JP3044582B2 - Gas rate sensor - Google Patents
Gas rate sensorInfo
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Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、センサ本体に角速度が
作用したときのセンサ内部におけるガス流の偏向にもと
づいて角速度を検出するガスレートセンサに関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a gas rate sensor for detecting an angular velocity based on a deflection of a gas flow inside the sensor when the angular velocity acts on a sensor body.
【0002】[0002]
【従来の技術】この種のガスレートセンサにあっては、
角速度を精度良く検出することができるように、ガスを
ポンプによりノズル孔からガス通路内に層流としてその
ガス通路内に設けられたヒートワイヤ対に向かってまっ
すぐに噴出させる必要があり、そのため従来のガスレー
トセンサ(特公昭64−4623号公報参照)では、比
較的サイズの大きなガス通路内において安定した層流を
得ることができるように、動粘度の高いヘリウム(H
e)などのガスを使用するようにしている。2. Description of the Related Art In a gas rate sensor of this type,
In order to be able to accurately detect the angular velocity, it is necessary to eject gas straight from the nozzle hole into the gas passage as a laminar flow toward the heat wire pair provided in the gas passage so that the angular velocity can be accurately detected. In the gas rate sensor (see Japanese Patent Publication No. 64-4623), helium (H) having a high kinematic viscosity is used so that a stable laminar flow can be obtained in a relatively large gas passage.
e) gas is used.
【0003】動粘度の高いHeガスなどにあっては一般
に熱伝達率が大きいが、従来では、ヒートワイヤとして
タングステンなどの裸線がそのまま用いられているの
で、熱伝達率の大きなガスを用いても必要なレート感度
すなわちガス流の偏向に応じたヒートワイヤ対の各抵抗
値の変化の度合が得られている。In general, a heat transfer coefficient is high in He gas or the like having a high kinematic viscosity, but in the past, since a bare wire such as tungsten is used as a heat wire as it is, a gas having a large heat transfer coefficient is used. The required rate sensitivity, that is, the degree of change of each resistance value of the heat wire pair according to the deflection of the gas flow is obtained.
【0004】また、最近、IC製造技術を利用したマイ
クロマシニング加工により、半導体基板をエッチングす
ることによってノズル孔およびガス通路を形成するとと
もに、ガス通路内に形成されたブリッジ部の面上にヒー
トワイヤの材料となる白金などを蒸着し、それをエッチ
ングするなどしてガス通路内にヒートワイヤ対をパター
ン形成した半導体ガスレートセンサが開発されている
(特開平3−29858号公報参照)。Recently, a semiconductor substrate is etched by micromachining using an IC manufacturing technique to form a nozzle hole and a gas passage, and a heat wire is formed on a surface of a bridge portion formed in the gas passage. A semiconductor gas rate sensor has been developed in which a pair of heat wires is formed in a gas passage by depositing platinum or the like, which is a material for the above, and etching the same, for example (see JP-A-3-29858).
【0005】しかして、このような半導体ガスレートセ
ンサでは、普通、平面的にパターン形成されたヒートワ
イヤの部分をSiNなどの保護膜により覆って保護する
ようにしていることもあって、Heなどの熱伝達率の大
きなガスを使用すると、加熱されているヒートワイヤの
表面温度が下がりすぎて、必要なレート感度が得難くな
ってしまい、また、ヒートワイヤ部分に生ずるガスの対
流(図4中点線で示すガスの流れ)によってもヒートワ
イヤの表面温度が大きく低下して、その分検出誤差とな
って角速度の検出精度が悪くなってしまう。However, in such a semiconductor gas rate sensor, a portion of the heat wire, which is patterned in a planar manner, is usually covered and protected by a protective film such as SiN. If a gas having a large heat transfer coefficient is used, the surface temperature of the heated heat wire is too low, so that it is difficult to obtain a required rate sensitivity, and gas convection generated in the heat wire portion (see FIG. 4) The surface temperature of the heat wire is also greatly reduced by the flow of gas indicated by the dotted line), resulting in a corresponding detection error and a decrease in the angular velocity detection accuracy.
【0006】[0006]
【発明が解決しようとする課題】解決しようとする問題
点は、半導体ガスレートセンサにおいて、Neなどの熱
伝達率の大きなガスを使用すると、必要なレート感度が
得難くなってしまい、また角速度の検出精度が低下して
しまうことである。The problem to be solved is that when a gas having a large heat transfer coefficient such as Ne is used in a semiconductor gas rate sensor, it becomes difficult to obtain a required rate sensitivity, and an angular velocity cannot be obtained. That is, the detection accuracy is reduced.
【0007】[0007]
【課題を解決するための手段】本発明は、半導体ガスレ
ートセンサにおいて、熱伝達率の小さなガスを使用する
ことにより、必要なレート感度が得られ、かつヒートワ
イヤ部分に生ずるガスの対流による影響を受けることな
く、しかも動粘度が低いながらも安定した層流を得て、
角速度を精度良く検出するという目的を達成した。SUMMARY OF THE INVENTION According to the present invention, a semiconductor gas rate sensor uses a gas having a small heat transfer coefficient to obtain a required rate sensitivity and is affected by gas convection generated in a heat wire portion. To obtain a stable laminar flow while receiving low kinematic viscosity,
The objective of accurately detecting angular velocity has been achieved.
【0008】[0008]
【作用】本発明によれば、ヒートワイヤ対に向かって噴
出されるガス流におけるガスの熱伝達率が小さいので、
ヒートワイヤの表面温度が下がりすぎるようなことがな
く、またヒートワイヤ部分に生ずるガスの対流によるヒ
ートワイヤの表面温度の低下の程度が問題ではなくな
り、また、動粘度の低いガスを使用しても、半導体ガス
レートセンサではそのガス通路のサイズが非常に小さ
く、またガスの流速が小さくて安定した層流が得られ
る。According to the present invention, since the heat transfer coefficient of the gas in the gas flow jetted toward the heat wire pair is small,
The surface temperature of the heat wire does not become too low, and the degree of decrease in the surface temperature of the heat wire due to convection of the gas generated in the heat wire portion does not matter, and even if a gas having a low kinematic viscosity is used, In a semiconductor gas rate sensor, the size of the gas passage is very small, and the gas flow velocity is small, so that a stable laminar flow can be obtained.
【0009】[0009]
【実施例】図1ないし図3に、半導体ガスレートセンサ
におけるセンサ本体の一構成例を示している。1 to 3 show one structural example of a sensor body in a semiconductor gas rate sensor.
【0010】ここでは、半導体基板にノズル孔3を形成
する半孔31とそれにつながるガス通路4を形成する半
溝41とがエッチングによって形成された下側半導体基
板1と上側半導体基板2とを、それぞれの半孔31およ
び半溝41をつき合せるように重ねて、両者を接着させ
ることによってノズル孔3およびガス通路4が形成され
ている。Here, a lower semiconductor substrate 1 and an upper semiconductor substrate 2 in which a half hole 31 forming a nozzle hole 3 and a half groove 41 forming a gas passage 4 connected thereto are formed in a semiconductor substrate by etching, The nozzle holes 3 and the gas passages 4 are formed by overlapping the half holes 31 and the half grooves 41 so as to abut each other and bonding them together.
【0011】また、下側半導体基板1をエッチングして
ガス通路4にかかるブリッジ部6が形成され、そのブリ
ッジ部6の上面に一対のヒートワイヤ51,52がパタ
ーン形成されており、その両側には電極部7が形成され
ている。The lower semiconductor substrate 1 is etched to form a bridge portion 6 extending over the gas passage 4, and a pair of heat wires 51 and 52 are formed on the upper surface of the bridge portion 6 by patterning. Has an electrode portion 7 formed therein.
【0012】そのパターン形成された各ヒートワイヤ5
1,52は、その強度保持、製造工程時の保護、高温時
での劣化防止およびガス吸着防止などの理由から、Si
Nなどの保護膜によって覆われている。Each of the patterned heat wires 5
1, 52 are made of Si because of their strength retention, protection during the manufacturing process, prevention of deterioration at high temperatures and prevention of gas adsorption.
It is covered with a protective film such as N.
【0013】しかして、このように構成されたセンサ本
体をガスが密封されたハウジング内に設置して、センサ
本体側に設けたマイクロポンプ(図示せず)を駆動する
ことにより、センサ本体のノズル孔3からガス通路4内
にガスが層流として噴出され、センサ本体に角速度が作
用したときのガス流の偏向の向きおよびその偏向の程度
が一対のヒートワイヤ51,52における出力差によっ
て検出される。The sensor body thus constructed is installed in a gas-sealed housing and a micropump (not shown) provided on the sensor body side is driven, whereby the nozzle of the sensor body is driven. The gas is ejected from the hole 3 into the gas passage 4 as a laminar flow, and the direction and the degree of deflection of the gas flow when the angular velocity acts on the sensor main body are detected by the output difference between the pair of heat wires 51 and 52. You.
【0014】本発明では、このような半導体ガスレート
センサにあって、使用ガスとして、窒素(N2)または
アルゴン(Ar)などの熱伝達率の小さなガスを使用し
たことを特徴としている。According to the present invention, such a semiconductor gas rate sensor is characterized in that a gas having a small heat transfer coefficient, such as nitrogen (N 2 ) or argon (Ar), is used as a used gas.
【0015】一般に、加熱されたヒートワイヤからガス
中への放熱の効率はガスの熱伝達率とヒートワイヤの表
面温度によって決定される。Generally, the efficiency of heat release from a heated heat wire into a gas is determined by the heat transfer coefficient of the gas and the surface temperature of the heat wire.
【0016】したがって、ヒートワイヤが保護膜によっ
て覆われてヒートワイヤの表面温度が高くなっている場
合、従来のHeのような熱伝達率の大きなガスを使用す
ると、その表面温度が下がりすぎて必要な感度が得難く
なってしまうとともに、ヒートワイヤ部分に生ずるガス
の対流によっても表面温度が顕著に低下してしまい、そ
の分検出誤差となって角速度の検出精度が悪くなってし
まう。Therefore, when the heat wire is covered with the protective film and the surface temperature of the heat wire is high, if a gas having a high heat transfer coefficient such as the conventional He is used, the surface temperature becomes too low and the heat wire becomes necessary. In addition, it becomes difficult to obtain a high sensitivity, and the convection of the gas generated in the heat wire portion significantly lowers the surface temperature, resulting in a detection error, which deteriorates the angular velocity detection accuracy.
【0017】図4はガス通路4内におけるガスの流れを
示しておリ、ヒートワイヤ5の部分で図中点線で示すよ
うな対流が生じてしまう。FIG. 4 shows the flow of gas in the gas passage 4, and convection as shown by a dotted line in the figure occurs at the heat wire 5.
【0018】しかし、本発明の場合のように、N2,A
rなどのような熱伝達率の小さなガスを使用すると、そ
の表面温度が下がりすぎるようなことがなくなり、充分
必要なレート感度が得られ、またヒートワイヤ部分に生
ずる対流によって表面温度が低下する程度が問題ではな
くなり、検出誤差がなくなる。However, as in the case of the present invention, N 2 , A
When a gas having a small heat transfer coefficient such as r is used, the surface temperature does not decrease too much, a sufficiently required rate sensitivity is obtained, and the surface temperature decreases due to convection generated in the heat wire portion. Is no longer a problem and the detection error is eliminated.
【0019】ちなみに、Heガスの熱伝達率としては
0.142〔W/m・K]程度であり、N2ガスの熱伝
達率としては0.024〔W/m・K]程度であり、A
rガスの熱伝達率としては0.016〔W/m・K]程
度である。Incidentally, the heat transfer coefficient of He gas is about 0.142 [W / m · K], the heat transfer coefficient of N 2 gas is about 0.024 [W / m · K], A
The heat transfer coefficient of the r gas is about 0.016 [W / m · K].
【0020】図5は、200℃に加熱したヒートワイヤ
にN2ガスとHeガスとをそれぞれ流量を変えながらふ
きつけたときのヒートワイヤにおける抵抗値の変化を示
している。FIG. 5 shows the change in the resistance value of the heat wire when the N 2 gas and the He gas are blown onto the heat wire heated to 200 ° C. while changing the flow rate of each.
【0021】N2ガスの場合にはほぼ10〜100cc
/minにもわたる広範囲な流量域で大きなレート感度
が得られるが、Heガスの場合には約5cc/min以
下の低流量域で多少の感度を示すにすぎない。すなわ
ち、半導体ガスレートセンサにあっては、熱伝達率の小
さなN2ガスの方がレート感度の面で有利となってい
る。In the case of N 2 gas, approximately 10 to 100 cc
Although a large rate sensitivity can be obtained in a wide flow rate range of up to / cc / min, He gas shows only a small sensitivity in a low flow rate range of about 5 cc / min or less. That is, in a semiconductor gas rate sensor, N 2 gas having a smaller heat transfer coefficient is more advantageous in terms of rate sensitivity.
【0022】また、図6にN2ガスを流量30cc/m
inで半導体ガスレートセンサにおけるガス通路に流し
たときの流速の変化に対するヒートワイヤの抵抗値の変
化量の特性を、同じく図7にHeガスを用いたときの流
速の変化に対するヒートワイヤの抵抗値の変化量の特性
をそれぞれ示している。FIG. 6 shows that N 2 gas is supplied at a flow rate of 30 cc / m 2 .
FIG. 7 shows the characteristics of the change amount of the resistance value of the heat wire with respect to the change of the flow velocity when flowing through the gas passage in the semiconductor gas rate sensor. Are shown respectively.
【0023】Heガスの場合には大流量を流してもヒー
トワイヤの小さな抵抗値の変化しか得られずに流速分布
が正確に得られないが、N2ガスの場合には流量の変化
に対してヒートワイヤの大きな抵抗値の変化を示して、
ヒートワイヤの抵抗値Rに対するその抵抗値の変化(△
Rmax−△Rmin)の割合がほぼ20%にもなり、
理論と一致する正確な流速分布が得られる。[0023] In the case of He gas flow velocity distribution only not obtained a small change in the resistance value of the heat wires even by supplying a large flow rate is not accurately obtained, with respect to the change in flow rate in the case of N 2 gas Shows a large resistance value change of the heat wire,
The change in the resistance of the heat wire relative to the resistance R (R
Rmax- △ Rmin) becomes almost 20%,
An accurate flow velocity distribution that is consistent with the theory is obtained.
【0024】ガスレートセンサにあってはガスの流速分
布の横方向の変化量を計測するものであるので、センサ
本体に作用する角速度を精度良く検出するにはガスの正
確な流速分布を得ることが重要であり、この点でも熱伝
達率の小さなN2ガスの優位性が示される。Since a gas rate sensor measures the amount of change in the gas flow velocity distribution in the horizontal direction, it is necessary to obtain an accurate gas flow velocity distribution in order to accurately detect the angular velocity acting on the sensor body. Is important, and this also shows the advantage of N 2 gas having a small heat transfer coefficient.
【0025】さらに、軽いガスほど熱伝達率が大きく、
熱伝達率の小さなN2などのガスは分子量が大きくて重
いので、ヒートワイヤ部分で生ずる対流が少なくなり、
対流によってヒートワイヤの表面温度が低下する程度が
ほとんど問題にならなくなる。Further, the lighter the gas, the greater the heat transfer coefficient.
Since the gas such as N 2 having a small heat transfer coefficient has a large molecular weight and is heavy, convection generated in a heat wire portion is reduced,
The extent to which the surface temperature of the heat wire is reduced by convection is of little concern.
【0026】また、N2またはArなどの熱伝達率の小
さなガスにあっては動粘度が低くて、従来のガスレート
センサではガス通路が大きく、かつガスの流速が大きい
ために安定した層流が得られないが、半導体ガスレート
センサではそのガス通路が非常に小さく、かつガスの流
速が小さいために使用ガスの動粘度が低くても充分安定
した層流が得られる。In addition, a gas having a small heat transfer coefficient such as N 2 or Ar has a low kinematic viscosity, and a conventional gas rate sensor has a large gas passage and a large gas flow velocity, so that a stable laminar flow is obtained. However, in a semiconductor gas rate sensor, a sufficiently stable laminar flow can be obtained even when the kinematic viscosity of the gas used is low because the gas passage is very small and the flow velocity of the gas is small.
【0027】図4に示すように、ガス通路4内における
ガスの流速をv,ガスの動粘度係数をν,ガス通路4の
寸法をlとしたとき、レイノルズ数Re=v・l/νが
1000以下の値で安定した層流が得られる。As shown in FIG. 4, when the flow velocity of the gas in the gas passage 4 is v, the kinematic viscosity coefficient of the gas is ν, and the dimension of the gas passage 4 is 1, the Reynolds number Re = v · l / ν is A stable laminar flow is obtained at a value of 1000 or less.
【0028】N2ガスの動粘度係数νとしてはν=1.
4×10 −5 m2/s程度であり、Heガスの動粘度係
数νとしてはν=1.1×10 −4 m2/s程度であ
る。As the kinematic viscosity coefficient ν of N 2 gas, ν = 1.
It is about 4 × 10 −5 m 2 / s, and the kinematic viscosity coefficient ν of He gas is about ν = 1.1 × 10 −4 m 2 / s.
【0029】いま、例えば、従来のガスレートセンサに
おいて、l=1mm,v=100m/secのとき、レ
イノルズ数ReはRe=10 −1 /νとなり、その場
合、Heガスであればレイノルズ数Reが1000以下
となって層流となり、N2ガスであればレイノルズ数R
eが1000以上となって乱流となる。For example, in the conventional gas rate sensor, when l = 1 mm and v = 100 m / sec, the Reynolds number Re becomes Re = 10 -1 / ν. In this case, if He gas is used, the Reynolds number Re Becomes 1000 or less and becomes a laminar flow. If the gas is N 2 gas, the Reynolds number R
When e becomes 1000 or more, turbulence occurs.
【0030】また、例えば、半導体ガスレートセンサに
おいて、l=100μm,v=10m/secのとき、
レイノルズ数ReはRe=10 −3 /νとなり、その場
合、HeガスおよびN2ガスの何れにあってもレイノル
ズ数Reが1000以下となって層流となる。For example, in a semiconductor gas rate sensor, when l = 100 μm and v = 10 m / sec,
The Reynolds number Re becomes Re = 10 −3 / ν , and in this case, the laminar flow occurs when the Reynolds number Re becomes 1000 or less in any of the He gas and the N 2 gas.
【0031】なお、熱伝達率の小さなガスを使用するこ
とは、半導体ガスレートセンサの場合に限らず、ガスの
流量変化または流速変化を検出するセンサ一般において
広く適用される。The use of a gas having a small heat transfer coefficient is widely applied not only to a semiconductor gas rate sensor but also to general sensors for detecting a change in gas flow rate or flow rate.
【0032】[0032]
【発明の効果】以上、本発明による半導体ガスレートセ
ンサにあっては、熱伝達率の小さな窒素またはアルゴン
によるガスを使用することにより、ヒートワイヤの表面
温度が下がりすぎるようなことなく必要なレート感度を
得ることができ、がつヒートワイヤ部分に生ずるガスの
対流による影響を受けることなく、しかも動粘度が低い
ながらも安定した層流を得て、角速度を精度良く検出す
ることができるという利点を有している。As described above, in the semiconductor gas rate sensor according to the present invention, nitrogen or argon having a small heat transfer coefficient is used.
By using the gas according to (1), the required rate sensitivity can be obtained without excessively lowering the surface temperature of the heat wire. However, there is an advantage that a stable laminar flow can be obtained even though the angular velocity is low, and the angular velocity can be accurately detected.
【図1】半導体ガスレートセンサにおけるセンサ本体の
斜視図である。FIG. 1 is a perspective view of a sensor main body in a semiconductor gas rate sensor.
【図2】半導体ガスレートセンサにおけるセンサ本体の
下側半導体基板の平面図である。FIG. 2 is a plan view of a lower semiconductor substrate of a sensor main body in the semiconductor gas rate sensor.
【図3】図1のA−A線に沿う断面図である。FIG. 3 is a sectional view taken along line AA of FIG.
【図4】ガス通路におけるガスの流れを示す図である。FIG. 4 is a diagram showing a gas flow in a gas passage.
【図5】ガス流量の変化に対するヒートワイヤ抵抗値の
特性図である。FIG. 5 is a characteristic diagram of a heat wire resistance value with respect to a change in gas flow rate.
【図6】N2ガスの流量変化に対するヒートワイヤ抵抗
の変化量を示す特性図である。FIG. 6 is a characteristic diagram showing a change amount of a heat wire resistance with respect to a change in a flow rate of N 2 gas.
【図7】Heガスの流量変化に対するヒートワイヤ抵抗
の変化量を示す特性図である。FIG. 7 is a characteristic diagram illustrating a change amount of a heat wire resistance with respect to a change in a flow rate of He gas.
1 下側半導体基板 2 上側半導体基板 3 ノズル孔 4 ガス通路 5 ヒートワイヤ 51 ヒートワイヤ 52 ヒートワイヤ DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Lower semiconductor substrate 2 Upper semiconductor substrate 3 Nozzle hole 4 Gas passage 5 Heat wire 51 Heat wire 52 Heat wire
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 実開 平2−65165(JP,U) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G01P 9/00 G01C 19/00 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of the front page (56) References JP-A-2-65165 (JP, U) (58) Fields surveyed (Int. Cl. 7 , DB name) G01P 9/00 G01C 19/00
Claims (1)
ス流に対して角速度が作用したときに生ずるガス流の偏
向にもとづいて、そのガス通路内に設けられた一対の感
熱抵抗素子からなるヒートワイヤに生じた出力差から角
速度を検出するガスレートセンサにおいて、半導体基板
のエッチングによるマイクロマシニング加工によってガ
ス通路を形成するとともに、窒素またはアルゴンによる
ガスを使用したことを特徴とするガスレートセンサ。1. A pair of heat-sensitive resistance elements provided in a gas passage based on deflection of the gas flow generated when an angular velocity acts on the gas flow ejected from the nozzle hole into the gas passage. In a gas rate sensor for detecting an angular velocity from an output difference generated in a heat wire, a gas passage is formed by micromachining by etching a semiconductor substrate, and a gas of nitrogen or argon is used. Gas rate sensor.
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JP24015491A JP3044582B2 (en) | 1991-06-14 | 1991-06-14 | Gas rate sensor |
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