JP3080722B2 - Magnetic recording medium and method of manufacturing the same - Google Patents

Magnetic recording medium and method of manufacturing the same

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JP3080722B2 JP03269069A JP26906991A JP3080722B2 JP 3080722 B2 JP3080722 B2 JP 3080722B2 JP 03269069 A JP03269069 A JP 03269069A JP 26906991 A JP26906991 A JP 26906991A JP 3080722 B2 JP3080722 B2 JP 3080722B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は連続薄膜型の磁性層を有
する磁気記録媒体の炭素質保護膜及びその製造方法に関
する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a carbonaceous protective film for a magnetic recording medium having a continuous thin film type magnetic layer and a method for producing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】強磁性薄膜を磁性層とする連続薄膜型の
磁気記録媒体が種々実用化されている。このうち、計算
機等に用いられるハードタイプの磁気ディスクでは、剛
性基板上に強磁性薄膜を設層している。ハードタイプの
磁気ディスクに記録再生を行なう磁気ヘッドとしては、
各種浮上型磁気ヘッドが用いられている。
2. Description of the Related Art Various continuous thin-film type magnetic recording media having a ferromagnetic thin film as a magnetic layer have been put to practical use. Among them, a hard magnetic disk used in a computer or the like has a ferromagnetic thin film provided on a rigid substrate. As a magnetic head that performs recording and reproduction on a hard type magnetic disk,
Various floating magnetic heads are used.

【0003】このような場合には、コンタクト・スター
ト・ストップ(CSS)時に、磁気ディスクは磁気ヘッ
ドにより損傷を受ける。また、記録密度を高めるために
は、磁気ヘッドの浮上量をできるだけ小さくしようとい
う要請が強いが、このときCSS時のディスクの損傷は
より一層大きくなる。
In such a case, the magnetic disk is damaged by the magnetic head during a contact start / stop (CSS). In order to increase the recording density, there is a strong demand for reducing the flying height of the magnetic head as much as possible, but at this time, the damage of the disk during CSS is further increased.

【0004】このような耐久性を高めるためには、ディ
スク表面に固体トップコート膜を設ける必要があり、一
般には、各種固体潤滑剤を用いたトップコート膜が適用
されている。このようなトップコート膜には、カーボン
潤滑保護膜がある。例えば、特開平2−161612号
には、2層のカーボンスパッタトップコート膜を設ける
旨が提案されている。
In order to enhance such durability, it is necessary to provide a solid top coat film on the disk surface. In general, a top coat film using various solid lubricants is applied. Such a top coat film includes a carbon lubrication protective film. For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2-161612 proposes providing a two-layer carbon sputter topcoat film.

【0005】しかし、このようなカーボンスパッタトッ
プコート膜では、潤滑性、耐久性が十分ではない。ま
た、上記の2層構成では、下層を耐久性に優れたものと
し、上層を潤滑性に優れたものとすることから、製法も
煩雑である。
[0005] However, such a carbon sputter topcoat film does not have sufficient lubricity and durability. In the above two-layer structure, the lower layer has excellent durability, and the upper layer has excellent lubricity. Therefore, the production method is also complicated.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、摩擦
特性および耐久性に優れた磁気記録媒体を提供すること
にある。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a magnetic recording medium having excellent friction characteristics and durability.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】このような目的は、下記
(1)〜(6)の本発明により達成される。 (1) 基体上に強磁性薄膜を有し、この強磁性薄膜上
に炭素質保護膜を有する磁気記録媒体において、前記炭
素質保護膜はスパッタ法により作製したものであり、前
記炭素質保護膜中に異相として存在する不純物量が5体
積%以下であり、かつ前記炭素質保護膜は実質的にアモ
ルファス状態とする磁気記録媒体。 (2) 前記炭素質保護膜の膜厚が150〜500Aで
ある上記(1)に記載の磁気記録媒体。 (3) 前記炭素質保護膜は、ラマン散乱スペクトルの
測定で、sp2 ピークに対するsp3 ピークの面積比
[sp3 (面積)/sp2 (面積)]が3以下である上
記(1)または(2)に記載の磁気記録媒体。 (4) 前記強磁性薄膜は強磁性金属の連続薄膜である
上記(1)ないし(3)のいずれかに記載の磁気記録媒
体。 (5) 基体上に強磁性薄膜を有し、この強磁性薄膜上
に炭素質保護膜を有する磁気記録媒体を製造するに際
し、前記炭素質保護膜をスパッタ法により作製し、この
スパッタに際し、スパッタガスによる放電能力をW/
(F・M)[ここで、Wは投入電力(Joule/sec )であ
り、Fはスパッタガスの流量、Mはスパッタガス分子量
でF・Mの単位はkg/secである。]で定義したとき、こ
の値が5×107 〜109 Joule/kgであり、かつ反応圧
力が5Pa以下である磁気記録媒体の製造方法。 (6) 前記スパッタガスが、Ar、KrおよびXeの
うちの少なくとも1種以上である上記(5)に記載の磁
気記録媒体の製造方法。
This and other objects are achieved by the present invention which is defined below as (1) to (6). (1) In a magnetic recording medium having a ferromagnetic thin film on a substrate and a carbonaceous protective film on the ferromagnetic thin film, the carbonaceous protective film is formed by a sputtering method. A magnetic recording medium wherein the amount of impurities present as a foreign phase therein is 5% by volume or less and the carbonaceous protective film is substantially in an amorphous state. (2) The magnetic recording medium according to the above (1), wherein the carbonaceous protective film has a thickness of 150 to 500A. (3) The above-mentioned (1), wherein the carbonaceous protective film has an area ratio of sp 3 peak to sp 2 peak [sp 3 (area) / sp 2 (area)] of 3 or less, as measured by Raman scattering spectrum. The magnetic recording medium according to (2). (4) The magnetic recording medium according to any one of (1) to (3), wherein the ferromagnetic thin film is a continuous thin film of a ferromagnetic metal. (5) In producing a magnetic recording medium having a ferromagnetic thin film on a substrate and a carbonaceous protective film on the ferromagnetic thin film, the carbonaceous protective film is formed by a sputtering method. W /
(F · M) [W is the input power (Joule / sec), F is the flow rate of the sputtering gas, M is the molecular weight of the sputtering gas, and the unit of FM is kg / sec. When defined, and this value is 5 × 10 7 ~10 9 Joule / kg, and method for manufacturing a magnetic recording medium the reaction pressure is less than 5 Pa. (6) The method for producing a magnetic recording medium according to (5), wherein the sputtering gas is at least one of Ar, Kr, and Xe.

【0008】[0008]

【0009】[0009]

【0010】[0010]

【0011】[0011]

【0012】[0012]

【0013】[0013]

【0014】[0014]

【作用】本発明では、W/(F・M)値が5×107
109 Joule/kgで、かつ反応圧力が5Pa以下となる条件
でスパッタを行ない、強磁性薄膜上に実質的にアモルフ
ァス状態の炭素質保護膜を形成している。
According to the present invention, W / (F · M) value of 5 × 10 7 ~
Sputtering is performed under the conditions of 10 9 Joule / kg and a reaction pressure of 5 Pa or less to form a substantially amorphous carbonaceous protective film on the ferromagnetic thin film.

【0015】本出願人は、従来のカーボンスパッタ膜に
ついて種々の検討を加えたところ、このようなカーボン
スパッタ膜には、金属炭化物等の不純物が5体積%をこ
えた値〜10体積%程度存在し、かつこれが摩擦特性お
よび耐久性を悪化させる原因となっていることを確認し
ている。また、この不純物は汎用されているマグネトロ
ンスパッタ法を例にすると、この装置においてターゲッ
ト載置面の外周を覆うシールドリングがスパッタされる
ことによるもので、このシールドリングはステンレス鋼
等の金属製であることに起因して生成するものと考えら
れる。
The present applicant has made various studies on a conventional carbon sputtered film, and found that such a carbon sputtered film contains impurities such as metal carbides in an amount exceeding 5% by volume and about 10% by volume. In addition, it has been confirmed that this is a cause of deteriorating friction characteristics and durability. In addition, for example, in the case of a magnetron sputtering method that is widely used, this impurity is caused by sputtering of a shield ring covering an outer periphery of a target mounting surface in this apparatus, and the shield ring is made of metal such as stainless steel. It is thought to be generated due to something.

【0016】ところが、本発明ではスパッタ条件を前記
のように規制しているので、この不純物量を5体積%以
下まで抑制することができ、さらに膜質、膜厚を所定の
ものにすることによって本発明の効果を得ることができ
る。
However, in the present invention, since the sputtering conditions are regulated as described above, the amount of impurities can be suppressed to 5% by volume or less, and the film quality and film thickness can be reduced to predetermined values. The effects of the invention can be obtained.

【0017】なお、特開平2−161612号には、2
層構成のカーボンスパッタトップコート膜を設ける旨が
開示されている。このとき下層は耐久性に優れた膜質、
上層は潤滑性に優れた膜質とするものである。そして、
レーザーラマン分光分析によれば、下層はiカーボンの
ラマンスペクトルに、上層はアモルファスカーボンとi
カーボンが重畳したものに近似するとされている。
Note that Japanese Patent Application Laid-Open No. 2-161612 discloses that
It is disclosed that a carbon sputter top coat film having a layer structure is provided. At this time, the lower layer is a film with excellent durability,
The upper layer has a film quality excellent in lubricity. And
According to the laser Raman spectroscopy, the lower layer is the Raman spectrum of i-carbon and the upper layer is amorphous carbon and i-carbon.
It is said that it is similar to the superimposed carbon.

【0018】本発明における炭素質保護膜は1層のみの
構成で潤滑性と耐久性を得るものであり、上記公報の構
成とは明らかに異なるものである。また、本発明のよう
に、不純物についての記載は全くなく、不純物が耐久
性、潤滑性を悪化させることについては示唆すらされて
いない。さらに、ラマン散乱スペクトルにおけるsp2
ピークに対するsp3 ピークの面積比については全くふ
れられていない。
The carbonaceous protective film of the present invention has lubricating properties and durability with only one layer, and is clearly different from the structure disclosed in the above publication. Further, there is no description about impurities as in the present invention, and there is no suggestion that the impurities deteriorate durability and lubricity. Furthermore, sp 2 in the Raman scattering spectrum
No mention is made of the area ratio of the sp 3 peak to the peak.

【0019】[0019]

【具体的構成】以下、本発明の具体的構成について詳細
に説明する。
[Specific Configuration] Hereinafter, a specific configuration of the present invention will be described in detail.

【0020】本発明の磁気記録媒体は、具体的にはハー
ドタイプの磁気ディスクである。そして、磁性層である
強磁性薄膜上に炭素質保護膜を有するものである。
The magnetic recording medium of the present invention is specifically a hard type magnetic disk. Further, a carbonaceous protective film is provided on the ferromagnetic thin film as the magnetic layer.

【0021】<炭素質保護膜>本発明において、磁性層
上に設層される炭素質保護膜は炭素を含有するものであ
り、炭素のみを含有するものであることが好ましく、こ
のような炭素質保護膜中における不純物量は5体積%以
下、好ましくは2体積%以下とする。そして、その下限
値は検出限界外の体積%程度である。
<Carbon Protective Film> In the present invention, the carbonaceous protective film provided on the magnetic layer contains carbon, and preferably contains only carbon. The impurity amount in the protective film is 5% by volume or less, preferably 2% by volume or less. The lower limit is about the volume% outside the detection limit.

【0022】この場合の不純物は、主に、成膜時の不要
な反応等により生成するものと考えられ、主として金属
炭化物であると推定される。このほか、金属窒化物、金
属酸化物なども存在すると考えられる。
The impurities in this case are considered to be generated mainly by unnecessary reactions during film formation, and are presumed to be mainly metal carbides. In addition, it is considered that metal nitrides, metal oxides, and the like also exist.

【0023】上記のように、炭素質保護膜中の不純物量
を5体積%以下とすることによって、均質な膜を得るこ
とができ、潤滑保護膜として有効に機能し、本発明の効
果が得られる。一方、不純物量が5体積%をこえると、
本発明の効果は臨界的に減少し、膜の潤滑性、耐久性が
不十分となる。これは、均質な膜とならないためにヘッ
ドからの応力が異物である不純物に集中し、そこから膜
の破壊が発生したり、また、不純物は、前記のとおり、
大部分が硬質である金属炭化物であるため、ヘッドに損
傷を与えることになるからである。
As described above, by setting the amount of impurities in the carbonaceous protective film to 5% by volume or less, a uniform film can be obtained, which functions effectively as a lubricating protective film, and the effects of the present invention can be obtained. Can be On the other hand, when the impurity amount exceeds 5% by volume,
The effect of the present invention is critically reduced, and the lubricity and durability of the film become insufficient. This is because the stress from the head concentrates on impurities which are foreign substances because the film does not become a uniform film, and the film is destroyed therefrom.
This is because most of the metal carbide is hard, and thus damages the head.

【0024】このような不純物は、異相として膜中に存
在し、その存在量は、透過型電子顕微鏡(TEM)によ
る観察などから求めることができる。また、不純物にお
ける化合物の同定はオージェ電子分光法(AES)、X
線光電子分光法(ESCA)等によって行なうことがで
き、各化合物の存在量はオージェ電子分光法(AES)
等によって求めることができる。
Such impurities are present in the film as a foreign phase, and the abundance can be determined by observation with a transmission electron microscope (TEM) or the like. The identification of the compound in the impurities is performed by Auger electron spectroscopy (AES), X
The abundance of each compound can be determined by the line photoelectron spectroscopy (ESCA) or the like.
Etc.

【0025】本発明における炭素質保護膜は、炭素をタ
ーゲットとしてスパッタ法により成膜する。
The carbonaceous protective film in the present invention is formed by sputtering using carbon as a target.

【0026】本発明におけるスパッタ法には特に制限は
なく、公知の種々の方法を採用することができる。通常
は、成膜レートが高いことから、マグネトロンスパッタ
法が好ましく用いられ、DCであってもRFであっても
よい。また、ホローカソードエンハンストマグネトロン
スパッタ法でもよい。
The sputtering method in the present invention is not particularly limited, and various known methods can be employed. Usually, a magnetron sputtering method is preferably used because the film forming rate is high, and DC or RF may be used. Further, a hollow cathode enhanced magnetron sputtering method may be used.

【0027】この場合、スパッタガス(衝撃ガス)によ
る放電能力をW/(F・M)[ここでは、Wは投入電力
(Joule/sec )であり、Fはスパッタガスの流量、Mは
スパッタガス分子量でF・Mの単位はkg/secである。]
で定義したとき、この値が5×107 〜109 Joule/k
g、このましくは1×108 〜6×108 Joule/kgとな
るような条件とする。
In this case, the discharge capacity by the sputter gas (impact gas) is W / (FM) [where W is the input power (Joule / sec), F is the flow rate of the sputter gas, and M is the sputter gas. The unit of FM in the molecular weight is kg / sec. ]
This value is 5 × 10 7 to 10 9 Joule / k
g, preferably 1 × 10 8 to 6 × 10 8 Joule / kg.

【0028】このようなスパッタ条件とすることによっ
て、膜中における不純物量を5体積%以下に抑えること
ができる。そして、W/(F・M)値が5×107 Joul
e/kg未満となると、炭素質膜に欠落が生じる。また、1
9Joule/kg をこえると、不純物量が5体積%をこえて
しまう。
Under such sputtering conditions, the amount of impurities in the film can be suppressed to 5% by volume or less. And the W / (FM) value is 5 × 10 7 Joul
If it is less than e / kg, the carbonaceous film will be chipped. Also, 1
If it exceeds 0 9 Joule / kg, the amount of impurities will exceed 5% by volume.

【0029】本発明におけるスパッタガスは、不純物の
生成を抑制し、スパッタ率が高いことなどから、不活性
ガスであるAr、KrおよびXeのうちの少なくとも1
種以上とすればよく、中でもArを用いることがコスト
等の面で有利である。
In the present invention, the sputter gas suppresses generation of impurities and has a high sputtering rate. Therefore, at least one of the inert gases Ar, Kr and Xe is used.
More than one kind may be used, and among them, the use of Ar is advantageous in terms of cost and the like.

【0030】さらに、スパッタの際の反応圧力は5Pa以
下とし、このときの下限は0.5Pa程度、そして、好ま
しくは4〜1Paとすればよい。このように圧力を低いも
のとすることによってターゲット表面での侵食領域が拡
がり、膜中への不純物の混入が減少する。
Further, the reaction pressure during sputtering is set to 5 Pa or less, and the lower limit at this time is about 0.5 Pa, and preferably 4 to 1 Pa. By reducing the pressure in this manner, the erosion area on the target surface is expanded, and the contamination of the film with impurities is reduced.

【0031】本発明における炭素質保護膜の膜厚は15
0〜500A、好ましくは200〜300Aとすればよ
い。このような膜厚とすることによって本発明の実効が
得られる。膜厚が150A未満となると保護膜としての
機能が低下し、500Aをこえるとスペーシングロスが
増大する。なお、膜厚は段差計等により測定すればよ
い。
In the present invention, the thickness of the carbonaceous protective film is 15
0 to 500A, preferably 200 to 300A. With such a thickness, the effect of the present invention can be obtained. When the film thickness is less than 150A, the function as a protective film decreases, and when it exceeds 500A, the spacing loss increases. Note that the film thickness may be measured by a step meter or the like.

【0032】また、本発明における炭素質保護膜は、実
質的にアモルファス状態であり、TEM写真およびX線
回析分析(XRD)の結果から確認することができる。
The carbonaceous protective film according to the present invention is substantially in an amorphous state, and can be confirmed from a TEM photograph and a result of X-ray diffraction analysis (XRD).

【0033】また、ラマン散乱スペクトル測定における
sp2 ピークに対するsp3 ピークの面積比[sp3
(面積)/sp2 (面積)]は3以下、好ましくは2以
下、特に実用的には0.5〜1.6であることが好まし
い。ピーク比を上記範囲とすることによって、十分な潤
滑性および耐久性を得ることができる。これに対し、ピ
ーク比が3をこえると、潤滑性および耐久性が悪くな
る。
The area ratio of the sp 3 peak to the sp 2 peak in the Raman scattering spectrum measurement [sp 3
(Area) / sp 2 (area)] is 3 or less, preferably 2 or less, and particularly preferably 0.5 to 1.6 for practical use. By setting the peak ratio in the above range, sufficient lubricity and durability can be obtained. On the other hand, if the peak ratio exceeds 3, lubricity and durability deteriorate.

【0034】本発明における炭素質保護膜は、潤滑性が
良好であることから表面保護膜としてはこれのみです
み、このほかに潤滑性を増すために新たに液体潤滑層を
設層する必要はなくなる。
Since the carbonaceous protective film of the present invention has good lubricating properties, it can be used only as a surface protective film. In addition to this, it is not necessary to provide a new liquid lubricating layer in order to increase lubricity. Disappears.

【0035】このような炭素質保護膜が設層されるハー
ドタイプの磁気ディスクについて説明する。
A hard type magnetic disk provided with such a carbonaceous protective film will be described.

【0036】<基体>本発明の磁気ディスクで用いる基
体は、非磁性の剛性材質であれば特に制限はなく、強磁
性薄膜蒸着時の熱に耐える各種樹脂、金属、セラミック
ス等はいずれも使用可能である。この場合、剛性基板と
しては、特に樹脂製の剛性基板であることが好ましい。
樹脂製の基板では耐久性が低下するので、本発明の効果
は増大する。なお、基板が剛性であるとは、いわゆるフ
ロッピーディスク用のフレキシブルな基板を排除する意
である。このため、基板のヤング率をE、厚さをtとし
たとき、E・t3 ≧1×107 dyn・cm、より好ましくは
E・t3 ≧3×107 dyn・cmであることが好ましい。
<Substrate> The substrate used in the magnetic disk of the present invention is not particularly limited as long as it is a non-magnetic rigid material. It is. In this case, it is particularly preferable that the rigid substrate is a rigid substrate made of resin.
Since the durability of the resin substrate is reduced, the effect of the present invention is increased. The rigidity of the substrate means that a flexible substrate for a so-called floppy disk is excluded. Therefore, when the Young's modulus of the substrate is E and the thickness is t, E · t 3 ≧ 1 × 10 7 dyn · cm, and more preferably E · t 3 ≧ 3 × 10 7 dyn · cm. preferable.

【0037】用いる樹脂には特に制限がなく、熱可塑性
樹脂、熱硬化性樹脂、放射線硬化性樹脂等何れの樹脂を
使用してもよい。
The resin used is not particularly limited, and any resin such as a thermoplastic resin, a thermosetting resin, and a radiation-curable resin may be used.

【0038】この場合、基板をキャスティング法で成型
する場合は、例えば、ポリウレタン、エポキシ樹脂、ア
クリル樹脂、ポリスチレン、ポリアミド、シリコーン樹
脂、ポリエステルおよびこれらの変性体等が使用でき
る。
In this case, when the substrate is molded by the casting method, for example, polyurethane, epoxy resin, acrylic resin, polystyrene, polyamide, silicone resin, polyester and modified products thereof can be used.

【0039】インジェクション法で成型する場合は、例
えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、塩化ビニル樹
脂、塩化ビニリデン樹脂、フッ化ビニリデン樹脂、ポリ
スチレン、アクリロニトリル−スチレン共重合体、アク
リロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体、アクリ
ル樹脂、ポリアミド、ポリカーボネート、、ポリアセタ
ール、ポリエステル、ポリサルホン、ポリオキシベンジ
レン、ポリエーテルサルホン、ポリエーテルケトン、ポ
リエーテルエーテルケトン、ポリフェニレンサルファイ
ド、ポリフェニレンエーテル、ポリフェニレンオキサイ
ド、ポリケトンサルファイド、ポリイミド、ポリアミド
イミド、ポリアクリルイミド、ポリエーテルイミド、ポ
リオレフィン、アモルファスポリオレフィンおよびこれ
らの変性体等が使用できる。
When molding by the injection method, for example, polyethylene, polypropylene, vinyl chloride resin, vinylidene chloride resin, vinylidene fluoride resin, polystyrene, acrylonitrile-styrene copolymer, acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer, acrylic resin , Polyamide, polycarbonate, polyacetal, polyester, polysulfone, polyoxybenzylene, polyethersulfone, polyetherketone, polyetheretherketone, polyphenylenesulfide, polyphenyleneether, polyphenyleneoxide, polyketonesulfide, polyimide, polyamideimide, polyacryl Uses imides, polyetherimides, polyolefins, amorphous polyolefins and their modified products Kill.

【0040】樹脂基板の寸法は目的に応じて選定すれば
よいが、通常、厚さ0.8〜1.9mm程度、直径60〜
130mm程度である。
The dimensions of the resin substrate may be selected according to the purpose, but usually the thickness is about 0.8 to 1.9 mm and the diameter is about 60 to
It is about 130 mm.

【0041】なお、剛性の基板としては、前記のとお
り、例えば、アルミニウム、アルミニウム合金等の金
属、ガラス、セラミックス等も使用可能である。また、
基板上には、下地層が設けられていてもよい。下地層の
材質には特に制限がなく、各種の無機材料、有機材料、
金属ないし合金等を用いればよく、成膜方法や膜厚等も
目的や用途等に応じて適宜選択すればよい。
As described above, as the rigid substrate, for example, metals such as aluminum and aluminum alloy, glass, ceramics and the like can be used. Also,
A base layer may be provided on the substrate. The material of the underlayer is not particularly limited, and various inorganic materials, organic materials,
A metal or an alloy may be used, and a film formation method, a film thickness, and the like may be appropriately selected depending on purposes, applications, and the like.

【0042】<磁性層>必要に応じて下地層を設けた基
板上には、直接あるいは中間層を介して磁性層が形成さ
れる。
<Magnetic Layer> A magnetic layer is formed directly or via an intermediate layer on a substrate provided with an underlayer if necessary.

【0043】本発明の磁性層は、強磁性薄膜である。薄
膜の材質は、例えば、Fe、CoおよびNiから選ばれ
る1種以上とすればよく、このものを含有する強磁性金
属の連続薄膜、特にCo系の連続薄膜で構成すればよ
い。
The magnetic layer of the present invention is a ferromagnetic thin film. The material of the thin film may be, for example, at least one selected from Fe, Co and Ni, and may be formed of a continuous thin film of a ferromagnetic metal containing the same, particularly a Co-based continuous thin film.

【0044】磁性層の組成の具体例としては、Co−N
i合金、Co−Ni−Cr合金、Co−Cr合金、Co
−Cr−B合金、Co−Cr−Mn合金、Co−Cr−
Mn−B合金、Co−Cr−Ta合金、Co−Cr−S
i−Al合金、Co−V合金、Co−Ni−P合金、C
o−P合金、Co−Zn−P合金、Co−Ni−Pt合
金、Co−Pt合金、Co−Ni−Mn−Re−P合金
等が挙げられる。なお、これら合金には、必要に応じ、
O、N、Si、Al、Mn、Ar等の元素が0.1重量
%程度以下含有されていてもよい。この他、γ−Fe2
3 等の強磁性の酸化物薄膜であってもよい。磁性層の
膜厚は、300〜1000A が好ましい。300A 未満
では、記録再生時における出力が不十分であり、100
0A をこえると出力は十分であるが、記録密度が低下す
るため、不利である。
As a specific example of the composition of the magnetic layer, Co-N
i-alloy, Co-Ni-Cr alloy, Co-Cr alloy, Co
-Cr-B alloy, Co-Cr-Mn alloy, Co-Cr-
Mn-B alloy, Co-Cr-Ta alloy, Co-Cr-S
i-Al alloy, Co-V alloy, Co-Ni-P alloy, C
o-P alloy, Co-Zn-P alloy, Co-Ni-Pt alloy, Co-Pt alloy, Co-Ni-Mn-Re-P alloy and the like. In addition, these alloys, if necessary,
Elements such as O, N, Si, Al, Mn, and Ar may be contained in an amount of about 0.1% by weight or less. In addition, γ-Fe 2
It may be a ferromagnetic oxide thin film such as O 3 . The thickness of the magnetic layer is preferably 300 to 1000A. If it is less than 300 A, the output during recording and reproduction is insufficient,
If it exceeds 0A, the output is sufficient, but it is disadvantageous because the recording density is reduced.

【0045】下地層と、磁性層との間には、必要に応じ
て、非磁性中間層が設けられる。例えば、磁性層をCo
−Ni、Co−Ni−Cr、Co−Cr、Co−Cr−
Ta、Co−Ni−P、Co−Zn−P、Co−Ni−
Mn−Re−P等にて構成する場合、非磁性中間層を設
けることにより、磁性層のエピタキシャル成長を良好に
行なうことができ、磁気特性が向上する。非磁性中間層
は、例えば、CrおよびWから選ばれる1種以上、特に
Crおよび/またはWを含有する連続薄膜にて構成すれ
ばよい。この場合、用いる金属は単体でも合金でもよい
が、合金の場合、前記金属を80重量%以上含有するこ
とが好ましい。
A non-magnetic intermediate layer is provided between the underlayer and the magnetic layer, if necessary. For example, if the magnetic layer is made of Co
-Ni, Co-Ni-Cr, Co-Cr, Co-Cr-
Ta, Co-Ni-P, Co-Zn-P, Co-Ni-
When the magnetic layer is made of Mn-Re-P or the like, the provision of the non-magnetic intermediate layer makes it possible to favorably perform epitaxial growth of the magnetic layer and improve magnetic properties. The nonmagnetic intermediate layer may be composed of, for example, a continuous thin film containing at least one selected from Cr and W, in particular, Cr and / or W. In this case, the metal to be used may be a simple substance or an alloy. In the case of an alloy, the metal is preferably contained in an amount of 80% by weight or more.

【0046】非磁性中間層の膜厚は、500〜5000
A が好ましい。500A 未満では、コバルト合金のエピ
タキシャル成長が十分に行なわれないため良好な磁気特
性が得られない。5000A をこえると、磁気特性が、
ほぼ一定値に収束してくるため、磁気特性上意味がな
く、量産上不利である。
The thickness of the non-magnetic intermediate layer is 500 to 5000
A is preferred. If it is less than 500 A, the epitaxial growth of the cobalt alloy is not sufficiently performed, so that good magnetic properties cannot be obtained. When it exceeds 5000A, the magnetic properties become
Since it converges to a substantially constant value, it has no meaning in magnetic properties and is disadvantageous in mass production.

【0047】このような非磁性中間層や前記磁性層は、
それぞれ、蒸着、スパッタ、イオンプレーティング、C
VD等の各種気相成膜法にて成膜すればよく、特にスパ
ッタにて成膜することが好ましい。
The non-magnetic intermediate layer and the magnetic layer are
Respectively, evaporation, sputtering, ion plating, C
The film may be formed by various vapor deposition methods such as VD, and particularly preferably formed by sputtering.

【0048】本発明では、前記のように炭素質保護膜の
みで、磁性層と炭素質保護膜との間には別の保護膜を必
ずしも介在させる必要はないが、場合によっては、磁性
層上にプラズマ重合膜等の保護膜を設け、この保護膜上
にさらに本発明の炭素質保護膜を設けるようにしてもよ
い。
In the present invention, as described above, only the carbonaceous protective film is used, and it is not necessary to intervene another protective film between the magnetic layer and the carbonaceous protective film. May be provided with a protective film such as a plasma polymerized film, and the carbonaceous protective film of the present invention may be further provided on this protective film.

【0049】<媒体構造>本発明の磁気記録媒体におい
ては基板には、溝を形成することが好ましい。溝の形
状、パターン、寸法等には特に制限がないが、溝をディ
スクの周方向に形成することが好ましい。溝は、基板を
回転させながら研磨テープ等を作用させ、基板表面に、
同心円状等に不規則に形成したいわゆるテクスチャー加
工による溝であっても、基板表面に成形時に同心円状、
渦巻状等に規則的に形成した溝であっても、あるいは、
両者であってもよい。規則的な溝は、トラッキング用の
グルーブとして使用することができ、記録密度が向上す
る。
<Medium Structure> In the magnetic recording medium of the present invention, it is preferable to form a groove in the substrate. There are no particular restrictions on the shape, pattern, dimensions, etc. of the groove, but it is preferable to form the groove in the circumferential direction of the disk. The grooves are made to act on the surface of the substrate by applying a polishing tape or the like while rotating the substrate.
Even grooves formed by so-called texture processing formed irregularly in concentric circles, etc., are concentric,
Even if it is a groove formed regularly in a spiral shape, or
Both may be used. The regular grooves can be used as grooves for tracking, and the recording density is improved.

【0050】このような場合の溝の寸法や溝配置間隔
は、溝の幅が0.1〜10μm 、特に0.5〜2μm 程
度、溝間間隙が0.1〜10μm 、特に0.5〜2μm
程度、溝の深さが100〜5000A 、特に500〜1
000A 程度が好ましい。
In such a case, the groove dimensions and the groove arrangement interval are such that the groove width is 0.1 to 10 μm, particularly about 0.5 to 2 μm, and the gap between the grooves is 0.1 to 10 μm, especially 0.5 to 10 μm. 2 μm
Degree, groove depth 100-5000A, especially 500-1
It is preferably about 000A.

【0051】なお、グルーブには情報が記録されないた
め、グルーブは磁気ヘッドの位置に関係なくガードバン
ドとなる。このため、基板に、グルーブを設ければ、ト
ラッキングサーボの精度が比較的低くて済み、サーボ信
号に使用される記録面の面積を少なくできる。また、隣
接トラックからのクロストークが著しく減少する。
Since no information is recorded in the groove, the groove becomes a guard band regardless of the position of the magnetic head. For this reason, if grooves are provided on the substrate, the accuracy of tracking servo can be relatively low, and the area of the recording surface used for servo signals can be reduced. Also, crosstalk from adjacent tracks is significantly reduced.

【0052】また、連続薄膜型の磁性層の場合、ディス
ク周方向に、前記寸法の溝を特に規則的に形成するとき
には、磁性層のクラック発生がより一層防止され、ディ
スク周方向の配向性が向上し、ディスク周方向の保磁力
が向上する。
In the case of a continuous thin film type magnetic layer, when grooves having the above dimensions are formed regularly in the circumferential direction of the disk, cracks in the magnetic layer are further prevented, and the orientation in the circumferential direction of the disk is reduced. And the coercive force in the disk circumferential direction is improved.

【0053】また、以上では、主に片面記録型磁気ディ
スクを説明してきたが、本発明は、両面記録型の磁気デ
ィスクであってもよい。
In the above description, a single-sided recording type magnetic disk has been mainly described, but the present invention may be applied to a double-sided recording type magnetic disk.

【0054】<記録再生>このような磁気ディスク媒体
と組合わせて用いられる磁気ヘッドは、浮上型磁気ヘッ
ドである。浮上型磁気ヘッドとしては、メタル・イン・
ギャップ(MIG)型の磁気ヘッドまたは薄膜型の磁気
ヘッドが好適である。
<Recording / Reproducing> The magnetic head used in combination with such a magnetic disk medium is a floating magnetic head. As a floating magnetic head, metal-in-
A gap (MIG) type magnetic head or a thin film type magnetic head is preferable.

【0055】MIG型磁気ヘッドは、一対のコアの少な
くとも一方のギャップ部対向面に、これらのコアよりも
飽和磁束密度の高い軟磁性薄膜を有する磁気ヘッドであ
る。MIG型磁気ヘッドでは、軟磁性薄膜から強力な磁
束を磁性層に印加できるため、高い保磁力を有する磁性
層に有効な記録を行なうことができる。また、本発明で
は、MIG型の磁気ヘッドの1種であるいわゆるエンハ
ンスト・デュアルギャップ・レングス(EDG)型の磁
気ヘッドを用いてもよい。
The MIG type magnetic head is a magnetic head having a soft magnetic thin film having a higher saturation magnetic flux density than at least one of the pair of cores on the surface facing the gap. In the MIG type magnetic head, since a strong magnetic flux can be applied to the magnetic layer from the soft magnetic thin film, effective recording can be performed on the magnetic layer having a high coercive force. Further, in the present invention, a so-called enhanced dual gap length (EDG) type magnetic head, which is one type of MIG type magnetic head, may be used.

【0056】MIG型ヘッドは、スライダ本体とコアが
一体となっているモノリシックヘッドであっても、非極
性のスライダ本体の一部にフェライトコアを埋め込んだ
コンポジットヘッドであってもよい。モノリシックヘッ
ドにあっては、エアベアリング面はコア材質であるMn
−Znフェライト等のフェライトから構成される。ま
た、コンポジットヘッドのスライダは、一般にCaTi
3 等から構成される。
The MIG type head may be a monolithic head in which the slider body and the core are integrated, or a composite head in which a ferrite core is embedded in a part of the non-polar slider body. In a monolithic head, the air bearing surface is a core material Mn.
-It is composed of ferrite such as Zn ferrite. Also, the slider of the composite head is generally made of CaTi
O 3 and the like.

【0057】さらに、薄膜ヘッドのスライダ本体は、一
般にAl23 ・TiC等から形成される。
Further, the slider body of the thin film head is generally formed of Al 2 O 3 .TiC or the like.

【0058】このような浮上型ヘッドの浮上量は、スラ
イダの形状変更、ジンバル、サスペンション等の荷重変
更、磁気ディスクの回転数の変更などにより種々の値に
設定することができる。本発明では通常、デジタル信号
を記録するので、飽和記録を行なう。また、飽和記録を
行なうので、オーバーライト記録が可能である。
The flying height of such a flying head can be set to various values by changing the shape of the slider, changing the load on the gimbal or suspension, changing the rotational speed of the magnetic disk, and the like. In the present invention, since a digital signal is usually recorded, saturation recording is performed. In addition, since the saturation recording is performed, overwrite recording is possible.

【0059】[0059]

【実施例】以下、本発明を実施例によって具体的に説明
する。
The present invention will be specifically described below with reference to examples.

【0060】実施例1 外径3.5インチ、厚さ1.27mmのポリカーボネート
製のディスク状剛性基板を射出成形により製造した。こ
の基板表面にはグルーブを形成した。
Example 1 A polycarbonate disk-shaped rigid substrate having an outer diameter of 3.5 inches and a thickness of 1.27 mm was produced by injection molding. Grooves were formed on the substrate surface.

【0061】グルーブは、ディスクの周方向に形成し、
断面はほぼ矩形とし、その寸法は幅0.8μm 、ランド
部幅0.8μm 、深さ400〜700A とした。この基
板上に、CH4 を原料ガスとして用いて、膜厚200A
のプラズマ重合膜の下地層を形成した。この下地層上に
膜厚500A のCo−Ni−Cr磁性層を成膜した。磁
性層の成膜は、DC−マグネトロンスパッタにて行なっ
た。スパッタ条件は動作圧力を1Paとし、Ar雰囲気
中で行った。なお、ターゲットは、Co70Ni20Cr10
を用いた。これを磁気ディスクサンプルNo. 1とする。
The groove is formed in the circumferential direction of the disk,
The cross section was substantially rectangular, and the dimensions were 0.8 μm in width, 0.8 μm in land width, and 400 to 700 A in depth. On this substrate, using CH 4 as a source gas, a film thickness of 200 A
The underlayer of the plasma polymerized film was formed. On this underlayer, a Co—Ni—Cr magnetic layer having a thickness of 500 A was formed. The magnetic layer was formed by DC-magnetron sputtering. Sputtering was performed in an Ar atmosphere with an operating pressure of 1 Pa. The target was Co 70 Ni 20 Cr 10
Was used. This is designated as magnetic disk sample No. 1.

【0062】磁気ディスクサンプルNo. 1において、表
1に示すような条件でDC−マグネトロンスパッタによ
り、磁性層上に炭素質保護膜を形成するほかは、同様に
して磁気ディスクサンプルNo. 2〜No. 7を作製した。
In magnetic disk sample No. 1, magnetic disk sample Nos. 2 to No. 2 were similarly formed except that a carbonaceous protective film was formed on the magnetic layer by DC-magnetron sputtering under the conditions shown in Table 1. .7 were prepared.

【0063】[0063]

【表1】 [Table 1]

【0064】なお、磁気ディスクサンプルNo. 2〜No.
7において、不純物の大部分は金属炭化物と考えられ、
主にFeC等と推定される。
The magnetic disk samples No. 2 to No.
In 7, most of the impurities are considered to be metal carbides,
It is presumed to be mainly FeC.

【0065】これらの不純物は、TEM観察によると、
異相として存在し、TEM写真像からその存在量(体積
%)を求めた。これらのうち、サンプルNo.2とサン
プルNo.4の炭素質保護膜のTEM写真像を図1、図
2にそれぞれ示す。この結果、図1では不純物の存在が
ほとんど観察されないのに対し、図2では不純物が存在
することがわかった。なお、図2において、不純物が異
相として存在する部分は黒く丸く見える部分である。こ
の写真におけるこれら黒く丸く見える部分の、全体に対
する比率を求めることにより、存在量を算出した。
According to TEM observation, these impurities are:
It was present as a foreign phase, and its abundance (% by volume) was determined from a TEM photograph image. Among these, sample No. 2 and sample no. TEM photographic images of the carbonaceous protective film No. 4 are shown in FIGS. 1 and 2, respectively. As a result, it was found that almost no impurities were observed in FIG. 1, whereas impurities were present in FIG. In FIG. 2, the portion where impurities exist as a different phase is a portion that looks black and round. The abundance was calculated by calculating the ratio of these black and round portions in the photograph to the whole.

【0066】また、図3および図4に、サンプルNo. 2
とサンプルNo. 4のX線回析写真を示す。これらの写真
から、ともに炭素質膜はアモルファス状態であることを
示している。
FIGS. 3 and 4 show sample No. 2
And X-ray diffraction photographs of Sample No. 4 are shown. These photographs show that the carbonaceous film is in an amorphous state.

【0067】さらに、図5および図6に、サンプルNo.
2とサンプルNo. 4のラマン散乱スペクトルを示す。こ
のスペクトルから、各サンプルについて、sp2 ピーク
とsp3 ピークとの分離を行ない、sp2 ピークに対す
るsp3 ピークの面積強度比を計算した。この結果も表
1に示す。
FIGS. 5 and 6 show sample No.
2 shows Raman scattering spectra of Sample No. 2 and Sample No. 4. From this spectrum, for each sample, the sp 2 peak and the sp 3 peak were separated, and the area intensity ratio of the sp 3 peak to the sp 2 peak was calculated. The results are also shown in Table 1.

【0068】また、炭素質保護膜の膜厚は、いずれも2
50Aとし、段差計により測定した。
The thickness of the carbonaceous protective film was 2
It was set to 50 A and measured with a step meter.

【0069】次に、上記磁気ディスクサンプルNo. 1〜
No. 7について、チタン酸カルシウムスライダーのコン
ポジットヘッドを用いて以下の評価を行なった。
Next, the magnetic disk sample Nos.
For No. 7, the following evaluation was performed using a composite head of a calcium titanate slider.

【0070】(1)CSS特性 プラス社製3.5”磁気ディスクドライブを用い、CS
Sの1パスを、静止時間10秒→立ち上がり時間5秒→
定常回転の時間10秒→立ち下がり時間30秒と定義
し、定常状態のディスクの回転数を3600rpm とし、
ディスク中心から22mmの位置で、ディスクの摩擦係数
が1.0以上になったとき、または、磁性層に傷が発生
したときのパス回数を求めた。
(1) CSS Characteristics Using a 3.5 "magnetic disk drive manufactured by Plus, CS
One pass of S, rest time 10 seconds → rise time 5 seconds →
The time of steady rotation is defined as 10 seconds → the fall time is 30 seconds, the rotation speed of the disk in the steady state is 3600 rpm,
At the position 22 mm from the center of the disk, the number of passes when the friction coefficient of the disk became 1.0 or more, or when the magnetic layer was damaged was determined.

【0071】(2)摩擦係数μ(1rpm ) 1rpm でディスクを回転し、ヘッドにかかる応力を測定
し、これからμを算出した。荷重は15 gとしてた。
(2) Coefficient of friction μ (1 rpm) The disk was rotated at 1 rpm, the stress applied to the head was measured, and μ was calculated from this. The load was 15 g.

【0072】(3)摩擦係数変化△μ(100rpm ) 100rpm でディスクを回転し、ヘッドにかかる応力を
測定し、これから摩擦係数を算出した。荷重は15 gと
した。そして、時間0のときの摩擦係数を基準とし、3
0分摺動後の摩擦係数の変化率△μ(%)を求めた。
(3) Change in friction coefficient Δμ (100 rpm) The disk was rotated at 100 rpm, the stress applied to the head was measured, and the friction coefficient was calculated from this. The load was 15 g. Then, based on the friction coefficient at time 0, 3
The rate of change of the friction coefficient after sliding for 0 minutes Δμ (%) was determined.

【0073】(4)摩擦係数μ(50℃80%RH) 50℃80%RH中に1週間保存後、1rpm でディスク
を回転し、ヘッドにかかる応力を測定し、これからμを
算出した。荷重は15 gとした。
(4) Coefficient of friction μ (50 ° C., 80% RH) After storage in 50 ° C., 80% RH for one week, the disk was rotated at 1 rpm, the stress applied to the head was measured, and μ was calculated from this. The load was 15 g.

【0074】(5)摩擦係数変化△μ(1rpm ) CSSを1万パス後に1rpm で測定した摩擦係数を、初
期に測定した摩擦係数にて除した値を求め、初期より何
倍になっているかを計算した。結果を表2に示す。
(5) Change in friction coefficient Δμ (1 rpm) A value obtained by dividing the friction coefficient measured at 1 rpm after 10,000 passes of the CSS by the friction coefficient measured at the beginning is obtained. Was calculated. Table 2 shows the results.

【0075】[0075]

【表2】 [Table 2]

【0076】表2から、本発明の効果は明らかである。From Table 2, the effect of the present invention is clear.

【0077】[0077]

【発明の効果】本発明によれば、摩擦特性および耐久性
に優れたものとなる。
According to the present invention, the friction characteristics and the durability are excellent.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】粒子構造を示す図面代用写真であり、サンプル
No. 2の炭素質保護膜のTEM写真像である。
FIG. 1 is a drawing substitute photograph showing a particle structure, and is a sample.
It is a TEM photograph image of No. 2 carbonaceous protective film.

【図2】粒子構造を示す図面代用写真であり、サンプル
No. 4の炭素質保護膜のTEM写真像である。
FIG. 2 is a drawing substitute photograph showing a particle structure, and is a sample.
It is a TEM photograph image of No. 4 carbonaceous protective film.

【図3】粒子構造を示す図面代用写真であり、サンプル
No. 2の炭素質保護膜のX線回析写真である。
FIG. 3 is a drawing substitute photograph showing a particle structure, and is a sample.
5 is an X-ray diffraction photograph of the carbonaceous protective film of No. 2.

【図4】粒子構造を示す図面代用写真であり、サンプル
No. 4の炭素質保護膜のX線回析写真である。
FIG. 4 is a drawing substitute photograph showing a particle structure, and is a sample.
6 is an X-ray diffraction photograph of the carbonaceous protective film of No. 4.

【図5】サンプルNo. 2の炭素質保護膜のラマン散乱ス
ペクトルの結果を示すグラフである。
FIG. 5 is a graph showing a result of a Raman scattering spectrum of the carbonaceous protective film of Sample No. 2.

【図6】サンプルNo. 4の炭素質保護膜のラマン散乱ス
ペクトルの結果を示すグラフである。
FIG. 6 is a graph showing a result of a Raman scattering spectrum of the carbonaceous protective film of Sample No. 4.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 徳岡 保導 東京都中央区日本橋一丁目13番1号 テ ィーディーケイ株式会社内 (56)参考文献 特開 平2−25570(JP,A) 特開 平2−29919(JP,A) 特開 昭64−241124(JP,A) 特開 平1−298097(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G11B 5/72 G11B 5/84 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Yasunori Tokuoka 1-1-13 Nihonbashi, Chuo-ku, Tokyo Inside TDK Corporation (56) References JP-A-2-25570 (JP, A) JP-A-Hei 2-29919 (JP, A) JP-A-64-241124 (JP, A) JP-A-1-298097 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) G11B 5/72 G11B 5/84

Claims (6)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 基体上に強磁性薄膜を有し、この強磁性
薄膜上に炭素質保護膜を有する磁気記録媒体において、 前記炭素質保護膜はスパッタ法により作製したものであ
り、 前記炭素質保護膜中に異相として存在する不純物量が5
体積%以下であり、かつ前記炭素質保護膜は実質的にア
モルファス状態とする磁気記録媒体。
1. A magnetic recording medium having a ferromagnetic thin film on a substrate and a carbonaceous protective film on the ferromagnetic thin film, wherein the carbonaceous protective film is formed by a sputtering method. The amount of impurities existing as a different phase in the protective film is 5
A magnetic recording medium having a volume percent or less and the carbonaceous protective film being substantially in an amorphous state.
【請求項2】 前記炭素質保護膜の膜厚が150〜50
0Aである請求項1に記載の磁気記録媒体。
2. The carbonaceous protective film has a thickness of 150 to 50.
2. The magnetic recording medium according to claim 1, wherein the magnetic recording medium is 0 A.
【請求項3】 前記炭素質保護膜は、ラマン散乱スペク
トルの測定で、sp2 ピークに対するsp3 ピークの面
積比[sp3 (面積)/sp2 (面積)]が3以下であ
る請求項1または2に記載の磁気記録媒体。
3. The carbonaceous protective film has an area ratio [sp 3 (area) / sp 2 (area)] of an sp 3 peak to an sp 2 peak measured by Raman scattering spectrum of 3 or less. Or the magnetic recording medium according to 2.
【請求項4】 前記強磁性薄膜は強磁性金属の連続薄膜
である請求項1ないし3のいずれかに記載の磁気記録媒
体。
4. The magnetic recording medium according to claim 1, wherein said ferromagnetic thin film is a continuous thin film of a ferromagnetic metal.
【請求項5】 基体上に強磁性薄膜を有し、この強磁性
薄膜上に炭素質保護膜を有する磁気記録媒体を製造する
に際し、 前記炭素質保護膜をスパッタ法により作製し、このスパ
ッタに際し、スパッタガスによる放電能力をW/(F・
M)[ここで、Wは投入電力(Joule/sec )であり、F
はスパッタガスの流量、Mはスパッタガス分子量でF・
Mの単位はkg/secである。]で定義したとき、この値が
5×107 〜109 Joule/kgであり、かつ反応圧力が5
Pa以下である磁気記録媒体の製造方法。
5. When manufacturing a magnetic recording medium having a ferromagnetic thin film on a substrate and a carbonaceous protective film on the ferromagnetic thin film, the carbonaceous protective film is formed by a sputtering method. , The discharge capacity by sputtering gas is W / (F ·
M) [where W is the input power (Joule / sec) and F
Is the flow rate of the sputtering gas, M is the molecular weight of the sputtering gas and F ·
The unit of M is kg / sec. When the reaction pressure is 5 × 10 7 to 10 9 Joule / kg, the reaction pressure is 5 × 10 7 to 10 9 Joule / kg.
A method for producing a magnetic recording medium having a Pa or lower.
【請求項6】 前記スパッタガスが、Ar、Krおよび
Xeのうちの少なくとも1種以上である請求項5に記載
の磁気記録媒体の製造方法。
6. The method according to claim 5, wherein the sputtering gas is at least one of Ar, Kr, and Xe.
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