JP3065921B2 - 流動層用ガス分散器 - Google Patents
流動層用ガス分散器Info
- Publication number
- JP3065921B2 JP3065921B2 JP7309593A JP30959395A JP3065921B2 JP 3065921 B2 JP3065921 B2 JP 3065921B2 JP 7309593 A JP7309593 A JP 7309593A JP 30959395 A JP30959395 A JP 30959395A JP 3065921 B2 JP3065921 B2 JP 3065921B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- perforated plate
- gas
- fluidized bed
- supply means
- gas supply
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Drying Of Solid Materials (AREA)
- Devices And Processes Conducted In The Presence Of Fluids And Solid Particles (AREA)
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、流動層型反応器あ
るいは流動層型乾燥器等における固体粒子の流動層用ガ
ス分散器に関する。
るいは流動層型乾燥器等における固体粒子の流動層用ガ
ス分散器に関する。
【０００２】
【従来の技術】流動層反応器用ガス分散器には、キャッ
プタイプ、マニホールドタイプ、オリフィスタイプ、焼
結板、あるいは多孔板を利用したもの等がある。流動層
反応器（気泡流動層）での反応率、選択率は気泡の大き
さに影響される。特に、反応速度の遅い系では、上記反
応率等を高めるために小気泡径が望まれる。一般に小気
泡径を生成するには、ガス分散器にガス噴出孔の多い焼
結板または多孔板などが用いられる。しかしながら、焼
結板は粒子により目詰まりを起こし易く、大量処理には
不向きであった。このため、工業装置用の小気泡径の生
成には一般に多孔板を利用したものが用いられている。
プタイプ、マニホールドタイプ、オリフィスタイプ、焼
結板、あるいは多孔板を利用したもの等がある。流動層
反応器（気泡流動層）での反応率、選択率は気泡の大き
さに影響される。特に、反応速度の遅い系では、上記反
応率等を高めるために小気泡径が望まれる。一般に小気
泡径を生成するには、ガス分散器にガス噴出孔の多い焼
結板または多孔板などが用いられる。しかしながら、焼
結板は粒子により目詰まりを起こし易く、大量処理には
不向きであった。このため、工業装置用の小気泡径の生
成には一般に多孔板を利用したものが用いられている。
【０００３】ところで、多孔板を利用した流動層用ガス
分散器には、流動層を形成する粒子が多孔板の孔から下
方へ落下する問題がある。このような問題に対処するも
のとして、例えば、特開昭６２−２０１６３４号公報
に、多孔板の下方に下部多孔板を、孔どうしが重ならな
いようにずらして配置する技術が開示されている。ま
た、特開平３−１９３１３４号公報に、多孔板の孔の下
方に円柱状の粒子受け部材を配置し、前記孔から下方へ
落下する粒子を粒子受け部材で受けて、孔からのそれ以
上の粒子の落下を防ぐようにした技術も開示されてい
る。
分散器には、流動層を形成する粒子が多孔板の孔から下
方へ落下する問題がある。このような問題に対処するも
のとして、例えば、特開昭６２−２０１６３４号公報
に、多孔板の下方に下部多孔板を、孔どうしが重ならな
いようにずらして配置する技術が開示されている。ま
た、特開平３−１９３１３４号公報に、多孔板の孔の下
方に円柱状の粒子受け部材を配置し、前記孔から下方へ
落下する粒子を粒子受け部材で受けて、孔からのそれ以
上の粒子の落下を防ぐようにした技術も開示されてい
る。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】上記した従来の流動層
用ガス分散器にあっては、いずれの技術にも、孔からの
粒子の落下を完全に防止することができないという問題
があった。すなわち、前者の技術にあっては、多孔板の
下方にさらに下部多孔板を設ける構造のものであるが、
たとえ、多孔板の孔から落下堆積する粒子の安息角を考
慮して下部多孔板を配置したところで、多孔板上の粒子
の径あるいは形状は一様ではなく、小径の粒子の場合、
下部多孔板の孔からさらに下方へ落下する問題がある。
このような問題は、後者の多孔板の孔の下方に粒子受け
部材を配置する技術でも振動等が発生した場合、同様に
起こり得る。加えて、上記した従来の技術には、構造的
に複雑になるという問題もあった。
用ガス分散器にあっては、いずれの技術にも、孔からの
粒子の落下を完全に防止することができないという問題
があった。すなわち、前者の技術にあっては、多孔板の
下方にさらに下部多孔板を設ける構造のものであるが、
たとえ、多孔板の孔から落下堆積する粒子の安息角を考
慮して下部多孔板を配置したところで、多孔板上の粒子
の径あるいは形状は一様ではなく、小径の粒子の場合、
下部多孔板の孔からさらに下方へ落下する問題がある。
このような問題は、後者の多孔板の孔の下方に粒子受け
部材を配置する技術でも振動等が発生した場合、同様に
起こり得る。加えて、上記した従来の技術には、構造的
に複雑になるという問題もあった。
【０００５】本発明は、上記事情に鑑みてなされたもの
であり、簡単な構成で、粒子の落下を確実に防止できる
流動層用ガス分散器を提供することを目的とする。
であり、簡単な構成で、粒子の落下を確実に防止できる
流動層用ガス分散器を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、請求項１記載の発明では、固気系流を形成する流
動室の底部に流動層用ガスを供給する孔が形成された多
孔板を有する流動層用ガス分散器において、多孔板の下
方に支持板が設けられ、該支持板には複数の筒状のガス
供給手段が支持板を貫通するとともに前記多孔板の孔と
重ならないように、かつ、該筒状のガス供給手段の各上
端部が該支持板から上方へ突出するように設けられてい
ることを特徴とする。請求項２記載の発明では、前記筒
状のガス供給手段の上部開口は、前記多孔板の孔から落
下して支持板上に所定の安息角をもって堆積する粒子の
堆積斜面より上方位置に配されることを特徴とする。
めに、請求項１記載の発明では、固気系流を形成する流
動室の底部に流動層用ガスを供給する孔が形成された多
孔板を有する流動層用ガス分散器において、多孔板の下
方に支持板が設けられ、該支持板には複数の筒状のガス
供給手段が支持板を貫通するとともに前記多孔板の孔と
重ならないように、かつ、該筒状のガス供給手段の各上
端部が該支持板から上方へ突出するように設けられてい
ることを特徴とする。請求項２記載の発明では、前記筒
状のガス供給手段の上部開口は、前記多孔板の孔から落
下して支持板上に所定の安息角をもって堆積する粒子の
堆積斜面より上方位置に配されることを特徴とする。
【０００７】本発明によれば、運転時においては、ガス
の流れによって粒子は孔から多孔板の上方へ吹き上げら
れ、孔から粒子が落下することはない。運転停止時に
は、粒子が多孔板の孔から下方へ落下するが、この落下
する粒子は支持板上に所定の安息角をもって堆積する。
このとき、複数の筒状のガス供給手段は支持板を貫通し
それらの上端部が該支持板から上方へ突出しているの
で、それら筒状等のガス供給手段の壁部自体が堰として
機能することとなり、これらのガス供給手段から粒子が
下方へ落下することはない。
の流れによって粒子は孔から多孔板の上方へ吹き上げら
れ、孔から粒子が落下することはない。運転停止時に
は、粒子が多孔板の孔から下方へ落下するが、この落下
する粒子は支持板上に所定の安息角をもって堆積する。
このとき、複数の筒状のガス供給手段は支持板を貫通し
それらの上端部が該支持板から上方へ突出しているの
で、それら筒状等のガス供給手段の壁部自体が堰として
機能することとなり、これらのガス供給手段から粒子が
下方へ落下することはない。
【０００８】
【発明の実施の形態】以下、図１〜図４に基づいて本発
明の実施の形態を説明する。図１において符号１は下部
にガス流入孔１ａ、上部にガス流出孔１ｂを有する流動
層反応器。２は流動層反応器１の下部の流動室３の底部
に固気系流を形成するように設けられた本発明にかかる
流動層用ガス分散器である。
明の実施の形態を説明する。図１において符号１は下部
にガス流入孔１ａ、上部にガス流出孔１ｂを有する流動
層反応器。２は流動層反応器１の下部の流動室３の底部
に固気系流を形成するように設けられた本発明にかかる
流動層用ガス分散器である。
【０００９】流動層用ガス分散器２は、反応器１内の所
定高さ位置に略水平面に沿って配置された多孔板４と、
その下方に所定の間隔をあけて略平行に配置された支持
板５とを備える。多孔板４は、図２に示すように流動室
３の下方から上方へ流動層用ガスを供給するための多数
の孔４ａ，…が規則正しく形成されている。一方、支持
板５には、複数の筒状のガス供給手段６，…が支持板５
を貫通するとともに、多孔板４の孔４ａと重ならないよ
うに、かつ、筒状のガス供給手段６の各上端部が支持板
５から上方へ突出するように設けられている。多孔板４
の孔４ａとその下方の支持板５に形成されるガス供給手
段６との配置例は図２（ａ）で示すが、その他に、図２
（ｂ），（ｃ）に示すものも考えられる。これら図２
（ｂ），（ｃ）に示すものは、孔４ａとガス供給手段と
の配置密度を同じに設定している。また、筒状のガス供
給手段６の上部開口６ａは、図４に示すように多孔板４
の孔４ａ，…から落下して支持板５上に所定の安息角θ
をもって堆積する粒子７，…の堆積斜面８より上方位置
に配される。
定高さ位置に略水平面に沿って配置された多孔板４と、
その下方に所定の間隔をあけて略平行に配置された支持
板５とを備える。多孔板４は、図２に示すように流動室
３の下方から上方へ流動層用ガスを供給するための多数
の孔４ａ，…が規則正しく形成されている。一方、支持
板５には、複数の筒状のガス供給手段６，…が支持板５
を貫通するとともに、多孔板４の孔４ａと重ならないよ
うに、かつ、筒状のガス供給手段６の各上端部が支持板
５から上方へ突出するように設けられている。多孔板４
の孔４ａとその下方の支持板５に形成されるガス供給手
段６との配置例は図２（ａ）で示すが、その他に、図２
（ｂ），（ｃ）に示すものも考えられる。これら図２
（ｂ），（ｃ）に示すものは、孔４ａとガス供給手段と
の配置密度を同じに設定している。また、筒状のガス供
給手段６の上部開口６ａは、図４に示すように多孔板４
の孔４ａ，…から落下して支持板５上に所定の安息角θ
をもって堆積する粒子７，…の堆積斜面８より上方位置
に配される。
【００１０】前記多孔板４に形成される孔４ａは、多孔
板４上に配される流動層用粒子の径等の諸条件によって
も種々異なるが、均一径であって直径が１〜５ｍｍに設
定されたものが好ましく、その開口面積比は１〜１０％
に設定されたものが好ましい。また、支持板５に設けら
れる前記筒状のガス供給手段６としては、具体的には均
一径であって前記孔４ａの径よりも大きく、３〜１０ｍ
ｍ程度に設定された断面円形のパイプ材を用いるのが好
ましい。また、多孔板４と支持板５に設けられる筒状の
ガス供給手段６の上端部との距離ｎは、ガス供給手段６
を構成するパイプ材の直径の１／４〜１程度に設定され
るのが好ましい。また、多孔板４の孔４ａ並びに支持板
５のガス供給手段６を運転条件から見ると、孔４ａを通
過するガスの流速は５〜８０ｍ／ｓｅｃに設定するのが
好ましく、１０〜６０ｍ／ｓｅｃに設定するのがより好
ましい。また、筒状のガス供給手段６を通過するガスの
流速は、２．５〜８０ｍ／ｓｅｃに設定するのが好まし
く、５〜６０ｍ／ｓｅｃに設定するのがより好ましい。
また、孔４ａを通過するガスの流速と筒状のガス供給手
段６を通過するガスの流速との比は１：０．５〜１が好
ましい。また、流動層反応器１内を通過するガスの流速
は５〜３００ｃｍ／ｓｅｃに設定するのが好ましい。
板４上に配される流動層用粒子の径等の諸条件によって
も種々異なるが、均一径であって直径が１〜５ｍｍに設
定されたものが好ましく、その開口面積比は１〜１０％
に設定されたものが好ましい。また、支持板５に設けら
れる前記筒状のガス供給手段６としては、具体的には均
一径であって前記孔４ａの径よりも大きく、３〜１０ｍ
ｍ程度に設定された断面円形のパイプ材を用いるのが好
ましい。また、多孔板４と支持板５に設けられる筒状の
ガス供給手段６の上端部との距離ｎは、ガス供給手段６
を構成するパイプ材の直径の１／４〜１程度に設定され
るのが好ましい。また、多孔板４の孔４ａ並びに支持板
５のガス供給手段６を運転条件から見ると、孔４ａを通
過するガスの流速は５〜８０ｍ／ｓｅｃに設定するのが
好ましく、１０〜６０ｍ／ｓｅｃに設定するのがより好
ましい。また、筒状のガス供給手段６を通過するガスの
流速は、２．５〜８０ｍ／ｓｅｃに設定するのが好まし
く、５〜６０ｍ／ｓｅｃに設定するのがより好ましい。
また、孔４ａを通過するガスの流速と筒状のガス供給手
段６を通過するガスの流速との比は１：０．５〜１が好
ましい。また、流動層反応器１内を通過するガスの流速
は５〜３００ｃｍ／ｓｅｃに設定するのが好ましい。
【００１１】より具体的に検討すると、例えば、多孔板
４上に配置する流動層用粒子がＦＣＣ触媒の場合、多孔
板４の孔４ａには直径３ｍｍの均一径に設定されたもの
が用いられ、支持板５の筒状のガス供給手段６には直径
が６ｍｍで長さが２０ｍｍのパイプ材が用いられ、多孔
板４と支持板５に設けられるパイプ材の上端部との距離
ｎは５ｍｍに設定され、多孔板４の孔４ａどうしは図２
（ａ）に示すように正三角形の頂点に位置するように互
いの距離ｈを略２０ｍｍ程度離されて配される。また、
このときの流動層反応器１内を流れるガスの速度は２０
〜４０ｃｍ／ｓｅｃであり、ＦＣＣの安息角θは３２゜
である。なお、多孔板４上に配される粒子７がアルミナ
の場合の安息角θは３９゜である。また、カーボンブラ
ックの場合の安息角θは３５゜、ガラスビーズの場合の
安息角θは１５゜、シリカゲルの場合の安息角θは５０
゜であり、また、それら粒子の径は１０〜１０００μｍ
程度である。
４上に配置する流動層用粒子がＦＣＣ触媒の場合、多孔
板４の孔４ａには直径３ｍｍの均一径に設定されたもの
が用いられ、支持板５の筒状のガス供給手段６には直径
が６ｍｍで長さが２０ｍｍのパイプ材が用いられ、多孔
板４と支持板５に設けられるパイプ材の上端部との距離
ｎは５ｍｍに設定され、多孔板４の孔４ａどうしは図２
（ａ）に示すように正三角形の頂点に位置するように互
いの距離ｈを略２０ｍｍ程度離されて配される。また、
このときの流動層反応器１内を流れるガスの速度は２０
〜４０ｃｍ／ｓｅｃであり、ＦＣＣの安息角θは３２゜
である。なお、多孔板４上に配される粒子７がアルミナ
の場合の安息角θは３９゜である。また、カーボンブラ
ックの場合の安息角θは３５゜、ガラスビーズの場合の
安息角θは１５゜、シリカゲルの場合の安息角θは５０
゜であり、また、それら粒子の径は１０〜１０００μｍ
程度である。
【００１２】しかして、上記構成の流動層ガス分散器に
よれば、運転時では、ガスが流動層反応器１の底部のガ
ス流入孔１ａから流動層反応器１内に侵入し、図３に示
すようにガス供給手段６を上方に吹き抜けた後、側方へ
流れを変えてさらに多孔板４の孔４，…を通り、所定の
経路を経て流動層反応器１の上部のガス流出孔１ｂから
外部へ流出する。このとき、ガスが常に多孔板４の孔４
ａを上方へ流れるので、このガスの流れによって押し返
されるため、多孔板４上の粒子７は孔４ａから下方へ落
下することはない。
よれば、運転時では、ガスが流動層反応器１の底部のガ
ス流入孔１ａから流動層反応器１内に侵入し、図３に示
すようにガス供給手段６を上方に吹き抜けた後、側方へ
流れを変えてさらに多孔板４の孔４，…を通り、所定の
経路を経て流動層反応器１の上部のガス流出孔１ｂから
外部へ流出する。このとき、ガスが常に多孔板４の孔４
ａを上方へ流れるので、このガスの流れによって押し返
されるため、多孔板４上の粒子７は孔４ａから下方へ落
下することはない。
【００１３】一方、運転停止時には、図４に示すように
多孔板４上の粒子７が孔４ａ，…を通って下方へ落下す
るが、この落下する粒子は支持板５上に所定の安息角θ
をもって堆積する。このとき、支持板５に設けられた複
数の筒状のガス供給手段６は、各上端部が支持板５から
上方へ突出していること、多孔板４の孔４ａ，…と重な
らない位置に設けられていること、並びに、その上端部
が支持板５上に堆積する粒子７の堆積斜面８よりも上方
に位置していることから、それら筒状等のガス供給手段
６の壁部自体が堰として機能することとなり、この結
果、支持板５上に堆積する粒子７が、これらガス供給手
段６から下方へ落下することはない。
多孔板４上の粒子７が孔４ａ，…を通って下方へ落下す
るが、この落下する粒子は支持板５上に所定の安息角θ
をもって堆積する。このとき、支持板５に設けられた複
数の筒状のガス供給手段６は、各上端部が支持板５から
上方へ突出していること、多孔板４の孔４ａ，…と重な
らない位置に設けられていること、並びに、その上端部
が支持板５上に堆積する粒子７の堆積斜面８よりも上方
に位置していることから、それら筒状等のガス供給手段
６の壁部自体が堰として機能することとなり、この結
果、支持板５上に堆積する粒子７が、これらガス供給手
段６から下方へ落下することはない。
【００１４】なお、本発明の流動層用ガス分散器は、前
記した実施の形態に限られることなく、流動室３の形
状、あるいは多孔板４に形成される孔４ａや支持板５に
設けられるガス供給手段６の形状等は種々変更可能であ
る。例えば、上記実施の形態では、流動層反応器１に組
み付けられる流動層用ガス分散器２を例に挙げて説明し
たが、これに限られることなく、流動層型乾燥器にも本
発明の流動層用ガス分散器は適用可能である。また、上
記実施の形態では、支持板５に設けるガス供給手段６と
して断面円形のパイプを用いているが、これに限られる
ことなく、筒状であれば、断面が正方形、三角形あるい
は他の多角形の筒状体をガス供給手段６として用いても
よい。
記した実施の形態に限られることなく、流動室３の形
状、あるいは多孔板４に形成される孔４ａや支持板５に
設けられるガス供給手段６の形状等は種々変更可能であ
る。例えば、上記実施の形態では、流動層反応器１に組
み付けられる流動層用ガス分散器２を例に挙げて説明し
たが、これに限られることなく、流動層型乾燥器にも本
発明の流動層用ガス分散器は適用可能である。また、上
記実施の形態では、支持板５に設けるガス供給手段６と
して断面円形のパイプを用いているが、これに限られる
ことなく、筒状であれば、断面が正方形、三角形あるい
は他の多角形の筒状体をガス供給手段６として用いても
よい。
【００１５】
【発明の効果】以上説明したように本発明は以下の優れ
た効果を奏する。請求項１記載の発明によれば、多孔板
の下方に設ける支持板に、複数の筒状のガス供給手段が
支持板を貫通するとともに多孔板の孔と重ならないよう
に、かつ、筒状のガス供給手段の各上端部が該支持板か
ら上方へ突出するように設けているから、筒状のガス供
給手段の壁部自体が堰として機能し、簡単な構成である
にも拘わらず、運転停止時に粒子がガス供給手段から下
方へ落下することはない。請求項２の発明によれば、筒
状のガス供給手段の上部開口は、多孔板の孔から落下し
て支持板上に所定の安息角をもって堆積する粒子の堆積
斜面より上方位置に配されるから、より確実に、粒子が
ガス供給手段から下方へ落下するのを防止できる。
た効果を奏する。請求項１記載の発明によれば、多孔板
の下方に設ける支持板に、複数の筒状のガス供給手段が
支持板を貫通するとともに多孔板の孔と重ならないよう
に、かつ、筒状のガス供給手段の各上端部が該支持板か
ら上方へ突出するように設けているから、筒状のガス供
給手段の壁部自体が堰として機能し、簡単な構成である
にも拘わらず、運転停止時に粒子がガス供給手段から下
方へ落下することはない。請求項２の発明によれば、筒
状のガス供給手段の上部開口は、多孔板の孔から落下し
て支持板上に所定の安息角をもって堆積する粒子の堆積
斜面より上方位置に配されるから、より確実に、粒子が
ガス供給手段から下方へ落下するのを防止できる。
【図１】本発明にかかる流動層ガス分散器を備える流動
層型反応器の断面図である。
層型反応器の断面図である。
【図２】（ａ）は図１のＡ方向から見た矢視図、（ｂ）
は多孔板の孔と支持板のガス供給手段の他の配置例を示
す図、（ｃ）は多孔板の孔と支持板のガス供給手段のさ
らに他の配置例を示す図である。
は多孔板の孔と支持板のガス供給手段の他の配置例を示
す図、（ｃ）は多孔板の孔と支持板のガス供給手段のさ
らに他の配置例を示す図である。
【図３】図１の流動層ガス分散器の運転時の挙動を示す
断面図である。
断面図である。
【図４】図１の流動層ガス分散器の運転停止時の挙動を
示す断面図である。
示す断面図である。
１ 流動層反応器 ２ 流動層用ガス分散器 ３ 流動室 ４ 多孔板 ４ａ 孔 ５ 支持板 ６ ガス供給手段 ７ 粒子 ８ 堆積斜面
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭50−155044（ＪＰ，Ａ) 特開 昭56−84602（ＪＰ，Ａ) 実開 平４−32497（ＪＰ，Ｕ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) B01J 8/18 - 8/46 F26B 3/08 - 3/097 F27B 15/00 - 15/20 F23C 11/02
Claims (2)
- 【請求項１】 固気系流を形成する流動室（３）の底部
（３ａ）に流動層用ガスを供給する孔（４ａ）が形成さ
れた多孔板（４）を有する流動層用ガス分散器（２）に
おいて、 多孔板の下方に支持板（５）が設けられ、該支持板には
複数の筒状のガス供給手段（６）が支持板を貫通すると
ともに前記多孔板の孔と重ならないように、かつ、該筒
状のガス供給手段の各上端部が該支持板から上方へ突出
するように設けられていることを特徴とする流動層用ガ
ス分散器。 - 【請求項２】 請求項１記載の流動層ガス分散器におい
て、 前記筒状のガス供給手段の上部開口（６ａ）は、前記多
孔板の孔から落下して支持板上に所定の安息角をもって
堆積する粒子（７）の堆積斜面（８）より上方位置に配
されることを特徴とする流動層用ガス分散器。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7309593A JP3065921B2 (ja) | 1995-11-28 | 1995-11-28 | 流動層用ガス分散器 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7309593A JP3065921B2 (ja) | 1995-11-28 | 1995-11-28 | 流動層用ガス分散器 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09150051A JPH09150051A (ja) | 1997-06-10 |
| JP3065921B2 true JP3065921B2 (ja) | 2000-07-17 |
Family
ID=17994906
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7309593A Expired - Fee Related JP3065921B2 (ja) | 1995-11-28 | 1995-11-28 | 流動層用ガス分散器 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3065921B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100778536B1 (ko) * | 2007-03-22 | 2007-11-28 | 한국기계연구원 | 촉매 반응기의 유동 균일화 장치 |
| JP2016010758A (ja) * | 2014-06-27 | 2016-01-21 | 株式会社ティラド | 反応器 |
| CN109985571B (zh) * | 2017-12-29 | 2021-08-31 | 中国石油化工股份有限公司 | 一种具有减冲组件的加氢反应器 |
-
1995
- 1995-11-28 JP JP7309593A patent/JP3065921B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH09150051A (ja) | 1997-06-10 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5027147B2 (ja) | 機器に用いられる気液相混合物のための分配装置 | |
| EP0827765B1 (en) | Gas-liquid dispersion devices, gas-liquid contact apparatus and wastewater treatment systems | |
| JP3708960B2 (ja) | 混合相固定床型反応器用分配装置及びそれを内部に有する反応器 | |
| US3298793A (en) | Fluid bed diffusion | |
| JP4695126B2 (ja) | 排ガスの脱硫脱硝装置 | |
| JP2010517763A (ja) | 流動床スパージャー | |
| JP5174523B2 (ja) | ルーバー前面を備えた入口ダクト | |
| AU673391B2 (en) | A method and apparatus for treating a pulverulent or particulate material or product with gas | |
| JPS62186932A (ja) | 固体を含む液体を横断面上に均一に分布する方法及び装置 | |
| US4032300A (en) | Oxygen-containing gas distribution apparatus employed in fluidized bed regeneration of carbon-contaminated catalysts | |
| US5453254A (en) | Apparatus for effecting chemical and/or physical reactions | |
| JP3065921B2 (ja) | 流動層用ガス分散器 | |
| US5391356A (en) | Flow distributor for a fluidized bed reactor | |
| JPH05504509A (ja) | 粒状製品の製造装置 | |
| DK2352579T3 (en) | Method and apparatus for treating fine-grained material in a jet layer | |
| JPH09168733A (ja) | 固体充填体のベットを経てガス流を供給するための装置 | |
| EP0085610A2 (en) | Gas distributor for fluidized beds | |
| JPH0133153Y2 (ja) | ||
| US4347672A (en) | Inflow bottom for a fluidized bed reactor | |
| JP3160870B2 (ja) | 流動層における風箱 | |
| JPS61287438A (ja) | 三相流動反応器の分散装置 | |
| EP0453209A1 (en) | Gas distributor used for gas-solid fluidized bed equipment | |
| JP4038934B2 (ja) | 多室型流動層装置 | |
| Chyang et al. | Pressure drop across a perforated-plate distributor in a gas-fluidized bed | |
| EP0844908A1 (en) | Separating solids from a mixture in a gas-solid fluidised bed |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20000328 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090512 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090512 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100512 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110512 Year of fee payment: 11 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110512 Year of fee payment: 11 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120512 Year of fee payment: 12 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130512 Year of fee payment: 13 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140512 Year of fee payment: 14 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |