JP3071693B2 - Eye refractive power measuring device - Google Patents

Eye refractive power measuring device

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JP3071693B2
JP3071693B2 JP8172716A JP17271696A JP3071693B2 JP 3071693 B2 JP3071693 B2 JP 3071693B2 JP 8172716 A JP8172716 A JP 8172716A JP 17271696 A JP17271696 A JP 17271696A JP 3071693 B2 JP3071693 B2 JP 3071693B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、被検眼を固視・雲
霧させるための視標を眼底に投影する視標投影光学系
と、被検眼の前眼部を観察する観察光学系と、被検眼の
屈折力を測定するためのパターン光束を被検眼の眼底に
投影するパターン光束投影光学系と、眼底から反射され
た光束を受光素子に受光させる受光光学系とを備えた眼
屈折力測定装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a target projection optical system for projecting a target for fixation and fogging of an eye to be examined on the fundus, an observation optical system for observing an anterior segment of the eye, and a subject. An eye-refractive-power measuring device including a pattern light beam projection optical system for projecting a pattern light beam for measuring the refractive power of the optometry to the fundus of the eye to be inspected, and a light receiving optical system for receiving a light beam reflected from the fundus to a light receiving element. About.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来から、パターン光束投影光学系によ
り被検眼の屈折力を測定するためのリング状のパターン
光束を被検眼の眼底に投影し、受光光学系により眼底で
反射された反射光束に基づくパターン像を受光素子に受
光させて被検眼の屈折力を測定する眼屈折力測定装置が
知られている。
2. Description of the Related Art Conventionally, a ring-shaped pattern light beam for measuring the refractive power of an eye to be examined is projected onto the fundus of the eye by a pattern light beam projection optical system, and the reflected light beam reflected by the fundus is reflected by a light receiving optical system. 2. Description of the Related Art There is known an eye-refractive-power measuring device that measures a refractive power of an eye to be examined by causing a light receiving element to receive a pattern image based on the pattern image.

【0003】このような眼屈折力測定装置では、図6に
示すように、パターン像1´は、被検眼が正視眼(±0
diopter)であった場合には受光素子上に略真
円なリング状で且つ所定の大きさのパターン像として結
像され、被検眼が遠視であった場合には正視眼のときよ
りも大きく結像され、被検眼が近視であった場合には正
視眼のときよりも小さく結像される。
In such an eye refracting power measuring apparatus, as shown in FIG.
When the eye to be inspected is hyperopic, it forms a larger image than a normal eye when the subject's eye is hyperopic. When the eye to be examined is myopic, the image is formed smaller than when the eye is emmetropic.

【0004】そして、受光素子上に結像されたパターン
像1´の像幅中心位置P1,P2をピーク位置を検出
し、この検出されたピーク位置に基づいてパターン像1
´の中心間距離L(P1,P2間距離)を算出すること
で屈折力等を求める。
Then, the peak position is detected at the image width center positions P1 and P2 of the pattern image 1 'formed on the light receiving element, and the pattern image 1 is detected based on the detected peak position.
The refractive power and the like are obtained by calculating the center distance L (distance between P1 and P2) of '.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
眼屈折力測定装置にあっては、例えば、図7に示すよう
に、被検眼の眼底に投影されたパターン光束1上の中心
間距離測定位置上に血管や疾患(傷)2等が存在してい
た場合、その疾患2に相当する部分がピーク位置として
得られ、実際の像幅中心位置P1とはズレた像幅中心位
置P1´を検出して乱視眼であると誤測定してしまうと
いう問題があった。
However, in the conventional eye refractive power measuring device, for example, as shown in FIG. 7, the center distance measuring position on the pattern light beam 1 projected on the fundus of the subject's eye is measured. When a blood vessel, a disease (scratch) 2 or the like is present above, a portion corresponding to the disease 2 is obtained as a peak position, and an image width center position P1 ′ shifted from the actual image width center position P1 is detected. Then, there is a problem that the measurement is erroneously performed as the astigmatic eye.

【0006】本発明は、上記事情に鑑みなされたもので
あって、眼底の血管や疾患等に起因する誤測定を防止す
ることができる眼屈折力測定装置を提供することを目的
とする。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide an eye refractive power measuring device capable of preventing erroneous measurement due to a blood vessel, a disease, or the like in the fundus.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】その目的を達成するた
め、請求項1に記載の発明は、被検眼の屈折力を測定す
るためのパターン光束を被検眼の眼底に投影するパター
光束投影光学系と、眼底から反射されたパターン反射
光束を受光素子に受光させる受光光学系とを備えた眼屈
折力測定装置において、前記パターン光束投影光学系と
前記受光光学系とは光学系の一部を共用しており、前記
パターン光束投影光学系の光軸に対してパターン光束を
複数の位置に偏向して眼底に投影させるための偏向部材
が前記各光学系の共用部分に挿入されることを要旨とす
る。
Means for Solving the Problems] To achieve the object, a first aspect of the present invention, pattern for projecting a pattern light beam for measuring the refractive power of the eye the fundus of the eye
And emission light beam projecting optical system, the eye refractive power measuring apparatus and a light receiving optical system for receiving the pattern reflected light beam reflected from the fundus to the light receiving element, the optical system and the light receiving optical system and the patterned light beam projection optics Is shared,
The point is that a deflecting member for deflecting the pattern light beam to a plurality of positions with respect to the optical axis of the pattern light beam projecting optical system and projecting the pattern light beam onto the fundus is inserted into a common portion of each optical system.

【0008】請求項2に記載の発明は、前記偏向部材
は、被検眼の瞳とほぼ共役な位置に挿入されることを要
旨とする。
According to a second aspect of the present invention, the deflecting member is inserted at a position substantially conjugate with the pupil of the eye to be examined.

【0009】請求項3に記載の発明は、前記偏向部材
は、前記パターン光束投影光学系の光軸を中心として回
転可能であることを要旨とする。
The invention according to a third aspect is characterized in that the deflecting member is rotatable around the optical axis of the pattern light beam projection optical system.

【0010】また、請求項4に記載の発明は、被検眼の
屈折力を測定するためのパターン光束を被検眼の眼底に
投影するパターン光束投影光学系と、眼底から反射され
パターン反射光束を受光素子に受光させる受光光学系
とを備えた眼屈折力測定装置において、前記パターン
束投影光学系の光路中に設けられてその光軸に対して
ターン光束を複数の位置に偏向して眼底に投影する第一
偏向部材と、前記受光光学系の光路中に設けられてその
光軸上に眼底から反射されたパターン反射光束を偏向さ
せる第二偏向部材とを備えていることを要旨とする。
Further, the invention according to claim 4, the patterned light beam projecting optical system for projecting a pattern light beam for measuring the refractive power of the eye the fundus of the eye, the pattern reflected light beam reflected from the fundus in the eye refractive power measuring apparatus and a light receiving optical system for receiving the light-receiving element, provided in an optical path of the pattern light <br/> beam projection optics path for the optical axis
A first deflecting member for deflecting the turn light beam to a plurality of positions and projecting it on the fundus, and a second deflecting member provided in an optical path of the light receiving optical system and deflecting a pattern reflected light beam reflected from the fundus on the optical axis thereof. The gist of the present invention is that it includes a member.

【0011】請求項5に記載の発明は、前記各偏向部材
は、被検眼の瞳とほぼ共役な位置に挿入されることを要
旨とする。
The invention according to claim 5 is characterized in that the respective deflecting members are inserted at positions substantially conjugate with the pupil of the eye to be examined.

【0012】請求項6に記載の発明は、前記各偏向部材
は、各光軸を中心として同期して回転可能であることを
ことを要旨とする。
According to a sixth aspect of the present invention, the deflecting members are rotatable in synchronization with each optical axis.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】次に、本発明の眼屈折力測定装置
の実施の形態を図面に基づいて説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Next, an embodiment of an eye refractive power measuring device according to the present invention will be described with reference to the drawings.

【0014】図1は本発明の眼屈折力測定装置に適用さ
れた光学系の説明図である。この図1において、10は
被検眼Eを固視・雲霧させるために視標を眼底Erに投
影する視標投影光学系、20は被検眼Eの前眼部Efを
観察する観察光学系、30は照準スケールを受光素子S
に投影するスケール投影光学系、40は被検眼Eの屈折
力を測定するためのパターン光束を眼底Erに投影する
パターン光束投影光学系、50は眼底Erから反射され
た光束を受光素子Sに受光させる受光光学系である。
FIG. 1 is an explanatory diagram of an optical system applied to the eye refractive power measuring device of the present invention. In FIG. 1, reference numeral 10 denotes an optotype projection optical system that projects an optotype onto the fundus Er in order to fixate and cloud the eye E, 20 denotes an observation optical system that observes the anterior segment Ef of the eye E, 30 Is the light-receiving element S
A scale projection optical system for projecting a pattern light beam for measuring the refracting power of the eye E to be inspected onto the fundus Er; a light receiving element S receiving a light beam reflected from the fundus Er This is a light receiving optical system.

【0015】視標投影光学系10は、光源11、コリメ
ータレンズ12、視標板13、リレーレンズ14、ミラ
ー15、リレーレンズ16、ダイクロイックミラー1
7、ダイクロイックミラー18、対物レンズ19を備え
ている。
The target projection optical system 10 includes a light source 11, a collimator lens 12, a target plate 13, a relay lens 14, a mirror 15, a relay lens 16, and a dichroic mirror 1.
7, a dichroic mirror 18 and an objective lens 19 are provided.

【0016】光源11から出射された可視光は、コリメ
ータレンズ12によって平行光束とされた後、視標板1
3を透過する。視標板13には被検眼Eを固視・雲霧さ
せるためのターゲットが設けられている。そのターゲッ
ト光束は、リレーレンズ14を透過してミラー15に反
射され、リレーレンズ16を経てダイクロイックミラー
17に反射されて装置本体の主光軸O1に導かれ、ダイ
クロイックミラー18を透過した後、対物レンズ19を
経て被検眼Eに導かれる。
The visible light emitted from the light source 11 is converted into a parallel light beam by the collimator lens 12 and then collimated.
3 is transmitted. The target plate 13 is provided with a target for fixating and fogging the eye E to be examined. The target light flux passes through the relay lens 14 and is reflected by the mirror 15, is reflected by the dichroic mirror 17 through the relay lens 16, is guided to the main optical axis O 1 of the apparatus main body, passes through the dichroic mirror 18, and The light is guided to the eye E through the lens 19.

【0017】尚、光源11,コリメータレンズ12,視
標板13は、被検眼Eを固視・雲霧させるために、視標
投影光学系10の光軸O2に沿って移動可能となるよう
にユニット化されている。
The light source 11, the collimator lens 12, and the optotype plate 13 are configured to be movable along the optical axis O2 of the optotype projection optical system 10 in order to fixate and fog the eye E to be examined. Has been

【0018】観察光学系20は、光源21、対物レンズ
19、ダイクロイックミラー18、リレーレンズ22、
絞り23、ミラー24、リレーレンズ25、ダイクロイ
ックミラー26、結像レンズ27、受光素子Sを有す
る。
The observation optical system 20 includes a light source 21, an objective lens 19, a dichroic mirror 18, a relay lens 22,
An aperture 23, a mirror 24, a relay lens 25, a dichroic mirror 26, an imaging lens 27, and a light receiving element S are provided.

【0019】光源21から出射された光束は、被検眼E
の前眼部Efをダイレクトに照明する。前眼部Efに反
射された光束は、対物レンズ19を経てダイクロイック
ミラー18に反射され、リレーレンズ22を透過すると
同時に絞り23を通過し、ミラー24に反射された後、
リレーレンズ25及びダイクロイックミラー26を透過
して結像レンズ27により受光素子Sに結像される。
The light beam emitted from the light source 21 is
Is directly illuminated. The light beam reflected by the anterior segment Ef is reflected by the dichroic mirror 18 through the objective lens 19, passes through the relay lens 22, passes through the diaphragm 23 at the same time, and is reflected by the mirror 24.
The light passes through the relay lens 25 and the dichroic mirror 26 and is imaged on the light receiving element S by the imaging lens 27.

【0020】スケール投影光学系30は、光源31、照
準スケールを設けたコリメータレンズ32、リレーレン
ズ33、ダイクロイックミラー18、リレーレンズ2
2、絞り23、ミラー24、リレーレンズ25、ダイク
ロイックミラー26、結像レンズ27、受光素子Sを有
する。
The scale projection optical system 30 includes a light source 31, a collimator lens 32 provided with an aiming scale, a relay lens 33, a dichroic mirror 18, and a relay lens 2.
2, a stop 23, a mirror 24, a relay lens 25, a dichroic mirror 26, an imaging lens 27, and a light receiving element S.

【0021】光源31から出射された光束は、コリメー
タレンズ32を透過する際に照準スケール光束(平行光
束)とされた後、リレーレンズ33,ダイクロイックミ
ラー18,リレーレンズ22,絞り23を経てミラー2
4に反射され、リレーレンズ25,ダイクロイックミラ
ー26を経て結像レンズ27によって受光素子Sに結像
される。
The light beam emitted from the light source 31 is converted into an aiming scale light beam (parallel light beam) when passing through the collimator lens 32, and then passes through the relay lens 33, the dichroic mirror 18, the relay lens 22, the diaphragm 23, and the mirror 2.
Then, the light is reflected by the imaging lens 27 and is imaged on the light receiving element S by the imaging lens 27 through the relay lens 25 and the dichroic mirror 26.

【0022】受光素子Sには、例えば、2次元のエリア
CCD等が用いられ、図示しないモニタに観察光学系2
0によって導かれた前眼部像が表示されると共に照準ス
ケールに基づく像が表示される。検者は、このモニタに
表示された前眼部像が照準スケール像に近付くように被
検眼Eと装置本体との上下左右方向のアライメント操作
を行う。また、前後方向のアライメント操作を行う。
尚、アライメント操作終了後の屈折力測定時には、光源
21,31を消灯するか、ダイクロイックミラー18か
らダイクロイックミラー26に至る光路中にシャッター
等を設けて受光素子Sへの受光が阻止される。
For the light receiving element S, for example, a two-dimensional area CCD or the like is used.
The anterior segment image guided by 0 is displayed, and an image based on the aiming scale is displayed. The examiner performs an alignment operation in the vertical and horizontal directions between the subject's eye E and the apparatus main body so that the anterior eye image displayed on the monitor approaches the aiming scale image. In addition, an alignment operation in the front-back direction is performed.
When the refractive power is measured after the completion of the alignment operation, the light sources 21 and 31 are turned off, or a shutter or the like is provided in an optical path from the dichroic mirror 18 to the dichroic mirror 26 to prevent the light receiving element S from receiving light.

【0023】パターン光束投影光学系40は、光源4
1、コリメータレンズ42、円錐プリズム43、リング
指標板44、リレーレンズ45、ミラー46、リレーレ
ンズ47、穴空きプリズム48、偏向部材としての光軸
偏向プリズム49、ダイクロイックミラー17、ダイク
ロイックミラー18、対物レンズ19を備えている。な
お、光源41とリング指標板44とは光学的に共役であ
り、リング指標板44と被検眼Eの瞳孔Epとは光学的
に共役な位置に配置されている。
The pattern light beam projection optical system 40 includes a light source 4
1. Collimator lens 42, conical prism 43, ring index plate 44, relay lens 45, mirror 46, relay lens 47, perforated prism 48, optical axis deflecting prism 49 as a deflecting member, dichroic mirror 17, dichroic mirror 18, objective The lens 19 is provided. The light source 41 and the ring index plate 44 are optically conjugate, and the ring index plate 44 and the pupil Ep of the eye E are optically conjugated.

【0024】光源41から出射された光束は、コリメー
タレンズ42によって平行光束とされ、円錐プリズム4
3を透過してリング指標板44に導かれ、このリング指
標板44に形成されたリング状のパターン部分を透過し
てパターン光束となる。パターン光束は、リレーレンズ
45を透過した後、ミラー46に反射されリレーレンズ
47を透過して穴空きプリズム48によって主光軸O1
に沿って反射され、光軸偏向プリズム49によって主光
軸O1とはズレた斜め状態に偏向された状態でダイクロ
イックミラー17,18を透過した後、対物レンズ19
により眼底Erに結像される。
The light beam emitted from the light source 41 is converted into a parallel light beam by a collimator lens 42,
3, the light is guided to the ring index plate 44, passes through the ring-shaped pattern portion formed on the ring index plate 44, and becomes a pattern light beam. After passing through the relay lens 45, the pattern light flux is reflected by the mirror 46, passes through the relay lens 47, and is transmitted through the perforated prism 48 to the main optical axis O 1.
After passing through the dichroic mirrors 17 and 18 while being deflected obliquely by the optical axis deflecting prism 49 and deviated from the main optical axis O1, the objective lens 19
To form an image on the fundus Er.

【0025】光軸偏向プリズム49は、主光軸O1を軸
線として高速回転(矢印参照)されており、この高速回
転により眼底Erに投影されるパターン光束は、図2に
示すように、主光軸O1を中心として偏心状態で周回す
る。
The optical axis deflecting prism 49 is rotated at a high speed around the main optical axis O1 (see arrow). The pattern light beam projected onto the fundus Er by the high speed rotation is, as shown in FIG. Orbit around the axis O1 in an eccentric state.

【0026】受光光学系50は、対物レンズ19、ダイ
クロイックミラー18,17、光軸偏向プリズム49、
穴空きプリズム48の穴部48a、リレーレンズ51、
ミラー52、リレーレンズ53、ミラー54、合焦レン
ズ55、ミラー56、ダイクロイックミラー26、結像
レンズ27、受光素子Sを有する。
The light receiving optical system 50 includes an objective lens 19, dichroic mirrors 18 and 17, an optical axis deflecting prism 49,
The hole 48a of the perforated prism 48, the relay lens 51,
It has a mirror 52, a relay lens 53, a mirror 54, a focusing lens 55, a mirror 56, a dichroic mirror 26, an imaging lens 27, and a light receiving element S.

【0027】尚、合焦レンズ55は、光源41,コリメ
ータレンズ42,円錐プリズム43,リング指標板44
と一体に各光学系40,50の光軸O3,O4に沿って
移動可能となっている。
The focusing lens 55 includes a light source 41, a collimator lens 42, a conical prism 43, and a ring index plate 44.
Are movable along the optical axes O3 and O4 of the respective optical systems 40 and 50.

【0028】パターン光束投影光学系40によって眼底
Erに導かれ、この眼底Erで反射された反射光束は、
対物レンズ19に集光され、ダイクロイックミラー1
8,17を透過して光軸偏向プリズム49に導かれ、光
束逆進の原理により光軸偏向プリズム49を透過した際
には主光軸O1を中心とした同じ部分から穴空きプリズ
ム48の穴部48aへと導き、この穴部48aを通過す
る。
The reflected light flux guided to the fundus Er by the pattern light beam projection optical system 40 and reflected by the fundus Er is:
The dichroic mirror 1 is focused on the objective lens 19
8 and 17 are guided to the optical axis deflecting prism 49, and when transmitted through the optical axis deflecting prism 49 according to the principle of light beam reversal, the holes of the apertured prism 48 are opened from the same portion centered on the main optical axis O1. To the hole 48a and pass through the hole 48a.

【0029】穴部48aを通過したパターン反射光束
は、リレーレンズ51を透過してミラー52に反射さ
れ、リレーレンズ53を透過してミラー54に反射さ
れ、合焦レンズ55を透過してミラー56並びにダイク
ロイックミラー26に反射され、結像レンズ27によっ
て受光素子Sにパターン像が結像される。
The pattern reflected light beam passing through the hole 48a passes through the relay lens 51, is reflected by the mirror 52, passes through the relay lens 53, is reflected by the mirror 54, passes through the focusing lens 55, and passes through the mirror 56. Further, the light is reflected by the dichroic mirror 26, and a pattern image is formed on the light receiving element S by the imaging lens 27.

【0030】上記の構成においては、先ず、各光源1
1,21,31を点灯させて被検眼Eを固視させると共
に被検眼Eと装置本体とのアライメント操作を行い、ア
ライメントが完了した時点で各光源11,21,31を
消灯すると共に光源41を点灯する。
In the above configuration, first, each light source 1
The eyes E, 21 and 31 are turned on to fixate the eye E, and the alignment operation between the eye E and the apparatus body is performed. When the alignment is completed, the light sources 11, 21 and 31 are turned off and the light source 41 is turned off. Light.

【0031】光源41から出射された照明光束は、リン
グ指標板44を透過することによりリング状のパターン
光束となり、光軸偏向プリズム49へと導かれる。
The illumination light beam emitted from the light source 41 passes through the ring index plate 44 to become a ring-shaped pattern light beam, and is guided to the optical axis deflection prism 49.

【0032】光軸偏向プリズム49は、図示しない高速
回転装置によって光軸O1を軸線として高速回転して
おり、光軸O1から偏向した状態(図2参照)で眼底
Erにパターン像44´を結像させる。
The optical axis deflecting prism 49 is rotated at a high speed the main optical axis O1 by a high-speed rotary unit (not shown) as the axis (see FIG. 2) while deflected from the main optical axis O1 in the pattern image 44 'on the fundus Er Is imaged.

【0033】眼底Erで反射された反射光束は、光軸偏
向プリズム49へと導かれ、図3に示すように、光束逆
進の原理により再び光軸O1を中心としたパターン像
44″として受光素子Sに結像される。
[0033] The reflected light flux reflected by the fundus Er is guided to the optical axis deflecting prism 49, as shown in FIG. 3, as the pattern image 44 "around the main optical axis O1 again the principle of the light beam reversing An image is formed on the light receiving element S.

【0034】検者が図示しない測定実行スイッチによ
り、眼底Erに投影された周回中の任意の位置で結像さ
れたパターン像44´に基づく受光素子S上でのパター
ン像44″をフレームメモリ等の記憶媒体に複数記憶さ
せる。
The examiner operates a measurement execution switch (not shown) to store the pattern image 44 ″ on the light receiving element S based on the pattern image 44 ′ formed at an arbitrary position in the circle projected on the fundus Er and stored in a frame memory or the like. Are stored in a plurality of storage media.

【0035】例えば、図4(A)〜(F)に示すよう
に、眼底Er上において光軸O1からリング中心O1´
がズレたパターン像44´に対応したものを受光素子S
上でパターン像44″として記憶媒体に記憶した場合、
図4(A),(D),(E),(F)に図示した状態で
は、その検出されるピーク位置Q1,Q2は実際の像幅
中心位置と一致しているが、図4(B),(C)に図示
した状態では疾患2の影響によりピーク位置Q3,Q4
が実際の像幅中心位置からズレた位置にある。
For example, as shown in FIGS. 4A to 4F, a ring center O1 'is located on the fundus Er from the optical axis O1.
Corresponding to the displaced pattern image 44 '
When stored in a storage medium as the pattern image 44 ″ above,
In the states shown in FIGS. 4A, 4D, 4E, and 4F, the detected peak positions Q1 and Q2 coincide with the actual image width center positions. ) And (C), the peak positions Q3 and Q4 due to the influence of the disease 2.
Are shifted from the actual center position of the image width.

【0036】これらのピーク位置Q1,Q3,Q4を記
憶回数とで平均化することで、図3のグラフに示すよう
に、実際の像幅中心位置に接近したピーク位置Q1´を
算出することができ、このピーク位置Q1´とピーク位
置Q2の位置情報に基づいて幅中心間距離を算出するこ
とで眼屈折力を測定(測定方法は公知であるため省略す
る。)することができる。
By averaging these peak positions Q1, Q3, and Q4 with the number of times of storage, the peak position Q1 'approaching the actual image width center position can be calculated as shown in the graph of FIG. The eye refractive power can be measured by calculating the distance between the center of the width based on the position information of the peak position Q1 'and the peak position Q2 (the measuring method is well-known and will be omitted).

【0037】ところで、上記実施の形態1では、偏向部
材として光軸偏向プリズム49を用いたが、例えば、図
5(A)に示すように、独立及び同期回転可能な2つの
プリズム49a,49bを有するロータリプリズム49
´を偏向部材として用い、例えば、図5(B)に示すよ
うに、一方のプリズム49bを光軸O1を軸線として回
転させた状態でロータリプリズム49´全体を光軸O1
を軸線として回転してもよい。
In the first embodiment, the optical axis deflecting prism 49 is used as the deflecting member. For example, as shown in FIG. 5A, two prisms 49a and 49b which can be independently and synchronously rotated are provided. Rotary prism 49
′ As a deflecting member, and, as shown in FIG. 5B, for example, as shown in FIG. 5B, while rotating one prism 49b about the optical axis O1 as an axis, the entirety of the rotary prism 49 ′ is optical axis O1.
May be rotated about the axis.

【0038】この際、プリズム49a,49bの独立し
た回転量によって光軸O1に対する出射角度のズレを調
整変更することができるため、光軸偏向プリズム49を
用いた場合よりも一層適合範囲の広いものとすることが
できる。
At this time, the deviation of the output angle with respect to the optical axis O1 can be adjusted and changed by the independent rotation amount of the prisms 49a and 49b. It can be.

【0039】このように、本発明の実施の形態によれ
ば、パターン像44´の周回軌跡上において疾患2に影
響され得る範囲は影響されない範囲に比べて極僅かであ
る。すなわち、例示した疾患2の場合であれば図4
(B),(C)に示した範囲の軌跡上でり、その他の範
囲は正常眼と同様であるといえるため、記憶媒体へのピ
ーク位置の記憶回数を増やすほど疾患2に影響されない
部分の眼底情報を取り込む可能性が高く、その幅中心間
距離の測定結果を平均化することにより、疾患2の存在
によるズレを無視することができるほど信頼性の高い測
定結果を得ることができる。
As described above, according to the embodiment of the present invention, the range that can be affected by the disease 2 on the trajectory of the pattern image 44 'is very small compared to the range that is not affected. That is, in the case of the disease 2 illustrated in FIG.
Since it can be said that the other range is the same as that of the normal eye on the locus of the range shown in (B) and (C), the portion which is not affected by the disease 2 as the number of times of storing the peak position in the storage medium is increased. The possibility of capturing fundus information is high, and by averaging the measurement results of the distance between the width centers, it is possible to obtain measurement results that are so reliable that deviation due to the presence of the disease 2 can be ignored.

【0040】この際、眼底Er上の疾患2等の存在位置
は被検者毎に異なる。従って、単にズレた位置(偏向さ
せた位置)にパターン像44´を投影しただけでは、そ
のズレた位置に疾患2等が存在している可能性があり、
測定結果が誤測定となってしまう虞がある。しかしなが
ら、本発明ではパターン像を回転させ複数回の記録媒体
への記録を行っているので、疾患2に影響を受けたパタ
ーン像44″を取り込む可能性が少なくなり、測定結果
の信頼性を高くすることができる。
At this time, the location of the disease 2 or the like on the fundus Er differs for each subject. Therefore, simply projecting the pattern image 44 ′ at the shifted position (deflected position) may cause the disease 2 or the like to exist at the shifted position.
There is a risk that the measurement result will be erroneous measurement. However, in the present invention, since the pattern image is rotated and recorded on the recording medium a plurality of times, the possibility of capturing the pattern image 44 ″ affected by the disease 2 is reduced, and the reliability of the measurement result is improved. can do.

【0041】尚、パターン像44´は、光軸O1からズ
レた位置に投影されているが、被検眼Eと装置本体とは
アライメント操作を行うことによって一定関係を維持し
ているので、測定データの信頼性を阻害することはな
い。
The pattern image 44 'is projected at a position shifted from the optical axis O1, but since the eye E and the apparatus main body maintain a constant relationship by performing an alignment operation, the measured data It does not impair the reliability of.

【0042】なお、上記実施の形態では、光軸偏向プリ
ズム49がパターン光束投影光学系40と受光光学系5
0の共用部分に挿入されているが、本発明はこれに限ら
れず、例えば、各光学系の非共用部分に同じ型の光軸偏
向プリズムを1つずつ配置すると共に、この両光軸偏向
プリズムの回転角度が常に一致するようにすれば、同様
の作用効果が得られる。
In the above embodiment, the optical axis deflecting prism 49 includes the pattern light beam projection optical system 40 and the light receiving optical system 5.
However, the present invention is not limited to this. For example, one optical axis deflecting prism of the same type is disposed in a non-common part of each optical system, and both optical axis deflecting prisms are inserted. If the rotation angles are always the same, the same operation and effect can be obtained.

【0043】[0043]

【発明の効果】以上説明したように、本発明の眼屈折力
測定装置にあっては、パターン光束投影光学系と受光光
学系の共用する光路にその光軸に対してパターン光束を
複数の位置に偏向して眼底に投影させるための偏向部材
を設けたことにより、眼底の血管や疾患等に起因する誤
測定を防止することができる。
As described in the foregoing, in the eye refractive power measurement apparatus of the present invention, a plurality of position pattern light beam with respect to the optical axis in the optical path is shared between the receiving optical system patterned light beam projection optics By providing a deflecting member for deflecting the image to the fundus and projecting it on the fundus, it is possible to prevent erroneous measurement due to blood vessels or diseases of the fundus.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施の形態1に係わる眼屈折力測定装
置を示し、光学系の説明図である。
FIG. 1 is an explanatory diagram of an optical system, illustrating an eye refractive power measuring device according to a first embodiment of the present invention.

【図2】同じく、眼底に結像されているパターン像の状
態を表す説明図である。
FIG. 2 is an explanatory diagram showing a state of a pattern image formed on the fundus of the eye.

【図3】同じく、受光素子に結像されたパターン像とピ
ーク位置との関係を表す説明図である。
FIG. 3 is an explanatory diagram showing a relationship between a pattern image formed on a light receiving element and a peak position.

【図4】同じく、(A)〜(F)は、眼底に結像された
パターン像を任意に記憶させた例とそのパターン像に対
応するピーク位置との関係を表す説明図である。
FIGS. 4A to 4F are explanatory diagrams showing a relationship between an example in which a pattern image formed on the fundus is arbitrarily stored and a peak position corresponding to the pattern image.

【図5】同じく、偏向部材の変形例を示し、(A)は光
束無偏向状態のロータリプリズムの説明図、(B)は光
束偏向状態のロータリプリズムの説明図である。
5A and 5B are diagrams illustrating a modification of the deflecting member, wherein FIG. 5A is an explanatory diagram of a rotary prism in a light beam non-deflecting state, and FIG. 5B is an explanatory diagram of a rotary prism in a light beam deflecting state.

【図6】従来の眼屈折力測定装置によって受光素子に結
像されたパターン像とピーク位置との関係を示す説明図
である。
FIG. 6 is an explanatory diagram showing a relationship between a pattern image formed on a light receiving element by a conventional eye refractive power measuring device and a peak position.

【図7】従来の眼屈折力測定装置によって受光素子に結
像されたパターン像上に疾患が存在していた場合のピー
ク位置との関係を示す説明図である。
FIG. 7 is an explanatory diagram showing a relationship with a peak position when a disease is present on a pattern image formed on a light receiving element by a conventional eye refractive power measuring device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

E…被検眼 Er…眼底 Ef…前眼部 S…受光素子 O1…光軸 10…視標投影光学系 20…観察光学系 40…パターン光束投影光学系 49…光軸偏向プリズム(偏向部材) 50…受光光学系 E: eye to be examined Er: fundus oculi Ef: anterior segment S: light receiving element O1: optical axis 10: target projection optical system 20: observation optical system 40: pattern light beam projection optical system 49: optical axis deflecting prism (deflecting member) 50 ... Reception optical system

Claims (6)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】被検眼の屈折力を測定するためのパターン
光束を被検眼の眼底に投影するパターン光束投影光学系
と、眼底から反射されたパターン反射光束を受光素子に
受光させる受光光学系とを備えた眼屈折力測定装置にお
いて、 前記パターン光束投影光学系と前記受光光学系とは光学
系の一部を共用しており、前記光束投影光学系の光軸に
対してパターン光束を複数の位置に偏向して眼底に投影
させるための偏向部材が前記各光学系の共用部分に挿入
されることを特徴とする眼屈折力測定装置。
And 1. A patterned light beam projecting optical system for projecting a pattern <br/> light beam for measuring the refractive power of the eye the fundus of the eye, to receive the pattern reflected light beam reflected from the fundus to the light receiving element An eye refractive power measurement device comprising a light receiving optical system, wherein the pattern light beam projection optical system and the light receiving optical system share a part of an optical system, and a pattern is formed with respect to an optical axis of the light beam projection optical system. An eye-refractive-power measuring apparatus, wherein a deflecting member for deflecting a light beam to a plurality of positions and projecting the light beam on a fundus is inserted into a common portion of each of the optical systems.
【請求項2】前記偏向部材は、被検眼の瞳とほぼ共役な
位置に挿入されることを特徴とする請求項1に記載の眼
屈折力測定装置。
2. An eye refractive power measuring apparatus according to claim 1, wherein said deflecting member is inserted at a position substantially conjugate with a pupil of an eye to be examined.
【請求項3】前記偏向部材は、前記パターン光束投影光
学系の光軸を中心として回転可能であることを特徴とす
る請求項1に記載の眼屈折力測定装置。
3. An eye refractive power measuring apparatus according to claim 1, wherein said deflecting member is rotatable about an optical axis of said pattern light beam projection optical system.
【請求項4】被検眼の屈折力を測定するためのパターン
光束を被検眼の眼底に投影するパターン光束投影光学系
と、眼底から反射されたパターン反射光束を受光素子に
受光させる受光光学系とを備えた眼屈折力測定装置にお
いて、 前記パターン光束投影光学系の光路中に設けられてその
光軸に対してパターン光束を複数の位置に偏向して眼底
に投影する第一偏向部材と、前記受光光学系の光路中に
設けられてその光軸上に眼底から反射されたパターン
射光束を偏向させる第二偏向部材とを備えていることを
特徴とする眼屈折力測定装置。
4. A patterned light beam projecting optical system for projecting a pattern <br/> light beam for measuring the refractive power of the eye the fundus of the eye, to receive the pattern reflected light beam reflected from the fundus to the light receiving element An eye-refractive-power measuring device including a light-receiving optical system, wherein the first deflection unit is provided in an optical path of the pattern light beam projection optical system and deflects the pattern light beam to a plurality of positions with respect to the optical axis and projects the pattern light beam onto the fundus An eye, comprising: a member; and a second deflecting member provided in an optical path of the light receiving optical system and deflecting a pattern reflected light beam reflected from the fundus on an optical axis thereof. Refractive power measuring device.
【請求項5】前記各偏向部材は、被検眼の瞳とほぼ共役
な位置に挿入されることを特徴とする請求項4に記載の
眼屈折力測定装置。
5. The eye refractive power measuring device according to claim 4, wherein each of the deflection members is inserted at a position substantially conjugate with a pupil of the eye to be examined.
【請求項6】前記各偏向部材は、各光軸を中心として同
期して回転可能であることを特徴とする請求項5に記載
眼屈折力測定装置。
6. The deflecting member according to claim 5, wherein each of the deflecting members is rotatable synchronously around each optical axis.
Refractive power measurement apparatus of the eye.
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