JP3084825B2 - Mechanical interface device - Google Patents

Mechanical interface device

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JP3084825B2
JP3084825B2 JP24084791A JP24084791A JP3084825B2 JP 3084825 B2 JP3084825 B2 JP 3084825B2 JP 24084791 A JP24084791 A JP 24084791A JP 24084791 A JP24084791 A JP 24084791A JP 3084825 B2 JP3084825 B2 JP 3084825B2
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port
pod
door
gas
coil spring
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哲平 山下
正直 村田
幹 田中
日也 森田
等 河野
敦 奥野
正徳 津田
満弘 林
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神鋼電機株式会社
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  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、半導体の製造プロセス
で用いられる機械式インターフェース装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a mechanical interface device used in a semiconductor manufacturing process.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、半導体の処理は、半導体のパーテ
ィクル汚染を防止するために、特別に設計したクリーン
ルーム内で行なわれていたが、その保守を含めて費用が
かかりすぎるという問題がある他、パーティクル汚染の
汚染レベルの低減には限界があるので、例えば特開昭6
0−143623号公報に開示されているような標準化
された機械式インターフェース装置(SMIF装置)が
開発された。
2. Description of the Related Art Conventionally, semiconductor processing has been carried out in a specially designed clean room in order to prevent particle contamination of the semiconductor. Since there is a limit in reducing the contamination level of particle contamination, for example,
A standardized mechanical interface device (SMIF device) has been developed as disclosed in Japanese Patent Application No. 0-143623.

【0003】このSMIF装置は、例えば、図5に示す
ように、ウエハ処理装置(図示しない)を収納し、清浄
空気で満たされている装置の本体ケース1と、可搬式タ
イプのボックス(以下、ポッドPODという)10およ
び搬送装置30を含んでいる。装置本体の本体ケース1
の天板2にはポートプレート3によりポート(ウエハカ
セット20の搬入・搬出口)4が形成されており、把持
部10Aを持つポッドPOD10はこのポートプレート
3上に載置される。ポッドPOD10はその開口11の
周囲に環状のフランジ12を有する形状となっている。
この例の搬送装置30は昇降装置であって、昇降軸32
に支持された昇降台31にウエハカセット20を載せて
昇降するが、この昇降台31は、ポートドアとなってお
り、最上昇時には、ポートプレート3に下から当接もし
くは嵌合してポート4を本体ケース1を外部に対して密
閉し、また、ポートドア31上にあるウエハカセット2
0の台21はポッドPOD10の開口11の周部に当接
して当該開口11を密閉する。この台21を、以下、ポ
ッドドアという。13はシール材であって、ポッドPO
D10の開口とポッドドア21との間をシールし、シー
ル材14はポッドPOD10のフランジ12とポートプ
レート3との間をシールし、シール材15はポートプレ
ート3とポートドア31との間をシールする。40はロ
ック機構であって、図示しないギヤードモータにより駆
動されるロックレバー41を有し、ポッドPOD10の
フランジ12をポートプレート3上へ押し下げる働きを
する。この例においては、処理前のウエハWが図示しな
い他の場所からポートドア31上へ移載されたのち、ポ
ッドPOD10をポートプレート3上に載置し、ロック
レバー41で固定する。ロックレバー41で固定したの
ち、ポートドア31を移載位置まで下降する。ポートド
ア31が移載位置まで下降すると、図示しない移載装置
がポートドア31上のウエハカセット20を処理機械へ
搬送する。
As shown in FIG. 5, for example, this SMIF apparatus houses a wafer processing apparatus (not shown) and is filled with clean air and a main body case 1 of the apparatus, and a portable type box (hereinafter, referred to as a box). A pod POD) 10 and a transport device 30. Main unit case 1 of the main unit
The top plate 2 has a port 4 (a loading / unloading port for the wafer cassette 20) 4 formed by a port plate 3, and a pod POD 10 having a grip portion 10A is placed on the port plate 3. The pod POD 10 has a shape having an annular flange 12 around an opening 11 thereof.
The transport device 30 in this example is a lifting device, and the lifting shaft 32
The wafer cassette 20 is placed on a lift table 31 supported by the controller and lifted up and down. This lift table 31 is a port door. Of the main body case 1 to the outside, and the wafer cassette 2 on the port door 31.
The base 21 of the pod contacts the periphery of the opening 11 of the pod POD 10 to seal the opening 11. The table 21 is hereinafter referred to as a pod door. Reference numeral 13 denotes a sealing material, which is a pod PO
The seal between the opening of D10 and the pod door 21, the seal member 14 seals between the flange 12 of the pod POD10 and the port plate 3, and the seal member 15 seals between the port plate 3 and the port door 31. . A lock mechanism 40 has a lock lever 41 driven by a geared motor (not shown), and has a function of pushing down the flange 12 of the pod POD 10 onto the port plate 3. In this example, after the wafer W before processing is transferred from another place (not shown) onto the port door 31, the pod POD 10 is placed on the port plate 3 and fixed by the lock lever 41. After being fixed by the lock lever 41, the port door 31 is lowered to the transfer position. When the port door 31 is lowered to the transfer position, a transfer device (not shown) transfers the wafer cassette 20 on the port door 31 to the processing machine.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】ところで、従来は、ウ
エハWのパーティクル汚染が問題になっていたが、半導
体集積回路の高密度化が進むに従い、空気中の酸素によ
るウエハ表面の自然酸化膜の影響が問題となり始め、こ
の自然酸化膜の成長を防止するため、ウエハWの移動、
搬送、処理等を不活性ガス(N2 ガス)雰囲気中で行な
う必要が生じ、現在では、O2 、H2 Oの濃度が10p
pm以下であるN2 ガス雰囲気が要求されている。
Conventionally, particle contamination of the wafer W has been a problem. However, as the density of semiconductor integrated circuits has increased, the natural oxide film on the wafer surface has been reduced due to oxygen in the air. The influence begins to become a problem, and in order to prevent the growth of this natural oxide film, the movement of the wafer W,
It is necessary to perform transportation, processing, and the like in an inert gas (N 2 gas) atmosphere, and at present, the concentration of O 2 and H 2 O is 10 p.
An N 2 gas atmosphere of not more than pm is required.

【0005】上記したSMIF装置を用いる場合には、
本体ケース1内の空気をN2 ガスで置換してN2 ガス雰
囲気とし、ポッドPOD10内部はN2 ガス雰囲気に保
たれているが、当該ポッドPOD10が本体ケース1の
天板2上にセットされる都度、その内部をN2 ガスで再
置換してより高純度のN2 ガス雰囲気とすることにな
る。可搬タイプであるポッドPOD10へのN2 ガスの
注入は、本体ケース1側に設けるN2 ガスボンベから行
なう必要があるが、ポッドPOD10をポッドドア21
で密閉したままで、本体ケース1側からN2 ガスを注入
することは簡単ではなく、構造的に複雑になる。
When using the above SMIF device,
And N 2 gas atmosphere of air in the main body case 1 is replaced with N 2 gas, the interior of the pod POD10 is being kept in N 2 gas atmosphere, the pod POD10 is set on the top plate 2 of the casing 1 Each time, the inside is replaced with N 2 gas to make a higher purity N 2 gas atmosphere. The injection of N 2 gas to the pod POD10 a portable type, it is necessary to perform the N 2 gas cylinder provided in the main body case 1 side, the pod POD10 pod door 21
It is not easy to inject the N 2 gas from the main body case 1 side while keeping the airtight, and the structure becomes complicated.

【0006】本発明はこの問題を解消するためになされ
たもので、ポッド内のガス置換が容易に可能であり、簡
単な部材を付加するだけでこのガス置換が可能となる機
械式インターフェース装置を提供することを目的とす
る。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve this problem. A mechanical interface device capable of easily performing gas replacement in a pod and capable of performing the gas replacement by adding a simple member is provided. The purpose is to provide.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明は上記目的を達成
するため、請求項1では、ポートドアが所定高さ昇降動
可能な筒状空間を内部に形成するとともに上記ポートド
アの下面に気密に係合可能な下係合周部と上記ポートプ
レートの下面に気密に係合可能な上係合周部を有する可
動のポートスカートと、上記ポートドアもしくは当該ポ
ートドアとともに昇降する部材に配設され上記ポートス
カートを上記ポートプレートへ向けて付勢する付勢装置
を設け、上記ポートドアが上記下係合周部に気密に係合
するまで所定高さ下降駆動されて、上記ポッドドアと上
記ポートドアとが上記ポッド内と連通する密封空間を上
記ポートプレート側との間に区画し、上記ポートプレー
トの内周面に開口する排気口とこの内周面に開口すると
ともにN ガス源に接続される給気口、を用いて、上記
ポッド内へのN ガス注入を行う構成とした。
In order to achieve the above object, according to the present invention, in the first aspect, a cylindrical space in which a port door can be raised and lowered at a predetermined height is formed inside, and a lower surface of the port door is airtightly sealed. A movable port skirt having a lower engaging peripheral portion capable of engaging with the upper surface and an upper engaging peripheral portion capable of airtightly engaging the lower surface of the port plate; and a member disposed on the port door or a member which moves up and down together with the port door. A biasing device for biasing the port skirt toward the port plate, wherein the port door is airtightly engaged with the lower engagement peripheral portion.
Until the pod door moves up
Above the sealed space that communicates with the inside of the pod.
Partition between the port plate side and the port play
The exhaust port that opens on the inner peripheral surface of the
Using an air supply port both connected to a N 2 gas source,
The configuration was such that N 2 gas was injected into the pod .

【0008】請求項2では、付勢装置は、ポートドアに
保持された吊り具であって、一端側がコイルばねである
吊り線と、この吊り線の非コイルばね部が係合する係合
ローラを有し、この吊り線のコイルばね側端はポートド
アに設けた係止ピンに係止され、非コイルばね部は上記
係合ローラに係合してポートスカートの下係合部へ垂下
し当該下係合部に係止され、上記コイルばねは予負荷さ
れている構成とした。請求項3では、付勢装置は、ポー
トドアの支持軸に固着された台とポートスカートの下係
合部との間に介装された複数本の予負荷コイルばねであ
る構成とした。
According to a second aspect of the present invention, the urging device is a suspending device held by the port door, and a suspending line having a coil spring at one end and an engaging roller engaged with a non-coil spring portion of the suspending line. A coil spring side end of the suspension wire is locked by a locking pin provided on the port door, and the non-coil spring portion is engaged with the engagement roller and hangs down to a lower engagement portion of the port skirt. The coil spring is locked to the lower engaging portion, and the coil spring is preloaded. In the third aspect, the biasing device is configured to include a plurality of preload coil springs interposed between the base fixed to the support shaft of the port door and the lower engagement portion of the port skirt.

【0009】請求項4では、ポートプレート上にポッド
がセットされたのち、ポートドアが所定高さ下降し、密
封空間形成後、排気口を開口して給気口からNガスを
所定時間もしくは酸素濃度が所定値以下になるまで注入
し、上記排気口を閉鎖しその後に、上記ポートドアが被
処理物移載位置へ下降する構成とした。
[0009] According to claim 4, after the pod is set to the port plate, a port door is lowered a predetermined height, after the sealed space formed, a predetermined time or the N 2 gas from the air inlet open to the exhaust port Injection was performed until the oxygen concentration became equal to or less than a predetermined value, the exhaust port was closed, and then the port door was lowered to the workpiece transfer position.

【0010】[0010]

【作用】本発明では、ポッド内へのガス注入に際して
は、ポートドアの下面外周部がポートスカートの下係合
部との間にシール材を挟圧する位置まで下降する。ポー
トドアの下降に伴い、付勢装置のばねは縮むが、ポート
スカートに充分な付勢力が作用するよう上記ばねを予負
荷してあるので、ポートスカートはポートプレートに圧
接したままとなる。このポートドアの下降により、ポッ
ドドアもポートドアと一緒に下降するので、ポッド開口
が開くが、ポートスカートの下端はポートドアで密封さ
れ、ポートスカート内は外に対して気密に遮蔽されてい
るので、ポッド内は外に対して気密に遮蔽された状態に
あり、ポッド開口11が開くので、ガス供給口、ガス排
気口がポッド内と連通する。
According to the present invention, when injecting gas into the pod, the outer peripheral portion of the lower surface of the port door is lowered to a position where the sealing material is pressed between the lower portion and the lower engaging portion of the port skirt. As the port door is lowered, the spring of the biasing device contracts, but the spring is preloaded so that sufficient biasing force acts on the port skirt, so that the port skirt remains pressed against the port plate. When the port door is lowered, the pod door is also lowered together with the port door, so the pod opening is opened. Since the inside of the pod is airtightly shielded from the outside and the pod opening 11 is opened, the gas supply port and the gas exhaust port communicate with the inside of the pod.

【0011】[0011]

【実施例】以下、本発明の1実施例を図面を参照して説
明する。
An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0012】図1において、33は短筒体のポートスカ
ートであって、ポートドア31が内部を昇降可能な内部
空間Aを形成し、下端部には内方へ向く下係合周部(下
フランジ)33Aが形成され、この下フランジ33Aに
は複数個のガイド孔33aが形成されるとともにその上
面には複数個のガイド孔33aを囲むようにシール材3
4が取着されており、このシール材(例えば、Oーリン
グ)34はポートドア31の下面外周部に対向してい
る。また、ポートスカート33の上端部に外向きの上係
合周部(上フランジ)33Bが形成され、その表面にシ
ール材(例えば、Oーリング)33bが取着されてい
る。35はポートドア31の下面から下に垂直に延び、
下端に抜け止め35aを持つガイド杆であって、それぞ
れ対応するガイド孔33aを遊貫している。36はポー
トドア31の内部空間31Aに設けられたガイドロー
ラ、37は一部に予負荷されたコイルばね37Aを有す
る吊り線からなる付勢装置(吊り具)であって、コイル
ばね37A側端は上記内部空間31Aに配設された係止
ピン38に係止され、他部はガイドローラ36に係合し
たのち、ポートドア31のガイドローラ36直下に形成
されている孔39から外に引き出されて垂下し、ポート
スカート33の下フランジ33Aの内周端に係止されて
いる。ポートスカート33は複数個の吊り具37によっ
て上に吊り上げられ、シール材33bを介在してポート
プレート3の下面に圧接している。
In FIG. 1, reference numeral 33 denotes a short cylindrical port skirt, which forms an internal space A in which the port door 31 can move up and down, and has a lower engaging peripheral part (lower part) at its lower end. A plurality of guide holes 33a are formed in the lower flange 33A, and the upper surface thereof has a sealing material 3 surrounding the plurality of guide holes 33a.
The sealing material (for example, O-ring) 34 is opposed to the outer peripheral portion of the lower surface of the port door 31. An outwardly facing upper engaging peripheral portion (upper flange) 33B is formed at the upper end of the port skirt 33, and a sealing material (for example, an O-ring) 33b is attached to the surface thereof. 35 extends vertically downward from the lower surface of the port door 31,
It is a guide rod having a stopper 35a at the lower end, and penetrates a corresponding guide hole 33a. Reference numeral 36 denotes a guide roller provided in the internal space 31A of the port door 31, and 37 denotes a biasing device (suspension tool) including a suspension wire having a coil spring 37A partially preloaded. Is locked by a locking pin 38 provided in the internal space 31A, and the other portion is engaged with the guide roller 36 and then pulled out from a hole 39 formed immediately below the guide roller 36 of the port door 31. The port skirt 33 is locked to the inner peripheral end of the lower flange 33A. The port skirt 33 is lifted up by a plurality of hanging members 37, and is in pressure contact with the lower surface of the port plate 3 with a seal member 33b interposed therebetween.

【0013】3Aはポートプレート3の下部側を半径方
向に貫通するガス給気口であって配管3aを通して、図
示しないN2 ガスボンベに接続されている。3Bはポー
トプレート3の下部側を半径方向に貫通するガス排気
口、3Cは配管3bに設けられた電磁バルブである。
Reference numeral 3A denotes a gas supply port which penetrates a lower side of the port plate 3 in a radial direction, and is connected to an N 2 gas cylinder (not shown) through a pipe 3a. Reference numeral 3B denotes a gas exhaust port penetrating the lower side of the port plate 3 in the radial direction, and 3C denotes an electromagnetic valve provided in the pipe 3b.

【0014】なお、箱体本体ケース1内は、N2 ガス雰
囲気にあり、常時、20リットル/分のN2 ガス注入に
より与圧されている。
The inside of the box body case 1 is in an N 2 gas atmosphere and is always pressurized by injecting 20 L / min of N 2 gas.

【0015】次に、本実施例の動作を図2、図3を参照
して説明する。
Next, the operation of this embodiment will be described with reference to FIGS.

【0016】今、ポッドPOD10が装置外から本体ケ
ース1のポートプレート3上へ移載され、図示しないが
前記ロックレバー41でポートプレート3上に固定され
たものとする。この状態では、ポッドPOD10の開口
11とポッドドア21との間はシール材13で密封さ
れ、ポッドPOD10のフランジ12とポートプレート
3との間はシール材14で密封されている。また、ポー
トスカート33の上端部とポートプレート3との間はシ
ール材33bでシールされている。
Now, it is assumed that the pod POD 10 is mounted on the port plate 3 of the main body case 1 from outside the apparatus, and is fixed on the port plate 3 by the lock lever 41 (not shown). In this state, the gap between the opening 11 of the pod POD10 and the pod door 21 is sealed with a sealing material 13, and the gap between the flange 12 of the pod POD10 and the port plate 3 is sealed with a sealing material 14. The space between the upper end of the port skirt 33 and the port plate 3 is sealed with a sealing material 33b.

【0017】次に、ポッドPOD10内にN2 ガスを注
入して内部をN2 ガスで置換するが、ガス注入前に、ポ
ートドア31を図2に示すように所定の小距離だけ、即
ち、ポートドア31の下面外周部が下フランジ33Aと
の間にシール材34を挟圧する位置まで下降させる。ポ
ートドア31の下降に伴い、コイルばね37Aは縮む
が、図示の状態でも他部に引張力を付与し、ポートスカ
ート33に充分な吊上げ力が作用するようコイルばね3
7Aを予負荷してあるので、ポートスカート33はポー
トプレート3に圧接したままとなる。このポートドア3
1の下降により、ポッドドア21もポートドア31と一
緒に下降するので、ポッドPOD10の開口11が開く
が、ポートスカート33の下端はポートドア31で密封
され、ポートスカート33内は本体ケース1の内部に対
して気密に遮蔽された状態にあり、ポッドPOD10内
の空気が本体ケース1内に侵入する恐れは無い。ポート
ドア31およびポッドドア21の下降により、ポッドP
OD10の開口11が開くので、ガス供給口3A、ガス
排気口3BがポッドPOD10内と連通する。
Next, N 2 gas is injected into the pod POD 10 to replace the inside with N 2 gas. Before the gas injection, the port door 31 is moved by a predetermined small distance as shown in FIG. The outer periphery of the lower surface of the port door 31 is lowered to a position where the sealing material 34 is pressed between the lower surface 33A and the lower flange 33A. As the port door 31 is lowered, the coil spring 37A contracts. However, even in the state shown in the drawing, the coil spring 3A applies a tensile force to the other portion, and a sufficient lifting force acts on the port skirt 33.
Since port 7A is preloaded, port skirt 33 remains pressed against port plate 3. This port door 3
As the pod door 21 descends together with the port door 31 due to the lowering of the opening 1, the opening 11 of the pod POD 10 is opened. , And there is no possibility that the air in the pod POD 10 enters the main body case 1. When the port door 31 and the pod door 21 are lowered, the pod P
Since the opening 11 of the OD 10 is opened, the gas supply port 3A and the gas exhaust port 3B communicate with the inside of the pod POD10.

【0018】本実施例では、上記のように、ポートドア
31を下降させてポッドPOD10の開口11を開いた
後、電磁弁3Cを開弁し、N2 ガスをガス供給口3Aか
らポッドPOD10内へ、例えば、70リットル/分、
ほぼ5分間注入して、ポッドPOD10内の空気をガス
排気口3Bから排気させてポッドPOD10内をN2
スで置換する。
In this embodiment, as described above, after lowering the port door 31 to open the opening 11 of the pod POD 10, the solenoid valve 3C is opened, and N 2 gas is supplied from the gas supply port 3A into the pod POD 10. To, for example, 70 liters / minute,
It was injected approximately 5 minutes, the air in the pod POD10 by exhaust from the gas outlet 3B substituting the pod POD10 with N 2 gas.

【0019】このガス置換が終わると、図3に示すよう
にポートドア31を所定の位置(移載位置)まで下降さ
せる。これにより、ポッドPOD10は本体ケース1内
部と連通することになるが、ポッドPOD10内がN
ガス雰囲気になっているので、本体ケース1内のN
ス濃度が低下する恐れは無い。ポートドア31が上記移
載位置まで下降すると、ポートドア31上のウエハカセ
ット20は図示しない移載装置によりNガス雰囲気中
を処理機械側へ運ばれる。
When the gas replacement is completed, the port door 31 is lowered to a predetermined position (transfer position) as shown in FIG. Thus, pod POD10 is made to be in communication with the inside of the body casing 1, pod POD10 is N 2
Than has become gas atmosphere, may be deteriorated N 2 gas concentration of the body case 1 is not. When the port door 31 is lowered to the transfer position, the wafer cassette 20 on the port door 31 is transferred to the processing machine in the N 2 gas atmosphere by a transfer device (not shown).

【0020】この処理機械で処理されたウエハカセット
20は、上記図示しない移載装置によりポートドア31
上へ移載されて当該ポートドア31によりポッドPOD
内へ運ばれ、ポートドア31が最上昇位置まで上昇して
ポート4を密閉したのち、装置外へ運ばれる。
The wafer cassette 20 processed by the processing machine is transferred to the port door 31 by the transfer device (not shown).
The pod POD is transferred by the port door 31
After being carried inside, the port door 31 is moved up to the highest position to close the port 4 and then carried out of the apparatus.

【0021】本実施例では、ポート4を閉鎖しているポ
ートドア31上に、処理前のウエハを収納したウエハカ
セット20が移載されたのち、ポートプレート3上へポ
ッドPOD10がセットされると、ポートドア31が所
定の小距離だけ下降して、密封空間Aが形成され、この
密封空間Aが形成されたのち、ポッドPOD10内がN
2 ガスで置換され、ポッドPOD10内がN2 ガス雰囲
気になったのち、ポッドPOD10内が本体ケース1内
と連通するので、本体ケース1内に外部空気や塵埃が持
ち込まれる恐れは皆無となる。
In this embodiment, when the pod POD 10 is set on the port plate 3 after the wafer cassette 20 containing the wafer before processing is transferred onto the port door 31 closing the port 4. Then, the port door 31 is lowered by a predetermined small distance to form a sealed space A. After the sealed space A is formed, the inside of the pod POD10 is N.
After the gas is replaced by the two gases and the inside of the pod POD 10 becomes an N 2 gas atmosphere, the inside of the pod POD 10 communicates with the inside of the main body case 1.

【0022】上記説明では、ポッドPOD10内へのN
2 ガス注入は、70リットル/分、ほぼ5分間と例示的
に説明しているが、ガス排気口3Bを含む排気系に酸素
濃度計を設けて、測定酸素濃度が所定値以下になると、
2 ガス注入を停止するようにする場合もある。
In the above description, N is inserted into the pod POD10.
2 The gas injection is exemplarily described as 70 liters / minute, approximately 5 minutes. However, when an oxygen concentration meter is provided in the exhaust system including the gas exhaust port 3B, when the measured oxygen concentration falls below a predetermined value,
In some cases, the N 2 gas injection is stopped.

【0023】なお、上記実施例では、本体ケース1がウ
エハ処理装置等を収納する場合について説明したが、本
体ケース1がN2 ガス雰囲気とされたストッカーの場合
もある。
In the above embodiment, the case where the main body case 1 accommodates the wafer processing apparatus and the like has been described. However, the main body case 1 may be a stocker in which the atmosphere is an N 2 gas atmosphere.

【0024】図4は本発明の第2の実施例を示したもの
である。この実施例においては、前記吊り具37に代え
て、押し上げ用のコイルばね37Dを用いる点におい
て、相違する。ポートドア31の昇降軸32には、ばね
座となる台37Iを固定し、この台37Iとポートスカ
ート33の下フランジ33Aとの間に、複数本のコイル
ばね37Dを予負荷状態で配設してある。
FIG. 4 shows a second embodiment of the present invention. This embodiment is different in that a lifting coil spring 37D is used instead of the hanging member 37. A platform 37I serving as a spring seat is fixed to the elevating shaft 32 of the port door 31, and a plurality of coil springs 37D are arranged in a preloaded state between the platform 37I and the lower flange 33A of the port skirt 33. It is.

【0025】[0025]

【発明の効果】本発明は以上説明した通り、ポートドア
を所定高さ下降させて、ポートドアとポッドドアの外周
側に、ポッドに連通する密封空間を形成させ、この密封
空間を通して外部のNガス源からポッド内にNガス
を注入させる構成であるから、ポートドア、ポッドドア
と共同して上記密封空間を区画する部材を設けるだけで
済み、安価な費用で、信頼性の高いポッド内ガス置換シ
ステムを構築することができる。
As described above, according to the present invention, the port door is lowered to a predetermined height to form a sealed space communicating with the pod on the outer peripheral side of the port door and the pod door.
Since the N 2 gas is injected into the pod from the external N 2 gas source through the space, it is only necessary to provide a member that partitions the sealed space in cooperation with the port door and the pod door.
It requires, at low cost, it is possible to construct a highly reliable pod gas replacement system.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施例を示す縦断面図である。FIG. 1 is a longitudinal sectional view showing an embodiment of the present invention.

【図2】上記実施例のN2 ガス注入時の状態を示す縦断
面図である。
FIG. 2 is a longitudinal sectional view showing a state when N 2 gas is injected in the embodiment.

【図3】上記実施例における被処理物ロード/アンロー
ドプロセス中の状態を示す縦断面図である。
FIG. 3 is a vertical cross-sectional view showing a state during an object loading / unloading process in the embodiment.

【図4】本発明の第2の実施例を示す縦断面図である。FIG. 4 is a longitudinal sectional view showing a second embodiment of the present invention.

【図5】従来のSMIF装置の概略を示す図である。FIG. 5 is a diagram schematically showing a conventional SMIF device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 本体ケース 3 ポートプレート 3A 給気口 3B 排気口 3C 電磁弁 4 ポート 10 ポッドPOD 11 ポッドPODの開口 12 ポッドPODのフランジ 13〜14 シール材 20 ウエハカセット 21 ポッドドア 31 ポートドア 32 昇降軸 33 ポートスカート 33A ポートスカートの下係合周部 33B ポートスカートの上係合周部 33b、34 シール材 35 ガイド杆 36 係合ロール 37 付勢装置である吊り具 40 ロック機構 A 密封空間 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Main body case 3 Port plate 3A Air supply port 3B Exhaust port 3C Solenoid valve 4 Port 10 Pod POD 11 Pod POD opening 12 Pod POD flange 13-14 Sealing material 20 Wafer cassette 21 Pod door 31 Port door 32 Elevating shaft 33 Port skirt 33A Lower engaging peripheral portion of port skirt 33B Upper engaging peripheral portion of port skirt 33b, 34 Sealing material 35 Guide rod 36 Engaging roll 37 Hanging device as urging device 40 Lock mechanism A Sealed space

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 河野 等 三重県伊勢市竹ケ鼻町100番地 神鋼電 機株式会社伊勢製作所内 (72)発明者 奥野 敦 三重県伊勢市竹ケ鼻町100番地 神鋼電 機株式会社伊勢製作所内 (72)発明者 津田 正徳 三重県伊勢市竹ケ鼻町100番地 神鋼電 機株式会社伊勢製作所内 (72)発明者 林 満弘 三重県伊勢市竹ケ鼻町100番地 神鋼電 機株式会社伊勢製作所内 審査官 柴沼 雅樹 (56)参考文献 特表 平4−505234(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01L 21/68 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing from the front page (72) Inventor Kono, etc.100 Takegahana-cho, Ise-shi, Mie Prefecture Inside Shinsei Electric Machinery Co., Ltd. (72) Inventor Atsushi Okuno 100-ketakehana-cho, Ise-shi, Mie Prefecture Inside Ise Works (72) Inventor Masanori Tsuda 100 Takegahana-cho, Ise City, Mie Prefecture Shinko Electric Machinery Co., Ltd. Government Masaki Shibanuma (56) References Special Table Hei 4-505234 (JP, A) (58) Field surveyed (Int. Cl. 7 , DB name) H01L 21/68

Claims (4)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 本体ケースに設けられ被処理物の搬入・
搬出用ポートを形成するポートプレート上に載置されて
前記ポートを覆う開口フランジ付ポッド、このポッドの
開口を閉鎖可能なポッドドア、前記本体ケース内に昇降
可能に支持され最上昇時に上記ポートプレートに係合し
て前記ポートを閉鎖するポートドアを備え、このポート
ドアが上記ポッドドアを上記ポッド内から本体ケースへ
またその逆へ搬送する機械式インターフェース装置にお
いて、 上記ポートドアが所定高さ昇降動可能な筒状空間を内部
形成するとともに上記ポートドアの下面に気密に係合
可能な下係合周部と上記ポートプレートの下面に気密に
係合可能な上係合周部を有する可動のポートスカート、
上記ポートドアもしくは当該ポートドアとともに昇降す
る部材に配設され上記ポートスカートを上記ポートプレ
ートへ向けて付勢する付勢装置を備え、上記ポートドアが上記下係合周部に気密に係合するまで
所定高さ下降駆動されて、上記ポッドドアと上記ポート
ドアとが上記ポッド内と連通する密封空間を上記ポート
プレート側との間に区画し、上記ポートプレートの内周
面に開口する排気口とこの内周面に開口するとともにN
ガス源に接続される給気口、を用いて、上記ポッド内
へのN ガス注入を行う ことを特徴とする機械式インタ
ーフェース装置。
1. An object provided in a main body case for carrying in and out an object to be processed.
A pod with an opening flange that is placed on a port plate that forms a carry-out port and covers the port, a pod door that can close the opening of the pod, and that is supported in the main body case so as to be able to move up and down and is connected to the port plate at the time of the highest movement A mechanical interface device for engaging and closing said port, said port door transporting said pod door from within said pod to a body case and vice versa, said port door being movable up and down a predetermined height A movable port having a cylindrical space formed therein and having a lower engaging peripheral portion capable of airtightly engaging the lower surface of the port door and an upper engaging peripheral portion capable of airtightly engaging the lower surface of the port plate. skirt,
An urging device is provided on the port door or on a member that moves up and down together with the port door to urge the port skirt toward the port plate. The port door hermetically engages the lower engagement peripheral portion. Until
The pod door and the port are driven down by a predetermined height.
The sealed space where the door communicates with the inside of the pod is
Partition between the plate and the inner circumference of the port plate
Exhaust port opening on the inner surface and N
2 using the air supply port connected to the gas source,
A mechanical interface device for injecting N 2 gas into a device.
【請求項2】 付勢装置は、ポートドアに保持された吊
り具であって、一端側がコイルばねである吊り線と、こ
の吊り線の非コイルばね部が係合する係合ローラを有
し、この吊り線のコイルばね側端はポートドアに設けた
係止ピンに係止され、非コイルばね部は上記係合ローラ
に係合してポートスカートの下係合部へ垂下し当該下係
合部に係止され、上記コイルばね予負荷されているこ
とを特徴とする請求項1記載の機械式インターフェース
装置。
2. The urging device, which is a suspending device held by a port door, has a suspending line having a coil spring at one end and an engaging roller with which a non-coil spring portion of the suspending line engages. The end of the suspension wire on the coil spring side is locked by a locking pin provided on the port door, and the non-coil spring portion is engaged with the engagement roller and hangs down to the lower engagement portion of the port skirt. 2. The mechanical interface device according to claim 1, wherein the coil spring is locked at the joint and the coil spring is preloaded.
【請求項3】 付勢装置は、ポートドアの支持軸に固着
された台とポートスカートの下係合部との間に介装され
た複数本の予負荷コイルばねであることを特徴とする請
求項1記載の機械式インターフェース装置。
3. A biasing device comprising a plurality of preload coil springs interposed between a base fixed to a support shaft of a port door and a lower engaging portion of a port skirt. The mechanical interface device according to claim 1.
【請求項4】 ポートプレート上にポッドがセットされ
たのち、ポートドアが所定高さ下降し、密封空間形成
後、排気口を開口して給気口からNガスを所定時間も
しくは酸素濃度が所定値以下になるまで注入し、上記排
気口を閉鎖しその後に、上記ポートドアが被処理物移載
位置へ下降することを特徴とする請求項1〜3のいずれ
かに記載の機械式インターフェース装置。
4. After the pod is set on the port plate, a port door is lowered a predetermined height, after the sealed space formed, the predetermined time N 2 gas from the air inlet open to the exhaust port or oxygen concentration injected until a predetermined value or less, the discharge
The mechanical interface device according to any one of claims 1 to 3, wherein the port is closed, and then the port door is lowered to the workpiece transfer position.
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