JP3081910B2 - Arsenic (V) ion removal method - Google Patents

Arsenic (V) ion removal method

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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、例えば木材防腐処
理、ガラス製造、電子部品製造工程等からの排水や地熱
水中に溶存するヒ素(V)イオンを効率よく水中から除
去し、さらに用いた処理剤を再利用する方法に関するも
のである。
The present invention relates to a process for efficiently removing arsenic (V) ions dissolved in wastewater or geothermal water from, for example, wood preservative treatment, glass production, electronic component production processes, etc. The present invention relates to a method for reusing an agent.

【0002】[0002]

【従来の技術】水中に溶存するヒ素を除去するために
は、原水の性状、処理量、処理水の用途、ヒ素の存在形
態、経済性等を考慮して最適の方法を選択すべきであ
る。水中に溶存するヒ素を溶解度の低いヒ素化合物の沈
殿として除去したり、あるpH領域で生成した難溶性の
金属水酸化物のフロックに捕捉して除去する共沈法は操
作が簡単であり、大容量の水処理に適していることから
広範に実施されている。この中で、沈殿法によるヒ素
(V)処理剤として、従来、鉄(III)塩、ポリ塩化アル
ミニウム(PAC)、カルシウム塩が使用されている。
これらに処理剤による0.25mMのヒ素(V)イオン
の除去例をそれぞれ図7(A)、(B)、(C)に示
す。鉄(III)(硫酸塩、塩化物)は石炭火力発電所、浄
水場や半導体製造工場での水処理や汚染地下水の修復等
に最も広く使用されている。図7(A)に示すように、
等モル濃度の鉄(III)の添加によりpH約3〜4の狭い
領域でヒ素(V)濃度は約0.06mMまで低下する
が、ヒ素(V)の除去は不完全である。多くの浄水場で
使われているPACや硫酸アルミニウムによってもヒ素
(V)が除去されている。図7(B)に示すように、等
モル濃度のPACの添加により、pH約5〜6の狭い領
域で、ヒ素(V)濃度は約0.12mMまで低下するに
とどまる。このほか沈殿剤としてカルシウム塩も有効で
あるとされているが、図7(C)の例に示すように、p
H2〜12でヒ素(V)はカルシウム塩によってほとん
ど除去されないことが認められる。実際には、2.6m
M以上の高濃度のカルシウム塩を添加し、またpHを1
0〜11に調節する必要があるとされている。図7
(A)、(B)、(C)から分かるように、従来使用さ
れている沈殿処理剤のうち、鉄(III)塩がヒ素(V)イ
オンの除去に最も有効であるといえる。しかし、0.2
5mMのヒ素(V)イオンに対して等モルの鉄(III)イ
オン添加量ではヒ素(V)の除去は不完全であり、排水
基準(.1ppm≒0.0013mM)を満たさない
という欠点がある。そこで鉄(III)塩の添加量をあげる
ことが必要となる。図8(A)、(B)に鉄(III)塩の
初濃度を0.75及び2.5mMに増加した場合を示
す。鉄(III)塩初濃度を0.75mM及び2.5mMに
増加することで、それぞれpH領域5〜6及び5〜7で
ヒ素(V)イオン残留濃度は0.001mM以下に低下
することが認められる。しかし、この様に、排水基準を
満たすためには鉄(III)濃度は3倍以上のモル濃度が必
要であり、過剰量の薬剤を使用する欠点がある。また、
最適pH領域もせまい。同様に、アルミニウム塩及びカ
ルシウム塩についても、有効pH領域がせまく、より多
量の薬剤の使用が必要である。
2. Description of the Related Art In order to remove arsenic dissolved in water, an optimum method should be selected in consideration of the properties of raw water, the amount of treatment, the use of treated water, the form of arsenic, the economic efficiency, and the like. . The coprecipitation method, which removes arsenic dissolved in water as a precipitate of arsenic compounds with low solubility or captures and removes flocs of hardly soluble metal hydroxides generated in a certain pH range, is simple and easy to operate. Widely implemented because of its suitability for volumetric water treatment. Among these, iron (III) salts, polyaluminum chloride (PAC), and calcium salts have been used as arsenic (V) treating agents by the precipitation method.
FIGS. 7A, 7B, and 7C show examples of removing 0.25 mM arsenic (V) ions by the treating agent. Iron (III) (sulfate, chloride) is most widely used for water treatment and restoration of contaminated groundwater in coal-fired power plants, water purification plants and semiconductor manufacturing plants. As shown in FIG.
The addition of an equimolar concentration of iron (III) reduces the arsenic (V) concentration to about 0.06 mM in a narrow range of pH about 3-4, but the arsenic (V) removal is incomplete. Arsenic (V) is also removed by PAC and aluminum sulfate used in many water purification plants. As shown in FIG. 7 (B), the addition of equimolar PAC only reduces the arsenic (V) concentration to about 0.12 mM in a narrow range of about pH 5 to 6. In addition, calcium salts are also considered to be effective as precipitants, but as shown in the example of FIG.
It is noted that arsenic (V) is hardly removed by the calcium salt in H2-12. Actually 2.6m
M or higher concentration of calcium salt, and adjust the pH to 1
It is said that it is necessary to adjust to 0 to 11. FIG.
As can be seen from (A), (B) and (C), it can be said that iron (III) salt is the most effective in removing arsenic (V) ions among the conventionally used precipitating agents. However, 0.2
Removal equimolar iron (III) arsenic in ion amount (V) relative to 5mM of arsenic (V) ions is incomplete, the disadvantage of not satisfy the discharge standards (0 .1ppm0.0013mM) is there. Therefore, it is necessary to increase the amount of iron (III) salt added. FIGS. 8A and 8B show the case where the initial iron (III) salt concentration was increased to 0.75 and 2.5 mM. By increasing the initial iron (III) salt concentration to 0.75 mM and 2.5 mM, it was confirmed that the arsenic (V) ion residual concentration was reduced to 0.001 mM or less in the pH range of 5 to 6 and 5 to 7 respectively. Can be However, as described above, the iron (III) concentration needs to be three times or more the molar concentration in order to satisfy the drainage standard, and there is a disadvantage that an excessive amount of the chemical is used. Also,
The optimal pH range is too narrow. Similarly, for aluminum salts and calcium salts, the effective pH range is narrowed, requiring the use of larger amounts of drugs.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】この発明は従来方法の
有効pH領域が狭く、多くの処理剤添加量が必要である
という欠点を克服し、より広いpH領域で少量の処理剤
でヒ素イオンを除去できる方法を提供することを目的と
するものである。すなわち本発明は、被処理水中のヒ素
イオンを少量の処理剤で効率良く除去でき、排水基準以
下のヒ素イオンの残留濃度を容易に達成できる水処理方
法を提供することを目的とする。また、本発明は、水処
理に用いた処理剤を再生利用する方法を提供することを
目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention overcomes the drawbacks of the conventional method in which the effective pH range is narrow and requires a large amount of a processing agent, and reduces arsenic ions with a small amount of the processing agent in a wider pH range. It is intended to provide a method that can be removed. That is, an object of the present invention is to provide a water treatment method capable of efficiently removing arsenic ions in water to be treated with a small amount of a treating agent and easily achieving a residual concentration of arsenic ions below the wastewater standard. Another object of the present invention is to provide a method for recycling a treating agent used for water treatment.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明者は、ヒ素イオン
の沈殿反応について鋭意研究を重ねた結果、ヒ素(V)
イオンと難溶性の化合物を形成するランタン化合物を用
いれば、広いpH領域で少量の処理剤使用量でヒ素
(V)イオン濃度を減少させうることを見いだし、この
知見に基づいて本発明をなすに至った。すなわち、本発
明は、(1)ヒ素(V)イオンを含有する被処理水にラ
ンタン化合物の水溶液を加えて生成するヒ酸ランタンを
沈殿除去し、被処理水中のヒ素(V)イオンの残留濃度
を排水基準以下とすると共に沈殿除去されたヒ酸ランタ
ンをpH9より高いアルカリ性水溶液で処理することに
よりランタンを回収して再利用しうるようにしたことを
特徴とする水処理方法、を提供するものである。
The present inventors have made intensive studies on the precipitation reaction of arsenic ions and found that arsenic (V)
It has been found that the use of a lanthanum compound which forms a compound which is hardly soluble with ions can reduce the arsenic (V) ion concentration in a wide pH range with a small amount of a treating agent. Reached. That is, the present invention relates to the treatment of water containing (1) arsenic (V) ions.
Lanthanum arsenate produced by adding an aqueous solution of a lanthanum compound
Precipitation removal, residual concentration of arsenic (V) ions in the water to be treated
Arsenate from which sediment is reduced to below the drainage standard
Treatment with alkaline aqueous solution higher than pH 9
That more lanterns can be collected and reused.
And a water treatment method characterized by the following.

【0005】[0005]

【発明の実施の形態】本発明において、希土類元素のう
ちでも最も安価なランタン化合物を沈殿剤として用いる
ことにより、水中のヒ素(V)をヒ酸ランタンとしてよ
り効果的に除去することができる。本発明に用いられる
ランタン化合物としては、水溶性のランタン化合物が用
いられ、具体的には、塩化ランタン、硝酸ランタンなど
が用いられる。その添加量は、ヒ素イオン濃度に応じて
最小量でよい。すなわち、ヒ素イオンの濃度に対して等
モル濃度のランタン化合物を添加することにより、ヒ素
イオンを効率良く沈殿、除去することができ、ランタン
化合物を過剰に用いれば、ヒ素イオンの残留濃度を、排
水基準以下の、さらに低いレベルとすることができる。
処理剤を添加する際の被処理水のpHは、好ましくは5
〜12であり、より好ましくは5〜9である。ランタン
化合物を添加後沈殿したヒ酸ランタンを分離除去するこ
とにより、被処理水中のヒ素イオンの残留濃度を0.1
ppm以下にできる。ヒ素(V)イオンとランタンイオ
ンとの反応は式(1)及び(2)で示される。 H2 AsO4 - + La3+ → LaAsO4 + 2H+ (1) HAsO4 2- + La3+ → LaAsO4 + (2) 分離されたヒ酸ランタンをpH約13で処理することに
より、ランタンとヒ素を分離しランタンを再利用するこ
とができる。すなわち、pH約13ではヒ素(V)のみ
が溶出してランタンは固相に残る。したがってヒ素
(V)を濃縮された形で分離することで、ランタンを回
収して再利用することができる。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION In the present invention, arsenic (V) in water can be more effectively removed as lanthanum arsenate by using the least expensive lanthanum compound among the rare earth elements as a precipitant. As the lanthanum compound used in the present invention, a water-soluble lanthanum compound is used, and specifically, lanthanum chloride, lanthanum nitrate and the like are used. The addition amount may be a minimum amount according to the arsenic ion concentration. That is, by adding a lanthanum compound in an equimolar concentration with respect to the concentration of arsenic ions, arsenic ions can be efficiently precipitated and removed, and if the lanthanum compound is used in excess, the residual concentration of arsenic ions can be reduced by drainage. Even lower levels, below the standard, can be used.
The pH of the water to be treated when adding the treating agent is preferably 5
-12, more preferably 5-9. By separating and removing the precipitated lanthanum arsenate after the addition of the lanthanum compound, the residual concentration of arsenic ions in the water to be treated is reduced to 0.1%.
ppm or less. The reaction between the arsenic (V) ion and the lanthanum ion is represented by equations (1) and (2). H 2 AsO 4 + La 3+ → LaAsO 4 + 2H + (1) HAsO 4 2− + La 3+ → LaAsO 4 + H + (2) By treating the separated lanthanum arsenate at a pH of about 13, lanthanum and arsenic can be separated and lanthanum can be reused. That is, at a pH of about 13, only arsenic (V) elutes and lanthanum remains in the solid phase. Therefore, by separating arsenic (V) in a concentrated form, lanthanum can be recovered and reused.

【0006】[0006]

【実施例】次に本発明を実施例に基づきさらに詳細に説
明する。 実施例1 図1に、初濃度がいずれも0.25mMになるように調
製したヒ素(V)及びランタン混合溶液について、48
時間後のヒ素(V)及びランタン残留濃度を示す。pH
領域5〜8で、ヒ素(V)残留濃度は0.01mM以下
に低下した。鉄(III)の結果(図7(A))と比較する
と、より広いpH領域でより低いヒ素(V)残留濃度が
得られた。ランタン初濃度のみを0.75mMに増加し
た場合図2に示すように、pH5〜9でヒ素(V)残留
濃度は0.001mM以下に低下し、排水基準以下であ
った(図2(A))。更に、ランタン初濃度を2.5m
Mに増加するとpH5〜12の幅広い領域で、ヒ素
(V)残留濃度は0.001mM以下に低下した(図2
(B))。ランタンとヒ素(V)との反応は両者の濃度
が高いほど効率よく進行し、図3及び図4に示すよう
に、初濃度が0.75及び2.5mMと高濃度のヒ素
(V)イオン溶液に等モル濃度のランタンを添加するこ
とにより、幅広いpH領域でヒ素(V)イオンの除去が
可能であった。ヒ素(V)含有排水の処理において、ヒ
素(V)がどのような形態で除去されるかを知ることは
重要である。ヒ酸(H3 AsO4 )の酸解離定数の値か
ら、水中のヒ素(V)イオンはpH4〜5及び9〜10
付近でそれぞれH2 AsO4 -、HAsO4 2- が優勢化学
種として存在することが知られている。ヒ素(V)イオ
ンとランタンイオンとの反応で生成する沈殿の組成を解
析するため、それぞれの初濃度が35.7mMのヒ素
(V)及びランタン混合溶液のpHをpHスタットで5
及び9に保持して得られた沈殿のX線回折図を図5
(A)、(B)に示す。いずれもJCPDSデータとの
比較からLaAsO4 (15−176)であることが同
定された。また、得られた沈殿を(1+1)塩酸に溶解
して、As及びLaを定量した結果、As:La≒1:
1であることからもヒ素(V)イオンはランタンイオン
とLaAsO4 を形成して沈殿除去されることが認めら
れた。
Next, the present invention will be described in more detail with reference to examples. Example 1 FIG. 1 shows the arsenic (V) and lanthanum mixed solutions prepared so that the initial concentrations were all 0.25 mM.
The arsenic (V) and lanthanum residual concentrations after time are shown. pH
In regions 5 to 8, the arsenic (V) residual concentration was reduced to 0.01 mM or less. Compared with the result of iron (III) (FIG. 7A), a lower arsenic (V) residual concentration was obtained in a wider pH range. When only the initial concentration of lanthanum was increased to 0.75 mM, as shown in FIG. 2, at pH 5 to 9, the residual concentration of arsenic (V) decreased to 0.001 mM or less, which was below the drainage standard (FIG. 2 (A)). ). Furthermore, the initial concentration of lantern is 2.5m
M, the arsenic (V) residual concentration decreased to 0.001 mM or less over a wide range of pH 5 to 12 (FIG. 2).
(B)). The reaction between lanthanum and arsenic (V) proceeds more efficiently as the concentration of both is higher. As shown in FIGS. 3 and 4, the initial concentration of arsenic (V) ions is as high as 0.75 and 2.5 mM. By adding an equimolar concentration of lanthanum to the solution, it was possible to remove arsenic (V) ions in a wide pH range. In the treatment of arsenic (V) -containing wastewater, it is important to know in what form arsenic (V) is removed. From the value of the acid dissociation constant of arsenic acid (H 3 AsO 4 ), the arsenic (V) ions in the water were adjusted to pH 4-5 and 9-10.
It is known that H 2 AsO 4 and HAsO 4 2− are present as dominant chemical species in the vicinity, respectively. In order to analyze the composition of the precipitate formed by the reaction between arsenic (V) ions and lanthanum ions, the pH of the mixed solution of arsenic (V) and lanthanum having an initial concentration of 35.7 mM was adjusted to 5 by a pH stat.
X-ray diffraction patterns of the precipitates obtained by holding in FIGS.
(A) and (B) show. All were identified as LaAsO 4 (15-176) by comparison with JCPDS data. The obtained precipitate was dissolved in (1 + 1) hydrochloric acid, and As and La were quantified. As: La ≒ 1:
Since it was 1, it was confirmed that arsenic (V) ions form LaAsO 4 with lanthanum ions and are precipitated and removed.

【0007】実施例2 実施例1で沈殿除去により分離したヒ酸ランタンをpH
の異なる水溶液中に分散させ溶解度を調べた。その結果
を図6に示した。pH5〜9ではヒ酸ランタンは安定で
あり、溶解しないことが分かる。pH5より低い酸性領
域では、ヒ酸ランタンは溶解して、ランタン及びヒ素
(V)が溶出する。しかし、pH9より高いアルカリ性
pH領域では、ヒ素(V)のみが溶出してランタンは固
相に残る。このことから、ヒ酸ランタンを例えばpH約
13のアルカリ溶液で処理することによりヒ素(V)を
濃縮された形で分離すると共に、ランタンを回収して再
利用することが可能である。
Example 2 The lanthanum arsenate separated by precipitation removal in Example 1 was adjusted to pH
Were dispersed in different aqueous solutions and the solubility was examined. FIG. 6 shows the result. It can be seen that at pH 5 to 9, lanthanum arsenate is stable and does not dissolve. In the acidic region below pH 5, lanthanum arsenate dissolves and lanthanum and arsenic (V) elute. However, in an alkaline pH range higher than pH 9, only arsenic (V) elutes and lanthanum remains in the solid phase. From this, it is possible to separate arsenic (V) in a concentrated form by treating lanthanum arsenate with, for example, an alkaline solution having a pH of about 13, and to collect and reuse lanthanum.

【0008】[0008]

【発明の効果】沈殿剤として塩化ランタンまたは硝酸ラ
ンタンを用いることによりより少量の添加量でかつより
広いpH領域でヒ素(V)イオンを排水基準以下の濃度
まで除去することができる。特に、中性pH領域で有効
であるため、ヒ素(V)イオン除去後の処理水のpHを
調節することなく放流が可能である。また、除去された
ヒ酸ランタンをアルカリ溶液で処理することにより、ヒ
素(V)を濃縮された形で分離すると共に、ランタンを
回収して再利用することが可能である。
By using lanthanum chloride or lanthanum nitrate as a precipitant, arsenic (V) ions can be removed to a concentration below the wastewater standard with a smaller addition amount and in a wider pH range. In particular, since it is effective in a neutral pH range, it can be discharged without adjusting the pH of the treated water after removing arsenic (V) ions. Further, by treating the removed lanthanum arsenate with an alkaline solution, it is possible to separate arsenic (V) in a concentrated form and to collect and reuse lanthanum.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】ランタンによるヒ素(V)イオン除去特性を示
すグラフである。
FIG. 1 is a graph showing arsenic (V) ion removal characteristics of lanthanum.

【図2】ランタンによるヒ素(V)イオン除去特性を示
すグラフである。 (A):ヒ素(V)初濃度、0.25mM;ランタン初
濃度、0.75mM (B):ヒ素(V)初濃度、0.25mM;ランタン初
濃度、2.5mM
FIG. 2 is a graph showing arsenic (V) ion removal characteristics of lanthanum. (A): arsenic (V) initial concentration, 0.25 mM; lanthanum initial concentration, 0.75 mM (B): arsenic (V) initial concentration, 0.25 mM; lanthanum initial concentration, 2.5 mM

【図3】ランタンによるヒ素(V)イオン除去特性を示
すグラフである。
FIG. 3 is a graph showing arsenic (V) ion removal characteristics of lanthanum.

【図4】ランタンによるヒ素(V)イオン除去特性を示
すグラフである。
FIG. 4 is a graph showing arsenic (V) ion removal characteristics of lanthanum.

【図5】本発明方法により得られた沈殿のX線回折図で
ある。 (A):pH5で得られた沈殿 (B):pH9で得られた沈殿 (C):ヒ酸ランタン(LaAsO4
FIG. 5 is an X-ray diffraction diagram of a precipitate obtained by the method of the present invention. (A): Precipitation obtained at pH 5 (B): Precipitation obtained at pH 9 (C): Lanthanum arsenate (LaAsO 4 )

【図6】ヒ酸ランタンの溶解特性を示すグラフである。FIG. 6 is a graph showing the dissolution characteristics of lanthanum arsenate.

【図7】鉄(III)塩、PAC、カルシウム塩によるヒ素
(V)イオン除去特性を示すグラフである。(ヒ素
(V)初濃度、0.25mM) (A):鉄(III)初濃度、0.25mM;(B):PA
C初濃度、0.25mM;(C):カルシウム初濃度、
0.25mM
FIG. 7 is a graph showing arsenic (V) ion removal characteristics of iron (III) salt, PAC, and calcium salt. (Arsenic (V) initial concentration, 0.25 mM) (A): Iron (III) initial concentration, 0.25 mM; (B): PA
C initial concentration, 0.25 mM; (C): calcium initial concentration,
0.25 mM

【図8】鉄(III)塩によるヒ素(V)イオン除去特性を
示すグラフである。 (A):ヒ素(V)初濃度、0.25mM;鉄(III)初
濃度、0.75mM (B):ヒ素(V)初濃度、0.25mM;鉄(III)初
濃度、2.5mM
FIG. 8 is a graph showing arsenic (V) ion removal characteristics by iron (III) salt. (A): arsenic (V) initial concentration, 0.25 mM; iron (III) initial concentration, 0.75 mM (B): arsenic (V) initial concentration, 0.25 mM; iron (III) initial concentration, 2.5 mM

フロントページの続き (56)参考文献 特開 平9−66284(JP,A) 特開 昭54−113952(JP,A) 特開 昭54−22953(JP,A) 徳永 修三ら、”ヒ素及び鉛含有排水 の高度処理技術に関する調査研究”、物 質工学工業技術研究所報告、物質工学工 業技術研究所、平成9年2月28日発行、 第5巻、第1号、p.21−38 (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C02F 1/58 Continuation of front page (56) References JP-A-9-66284 (JP, A) JP-A-54-113952 (JP, A) JP-A-54-22953 (JP, A) Shuzo Tokunaga et al., “Arsenic and lead Research on Advanced Treatment Technology for Wastewater Contained in Materials ”, Report of the National Institute of Materials Science and Technology, National Institute of Materials Technology, published on February 28, 1997, Volume 5, No. 1, p. 21-38 (58) Field surveyed (Int. Cl. 7 , DB name) C02F 1/58

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】ヒ素(V)イオンを含有する被処理水にラ
ンタン化合物の水溶液を加えて生成するヒ酸ランタンを
沈殿除去し、被処理水中のヒ素(V)イオンの残留濃度
を排水基準以下とすると共に沈殿除去されたヒ酸ランタ
ンをpH9より高いアルカリ性水溶液で処理することに
よりランタンを回収して再利用しうるようにしたことを
特徴とする水処理方法。
1. A method for treating treated water containing arsenic (V) ions.
Lanthanum arsenate produced by adding an aqueous solution of a lanthanum compound
Precipitation removal, residual concentration of arsenic (V) ions in the water to be treated
Arsenate from which sediment is reduced to below the drainage standard
Treatment with alkaline aqueous solution higher than pH 9
That more lanterns can be collected and reused.
Characterized water treatment method.
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