JP3067039B2 - Manufacturing method of polishing tape - Google Patents

Manufacturing method of polishing tape

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JP3067039B2
JP3067039B2 JP3154762A JP15476291A JP3067039B2 JP 3067039 B2 JP3067039 B2 JP 3067039B2 JP 3154762 A JP3154762 A JP 3154762A JP 15476291 A JP15476291 A JP 15476291A JP 3067039 B2 JP3067039 B2 JP 3067039B2
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道広 大石
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ミネソタ マイニング アンド マニュファクチャリング カンパニー
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は精密電子部品や精密機械
部品、たとえば磁気ディスク、磁気ヘッドの仕上げ研磨
や金型の精密表面仕上げ研磨に好適な研磨テープの製造
方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for producing a polishing tape suitable for finish polishing of precision electronic parts and precision machine parts, for example, magnetic disks and magnetic heads, and precision surface finish polishing of dies.

【0002】[0002]

【従来の技術および解決すべき課題】従来の研磨テープ
における研磨層は、無機質粉末からなる研磨砥粒と結合
剤としての熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、あるいは反応
型樹脂を溶剤中に分散させた研磨層成形用の塗布液を基
材上に塗布し、次いで、前記塗布液中の樹脂の種類に応
じた後処理を施すことによって形成されたものが一般的
なものである。
2. Description of the Related Art A polishing layer of a conventional polishing tape is formed by dispersing a polishing resin made of an inorganic powder and a thermoplastic resin, a thermosetting resin, or a reactive resin as a binder in a solvent. A general one is formed by applying a coating liquid for forming a polishing layer on a substrate, and then performing a post-treatment according to the type of resin in the coating liquid.

【0003】結合剤として分子量が約20000前後の
ポリエステル樹脂を三官能イソシアネートによって架橋
したものを使用した研磨テープが多用されるようになっ
てきた。
[0003] Abrasive tapes using a polyester resin having a molecular weight of about 20,000 and crosslinked with a trifunctional isocyanate have been frequently used as a binder.

【0004】このような結合剤を使用すると、ポリエス
テル樹脂中のOH基の濃度が低いため、イソシアネート
との反応速度が遅く、例えば70℃で36時間または5
0℃で約80時間という高い反応温度を必要とした。そ
の上、ロール状に巻かれた状態でこのような高温で硬化
されると、ロール状に巻き取るときの張力等による内圧
のバラツキと温度分布のバラツキによって切削性、仕上
げ性等の研摩テープとしての品質に変化を生じ、製品品
質にバラツキを生じるという欠点があった。また、この
ようにして製造した研摩テープは結合剤の架橋密度が低
く、ロール状に巻き取られた状態における製品の保管中
にもロールの内圧による品質の変化が生じるという問題
点があった。
When such a binder is used, the reaction rate with an isocyanate is slow due to the low concentration of OH groups in the polyester resin, for example, at 70 ° C. for 36 hours or 5 hours.
0 require high have reaction temperature will trough about 80 hours at ° C.. In addition, when it is cured at such a high temperature in the state of being wound into a roll, it can be used as an abrasive tape for cutting, finishing, etc. due to variations in internal pressure and temperature distribution due to tension and the like when winding into a roll. However, there is a defect that the quality of the product changes and the product quality varies. Further, the polishing tape manufactured in this manner has a problem that the crosslink density of the binder is low and the quality changes due to the internal pressure of the roll even during storage of the product in a rolled state.

【0005】このような欠点を解消すべく、本発明者は
結合剤成分として高分子エポキシ樹脂、ウレタン樹脂お
よび多官能イソシアネートの組合せを使用して、室温で
硬化させることを特徴とする研磨テープの製造方法を提
供することによって、硬化中に生じるし、切削性、仕上
げ性等の研磨テープの品質のバラツキの改善にほぼ満足
できる結果を得た。
In order to solve such a drawback, the present inventor has proposed a polishing tape characterized by being cured at room temperature using a combination of a high molecular weight epoxy resin, a urethane resin and a polyfunctional isocyanate as a binder component. By providing a manufacturing method, a result which occurs during curing and which is almost satisfactory in improving the variation in the quality of the polishing tape such as machinability and finishability was obtained.

【0006】しかし、精密電子部品や精密機械部品の表
面研磨に関してはミクロンまたはサブミクロン単位の表
面粗さに仕上げる必要があり、たとえば、薄膜型磁気デ
ィスク等の研磨工程においては特に精密な仕上げ粗さが
要求され、切削性、仕上げ性等の研磨テープの品質のバ
ラツキについては十分に解決されたとはいい得なかっ
た。
However, it is necessary to finish the surface of precision electronic parts and precision machine parts to a surface roughness of a micron or sub-micron unit. For example, in the polishing step of a thin-film magnetic disk or the like, particularly fine finish roughness is required. However, it was not possible to say that the variation in the quality of the polishing tape such as machinability and finishability was sufficiently solved.

【0007】本発明者はロール状に巻き取られた状態の
研磨テープの室温硬化中の品質のバラツキの発生を減少
させるため結合剤について鋭意研究を行ない、ウレタン
樹脂に代えて特定の構成のポリエステル樹脂を使用する
ことによって反応硬化中に発生する品質のバラツキを減
少することができる薄膜型磁気ディスクの研磨に好適な
研磨テープが得られることを見出し、本発明に完成させ
るに至った。
The inventor of the present invention has conducted intensive studies on binders in order to reduce the occurrence of quality variations during the room-temperature curing of the polishing tape in a rolled state, and has replaced the urethane resin with a polyester having a specific constitution. The present inventors have found that a polishing tape suitable for polishing a thin-film magnetic disk which can reduce the variation in quality generated during reaction curing by using a resin can be obtained, and have completed the present invention.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明によれば、主成分
として研磨砥粒、結合剤および溶剤を混合して塗布液を
調製する工程、この塗布液を基材上に塗布し、塗膜を乾
燥して溶剤を除去する工程、及びそれによって結合剤を
硬化せしめる工程とを含む研磨テープの製造方法におい
て、
According to the present invention, there is provided a process for preparing a coating solution by mixing abrasive grains, a binder and a solvent as main components, and applying the coating solution on a substrate to form a coating film. Drying the solvent to remove the solvent, and thereby curing the binder, the method for producing a polishing tape,

【0009】前記塗布液を調製する工程における結合剤
がその成分組成として、 (A)
The binder in the step of preparing the coating solution has the following composition:

【化2】 を繰返し単位とする数平均分子量1000〜5000の
エポキシ樹脂、
Embedded image An epoxy resin having a number average molecular weight of 1,000 to 5,000 having a repeating unit of

【0010】(B) 芳香族ジカルボン酸および/又は
脂肪族ジカルボン酸と脂肪族ジオールの縮合物を分子内
に含み、数平均分子量が10000〜30000であ
り、少くとも末端に水酸基を有しかつ、ガラス転移点
(Tg)が−20℃〜40℃のポリエステル樹脂、およ
(B) a condensate of an aromatic dicarboxylic acid and / or an aliphatic dicarboxylic acid and an aliphatic diol in the molecule, having a number average molecular weight of 10,000 to 30,000, having at least a terminal hydroxyl group, and A polyester resin having a glass transition point (Tg) of -20C to 40C, and

【0011】(C) 多官能イソシアネート を含有することを特徴とする研磨テープの製造方法を提
供することにより上記課題の解決に成功したものであ
る。
(C) The object of the present invention has been successfully solved by providing a method for producing a polishing tape characterized by containing a polyfunctional isocyanate.

【0012】本発明において、研磨層が形成される研磨
テープ用の基材としては、ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリプロピレン、ポリカーボネート、アセテート、
ポリ塩化ビニル等の各種プラスチックやアルミニウムそ
の他のフィルムが好適である。
In the present invention, the base material for the polishing tape on which the polishing layer is formed includes polyethylene terephthalate, polypropylene, polycarbonate, acetate,
Various plastics such as polyvinyl chloride, aluminum and other films are suitable.

【0013】前記研磨テープ用の基材上に適用される研
磨層形成用の塗布液は、前記した通り、特定の構成の配
合樹脂を結合剤成分として含有するものであり、所期の
目的を達成し、しかも結合剤の硬さを所望の範囲に変え
られるように、
As described above, the coating liquid for forming the polishing layer applied on the base material for the polishing tape contains a compounded resin having a specific composition as a binder component. To achieve the desired hardness and change the hardness of the binder to the desired range.

【化3】 の繰返し単位を含む数平均分子量1000〜5000の
ポリマー、例えば住友化学製固形エポキシ樹脂ESA−
014(数平均分子量約2000)
Embedded image And a polymer having a number average molecular weight of 1,000 to 5,000 containing repeating units such as Sumitomo Chemical's solid epoxy resin ESA-
014 (number average molecular weight about 2000)

【0014】(2) 芳香族ジカルボン酸(例えばテレ
フタル酸、イソフタル酸)、脂肪族ジカルボン酸(例え
ばセバシン酸、アゼライン酸)と脂肪族ジオール(例え
ばエチレングリコール、ネオペンチルグリコール)との
縮合物構造を分子内に含むポリエステル樹脂であって、
数平均分子量10000〜30000で少なくとも末端
OH基を有するガラス転移温度(Tg)−20℃〜40
℃のポリマー、例えば東洋紡績製ポリエステル樹脂バイ
ロン650(平均分子量約20000、Tg約14
℃)、および
(2) A condensate structure of an aromatic dicarboxylic acid (eg, terephthalic acid, isophthalic acid), an aliphatic dicarboxylic acid (eg, sebacic acid, azelaic acid) and an aliphatic diol (eg, ethylene glycol, neopentyl glycol) Polyester resin contained in the molecule,
Glass transition temperature (Tg) having a number average molecular weight of 10,000 to 30,000 and having at least a terminal OH group of -20 ° C to 40 ° C
° C polymer, for example, a polyester resin Vylon 650 manufactured by Toyobo (average molecular weight: about 20,000, Tg: about 14).
° C), and

【0015】(3) 多官能イソシアネート、例えば日
本ポリウレタン製コロネートLを含み、室温で架橋、硬
化しうるものである。
(3) It contains a polyfunctional isocyanate such as Coronate L manufactured by Nippon Polyurethane, and can be crosslinked and cured at room temperature.

【0016】本発明に使用する(1)のエポキシ樹脂の
数平均分子量は1000〜5000でなければならず、
1000〜3000であることが望ましい。分子量60
00以上では表1に示すようにポリエステル樹脂との相
溶性が悪くなり、相分離を生じ使用できない。一方10
00未満では1分子内のOH基の数が少なくなるので三
次元架橋密度が充分に上がらない。
The epoxy resin (1) used in the present invention must have a number average molecular weight of 1,000 to 5,000,
It is desirable that it is 1000-3000. Molecular weight 60
If it is more than 00, as shown in Table 1, the compatibility with the polyester resin is deteriorated, and phase separation is caused, so that it cannot be used. On the other hand 10
If it is less than 00, the number of OH groups in one molecule is small, so that the three-dimensional crosslinking density is not sufficiently increased.

【0017】また本発明に使用するポリエステル樹脂の
分子量は10000〜30000でなければならない。
30000を超えると架橋密度が低くなり、一方100
00未満では溶剤の乾燥除去後も流動性が残る。またT
gが低すぎると架橋前の硬さが十分ではなく、高すぎる
と研磨テープの柔軟性が損なわれるため−20℃〜40
℃でなければならない。その上OH基を少なくとも末端
に有することが必要であるが、さらに側鎖にOH基を持
つことはさしつかえない。
The polyester resin used in the present invention must have a molecular weight of 10,000 to 30,000.
If it exceeds 30,000, the crosslink density becomes low, while 100
If it is less than 00, fluidity remains even after the solvent is removed by drying. Also T
If the g is too low, the hardness before crosslinking is not sufficient, and if the g is too high, the flexibility of the polishing tape is impaired.
° C. In addition, it is necessary to have an OH group at least at the terminal, but it is possible to have an OH group in the side chain.

【0018】多官能イソシアネートとしては、少なくと
も2個以上のイソシアネート基を有するイソシアネート
化合物が使用できるが、通常1モルのトリオールと3モ
ルのジイソシアネートを反応させて得られる三官能性低
分子量イソシアネートが直鎖のポリエステル樹脂同士の
架橋も可能であるという理由から好適なものとして使用
される。
As the polyfunctional isocyanate, an isocyanate compound having at least two or more isocyanate groups can be used. Usually, a trifunctional low molecular weight isocyanate obtained by reacting 1 mol of triol with 3 mol of diisocyanate is linear. It is used as a preferable one because the cross-linking between the polyester resins is also possible.

【0019】なお、本発明の塗布液用の溶剤としては、
メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン、シクロ
ヘキサノン等のケトン系溶剤、酢酸エチル、酢酸ブチル
等のエステル系溶剤、ベンゼン、トルエン、キシレン等
の芳香族炭化水素系溶剤、ジオキサン、テトラヒドロフ
ラン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等
を単独または二種以上混合して使用して塗布液を調製す
ることができる。
The solvent for the coating solution of the present invention includes
Ketone solvents such as methyl isobutyl ketone, methyl ethyl ketone, and cyclohexanone; ester solvents such as ethyl acetate and butyl acetate; aromatic hydrocarbon solvents such as benzene, toluene, and xylene; dioxane, tetrahydrofuran, dimethylformamide, and dimethyl sulfoxide alone Alternatively, a coating solution can be prepared by mixing two or more kinds.

【0020】さらに、前記研磨層形成用の塗布液中の必
須の含有成分である研磨砥粒は、例えば、酸化アルミニ
ウム、炭化珪素、窒化珪素、酸化ジルコニウム、酸化ク
ロム、酸化鉄、ダイヤモンド、窒化ホウ素、エメリー等
の微粉末が使用されるが、粒径が0.1μ未満のもので
は、得られる研磨テープの研磨効率が悪く、また粒径1
00μを超えるものは、精密な仕上げを行なうことので
きる研磨テープが得られなくなるので、通常0.1〜1
00μの、好ましくは約0.1〜約60μの粒径の砥粒
が使用される。
Further, the abrasive grains, which are essential components in the coating solution for forming the polishing layer, include, for example, aluminum oxide, silicon carbide, silicon nitride, zirconium oxide, chromium oxide, iron oxide, diamond, boron nitride. , Emery and the like are used. If the particle size is less than 0.1 μm, the polishing efficiency of the obtained polishing tape is poor and the particle size is 1 μm.
If the thickness exceeds 00 μ, a polishing tape capable of performing precise finishing cannot be obtained.
An abrasive having a particle size of 00μ, preferably from about 0.1 to about 60μ, is used.

【0021】前記研磨層形成用の塗布液中には必要に応
じて分散剤、帯電防止剤等の添加剤が含有されていても
良い。
The coating liquid for forming the polishing layer may optionally contain additives such as a dispersant and an antistatic agent.

【0022】なお、前記研磨層形成用塗布液は、普通、
結合剤100重量部に対して、砥粒100〜400重量
部程度が含有されており、研磨テープ用の基材上に厚さ
10〜50μ程度に塗布されるものである。
The coating liquid for forming a polishing layer is usually
The abrasive contains about 100 to 400 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the binder, and is applied to a thickness of about 10 to 50 μ on a base material for a polishing tape.

【0023】[0023]

【表1】 [Table 1]

【0024】バインダーの構成樹脂の構造を次に示す。
原料樹脂の構造式
The structure of the constituent resin of the binder is shown below.
Structural formula of raw resin

【化4】 RV65SSはバイロン650のMEK/トルエン溶液
品で固形樹脂は同じである。
Embedded image RV65SS is a MEK / toluene solution of Byron 650 and has the same solid resin.

【0025】[0025]

【実施例】以下本発明の研磨テープの製造方法を実施例
により更に説明する。
EXAMPLES The method for producing a polishing tape of the present invention will be further described below with reference to examples.

【0026】結合剤 結合剤の物性 エポキシ樹脂(ESA014)とポリエステル樹脂(バ
イロン650)の比率を変化させたときのガラス転移点
Tgおよび25℃での貯蔵弾性率E′の変化を表2に示
す。なお、測定値は25℃で1週間硬化後、レオメトリ
ックス社のRSAIIにて測定して得たものである。ただ
し、コロネートLの配合量は下式(1)に従って決定し
た。 コロネートLの量(NCO当量)=(ESA019のO
H当量)×1+(RV65SSのOH当量)×5 ─
(1)
Table 2 shows the change of the [0026] storage modulus at the glass transition point Tg and 25 ° C. at the time of changing the ratio of the physical properties the epoxy resin binder binder (ESA014) and polyester resin (Byron 650) E ' . The measured values were obtained by curing at 25 ° C. for one week and measuring with RSAII of Rheometrics. However, the amount of Coronate L was determined according to the following formula (1). Amount of coronate L (NCO equivalent) = (O of ESA019
H equivalent) × 1 + (OH equivalent of RV65SS) × 5─
(1)

【0027】[0027]

【表2】 ─────────────────────────────────── ESA014/ バイロン650 E′─25℃における(dyn/ cm2 ) Tg(℃) ─────────────────────────────────── 10/90 1.03×1010 48 20/80 1.94×1010 56 30/70 2.76×1010 60 ──────────────────────────────────Table 2 ─────────────────────────────────── ESA014 / Byron 650 E '@ At 25 ° C ( dyn / cm 2 ) Tg (° C) ─────────────────────────────────── 10/90 1.03 × 10 10 48 20/80 1.94 × 10 10 56 30/70 2.76 × 10 10 60 ────────────────────────── ────────

【0028】表2から、ESA014とバイロン650
の配合比を変えることにより、少なくともE′=1.0
3〜2.76×1010 dyn/ cm2 の範囲で任意の硬さが
得られることがわかる。またこの結合剤の硬さの変化は
表に示したガラス転移温度Tgの変化からも理解される
ので処方設定の目安として利用することができる。
From Table 2, it can be seen that ESA014 and Byron 650 were used.
At least E ′ = 1.0
It can be seen that any hardness can be obtained in the range of 3 to 2.76 × 10 10 dyn / cm 2 . The change in the hardness of the binder can be understood from the change in the glass transition temperature Tg shown in the table, and can be used as a guide for setting the recipe.

【0029】研磨テープの製造 表3に示す配合割合の塗布液を厚さ24μのポリエステ
ルフィルム上に、塗布巾50cm、長さ約1200mにロ
ールコーターにて塗布後、乾燥し直径6インチのアルミ
ニウム製巻き取り軸に巻き取り、25℃硬化させた。配
合数値は重量部で示す。
Preparation of Polishing Tape A coating liquid having the compounding ratio shown in Table 3 was applied on a 24 μm thick polyester film to a coating width of 50 cm and a length of about 1200 m by a roll coater, and then dried and made of aluminum having a diameter of 6 inches. The film was wound around a winding shaft and cured at 25 ° C. The compounding values are shown in parts by weight.

【0030】[0030]

【表3】 研磨テープの配合 (単位:重量部) ─────────────────────────────────── 原 材 料 名 実施例 ─────────────────────────────────── エポキシ樹脂 (ESA014) 2.84 ポリエステル樹脂(バイロン650) 25.61 MEK 60.55 トルエン 29.88 WA#5000(25μ Al2 3 砥粒) 100 コロネートL 7.91 ─────────────────────────────────── 計 226.79 ───────────────────────────────────[Table 3] Composition of polishing tape (unit: parts by weight) 原 Hara Material name Example エ ポ キ シ Epoxy resin (ESA014) 2.84 Polyester resin (Byron 650) 25.61 MEK 60.55 Toluene 29.88 WA # 5000 (25μ Al 2 O 3 abrasive) 100 Coronate L 7.91 2 Total 226.7979 ───────

【0031】研磨テープの特性 実施例と比較のためにポリエステル樹脂の代わりにポリ
ウレタン樹脂を使用した比較例(成分および配合比率は
表4に示す)の室温(25℃)における反応時間と硬さ
の関係を第1図に示す。
Characteristics of Polishing Tape For comparison with the examples, the reaction time and hardness at room temperature (25 ° C.) of a comparative example (components and compounding ratios are shown in Table 4) in which a polyurethane resin was used instead of the polyester resin were used. The relationship is shown in FIG.

【0032】[0032]

【表4】 研磨テープ(比較例)の配合 ─────────────────────────────────── 原 材 料 名 比較例 ─────────────────────────────────── エポキシ樹脂 (ESA019) 8.32 ウレタン樹脂 (EA1443)(固形分55%MEK/トルエン溶液) 28.10 MEK 74.30 WA#4000(3μ Al2 3 砥粒) 100 コロネートL 14.15 ─────────────────────────────────── 計 224.87 ───────────────────────────────────[Table 4] Formulation of polishing tape (comparative example) ─────────────────────────────────── Raw material Name Comparative Example ─────────────────────────────────── Epoxy resin (ESA019) 8.32 Urethane resin (EA1443 ) (Solid content 55% MEK / toluene solution) 28.10 MEK 74.30 WA # 4000 (3μ Al 2 O 3 abrasive) 100 Coronate L 14.15 2 Total 224.87───────────────────────── ──────────

【0033】第1図から、比較例が初期はコーティング
層も非常に軟らかく、ほとんど基材の硬さと同じである
のに対して実施例は初期からコーティング層がある程度
の硬さを持っていることがわかる。このため、実施例は
ロール内の内圧に対する抵抗力を有しており、品質の変
化を生じにくい。
From FIG. 1, it can be seen that the coating layer is very soft in the initial stage and almost the same as the hardness of the substrate in the comparative example, whereas the coating layer has a certain hardness from the beginning in the embodiment. I understand. For this reason, the embodiment has resistance to the internal pressure in the roll, and does not easily change in quality.

【0034】実施例と比較例を使用してハードディスク
基板のNiP表面を研磨したときの基板表面の仕上げ粗
さと研磨テープのロール内の長さ方向の位置との関係を
第2図に示す。なお、実施例、比較例ともロール状に巻
き、25℃で一週間硬化したものを使用した。
FIG. 2 shows the relationship between the finish roughness of the substrate surface and the longitudinal position of the polishing tape in the roll when the NiP surface of the hard disk substrate was polished using the examples and comparative examples. In addition, the Example and the comparative example used what wound up in roll shape, and was hardened at 25 degreeC for 1 week.

【0035】第2図から、本発明によってロール状に巻
き取られた状態での室温硬化中のロール内の内圧によっ
て生じる仕上げ性の変化を大巾に低減できることがわか
る。
FIG. 2 shows that the present invention can greatly reduce the change in finishability caused by the internal pressure in the roll during curing at room temperature in the state of being wound up in the form of a roll.

【0036】[0036]

【発明の効果】本発明方法により製造された研磨テープ
における研磨層は、初期からある程度の硬さを持ってい
るのでロール状に巻き取られた状態での室温硬化中のロ
ール内の内圧による変化が生じ難いために、切削性、仕
上げ性等の研磨テープとしての品質のバラツキを減少さ
せることができ特に薄膜型磁気ディスクの研磨工程に好
適な性能を発揮する。
Since the polishing layer of the polishing tape manufactured by the method of the present invention has a certain degree of hardness from the beginning, it changes due to the internal pressure in the roll during curing at room temperature in the state of being wound into a roll. Since it is difficult for the polishing tape to occur, it is possible to reduce the variation in the quality of the polishing tape such as the machinability and the finish, and to exhibit the performance particularly suitable for the polishing step of the thin-film magnetic disk.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】図1は研磨テープの硬化時間と硬さ(スティク
ネス)の関係を示すグラフである。
FIG. 1 is a graph showing the relationship between the hardening time and the hardness (stickiness) of a polishing tape.

【図2】図2は研磨テープの仕上げ性のロール内の長手
方向による変化を示すグラフである。
FIG. 2 is a graph showing the change in the finish of the polishing tape in the roll in the longitudinal direction.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭49−110728(JP,A) 特開 昭61−265279(JP,A) 特開 昭57−41170(JP,A) 特開 平3−177412(JP,A) 特開 平3−166061(JP,A) 米国特許4267288(US,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) B24D 11/00 B24D 3/28 C08J 7/04 G11B 5/84 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of the front page (56) References JP-A-49-110728 (JP, A) JP-A-61-265279 (JP, A) JP-A-57-41170 (JP, A) 177412 (JP, A) JP-A-3-16661 (JP, A) US Pat. No. 4,267,288 (US, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) B24D 11/00 B24D 3/28 C08J 7/04 G11B 5/84

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 主成分として研磨砥粒、結合剤および溶
を混合して塗布液を調製する工程、この塗布液を基材
上に塗布後乾燥して溶剤を除去し、それによって結合剤
を硬化せしめる工程とを含む研磨テープの製造方法にお
いて、 前記塗布液を調製する工程における結合剤がその成分組
成として (A) 【化1】 を繰返し単位とする数平均分子量1000〜5000の
エポキシ樹脂、 (B) 芳香族ジカルボン酸および/又は脂肪族ジカル
ボン酸と脂肪族ジオールの縮合物を分子内に含み、数平
均分子量が10000〜30000であり、少なくとも
末端に水酸基を有しかつ、ガラス転移点(Tg)が−2
0℃〜40℃のポリエステル樹脂、および (C) 多官能イソシアネートを含有することを特徴と
する研磨テープの製造方法。
An abrasive grain, a binder and a solvent as main components.
Preparing mixed and a coating liquid agent, in the coating solution Solvent was removed by drying after coating on a substrate a method of making an abrasive tape and a step of curing it by binding agent, wherein The binder in the step of preparing the coating liquid has the following composition: (A) (B) an aromatic dicarboxylic acid and / or a condensate of an aliphatic dicarboxylic acid and an aliphatic diol in the molecule, having a number average molecular weight of 10,000 to 30,000 Having a hydroxyl group at least at a terminal and having a glass transition point (Tg) of -2.
A method for producing a polishing tape, comprising: a polyester resin at 0 ° C to 40 ° C; and (C) a polyfunctional isocyanate.
【請求項2】 前記結合剤を室温(25℃±15℃)に
て硬化せしめる工程を含む請求項1記載の研磨テープの
製造方法。
2. The method for producing a polishing tape according to claim 1, further comprising a step of curing the binder at room temperature (25 ° C. ± 15 ° C.).
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