれを配置するために各容器
を連続的に送り、このような測定の後にステーションか
ら各容器を除去するために容器の配列を支持する装置を
有する。望ましくは、測定が行われるステーションにま
たはそこからの容器の送り即ち供給及び除去は、コンピ
ュータの制御で自動的に行われ、このようなコンピュー
タは、必要な分光計測を行うようにプログラムされる。
容器の配列を支持、供給及び除去する装置は、円形コン
ベヤのような、無限コンベヤの形が有利であり、その間
断的な回転または変位が各容器をステーションに連続的
に送り、そのサンプル内容の分光計測用のステーション
に各容器を静止するように保持し、このような測定の後
に各容器をステーションから除去するために移動または
回転する。
る材料の種々のサンプルの独立した分光計測分析を容易
にするために、本発明の装置は、サンプル材料の分光計
測のためにステーションにそれを配置するために各容器
を連続的に送り、このような測定の後にステーションか
ら各容器を除去するために容器の配列を支持する装置を
有する。望ましくは、測定が行われるステーションにま
たはそこからの容器の送り即ち供給及び除去は、コンピ
ュータの制御で自動的に行われ、このようなコンピュー
タは、必要な分光計測を行うようにプログラムされる。
容器の配列を支持、供給及び除去する装置は、円形コン
ベヤのような、無限コンベヤの形が有利であり、その間
断的な回転または変位が各容器をステーションに連続的
に送り、そのサンプル内容の分光計測用のステーション
に各容器を静止するように保持し、このような測定の後
に各容器をステーションから除去するために移動または
回転する。
【００１３】本発明は、従来の反射分光計測器と関連す
る疑似またはストレイ光反射を無くすように開発され、
これに鑑みて、本発明の装置を提供するために便利で簡
単で比較的廉価な方法でこのような従来の分光計測器を
変形する装置を提供することを目的とする。
る疑似またはストレイ光反射を無くすように開発され、
これに鑑みて、本発明の装置を提供するために便利で簡
単で比較的廉価な方法でこのような従来の分光計測器を
変形する装置を提供することを目的とする。
【００１４】前述した目的を満たすために、開口部を有
し、前記開口部が前記ウインドウを通るビームを所定の
断面に制限するように分光計測測定に適合される一次マ
スクと、電磁放射に対してほぼ非反射性であり、ポート
即ち開口部を有する二次マスクであって、前記ウインド
ウを通過する光が前記ポート内全体に向かうように前記
マスクから離れた前記ウインドウの側で分光計測器に適
合された二次マスクと、前記ポートを通過する制限され
た光が前記容器内の材料に当たり、分析測定用のポート
及びウインドウを通って制限ビームを受ける材料からの
反射性電磁放射のためのウインドウから離れた前記二次
マスクの側に材料を収容する容器を配置する装置と、を
有する電磁放射のビームから生じる反射測定によって材
料の分析を行う分光計測器用の変換キットが提供され
る。
し、前記開口部が前記ウインドウを通るビームを所定の
断面に制限するように分光計測測定に適合される一次マ
スクと、電磁放射に対してほぼ非反射性であり、ポート
即ち開口部を有する二次マスクであって、前記ウインド
ウを通過する光が前記ポート内全体に向かうように前記
マスクから離れた前記ウインドウの側で分光計測器に適
合された二次マスクと、前記ポートを通過する制限され
た光が前記容器内の材料に当たり、分析測定用のポート
及びウインドウを通って制限ビームを受ける材料からの
反射性電磁放射のためのウインドウから離れた前記二次
マスクの側に材料を収容する容器を配置する装置と、を
有する電磁放射のビームから生じる反射測定によって材
料の分析を行う分光計測器用の変換キットが提供され
る。
【００１５】変換キットは、そのシート状ウインドウを
簡単に除去し、光源スリット上に一次マスクを固定し、
ウインドウを再び適合し、一次マスクから離れたウイン
ドウの側にウインドウに重なるように二次マスクを固定
し、（このような装置または台座が二次マスクとは一体
的には形成されないと仮定すれば）容器を二次マスクの
ポートに重なるように容器を配置する装置を二次マスク
にまたはその上に適合することによってそのシート状ウ
インドウを簡単に除去することによって一次マスクを装
置に容易に適合するように反射分光計測器の特定の製造
及びモデルが意図される。もちろん、一次マスク及び二
次マスクは、前述したように互いに合致し、反射分光計
測器の特定の製造及びモデルに適するように互いに合致
することは理解できよう。従って、各開口部及びポート
の寸法及び形状及び適合するときのマスクの位置及び空
隙は変化する。
簡単に除去し、光源スリット上に一次マスクを固定し、
ウインドウを再び適合し、一次マスクから離れたウイン
ドウの側にウインドウに重なるように二次マスクを固定
し、（このような装置または台座が二次マスクとは一体
的には形成されないと仮定すれば）容器を二次マスクの
ポートに重なるように容器を配置する装置を二次マスク
にまたはその上に適合することによってそのシート状ウ
インドウを簡単に除去することによって一次マスクを装
置に容易に適合するように反射分光計測器の特定の製造
及びモデルが意図される。もちろん、一次マスク及び二
次マスクは、前述したように互いに合致し、反射分光計
測器の特定の製造及びモデルに適するように互いに合致
することは理解できよう。従って、各開口部及びポート
の寸法及び形状及び適合するときのマスクの位置及び空
隙は変化する。
【００１６】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施例を図面を参
照して詳細に説明する。
照して詳細に説明する。
【００１７】図１に概略的に示した装置は、サンプルに
適用される近赤外線のビームからの反射率の値によって
サンプル材料を分析する分光計測ユニット１を含む。ユ
ニット１は、NIRシステム社によってMODEL6500（商標
名）の下に販売されているほぼ公知の分光計測ユニット
である。
適用される近赤外線のビームからの反射率の値によって
サンプル材料を分析する分光計測ユニット１を含む。ユ
ニット１は、NIRシステム社によってMODEL6500（商標
名）の下に販売されているほぼ公知の分光計測ユニット
である。
【００１８】このような公知の分光計測器は、モノクロ
メータ部品２を有しており、この部品は、（通常、分光
計測器の部品とは見なされない）コンピュータ３に結合
されており、モノクロメータ部品２は、コンピュータ３
から命令を受け、データを分析の目的で後方に送る。モ
ノクロメータ２の機能は、この技術分野でよく知られて
おり、スリット５を通して送られるモノクロの近赤外線
４の発生を含む。モノクロメータ２及び分光計測器の形
成部品に結合されているのは、近赤外線４がスリット５
から入る反射モジュール６である。従来のようにモジュ
ール６に含まれているのは、センサまたは検出器７であ
り、これらは近赤外線に応答し、このような光伝達信号
をモノクロメータ２に受けるとき、そのデータが分析測
定を行うためにコンピュータ３に送られる。スリット５
からの従来の分光計測光４は、モジュール６のベースプ
レート１５の平坦な光学的なクリスタルウインドウ８を
通って走査ステーション２０に配置された分光計測分析
用のサンプル材料に入る。このサンプル材料は、サンプ
ル材料から反射した光が分析を行うために検出器７によ
ってピックアップされるようにウインドウ８を通ってモ
ジュール６に再び入るようにモジュール６の外側でウイ
ンドウ８に直立するセルまたは他の容器に収容される。
メータ部品２を有しており、この部品は、（通常、分光
計測器の部品とは見なされない）コンピュータ３に結合
されており、モノクロメータ部品２は、コンピュータ３
から命令を受け、データを分析の目的で後方に送る。モ
ノクロメータ２の機能は、この技術分野でよく知られて
おり、スリット５を通して送られるモノクロの近赤外線
４の発生を含む。モノクロメータ２及び分光計測器の形
成部品に結合されているのは、近赤外線４がスリット５
から入る反射モジュール６である。従来のようにモジュ
ール６に含まれているのは、センサまたは検出器７であ
り、これらは近赤外線に応答し、このような光伝達信号
をモノクロメータ２に受けるとき、そのデータが分析測
定を行うためにコンピュータ３に送られる。スリット５
からの従来の分光計測光４は、モジュール６のベースプ
レート１５の平坦な光学的なクリスタルウインドウ８を
通って走査ステーション２０に配置された分光計測分析
用のサンプル材料に入る。このサンプル材料は、サンプ
ル材料から反射した光が分析を行うために検出器７によ
ってピックアップされるようにウインドウ８を通ってモ
ジュール６に再び入るようにモジュール６の外側でウイ
ンドウ８に直立するセルまたは他の容器に収容される。
【００１９】本発明は、一次マスク９及び二次マスク１
０を備えている限りにおいて、モジュール６に関連す
る。一次マスク９は、光スリット５に近接して適合さ
れ、矩形の開口部１１を有する。一次マスク９は、不透
明であり、近赤外線４に対して実質的に非反射性である
ことが好ましく、その光を矩形の断面のビーム４に制限
するように作用し、このビーム４は、開口部１１を通過
してそのウインドウの平面に直角なガラスウインドウ８
を通過する。二次マスク１０は、非反射性であり、近赤
外線に対して不透明であり、円形ポート即ち開口部１３
を含む。マスク１０は、ガラスウインドウ８に面と面が
接触するように取り付けられ、ガラス８を支持するベー
スプレート１５の凹部１４に着脱可能に取り付けられて
いる。二次マスク１０は、ポート１３が開口部１１から
放射されるビーム１２と直接整合するように配置され
る。さらに、開口部１１及びポート１３は、矩形断面の
ビーム１２の部分において合致し、このビーム１２は、
（図１Ａで最もよく見えるように）ポートのほぼ中央の
ポート１３全体を照射し、それに入る。この構成によっ
て、該ビーム１２からの無視できる程の光が、マスク１
０から検出器７に反射されることは理解できよう。
０を備えている限りにおいて、モジュール６に関連す
る。一次マスク９は、光スリット５に近接して適合さ
れ、矩形の開口部１１を有する。一次マスク９は、不透
明であり、近赤外線４に対して実質的に非反射性である
ことが好ましく、その光を矩形の断面のビーム４に制限
するように作用し、このビーム４は、開口部１１を通過
してそのウインドウの平面に直角なガラスウインドウ８
を通過する。二次マスク１０は、非反射性であり、近赤
外線に対して不透明であり、円形ポート即ち開口部１３
を含む。マスク１０は、ガラスウインドウ８に面と面が
接触するように取り付けられ、ガラス８を支持するベー
スプレート１５の凹部１４に着脱可能に取り付けられて
いる。二次マスク１０は、ポート１３が開口部１１から
放射されるビーム１２と直接整合するように配置され
る。さらに、開口部１１及びポート１３は、矩形断面の
ビーム１２の部分において合致し、このビーム１２は、
（図１Ａで最もよく見えるように）ポートのほぼ中央の
ポート１３全体を照射し、それに入る。この構成によっ
て、該ビーム１２からの無視できる程の光が、マスク１
０から検出器７に反射されることは理解できよう。
【００２０】図１及び図１Ａに示す装置は、少量しか利
用できない医薬サンプルの分光計測分析が主な用途であ
る。図１において、粉末形態のこのようなサンプルＰ
は、従来の医薬品用の薄い壁のガラスびん１６内に収容
され、薄い壁のガラスびん１６は、平坦な円形の底部１
７と、底部から直立し、底部と同心円的な上部が開放
し、キャップまたはストッパ１８ａによって閉鎖された
円筒形の側壁１８とを有する。ガラスびん１６は、その
円形底部１７が二次マスクのポート即ち開口部に重な
り、そのポート１３と同心円的になるようにモジュール
６の走査ステーション２０に配置される。マスク１０に
ガラスびん１６を正しく配置することを目的として、ガ
ラスびんの円筒形壁１８は、モジュールのベースプレー
ト１５に着脱可能に取り付けられている保持ブロック２
２の補完的な円筒形穴２１によって形成された台座に摺
動可能に収容されている。図１及び図１Ａから、ポート
１３の直径がガラスびんの底部１７の直径より著しく小
さく、底部１７でガラスびんの内径未満であることが分
かる。その結果、ガラスびんの底部１７がポート１３と
同心円的である場合、底部と側壁１８との間の接合部
（この接合部分は図１Ａに参照符号２３で示されてい
る）を含むガラスびんの底部の周縁がポート１３には重
ならず、従って、入射ビーム１２から離れている。従来
の医薬品のガラスびんは、２０ミリメートル以下の底部
の直径と、２ミリメートル以下の円筒形壁の厚さを有
し、通常は、ガラスびんの底部の直径は、１５ミリメー
トルであり、円筒形壁の厚さは０．５ミリメートルであ
り、ガラスびんは、４．０ｃｃｓ台の容積を有する。こ
のような通常のガラスびんにおいて、ポート１３は１２
ミリメートルの直径を有し、一次マスク９は、開口部１
１から出るビーム１２が１０ミリメートル×６ミリメー
トルの矩形断面を有する（これは図１Ａに示すようにポ
ート１３を照射する）。
用できない医薬サンプルの分光計測分析が主な用途であ
る。図１において、粉末形態のこのようなサンプルＰ
は、従来の医薬品用の薄い壁のガラスびん１６内に収容
され、薄い壁のガラスびん１６は、平坦な円形の底部１
７と、底部から直立し、底部と同心円的な上部が開放
し、キャップまたはストッパ１８ａによって閉鎖された
円筒形の側壁１８とを有する。ガラスびん１６は、その
円形底部１７が二次マスクのポート即ち開口部に重な
り、そのポート１３と同心円的になるようにモジュール
６の走査ステーション２０に配置される。マスク１０に
ガラスびん１６を正しく配置することを目的として、ガ
ラスびんの円筒形壁１８は、モジュールのベースプレー
ト１５に着脱可能に取り付けられている保持ブロック２
２の補完的な円筒形穴２１によって形成された台座に摺
動可能に収容されている。図１及び図１Ａから、ポート
１３の直径がガラスびんの底部１７の直径より著しく小
さく、底部１７でガラスびんの内径未満であることが分
かる。その結果、ガラスびんの底部１７がポート１３と
同心円的である場合、底部と側壁１８との間の接合部
（この接合部分は図１Ａに参照符号２３で示されてい
る）を含むガラスびんの底部の周縁がポート１３には重
ならず、従って、入射ビーム１２から離れている。従来
の医薬品のガラスびんは、２０ミリメートル以下の底部
の直径と、２ミリメートル以下の円筒形壁の厚さを有
し、通常は、ガラスびんの底部の直径は、１５ミリメー
トルであり、円筒形壁の厚さは０．５ミリメートルであ
り、ガラスびんは、４．０ｃｃｓ台の容積を有する。こ
のような通常のガラスびんにおいて、ポート１３は１２
ミリメートルの直径を有し、一次マスク９は、開口部１
１から出るビーム１２が１０ミリメートル×６ミリメー
トルの矩形断面を有する（これは図１Ａに示すようにポ
ート１３を照射する）。
【００２１】ステーション２０のガラスびん１６は、保
持ブロック２２に着脱可能に取り付けられた不透明なケ
ーシング２４内に包囲されている。
持ブロック２２に着脱可能に取り付けられた不透明なケ
ーシング２４内に包囲されている。
【００２２】好ましくは、ほぼ垂直方向に向かうビーム
１２によって、サンプル粉末Ｐは、ポート１３全体上に
それを越えてガラスびんの底部１７上に一様に分散され
る。その結果、ポート１３を通るビーム１２は粉末Ｐに
当たり、そこから反射した光２５は、従来の方法で分光
計測分析のために検出器７に送られる。さらに詳細に説
明すると、底部と円筒形側壁１８との間の環状接合部２
３を含むガラスびんの底部の周縁が、ビーム１２から接
合部に直接当てられる光に対して二次マスク１０によっ
て遮られることに留意しなければならない。このこと
は、分光計測計測の精度に悪影響を与えるガラスびんの
壁と底部の接合部２３から発散する疑似またはストレイ
光を緩和する。ポート１３を照射するビーム１２の断面
が二次マスクのポート１３の面積に対応せず、それ未満
（その結果、ポート１３の面積の一部が図１Ａで分かる
ようにはビーム１２によって照射されない）である場
合、この照射の欠落は、分光計測の精度に無視できない
影響を与える。これは、サンプル粉末Ｐに向かいそこか
ら反射する入射光１２が粉末によって分散され、ポート
１３の非照射部分の領域を通って検出器７に戻り、分析
測定のために有効な光を提供するという事実によるため
である。しかしながら、ビーム１２によって照射される
ポート１３の領域の形状及び相対的な比率は、マスク９
及び１０のいずれかまたは双方を変化させ、開口部１１
及び／またはポート１３の寸法／形状を変化させること
によって簡単に要求されるものと交換することができる
ことは理解できよう。
１２によって、サンプル粉末Ｐは、ポート１３全体上に
それを越えてガラスびんの底部１７上に一様に分散され
る。その結果、ポート１３を通るビーム１２は粉末Ｐに
当たり、そこから反射した光２５は、従来の方法で分光
計測分析のために検出器７に送られる。さらに詳細に説
明すると、底部と円筒形側壁１８との間の環状接合部２
３を含むガラスびんの底部の周縁が、ビーム１２から接
合部に直接当てられる光に対して二次マスク１０によっ
て遮られることに留意しなければならない。このこと
は、分光計測計測の精度に悪影響を与えるガラスびんの
壁と底部の接合部２３から発散する疑似またはストレイ
光を緩和する。ポート１３を照射するビーム１２の断面
が二次マスクのポート１３の面積に対応せず、それ未満
（その結果、ポート１３の面積の一部が図１Ａで分かる
ようにはビーム１２によって照射されない）である場
合、この照射の欠落は、分光計測の精度に無視できない
影響を与える。これは、サンプル粉末Ｐに向かいそこか
ら反射する入射光１２が粉末によって分散され、ポート
１３の非照射部分の領域を通って検出器７に戻り、分析
測定のために有効な光を提供するという事実によるため
である。しかしながら、ビーム１２によって照射される
ポート１３の領域の形状及び相対的な比率は、マスク９
及び１０のいずれかまたは双方を変化させ、開口部１１
及び／またはポート１３の寸法／形状を変化させること
によって簡単に要求されるものと交換することができる
ことは理解できよう。
【００２３】保持ブロック２２及び二次マスク１０は、
一体的に構成することができる。しかしながら、それら
は、同じ二次マスク１０に異なる保持ブロックを適用す
ることができるように分離した部品であることが好まし
い（このような異なる保持ブロックは、異なる寸法のガ
ラスびん１６を収容するために異なる直径の台座２１を
有する）。また、着脱可能な保持ブロック２２を有する
ことによって、基準標準材料（例えば、“Spectralon"
（商標名））が、分析測定を実行する前に分光計測器を
設定する際にビーム１２から近赤外線に標準のほぼ９９
％の反射面を提供する目的でポート１３上に直接適合さ
れる。
一体的に構成することができる。しかしながら、それら
は、同じ二次マスク１０に異なる保持ブロックを適用す
ることができるように分離した部品であることが好まし
い（このような異なる保持ブロックは、異なる寸法のガ
ラスびん１６を収容するために異なる直径の台座２１を
有する）。また、着脱可能な保持ブロック２２を有する
ことによって、基準標準材料（例えば、“Spectralon"
（商標名））が、分析測定を実行する前に分光計測器を
設定する際にビーム１２から近赤外線に標準のほぼ９９
％の反射面を提供する目的でポート１３上に直接適合さ
れる。
【００２４】図１から分かるように、ガラスびん１６の
底部１７は、ビーム１２がポート１３からガラスびんの
底部に直接入るように二次マスク１０と表面と表面が接
触している。さらに、（通常、一次マスク９及びブロッ
ク２２と同様の金属プレートから形成された）二次マス
ク１０は、例えば、ガラスびんの底部と接触することに
よってひっかかれてガラスウインドウ８の外面が損傷を
受けないように作用する。
底部１７は、ビーム１２がポート１３からガラスびんの
底部に直接入るように二次マスク１０と表面と表面が接
触している。さらに、（通常、一次マスク９及びブロッ
ク２２と同様の金属プレートから形成された）二次マス
ク１０は、例えば、ガラスびんの底部と接触することに
よってひっかかれてガラスウインドウ８の外面が損傷を
受けないように作用する。
【００２５】本発明を理解する当業者にとって明らかな
ように、モジュール６の、光スリット５、検出器７及び
ベースプレート１５のウインドウ８は、多数の公知の反
射分光計測において従来知られたものである。その結
果、このような公知の分光計測器の所定の形態に関し
て、本発明は、（一次マスク９，二次マスク１０，保持
ブロック２２及びカバー２４を有する）変換キットを提
供し、このキットは、特定の公知の反射モジュール６に
取付けられるように構成され、変換取付けは、研究所の
技術者によって容易に行われる。
ように、モジュール６の、光スリット５、検出器７及び
ベースプレート１５のウインドウ８は、多数の公知の反
射分光計測において従来知られたものである。その結
果、このような公知の分光計測器の所定の形態に関し
て、本発明は、（一次マスク９，二次マスク１０，保持
ブロック２２及びカバー２４を有する）変換キットを提
供し、このキットは、特定の公知の反射モジュール６に
取付けられるように構成され、変換取付けは、研究所の
技術者によって容易に行われる。
【００２６】図１に示す装置の主な目的は、分光計測分
析の間に疑似またはストレイ反射光が検出器７に当てら
れることを緩和することであり、このような装置の有利
な点は、図２に示すグラフから容易に理解することがで
きる。図２において、縦軸は特定のサンプル材料による
近赤外線の測定吸光度を示し、横軸は、サンプルによる
近赤外線の理論的な吸光度を示す。グラフは、９９％の
反射率 Spectralon 基準に対して１８００ｎｍで“Spec
tralon”（商標名）基準の範囲を使用して描かれてい
る。吸光度（Ａ）が次の公式によって測定されることは
知られている。
析の間に疑似またはストレイ反射光が検出器７に当てら
れることを緩和することであり、このような装置の有利
な点は、図２に示すグラフから容易に理解することがで
きる。図２において、縦軸は特定のサンプル材料による
近赤外線の測定吸光度を示し、横軸は、サンプルによる
近赤外線の理論的な吸光度を示す。グラフは、９９％の
反射率 Spectralon 基準に対して１８００ｎｍで“Spec
tralon”（商標名）基準の範囲を使用して描かれてい
る。吸光度（Ａ）が次の公式によって測定されることは
知られている。
【００２７】Ａ＝−ｌｏｇ｛（Ｉ＋Ｉｓ）／（Ｉｏ＋Ｉ
ｓ）｝ ここでＩは、試験中のサンプルから反射した光の強度で
あり、Ｉｏは、９９％のSpectralon基準から反射された
光の強度であり、Ｉｓはストレイ放射の強度である。サ
ンプルの反射性が減少するにつれて、Ｉｓ項の効果は次
第に重要になる。ポート１３を通って制限ビーム全体の
方向を定めることによって二次マスクに入る光の量の制
限はＩｓ項の大きさを低減する。これは、近赤外線分光
計測のリニヤダイナミックレンジを増大し、そこから得
られるスペクトルを改良し、それによって分析の品質を
改良する。図２において、グラフＡは特定のサンプルの
理論的な吸光度である。グラフＢは、図１に示すような
装置を備えたサンプルの理論的な吸光度と測定吸光度を
示したものであり、ここで、１．０吸光度単位まで、測
定吸光度がほとんどなく、もしあったとしても理論的な
吸光度とは異なることが分かる。グラフＣは、ほぼ図１
のような装置を使用してサンプルの理論的な吸光度に対
して測定吸光度を描いたものであるが、一次マスク及び
二次マスク９，１０は除去されている。ここで測定吸光
度が理論的吸光度から（使用可能な反射光に加えて検出
器によってピックアップされたストレイ反射光によっ
て）実際に吸収されたものよりもサンプルによって吸収
されたはるかに少ない光を測定によって指示する程度に
測定された吸光度が迅速に広がることが分かる。通常の
医薬サンプルにおいて、問題の吸光度の範囲は、０．２
乃至０．８吸光度単位の間であり、このグラフから分か
るように、この範囲内で、図１に示す装置のグラフＢ
は、（一次マスク及び二次マスクなしで装置から引き出
されたグラフＣと異なり）極端に正確な測定吸光度を提
供する。
ｓ）｝ ここでＩは、試験中のサンプルから反射した光の強度で
あり、Ｉｏは、９９％のSpectralon基準から反射された
光の強度であり、Ｉｓはストレイ放射の強度である。サ
ンプルの反射性が減少するにつれて、Ｉｓ項の効果は次
第に重要になる。ポート１３を通って制限ビーム全体の
方向を定めることによって二次マスクに入る光の量の制
限はＩｓ項の大きさを低減する。これは、近赤外線分光
計測のリニヤダイナミックレンジを増大し、そこから得
られるスペクトルを改良し、それによって分析の品質を
改良する。図２において、グラフＡは特定のサンプルの
理論的な吸光度である。グラフＢは、図１に示すような
装置を備えたサンプルの理論的な吸光度と測定吸光度を
示したものであり、ここで、１．０吸光度単位まで、測
定吸光度がほとんどなく、もしあったとしても理論的な
吸光度とは異なることが分かる。グラフＣは、ほぼ図１
のような装置を使用してサンプルの理論的な吸光度に対
して測定吸光度を描いたものであるが、一次マスク及び
二次マスク９，１０は除去されている。ここで測定吸光
度が理論的吸光度から（使用可能な反射光に加えて検出
器によってピックアップされたストレイ反射光によっ
て）実際に吸収されたものよりもサンプルによって吸収
されたはるかに少ない光を測定によって指示する程度に
測定された吸光度が迅速に広がることが分かる。通常の
医薬サンプルにおいて、問題の吸光度の範囲は、０．２
乃至０．８吸光度単位の間であり、このグラフから分か
るように、この範囲内で、図１に示す装置のグラフＢ
は、（一次マスク及び二次マスクなしで装置から引き出
されたグラフＣと異なり）極端に正確な測定吸光度を提
供する。
【００２８】図３に示す変形例は、長手方向の軸線４１
を有する円筒形の細長いガラスびんまたは管４０に収容
された液体の形のサンプル材料の分析に使用することを
主に意図されている。このサンプルは、キャップ４２に
よってガラスびんに密封される。保持ブロック２２は、
長手方向に間隔を置いた台座４３，４４を提供するため
に変形され、その中でガラスびん４０の長手方向の両端
は、中間部分の長さが二次マスク１０のポート１３にわ
たるようにガラスびんを保持するように受けられる。図
３において留意べきことは、ポート１３は、図１に示す
ものよりもかなり広く、図１の円形ポート１３とは異な
り、図３のポートは、ガラスびん４０の中間部分の大部
分の長さに適合するように細長い矩形であることであ
る。しかしながら、図３から分かるように、ガラスびん
４０の長手方向の両端は、これらの端部がビーム１２か
らそれに直接当たる近赤外線を有することを二次マスク
１０によって阻止されるように二次マスクに重なる（こ
のビームは、ポート１３を通ってガラスびん４０の中間
領域全体に当たるように一次マスク９によって制限され
る）。
を有する円筒形の細長いガラスびんまたは管４０に収容
された液体の形のサンプル材料の分析に使用することを
主に意図されている。このサンプルは、キャップ４２に
よってガラスびんに密封される。保持ブロック２２は、
長手方向に間隔を置いた台座４３，４４を提供するため
に変形され、その中でガラスびん４０の長手方向の両端
は、中間部分の長さが二次マスク１０のポート１３にわ
たるようにガラスびんを保持するように受けられる。図
３において留意べきことは、ポート１３は、図１に示す
ものよりもかなり広く、図１の円形ポート１３とは異な
り、図３のポートは、ガラスびん４０の中間部分の大部
分の長さに適合するように細長い矩形であることであ
る。しかしながら、図３から分かるように、ガラスびん
４０の長手方向の両端は、これらの端部がビーム１２か
らそれに直接当たる近赤外線を有することを二次マスク
１０によって阻止されるように二次マスクに重なる（こ
のビームは、ポート１３を通ってガラスびん４０の中間
領域全体に当たるように一次マスク９によって制限され
る）。
【００２９】図３から分かるように、ビーム１２が垂直
方向に向かうことによって、ガラスびんの長手方向の軸
線４１が水平方向に対して傾斜するように保持ブロック
４２の台座４３及び４４に取り付けられる。この効果
は、液体サンプルにガスの泡が存在したと仮定した場
合、（参照符号５０で指示されるような）泡がガラスび
ん４０の上端に、それによって入射ビーム１２から離れ
た位置に移動し、この技術によって、サンプル材料中の
泡が反射率測定に影響を与えることがない。図３におけ
る他の変形例は、保持ブロック２２が“Spectralon"
（商標名）５１を支持することである。これは、近赤外
線の反射においてほぼ９９％の有効性を提供する標準の
光反射面５２を有する。“Spectralon"（商標名）の表
面５２は、ガラスびんが表面５２と二次マスク１０との
間に配置されるようにガラスびん４０の裏材を提供す
る。
方向に向かうことによって、ガラスびんの長手方向の軸
線４１が水平方向に対して傾斜するように保持ブロック
４２の台座４３及び４４に取り付けられる。この効果
は、液体サンプルにガスの泡が存在したと仮定した場
合、（参照符号５０で指示されるような）泡がガラスび
ん４０の上端に、それによって入射ビーム１２から離れ
た位置に移動し、この技術によって、サンプル材料中の
泡が反射率測定に影響を与えることがない。図３におけ
る他の変形例は、保持ブロック２２が“Spectralon"
（商標名）５１を支持することである。これは、近赤外
線の反射においてほぼ９９％の有効性を提供する標準の
光反射面５２を有する。“Spectralon"（商標名）の表
面５２は、ガラスびんが表面５２と二次マスク１０との
間に配置されるようにガラスびん４０の裏材を提供す
る。
【００３０】多数の液体サンプルに関しては、入射ビー
ム１２は、ガラスびん４０及びそのサンプルを通過し、
表面５２で反射し、ガラスびんを通り、検出器７に向か
う。また、ビーム１２からの光が、表面５２に直接当た
り検出器７に向かって反射するようにビームによって照
射されたポート１３の領域よりも小さい目標領域をガラ
スびんが提出することができ、しかしながら、同じ条件
が分光測光機のすべてについて維持されると仮定すれ
ば、表面５２に直接当たり、そこから検出器７に直接戻
るように反射する場合には、サンプル分析は、悪影響を
受けない。図３に示す構成から引き出された主な利点
は、二次マスク１０が（キャップ４２を有する端部の）
ガラスびん４０の端部から発散される疑似またはストレ
イ光反射の可能性を低減すること、またもし液体サンプ
ルに空気の泡が存在する場合には、空気の泡は、入射ビ
ーム１２によって照射されたサンプルの領域から自然に
離れることである。図３の構成から引き出されたさらに
他の利点は、ガラスびん４０の円筒形壁が、分析測定値
の品質を改良するようにサンプル材料を通って光屈折す
るように作用することである。
ム１２は、ガラスびん４０及びそのサンプルを通過し、
表面５２で反射し、ガラスびんを通り、検出器７に向か
う。また、ビーム１２からの光が、表面５２に直接当た
り検出器７に向かって反射するようにビームによって照
射されたポート１３の領域よりも小さい目標領域をガラ
スびんが提出することができ、しかしながら、同じ条件
が分光測光機のすべてについて維持されると仮定すれ
ば、表面５２に直接当たり、そこから検出器７に直接戻
るように反射する場合には、サンプル分析は、悪影響を
受けない。図３に示す構成から引き出された主な利点
は、二次マスク１０が（キャップ４２を有する端部の）
ガラスびん４０の端部から発散される疑似またはストレ
イ光反射の可能性を低減すること、またもし液体サンプ
ルに空気の泡が存在する場合には、空気の泡は、入射ビ
ーム１２によって照射されたサンプルの領域から自然に
離れることである。図３の構成から引き出されたさらに
他の利点は、ガラスびん４０の円筒形壁が、分析測定値
の品質を改良するようにサンプル材料を通って光屈折す
るように作用することである。
【００３１】図４乃至図７に示す装置は、図１に示す変
形例を含み、分析用のサンプル材料を含むガラスびん１
６の配列の各々は、各サンプルの分光計測の走査ステー
ションに連続的に自動的に送られ、このような計測の後
にステーションから除去される。この変形例は、駆動ユ
ニット６３によって回転可能に結合された垂直方向の軸
線６２に中央が回転可能に取り付けられたほぼ水平方向
の円形ディスク６１を有する円形コンベヤ６０の形の無
限コンベヤである。
形例を含み、分析用のサンプル材料を含むガラスびん１
６の配列の各々は、各サンプルの分光計測の走査ステー
ションに連続的に自動的に送られ、このような計測の後
にステーションから除去される。この変形例は、駆動ユ
ニット６３によって回転可能に結合された垂直方向の軸
線６２に中央が回転可能に取り付けられたほぼ水平方向
の円形ディスク６１を有する円形コンベヤ６０の形の無
限コンベヤである。
【００３２】分析用サンプルを収容するガラスびん１６
は、（図５でより最もよく分かるように）ディスク６１
の境界周縁部分で円周方向に間隔を置いた配列になるよ
うに配置されている。各ガラスびんは、ディスク１６の
開口部に自由に摺動適合するように受けられ、ディスク
の上面とキャップ１８Ａの接触によってディスクから垂
下している。便宜上、垂下したガラスびんの全部は図４
には示されていない。駆動ユニット６３は、軸６２及び
ディスク６１を回転し、ガラスびん１６をステーション
２０に断続的に割り出し連続的にステーション２０に送
るように分光計測器１の作動と同期するようにコンピュ
ータ３によって自動的に制御される。連続したガラスび
んを受けることを目的として、ステーション２０は、図
１に示したステーションから変形され、その円形ポート
１３と同心円の二次マスク１０に環状ガラスびん台座６
４を含む。
は、（図５でより最もよく分かるように）ディスク６１
の境界周縁部分で円周方向に間隔を置いた配列になるよ
うに配置されている。各ガラスびんは、ディスク１６の
開口部に自由に摺動適合するように受けられ、ディスク
の上面とキャップ１８Ａの接触によってディスクから垂
下している。便宜上、垂下したガラスびんの全部は図４
には示されていない。駆動ユニット６３は、軸６２及び
ディスク６１を回転し、ガラスびん１６をステーション
２０に断続的に割り出し連続的にステーション２０に送
るように分光計測器１の作動と同期するようにコンピュ
ータ３によって自動的に制御される。連続したガラスび
んを受けることを目的として、ステーション２０は、図
１に示したステーションから変形され、その円形ポート
１３と同心円の二次マスク１０に環状ガラスびん台座６
４を含む。
【００３３】図６に示す構成において、台座６４はベー
スプレート１５のランプ即ち斜面６５と６６との間に配
置されている。ランプ６５及び６６は、円形通路の下に
配置されており、その円形通路に沿って、ガラスびん
は、回転する円形コンベヤによって支持され、（矢印７
０の方向に）ディスク６１の回転中にガラスびんの運動
方向に対して各々が案内され引かれる。ランプ６５及び
６６は、ポリテトラフルオロエチレンのような底摩擦材
料でコートされ、ディスク６１が回転するときに、ステ
ーション２０に接近するガラスびんの底部１７が、前方
ランプ６５に接触し、滑り、ガラスびんをディスク６１
に対して垂直方向上方に移動させ、もはやキャップ１８
Ａによってディスクから垂下されなくなるように円形コ
ンベヤ上にガラスびんと共に配置されることが好まし
い。さらに円形コンベヤが回転すると、前方ランプ６５
から台座６４にガラスびんが移動し、その位置で、ガラ
スびんは、重力で下方に移動し、開口部１３と同心円的
にガラスびんの底１７を台座６４により決定される位置
にて二次マスク１０上に直立する。この状態で円形コン
ベヤが静止することによって、分光計測器が分析測定を
行うように作動される。このような測定の後に、ディス
ク６１は、後方ランプ６６と接触するように台座６４か
らガラスびん１８を回転し割り出し、このランプ６６
は、ガラスびんを台座６４から上昇させ、ガラスびん１
８はランプ上を滑り、ステーション２０から出て、最後
にディスク６１に関して落下し、キャップ１８Ａによっ
てディスクから垂下する。コンピュータ３の制御の下で
ディスク６１の間断的な自動的な回転は、台座２１への
ガラスびんの送りが台座６４で静止しているガラスびん
に作用される分析測定と同期がとられることを保証す
る。
スプレート１５のランプ即ち斜面６５と６６との間に配
置されている。ランプ６５及び６６は、円形通路の下に
配置されており、その円形通路に沿って、ガラスびん
は、回転する円形コンベヤによって支持され、（矢印７
０の方向に）ディスク６１の回転中にガラスびんの運動
方向に対して各々が案内され引かれる。ランプ６５及び
６６は、ポリテトラフルオロエチレンのような底摩擦材
料でコートされ、ディスク６１が回転するときに、ステ
ーション２０に接近するガラスびんの底部１７が、前方
ランプ６５に接触し、滑り、ガラスびんをディスク６１
に対して垂直方向上方に移動させ、もはやキャップ１８
Ａによってディスクから垂下されなくなるように円形コ
ンベヤ上にガラスびんと共に配置されることが好まし
い。さらに円形コンベヤが回転すると、前方ランプ６５
から台座６４にガラスびんが移動し、その位置で、ガラ
スびんは、重力で下方に移動し、開口部１３と同心円的
にガラスびんの底１７を台座６４により決定される位置
にて二次マスク１０上に直立する。この状態で円形コン
ベヤが静止することによって、分光計測器が分析測定を
行うように作動される。このような測定の後に、ディス
ク６１は、後方ランプ６６と接触するように台座６４か
らガラスびん１８を回転し割り出し、このランプ６６
は、ガラスびんを台座６４から上昇させ、ガラスびん１
８はランプ上を滑り、ステーション２０から出て、最後
にディスク６１に関して落下し、キャップ１８Ａによっ
てディスクから垂下する。コンピュータ３の制御の下で
ディスク６１の間断的な自動的な回転は、台座２１への
ガラスびんの送りが台座６４で静止しているガラスびん
に作用される分析測定と同期がとられることを保証す
る。
【００３４】図７に示す変形例において、円形コンベヤ
６０のディスク６１は、（図面の破線によって指示され
るように）比較的に高い平面において垂下したガラスび
ん１６を割り付ける垂直軸の周りで回転する。特定のガ
ラスびんが環状台座６４に直接重なる位置に割りつけら
れるとき、ディスク６１は、（図７の実線によって指示
されるような）台座６４上に特定のガラスびんを配置す
るために低い平面に回転軸に沿って垂直方向に移動す
る。台座６４のプレート１０にガラスびん１６が直接立
つようにディスク６１が下降するとき、ガラスびんがデ
ィスクの開口部に保持されたまま、そのガラスびんのキ
ャップが（ガラスびんとプレート１０の接触によって）
ディスク６１から完全に移動し、ガラスびんが単独で台
座６４上に立つ。台座６４は、ベースプレート１５の補
完的な凹部７１に配置された環状案内プレート７０によ
って一部が画定される。プレート２０は、開口部と同軸
であり、開口部１３に向かって集中する。ガラスびん１
６がプレート１０上のディスク６１によって下降される
とき、その底部１７は、案内面７２がリードインを提供
するように開口部１３と同心円の台座６４にガラスびん
のベースが直立することを保証するように案内面７２に
接触する。図７から分かるように、ディスク６１の下方
面に下降中に、台座２１にあるガラスびん１６の各側に
隣接している２つのガラスびん１６がベースプレート１
５に接触してディスク６１に対して上昇するが、これ
は、付随的なものである。ディスクが低い平面にあり、
円形コンベヤが静止していることによって、台座６４の
ガラスびんの物質の分析測定を行うようにコンピュータ
制御によって分光計測が作動される。その後、ディスク
６１は、ディスク６１が支持するガラスびん６１全部が
そこから垂下するように高い平面まで上昇し、その結
果、それらはモジュール６から離れ、ディスク６１は、
台座６４上に他のガラスびん１６を配置するために回転
可能に割り出されることができる。
６０のディスク６１は、（図面の破線によって指示され
るように）比較的に高い平面において垂下したガラスび
ん１６を割り付ける垂直軸の周りで回転する。特定のガ
ラスびんが環状台座６４に直接重なる位置に割りつけら
れるとき、ディスク６１は、（図７の実線によって指示
されるような）台座６４上に特定のガラスびんを配置す
るために低い平面に回転軸に沿って垂直方向に移動す
る。台座６４のプレート１０にガラスびん１６が直接立
つようにディスク６１が下降するとき、ガラスびんがデ
ィスクの開口部に保持されたまま、そのガラスびんのキ
ャップが（ガラスびんとプレート１０の接触によって）
ディスク６１から完全に移動し、ガラスびんが単独で台
座６４上に立つ。台座６４は、ベースプレート１５の補
完的な凹部７１に配置された環状案内プレート７０によ
って一部が画定される。プレート２０は、開口部と同軸
であり、開口部１３に向かって集中する。ガラスびん１
６がプレート１０上のディスク６１によって下降される
とき、その底部１７は、案内面７２がリードインを提供
するように開口部１３と同心円の台座６４にガラスびん
のベースが直立することを保証するように案内面７２に
接触する。図７から分かるように、ディスク６１の下方
面に下降中に、台座２１にあるガラスびん１６の各側に
隣接している２つのガラスびん１６がベースプレート１
５に接触してディスク６１に対して上昇するが、これ
は、付随的なものである。ディスクが低い平面にあり、
円形コンベヤが静止していることによって、台座６４の
ガラスびんの物質の分析測定を行うようにコンピュータ
制御によって分光計測が作動される。その後、ディスク
６１は、ディスク６１が支持するガラスびん６１全部が
そこから垂下するように高い平面まで上昇し、その結
果、それらはモジュール６から離れ、ディスク６１は、
台座６４上に他のガラスびん１６を配置するために回転
可能に割り出されることができる。
【００３５】円形コンベヤ上にガラスびん１６を回転可
能に割り出す駆動ユニット６３は、光スイッチによって
制御される電気ステップモータを有し、この光スイッチ
は、コンピュータの制御の下で台座６４上に選択された
ガラスびんを配置するために所望の停止運動を決定す
る。図７の変形例において、ディスク６１の回転軸６２
の垂直方向の変位は、高い及び低い平面の間でディスク
を移動し、割り出しは、リミットスイッチによって制御
されるさらに他の電気駆動モータによって従来のように
行われる。
能に割り出す駆動ユニット６３は、光スイッチによって
制御される電気ステップモータを有し、この光スイッチ
は、コンピュータの制御の下で台座６４上に選択された
ガラスびんを配置するために所望の停止運動を決定す
る。図７の変形例において、ディスク６１の回転軸６２
の垂直方向の変位は、高い及び低い平面の間でディスク
を移動し、割り出しは、リミットスイッチによって制御
されるさらに他の電気駆動モータによって従来のように
行われる。
【００３６】望ましくは、ステーション２０は、支持さ
れる円形コンベヤ及びガラスびん１６と共に不透明なカ
バー８０内に包囲される。
れる円形コンベヤ及びガラスびん１６と共に不透明なカ
バー８０内に包囲される。
【図１】ガラスびんに保持されるサンプル材料の分析に
使用される装置のモジュール部分を通る概略側断面図を
示す。図１Ａは、光ビームによって二次マスクのポート
を照射することを示す第１図の装置の部分平面図であ
る。
使用される装置のモジュール部分を通る概略側断面図を
示す。図１Ａは、光ビームによって二次マスクのポート
を照射することを示す第１図の装置の部分平面図であ
る。
【図２】図１の装置から決定された理論的な吸収率と測
定された吸収率とを比較し、マスクがある場合とない場
合でのこのような装置からの測定値を比較するグラフで
ある。
定された吸収率とを比較し、マスクがある場合とない場
合でのこのような装置からの測定値を比較するグラフで
ある。
【図３】分析用の液体サンプルを収容する容器を保持す
るために適した台座を提供する変形例を概略的に示す図
１に示した図面と同様の装置の断面図である。
るために適した台座を提供する変形例を概略的に示す図
１に示した図面と同様の装置の断面図である。
【図４】容器の配列に支持された材料のサンプルの自動
的及びシーケンシャルな分光計測分析のために図１に示
す装置の変形例を概略的に示す側面図である。
的及びシーケンシャルな分光計測分析のために図１に示
す装置の変形例を概略的に示す側面図である。
【図５】容器の配列に支持された材料のサンプルの自動
的及びシーケンシャルな分光計測分析のために図１に示
す装置の変形例を概略的に示す平面図である。
的及びシーケンシャルな分光計測分析のために図１に示
す装置の変形例を概略的に示す平面図である。
【図６】各容器の配列がその内容の分析のために提出さ
れる方法を示す、図４に示す装置の部品の拡大側面図で
ある。
れる方法を示す、図４に示す装置の部品の拡大側面図で
ある。
【図７】各容器が内容の分析のために提出される方法の
変形例を示す図６と同様の拡大側面図である。
変形例を示す図６と同様の拡大側面図である。
３ コンピュータ ４ 近赤外線 ５ スリット ６ 反射モジュ
ール ８ ウインドウ １１ 開口部 １３ ポート １５ プレート １６ ガラスびん １７ 底部 ２０ 走査ステーション ２１ 環状台座 ２２ 台座プレート ２３ 接合部 ６０ 円形コンベヤ ６１ 円形ディス
ク ６２ 軸 ６３ 駆動ユニッ
ト ６５，６６ ランプ
ール ８ ウインドウ １１ 開口部 １３ ポート １５ プレート １６ ガラスびん １７ 底部 ２０ 走査ステーション ２１ 環状台座 ２２ 台座プレート ２３ 接合部 ６０ 円形コンベヤ ６１ 円形ディス
ク ６２ 軸 ６３ 駆動ユニッ
ト ６５，６６ ランプ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 スティーヴン・ヴィクター・ハモンド イギリス国シーティー13・９エヌジェ イ，ケント，サンドウィッチ，ラムズゲ ート・ロード，ファイザー・リミテッド 内 (72)発明者 トニー・グラハム・アクソン イギリス国シーティー13・９エヌジェ イ，ケント，サンドウィッチ，ラムズゲ ート・ロード，ファイザー・リミテッド 内 (56)参考文献 特開 平４−48251（ＪＰ，Ａ) 特開 平７−163394（ＪＰ，Ａ) 登録実用新案3004007（ＪＰ，Ｕ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G01N 21/00 - 21/61 ＪＩＣＳＴファイル（ＪＯＩＳ)
Claims (29)
- 【請求項１】 材料の分光計測分析用装置１であって、 材料Ｐを収容する容器１６が配置されるステーション２
０と、 開口部１１を介してビーム１２を該ステーション２０に
向ける当該開口部１１を有しており、かつ該開口部１１
が所定の断面のビーム１２を提供するように制限部を形
成している一次マスク９と、 電磁放射に対して実質的に非反射性であり、前記一次マ
スク９と前記ステーション２０との間に配置されている
二次マスク１０であって、制限されたビーム１２を前記
ステーション２０に向けるポート１３を有している二次
マスク１０と、 を有し、 前記一次マスク９及び二次マスク１０は、前記制限ビー
ム１２が前記材料Ｐに対して当たるようにビームがポー
ト１３内の実質的に全体に適応するように配置されてお
り、制限されたビーム１２が当てられた材料Ｐからの反
射電磁放射が、二次マスク１０のポート１３を通過する
そのような反射放射から分析測定のために検出される、 材料Ｐに当たる電磁放射のビームから生じる反射率測定
による材料Ｐの分光計測分析用装置。 - 【請求項２】 前記ステーションが、台座２１を有し、
容器内の材料が前記ポートに完全に重なるように前記容
器が前記台座の所定の位置に収容及び保持されている請
求項１に記載の装置。 - 【請求項３】 前記台座２１が保持ブロック２２に設け
られ、前記二次マスクが前記保持ブロックと前記一次マ
スクとの間に配置される請求項２に記載の装置。 - 【請求項４】 前記一次マスクの開口部１１が、前記ポ
ート１３の面積より小さい面積までビームの横断面を制
限し、該制限されたビームが、その実質的に中央のポー
ト１３に全体が収容されている請求項１乃至３のいずれ
か１項に記載の装置。 - 【請求項５】 前記二次マスクの前記ポート１３が、実
質的に円形である請求項１乃至４のいずれか１項に記載
の装置。 - 【請求項６】 前記一次マスクの開口部１１が、実質的
に矩形断面の制限ビームを提供している請求項１乃至５
のいずれか１項に記載の装置。 - 【請求項７】 シート状ウインドウ８が一次マスクと二
次マスクとの間に配置され、前記制限ビームが前記ウイ
ンドウ８を通って前記ポート１３に向かい、前記反射放
射が前記ウインドウ８を通ってポート１３から検出及び
分析のために指向される請求項１乃至６のいずれか１項
に記載の装置。 - 【請求項８】 内部に分析用の材料が収容される容器１
６と組み合わせてなる請求項１乃至７のいずれか１項に
記載の装置。 - 【請求項９】 前記容器が、内部材料が前記ポート１３
に完全に重なり前記ポートの周縁を越えて伸びるように
ステーションに配置されている請求項８に記載の装置。 - 【請求項１０】 前記容器が実質的に平坦な壁部分１７
を有し、前記壁部分が前記ポート１３へ完全に重なり、
該ポートの周縁を越えて伸び、前記壁部分を通って前記
制限されたビームが該壁部分上に広がっている材料に向
けられる請求項９に記載の装置。 - 【請求項１１】 前記壁部分１７が二次マスクのポート
１３に重なるように該二次マスクへ衝接している請求項
１０に記載の装置。 - 【請求項１２】 該二次マスクが、前記容器１６と前記
ウインドウ８とが衝接するのを防止している請求項７に
従属するときの請求項１１に記載の装置。 - 【請求項１３】 前記容器が実質的に円形の平坦な底部
と該底部から同心円的に伸びている実質的に円筒形の側
壁とを有するガラスびんであり、前記制限されたビーム
及び反射電磁放射が前記平坦な底部を通って前記ガラス
びん内の材料に向かいかつそこから出る請求項８乃至１
２のいずれか１項に記載の装置。 - 【請求項１４】 前記台座２１が前記ガラスびんの円筒
形壁を実質的に補完的に嵌合するように受け入れる円筒
形開口部を有する請求項２に従属するときの請求項１３
に記載の装置。 - 【請求項１５】 前記ガラスびんの底部が二次マスク１
０のポート１３に完全に重なり、それにより円筒形側壁
との接合部を有する底部の周縁全体が二次マスクのポー
トの周縁の外側にまで配置され、これにより制限された
ビームがガラスびんの底部の側壁との接合部の位置以外
の位置のガラスびんの底部を通ってガラスびんの材料に
当てられる請求項１３または１４に記載の装置。 - 【請求項１６】 前記ガラスびんが２０ミリメートル以
下の直径の底部を有し、２ミリメートル以下の壁厚を有
している請求項１３乃至１５のいずれか１項に記載の装
置。 - 【請求項１７】 前記ガラスびんの円形の底部１７が前
記二次マスクのポート１３と実質的に同心円をなしてい
る請求項５に従属するときの請求項１３乃至１６のいず
れか１項に記載の装置。 - 【請求項１８】 前記制限されたビームが実質的に垂直
方向を向いている請求項１乃至１７のいずれか１項に記
載の装置。 - 【請求項１９】 前記容器が液体材料用であり、かつ細
長く、該容器の細長く伸びている伸長部の軸線が材料内
に存在するかもしれないガスの泡を容器の端部に移動さ
せるように水平方向以外の方向に位置するように前記台
座によって保持され、その結果、このようなガスの泡が
ポート１３を通って制限ビームが当たる材料部分からな
くなるようになっている容器と組み合わせてなる請求項
２に従属するときの請求項３乃至１８のいずれか１項に
記載の装置。 - 【請求項２０】 前記容器がその長手方向の軸線の周り
で実質的に円筒形をなしかつその長手方向の軸線と同心
円をなしている請求項１９に記載の装置。 - 【請求項２１】 前記電磁放射に対して反射性を有する
面が前記ステーションに設けられており、該容器は前記
ポートからの制限されたビームが当該容器とその内部の
材料とを介して通るときに該面により該ポートへ戻るよ
うに反射されるよう該面と前記ポートとの間に配置され
ることが出来るように位置付けられている請求項１乃至
２０のいずれか１項に記載の装置。 - 【請求項２２】 前記ステーションが電磁放射に対して
実質的に非反射性である着脱可能な不透明カバーによっ
て包囲されている請求項１乃至２１のいずれか１項に記
載の装置。 - 【請求項２３】 複数の容器の配列を支持し、分光計測
のために前記ステーションに当該容器を配置するために
各容器を連続的に供給し、測定後に該ステーションから
各容器を除去するための手段を有している請求項１乃至
２２のいずれか１項に記載の装置。 - 【請求項２４】 前記容器の送り及び除去が前記分光計
測測定を行うようにプログラムされたコンピュータによ
って自動的に制御されている請求項２３に記載の装置。 - 【請求項２５】 容器の配列を支持、供給及び除去する
手段が、円形コンベヤであり、前記円形コンベヤの間断
的な回転によって、各容器をステーションに連続的に供
給し、分光計測測定のためにステーションに各容器を静
止するように保持し、測定の後に前記ステーションから
各容器を除去するように回転する請求項２３または２４
に記載の装置。 - 【請求項２６】 前記円形コンベヤが直立した軸線の周
りで断続的に回転可能であり、前記台座上に所定の容器
を配置するために割り出し可能であり、かつ前記測定の
ために前記台座に所定の容器を降下させ、前記容器の更
なる割り出しのために前記台座から当該所定の容器を上
昇させるように回転軸線の方向に移動可能である請求項
２に従属するときの請求項２５に記載の装置。 - 【請求項２７】 容器の配列を支持するための装置とそ
れによって支持されたときの容器と共に前記ステーショ
ンを包囲する不透明なカバーを有している請求項２３乃
至２６のいずれか１項に記載の装置。 - 【請求項２８】 請求項２４の装置による分光計測測定
用のための容器の供給及び除去を制御するようにプログ
ラムされたコンピューター。 - 【請求項２９】 半透明なシート状ウインドウを介して
材料へ付与される電磁放射のビームから生じる反射測定
によって材料の分析を行う分光計測器用の変換キットで
あって、 開口部１１を有しており該開口部１１がウインドウ８を
介して通るビーム１２を所定の断面に制限するように分
光計測測定に適合される一次マスク９と、 電磁放射に対して実質的に非反射性でありかつポート１
３を有している二次マスク１０であって、該ポート１３
内に実質的に全体に指向されるように前記ウインドウ８
を通過する制限された光のためのマスク９から離れた前
記ウインドウ８の側において分光計測器へ適合されるよ
うになっている二次マスク１０と、 前記ポート１３を通過する前記制限された光が前記容器
内の材料に当たるようにかつ制限されたビームを受ける
材料からの反射性電磁放射が分析測定のために該ポート
１３及びウインドウ８を介して指向されるように、ウイ
ンドウ８から離れた前記二次マスク１０の側に、材料を
収容している容器を配置する装置と、 を有する変換キット。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| GB9610344A GB2313188B (en) | 1996-05-17 | 1996-05-17 | Spectrophotometric analysis |
| GB9610344.5 | 1996-05-17 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1078396A JPH1078396A (ja) | 1998-03-24 |
| JP3088090B2 true JP3088090B2 (ja) | 2000-09-18 |
Family
ID=10793870
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP09125251A Expired - Fee Related JP3088090B2 (ja) | 1996-05-17 | 1997-05-15 | 分光計測分析用装置 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5859703A (ja) |
| EP (1) | EP0807811A3 (ja) |
| JP (1) | JP3088090B2 (ja) |
| CA (1) | CA2204302C (ja) |
| GB (1) | GB2313188B (ja) |
Cited By (1)
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| US20230003582A1 (en) * | 2021-07-02 | 2023-01-05 | Triple Win Technology(Shenzhen) Co.Ltd. | Optical module and mobile device having same |
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- 1997-04-17 EP EP97302639A patent/EP0807811A3/en not_active Withdrawn
- 1997-05-02 CA CA002204302A patent/CA2204302C/en not_active Expired - Fee Related
- 1997-05-15 JP JP09125251A patent/JP3088090B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CA2204302A1 (en) | 1997-11-17 |
| JPH1078396A (ja) | 1998-03-24 |
| EP0807811A3 (en) | 1998-03-18 |
| GB2313188B (en) | 1999-10-20 |
| EP0807811A2 (en) | 1997-11-19 |
| US5859703A (en) | 1999-01-12 |
| GB2313188A (en) | 1997-11-19 |
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| CA2204302C (en) | 2002-01-29 |
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|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |