JP3073908B2 - 表示素子 - Google Patents

表示素子

Info

Publication number
JP3073908B2
JP3073908B2 JP07079346A JP7934695A JP3073908B2 JP 3073908 B2 JP3073908 B2 JP 3073908B2 JP 07079346 A JP07079346 A JP 07079346A JP 7934695 A JP7934695 A JP 7934695A JP 3073908 B2 JP3073908 B2 JP 3073908B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
layer
display element
transparent
electrode
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP07079346A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0850284A (ja
Inventor
シルヴァーブルック キア
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
Publication of JPH0850284A publication Critical patent/JPH0850284A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3073908B2 publication Critical patent/JP3073908B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Liquid Crystal (AREA)
  • Liquid Crystal Display Device Control (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はコンピュ−タ画像やビデ
オ画像を表示するのに用いられるコンピューターディス
プレイやテレビジョンの如きカラー表示素子に関し、特
にかかる表示についてコントラストを改善した表示素子
に関する。
【0002】
【従来の技術】本発明の従来技術について図面を参照し
ながら説明する。図1は液晶表示素子の基本的な駆動に
ついて説明するための図であり、図2は液晶素子の1部
分を示した平面図であり、図3は図2のA−A線の断面
図である。
【0003】図1により、強誘電性液晶素子2の基本的
な駆動が説明される。強誘電性液晶素子2は、1対の電
極基板(通常は透明電極で被覆されたガラス基板からな
る)3及び4と当該電極基板間に配置され、かつ、当該
電極基板に対し垂直な分子層5を有する強誘電性液晶層
とからなる。かかる強誘電液晶はカイラルスメクチック
C相又はH相を呈し、そのカイラルスメクチック相に固
有のらせん構造を解除するのに十分に薄い厚さ(例えば
0.5〜5ミクロン)で配置されている。
【0004】ある一定のしきい値を越える電界E(又は
−E)6が上下基板3及び4の間に印加される時、液晶
分子5はその電界に従って配向する。1つの液晶分子は
細長い形状を有し、その長軸と単軸との間で屈折率異方
性を示す。従って、強誘電性液晶素子2が不図示の一対
の直交偏光子間に挟持されるならば、液晶光変調素子が
得られるであろう。
【0005】ある一定のしきい値を越える電界(E)6
が印加されると、液晶分子5は第1の分極配向状態7に
配列する。さらに、逆向きの電界(−E)が印加される
と、液晶分子5は第2の分極配向状態8に配列する。こ
れらの配向状態は印加された電界E又は−Eが逆向きの
一定のしきい値を越えない限り保持される。
【0006】液晶表示上に画像を表示する際は、表示さ
れる画像の明るさを最大限にするのが望ましい。フラッ
トパネル表示方式においては、この明るさはしばしばバ
ックライトにより達成される。従って、そのバックライ
トから表示素子を通って移動できる光の部分を最大限に
するのが望ましい。しかしながら、高いコントラスト比
を確保するには100%の光がパネル素子を通過するよ
うに制御されることを確実にする必要がしばしば生じ
る。液晶型の素子においては、これは光の移動がないエ
リアか、あるいは、さらに後述するようにある一定の制
御信号の状態に依存して光の通過を可能にする表示部に
より制御されるエリアのいずれかを用いることによって
確実なものとすることができる。
【0007】図2および図3は、より詳細な液晶表示素
子10の構成要素について説明するための図である。図
2は一部の内部構造が描かれたその表示素子10の平面
図であり、図3は図2のA−A線における表示素子10
の一画素の断面図である。その表示構造体10は、ガラ
ス板でできた下基板11及び上基板12からなる一対の
基板が、その基板間に位置する分散したスペーサー13
により所定の間隔で離れて保持されている形態を採って
いる。基板11、12は分布させられた後再びその基板
間に置かれた接着剤14の液滴により一緒に保持され全
体的なセル構造を形成している。フルカラー表示素子を
形成するのが望まれる場合、さまざまなカラーフィルタ
ー28、29、30を公知の方法で上基板12の底部に
設けることができる。
【0008】上基板12の底部表面上に次に形成される
のが電極構造であり、表示素子内に電界を発生させるべ
く情報電圧を印加するための駆動層を構成する。駆動層
は、対応する金属の駆動線16、71、33、32、2
4、72と所定のパターンにより接続されたIn
2 2 、SnO2 あるいはITO(インジウム−チン−
オキサイド)からなる多数の透明電極15、69、70
からなる。金属の駆動線は各透明電極を取り囲んでお
り、1つの電極のある部分から別の部分への電圧降下を
最小限にするように電極の抵抗を低くしている。
【0009】一方の基板11の上には複数のコモン金属
細線17を含んだコモン層からなる別の電極群が接続さ
れており、それに複数の透明なコモン電極群19が接続
されている。透明コモン電極群19は、対応する透明駆
動層電極群15の下に並べられ、かつ、実質的に垂直に
広がっている。電気的な駆動手段(不図示)は、通常は
各対応駆動層電極15とその下に配置されたコモン透明
電極19との間に電界を発生させるように設けられてい
る。
【0010】2枚のガラス基板11、12の間には、電
界に対して双安定の分極状態を有する液晶材料(不図
示)が配置されている。液晶の例としてはカイラルスメ
クチック液晶が挙げられ、中でも特に、カイラルスメク
チックC相(SmC* )又はH相(SmH* )を呈する
ものが挙げられる。
【0011】表示素子の背後にある光源27は、偏光シ
ート21、22と共に用いられ、その結果、液晶が第1
の分極状態にあるときは、光は表示素子10を通過する
のをさえぎられ、また、液晶が第2の分極状態にあると
きは、光は透明電極、例えば15及び19を通して表示
素子を横切ることができる。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】上述したタイプの表示
素子を作成する場合、ある一定の最小限度の設計規則が
用いられなければならない。例えば、配列の不正確さや
さまざまな層の作成方法のために、隣接する金属の駆動
線32及び24の間には一定の最小分離間隔が保持され
なければならない。さらに、上基板12と下基板11の
相対的な移動の他に、下基板上のコモン電極群と上基板
上の対応する電極群とのアライメント(配列)にある程
度の不正確さが生じることがある。
【0013】下基板に対する上基板の相対移動は、もし
それが各画素の点灯エリアの変更をもたらすならば、点
灯エリアの変更は表示される画像に結果として変化を生
じさせるので一つの重要な問題点となる。
【0014】上記の分離間隔と配列の問題は、単にある
一定の全体的な所定の最小限度の設計規則あるいは製造
上の許容誤差を用いることにより処理することができ
る。
【0015】説明のために、用いられる設計規則はどの
金属線の最小厚みも10μmであるというように仮定す
る。どの2つの電気的に絶縁されたエリアも短絡する危
険なしに分離されなければならない最小距離もまた10
μmと仮定する。同様に、2枚の上張り付きの基板の最
小の誤配列あるいは移動の許容範囲は約5μmである。
実際問題として実行されなければならない現実の設計規
則は用いられる装置の種類や製造方法に応じて変更され
る。
【0016】2枚の基板を正しく配列させる必要性は、
特にそれぞれ個々の画素の大きさが減少するので重要で
ある。上述したように、表示素子の配列の変動は結果的
に正確に画像を再現できなくなる表示画素サイズの変更
という結果をもたらす場合がある。
【0017】図3の表示素子は、下基板11に対する上
基板12の横又は縦のいずれかの方向における誤配列ま
たは移動35の結果を考慮に入れて設計されている。先
に述べたように、データ線上の1つの画素を決める各透
明電極15あるいは上基板12は金属縁32で囲まれて
いる。これらの金属縁は下基板コモン金属線31の対応
する金属部の上に張り出すように設計されている。その
張り出し幅34は、関連する設計規則に適応できるよう
になっており、この場合においてはコモン金属層31の
それぞれの側で5μmである。さらに、コモン金属層3
1の幅は情報層36に関して5μmの移動を可能にする
に違いない。従って、5μmの上張りが必要となる。
【0018】そのため不透明な光遮断金属線37に向け
られる各画素の合計部分は約30μmである。もし各画
素が約60μmの幅であれば、これは有効な開口部エリ
アの減少、ひいては各画素の明るさの本質的な減少を意
味する。しかしながら、上記原理に従って設計された表
示素子は、1つの基板の他の基板に関連する移動を対応
する画素サイズを変えることなく横又は縦方向において
5μmまでまさに許容している。
【0019】画素エレメントの透明エリアの減少は、対
応する個々の表示の光度の減少をもたらし、また逆に、
必要となるバックライティングの量を実質的に増加させ
る場合がある。これは表示素子中に例えば、携帯用のコ
ンピューターやテレビジョンのようなそれ自身バッテリ
ー電源を有しているポータブルシステムを導入する際に
は特に不利である。
【0020】本発明の目的は、横又は縦方向において表
示素子の基板のいくらかの相対移動を同時に可能にしつ
つ増加した光度を与える表示素子を提供することにあ
る。
【0021】
【課題を解決するための手段及び作用】上記目的を達成
するために、本発明の1つの好ましい態様によれば、第
1基板と第2基板とからなり、該第1基板上に複数の隣
接する平面的な画素電極構造が設けられており、その画
素電極構造は実質的に不透明な電極部、実質的に透明な
電極部を含んでおり、又、該第1基板はその上の画素開
口部を定める所定位置を除き、上記実質的に透明な絶縁
部を通過する光を遮断するように配置された複数の実質
的に不透明なブロッキング部からなることを特徴とする
表示素子が提供される。
【0022】上記表示素子においては、該第1基板と該
第2基板との間の小さな誤配列が該第2基板から該第1
基板の開口部を通過する光の量を実質的に変更しないこ
とが望ましい。
【0023】また、上記表示素子においては、該実質的
に不透明なブロッキング部はそれぞれ所定間隔で隣接す
る実質的に不透明なブロッキング部から電気的に隔離さ
れていることが望ましい。この場合、該実質的に不透明
なブロッキング部はそれぞれ1つの画素電極を基準とし
て隔離されているのが望ましい。
【0024】本発明の表示素子に用いられる第1基板
は、さらに該画素電極群と該不透明なブロッキング部と
の間に透明な電気絶縁層を有しているのが好ましい。ま
た、該不透明なブロッキング部は金属、特にアルミニウ
ム又はモリブデンであるのが好ましい。
【0025】本発明の表示素子はさらに該透明電極部を
通過するフィルター光に適合させたカラーフィルター層
を有するのが好ましい。
【0026】また、本発明の表示素子においては、不透
明なブロッキング部は該カラーフィルター層と該画素電
極構造の中間にあるのが望ましい。
【0027】本発明の表示素子用の第2基板は、複数の
金属細線からなる複数のコモン電極群を有し、且つ、該
金属細線はそれぞれ該金属細線と平行に配置されている
対応する透明電極細線と接続されているのが好ましい。
【0028】本発明の表示素子において、第1基板上の
画素電極群は実質的に平行な1列単位で配置され、そし
て第2基板上のコモン電極群は実質的に平行な1行単位
で配置されており、該画素電極群と該コモン電極群とは
実質的に互いに垂直であるのが望ましい。
【0029】
【実施例】本発明の好ましい態様を実施例として図面を
参照しながら説明するが、本発明はこれらに限定される
ものではない。
【0030】図4は本発明の表示素子の一例を示す断面
図である。図4を参照すると、表示素子43の開口部の
比率あるいは明るさがコントラスト増加層46、47、
74を使用することにより増加する。コントラスト増加
層は、下基板45と上基板44の位置合わせの際の位置
ずれをなおも可能にしながら考えられる透明電極エリア
を増加させ、結果的にパネルの明るさを増加させる。こ
のコントラスト増加層46、47、74は光を受けるサ
ブピクセルとしての不透明マスクを提供し、また、上基
板44に一体化された部分として形成されている。従っ
て、下基板に対する上基板の移動という従来の設計に関
連した誤配列の問題は生じない。上記コントラスト増加
層46、47、74は従来用いられていた例えば図3に
おける31のようなコモン金属層の部分の代わりに用い
られており、必要とされるカラーフィルター48を配設
した後に配置することができる。
【0031】図5乃至図8は、コントラスト増加層を中
に組み込んだ表示素子の種々の層部分を示したものであ
る。
【0032】図5は、データ線駆動線49とデータ線透
明層50を示す。カラー再生用に設計されたこの実施態
様においては、表示素子は1画素が破線62で仕切られ
た領域である多数の画素からなる。各画素62はデータ
線層とコモン線層とが交差した部分により構成されてお
り、赤の電極エリア63、緑の電極エリア64及び青の
電極エリア65に仕切られた情報(データ)電極エリア
を含む。各電極エリアは4レベルの明るさを表示でき
る。例えば、赤エリア透明電極50、51、52を用い
ることにより、各画素につき4種類の明るさの赤レベル
を作り出すことができる。この4種類の明るさの赤レベ
ルは、各透明電極が非点灯状態にあるゼロレベル、透明
電極51のみが点灯状態にセットされている第1の点灯
状態、透明電極50と52(両者ともに同じ駆動線66
に接続されている)が光を受けている第2の点灯状態、
及びそれによって全ての透明電極50、51、52が光
を受けることになる第3の点灯状態の4つのレベルであ
る。もちろん、もし各色につきより多くのレベルが必要
であれば、さらに透明電極及び駆動線を設けてもよい。
【0033】図6は、図5に示されるようなデータ線層
部分に相当する図4の上基板44のコントラスト増加層
53の部分を示す。この層は、内部に仕切られた多数の
開口部54を有する不透明部を含んでいる。これらの開
口部54は光を通すために用いられ、その偏光は、例え
ば図5の対応するデータ線透明電極50により制御され
るであろう。
【0034】コントラスト増加層53を用い、かつ、コ
モン線層及びデータ線層の各透明電極をかなりの重複部
分を有する金属の駆動線で取り囲む必要性を取り除くこ
とにより、上述した設計規則により決定されるようなサ
ブピクセルの透明部分の間隔を10μmまで減らすこと
ができる。
【0035】コントラスト増加層53が表示動作を可能
にするのに十分に平坦であることを確保するには、コン
トラスト増加層53は非常に薄く(1μm以下)するの
が好ましい。これらの制約のためにコントラスト増加層
に用いられる材料は高い電子移動度をもちやすく、そし
て、コントラスト増加層53自体かなりの導電性である
場合がある。コントラスト増加層53として好適に用い
られる材料は金属、特にモリブデンである。これは、モ
リブデンが適用しやすく、ガラスに対し良好な接着力を
もち、そして容易に高い解像度をもつようにパターニン
グできるからである。
【0036】再び図4を参照すると、コントラスト増加
層53の導電率は、下に配置されたデータ(情報)駆動
線49あるいは下に配置された透明情報電極50からコ
ントラスト増加層が絶縁される程度であることが必要で
ある。導電性のコントラスト増加層53をデータ線層4
9、50から絶縁(隔離)する1つの方法は、コントラ
スト増加層46、47、74を配設した後に化学蒸着法
(CVD)により平坦化したSiO2 層55を設けるこ
とである。尚、上下基板の間には、液晶材料61が配置
される。液晶材料としては、先に述べたカイラルスメク
チック液晶やツイスト・ネマチック(TN)液晶等が挙
げられる。
【0037】しかしながら、実際にSi 2 層55の蒸
着を行う際に、可能性のある短絡56がコントラスト増
加層とデータ線層49、50との間に起こりうるという
欠点が生じるかもしれない。もし多数の短絡が発生する
ならば、表示素子は役に立たなくなる場合がある。ここ
で図6を参照すると、それら2層間の短絡の影響を減ら
すために、コントラスト増加層は各画素の周囲の境界領
域にはいかなるコントラスト増加層も設けないことによ
り画素ごとを基準として電気的に絶縁性とする(図中5
7の部分参照)のが好ましい。この電気的絶縁の結果と
して、データ線層とコントラスト増加層との間の全ての
単一画素の短絡は、2つの短絡が同一画素内のコントラ
スト増加層53と2つの電気的に絶縁されたデータ線層
電極49との間で起きる場合にのみ動作不能となる縦に
並んだ画素群を有する表示素子の動作に対しては何ら影
響を与えないであろう。
【0038】図7及び図8を参照すると、下基板のコモ
ン層を形成する部分が示してある。これらはコモン金属
層59(図7)及びコモン線透明層60(図8)を含
む。図7及び図8を図6と比較すると、コモン層の透明
部分のエリアを実質的に増加させ、かつ、コモン層の不
透明部分67を実質的に減少させることにより表示素子
を通過できる光の量をさらに増加させることができるの
が理解されるはずである。また、コモン層の一部分67
(図7)と1本の金属の駆動線49(図5)はすべての
光が表示素子を通過するように制御できるようにするた
めにコントラスト増加層の透明部分57(図6)と重な
るように設計されている。
【0039】コントラスト増加層53と平坦化されたS
iO2 層55を表示素子の中に組み込むためには、多数
の特別な製造工程が必要となる。これらの工程はデータ
透明層50とデータ金属層49を設ける前であり、か
つ、好ましくはカラーフィルター層58を設けた後に行
われる。コントラスト増加層の作成方法は、まず0.5
μmのモリブデン層を配設し、図6のコントラスト増加
層53用のマスクを使ってモリブデンのエッチングを行
う。次に、2μmのSiO2 層55の蒸着を行い、さら
にSiO2 層の平坦化(同一平面化)を行う。
【0040】コントラスト増加層53の作成の一形態に
ついて説明する。この方法は、コントラスト増加層を形
成するのに利用される新しい層がカラーフィルターの配
設後ただちに、ただしフィルター層が平面的にされる前
に設けられると考える。コントラスト増加層はモリブデ
ンでできているのが好ましい。しかしながら、例えばア
ルミニウムのように半導体素子製造の技術分野で知られ
ているような他の材料も使用できる。
【0041】半導体素子の製造において通例であるよう
に、次の主要な工程はモリブデンの金属層の形成に用い
られる。まず、60μm厚のチタニウム層を基板44
(図4)の上にスパッタ付着させる。次に、0.5μm
のモリブデン層をスパッタ付着させる。コントラスト増
加層53は、その後、予備硬化、露光そして図6に示す
ような必要とされる配置により決定されるマスクパター
ンを使って現像されるレジスト材料をスピンコーティン
グして形成できる。そのレジスト、モリブデン及びチタ
ニウムにはその後マスクパターンに従ってカラーフィル
ター層に至るまでSF6 とO2 の混合ガスを用いてエッ
チングが施される。最後に、レジストが取り除かれ、モ
リブデンに焼きなましが施される。
【0042】絶縁性の誘電層55であるSiO2 は情報
電極層からモリブデン製のコントラスト増加層を絶縁す
るために後から設けられる。この絶縁層は基板44の表
面を平坦化するのにも用いられる。絶縁層は基板44の
表面上に2μmのSiO2 層を化学蒸着法(CVD)を
用いて形成することができる。
【0043】その後、図5のデータ線金属層を0.5μ
mのモリブデン層を蒸着して形成でき、さらに0.7μ
mのITO層を蒸着することによりデータ線透明層が形
成できる。
【0044】下基板の作成は、図7及び図8に従ったコ
モン線形成用マスクへの変更を除き従来技術の表示素子
に準じて行なうことができる。
【0045】
【発明の効果】上述したように、本発明の表示素子によ
れば、コントラスト増加層を用いることにより正確な画
素サイズを維持しつつ、基板間の相対移動を許容できる
ため画像を高コントラストかつ正確に再現することがで
きる。
【図面の簡単な説明】
【図1】従来用いられていた液晶表示素子の基本的な駆
動原理を説明するための模式図である。
【図2】従来用いられていた液晶素子の平面図である。
【図3】図2のA−A線の断面図である。
【図4】本発明の一実施例である表示素子の断面図であ
る。
【図5】本発明の一実施例の表示素子の一部分であるデ
ータ金属層とデータ透明層を示す平面図である。
【図6】本発明の一実施例の表示素子に用いられるコン
トラスト増加層を示す平面図である。
【図7】本発明の一実施例の表示素子の一部分であるコ
モン金属層を示す平面図である。
【図8】本発明の一実施例の表示素子の一部分であるコ
モン線透明電極層を示す平面図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G02F 1/1335

Claims (10)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 第1基板と第2基板とからなり、該第1
    基板はその上に形成された複数の隣接する平面的な画素
    電極構造を有しており、該画素電極構造はそれぞれ実質
    的に不透明な電極部、実質的に透明な電極部及び実質的
    に透明な絶縁部を含んでおり、そして該第1基板はさら
    にその上の画素開口部を定める所定位置を除き、該実質
    的に透明な絶縁部を通過する光を遮断するように配置さ
    れた複数の実質的に不透明なブロッキング部からなり、
    該実質的に不透明なブロッキング部がそれぞれ所定間隔
    で隣接する実質的に不透明なブロッキング部から電気的
    に隔離されていることを特徴とする表示素子。
  2. 【請求項2】 該第1基板と該第2基板との間の小さな
    誤配列が該第2基板から該第1基板の開口部を通過する
    光の量を実質的に変更しないことを特徴とする請求項1
    記載の表示素子。
  3. 【請求項3】 該実質的に不透明なブロッキング部はそ
    れぞれ1つの画素電極を基準として隔離されていること
    を特徴とする請求項1又は2に記載の表示素子。
  4. 【請求項4】 該第1基板がさらに該画素電極群と該不
    透明なブロッキング部との間に透明な電気絶縁層を有し
    ていることを特徴とする請求項1乃至のいずれかに記
    載の表示素子。
  5. 【請求項5】 該不透明なブロッキング部が金属からな
    ることを特徴とする請求項1乃至のいずれかに記載の
    表示素子。
  6. 【請求項6】 該金属がアルミニウム又はモリブデンで
    あることを特徴とする請求項記載の表示素子。
  7. 【請求項7】 該表示素子がさらに該透明電極部を通過
    するフィルター光に適合させたカラーフィルター層から
    なることを特徴とする請求項1乃至のいずれかに記載
    の表示素子。
  8. 【請求項8】 該不透明なブロッキング部が該カラーフ
    ィルター層と該画素電極構造の中間にあることを特徴と
    する請求項記載の表示素子。
  9. 【請求項9】 該第2基板は、複数のコモン電極を有し
    ており、該コモン電極は、それぞれ、金属細線と該金属
    細線と平行に配置された対応する透明電極 とからなり、
    各金属細線は対応する透明電極に接続されていることを
    特徴とする請求項1乃至のいずれかに記載の表示素
    子。
  10. 【請求項10】 前記第1基板が有する該画素電極構造
    中の実質的に不透明な複数の電極部は、第1の方向に互
    いに実質的に平行に配置されており、かつ、該第2基板
    が有する該コモン電極の複数の金属細線は第2の方向に
    互いに実質的に平行に配置されており、該第1の方向と
    該第2の方向とが互いに実質的に垂直であることを特徴
    とする請求項記載の表示素子
JP07079346A 1994-03-11 1995-03-13 表示素子 Expired - Fee Related JP3073908B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
AU4412 1994-03-11
AUPM4412A AUPM441294A0 (en) 1994-03-11 1994-03-11 Contrast enhancement for a flat panel display device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0850284A JPH0850284A (ja) 1996-02-20
JP3073908B2 true JP3073908B2 (ja) 2000-08-07

Family

ID=3779027

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP07079346A Expired - Fee Related JP3073908B2 (ja) 1994-03-11 1995-03-13 表示素子

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JP3073908B2 (ja)
AU (1) AUPM441294A0 (ja)

Also Published As

Publication number Publication date
AUPM441294A0 (en) 1994-04-14
JPH0850284A (ja) 1996-02-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TW575768B (en) Liquid crystal display panel with wide viewing angle which can be easily manufactured
JP3613573B2 (ja) 液晶表示装置及びその製造方法
US7015992B2 (en) Color display device
CN1808252B (zh) 薄膜晶体管阵列面板和包括该面板的液晶显示器
US5771083A (en) Active matrix substrate and liquid crystal display device
CN100487897C (zh) 薄膜晶体管阵列面板及其制造方法
KR100612994B1 (ko) 액정 표시 장치 및 그에 사용되는 기판
KR101175561B1 (ko) 저항을 감소시키는 공통전극을 포함하는 액정표시소자 및그 제조방법
CN100516942C (zh) 滤色器阵列面板和具有其的液晶显示器
JPS6265017A (ja) 冗長な導体構造を持つ薄膜fet駆動形液晶表示装置
JP2003195330A (ja) 液晶表示装置
KR20020055784A (ko) 횡전계 방식의 액정표시장치용 어레이기판 및 그제조방법
CN100451782C (zh) 液晶显示器装置、液晶显示器装置的面板及其制造方法
KR100254870B1 (ko) 액정 표시 장치의 칼라 필터 구조 및 그 제조 방법
KR20050014414A (ko) 다중 도메인 액정 표시 장치
KR101953141B1 (ko) 에프에프에스 방식 액정표시장치용 어레이기판 및 제조방법
CN114185211A (zh) 阵列基板及液晶显示面板
US5657101A (en) LCD having a thin film capacitor with two lower capacitor electrodes and a pixel electrode serving as an upper electrode
EP1903385B1 (en) Liquid crystal display
KR20040099749A (ko) 다중 도메인 액정 표시 장치
US5432625A (en) Display screen having opaque conductive optical mask and TFT of semiconductive, insulating, and conductive layers on first transparent conductive film
KR100760937B1 (ko) 횡전계방식의 액정표시장치 및 그 제조방법
KR20070080475A (ko) 박막 트랜지스터 기판 및 액정 표시 장치
JP3073908B2 (ja) 表示素子
KR20010015376A (ko) 액정 표시 장치

Legal Events

Date Code Title Description
LAPS Cancellation because of no payment of annual fees