JP3038189B2 - 受動伝導冷却型レーザ結晶媒体 - Google Patents

受動伝導冷却型レーザ結晶媒体

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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、一般的には、光ポ
ンピング及びソリッドステート結晶レーザ媒体を冷却す
る技術に関し、詳しく述べれば、レーザ媒体内に等方性
温度状態を発生させるために、レーザ媒体と熱伝導関係
にある熱伝導要素により熱を除去することによって、レ
ーザ媒体を受動的に冷却することに関する。
【0002】
【従来の技術】光ポンプ型の強い、高パワーソリッドス
テートレーザシステムは、レーザスラブ内にかなりな量
の熱を発生する。応用環境と矛盾しない適切な技術によ
って温度を制御しない限り、システムは極めて非効率に
なるか、または動作不能にさえ陥る。例えば、これらの
レーザシステムを宇宙空間で使用する場合には、合理的
に使用できる冷却技術は制限される。これらのシステム
を地球上で使用する場合には、流体を冷却媒体として使
用することが知られている。冷却材としての流体は、特
に水を使用する場合には循環ポンピングシステムを必要
とし、また空気を使用する場合にはブロアーを使用する
必要がある。何れの場合も、流体冷却材を使用すること
によってレーザ媒体表面が汚染される恐れがあり、生成
されるレーザビームの品質にそれが干渉する可能性があ
る。更に、流体は若干の環境においては凍結し、ハード
ウェアを傷つける恐れがある。
【0003】当分野においては公知のように、これらの
システムのビーム品質は、媒体の絶対温度に対するレー
ザ媒体全体の温度の均一性の関数である。媒体の冷却
は、発生するレーザビームがレーザ媒体を通って伝播す
る際に、波形がビーム全体を横切って均一位相となるよ
うに、等方性状態を作り出すことが目的である。レーザ
媒体内で遭遇する温度変化がその経路内の屈折率を変化
させ、ひずみを生じさせる。出力ビームにまたがるこの
相差は、光路差(“OPD”)として知られている。ビ
ームがある量の発散を受けると、そのビーム品質はOP
Dのレベルに逆比例する。この関係は数学的に、
【0004】
【数1】
【0005】で表すことができる。波形の振幅の二乗平
均平方根値として求められるOPDが僅かに増加して
も、ビーム品質は大きく劣化する。明らかに、レーザシ
ステムの設計及び構造は、レーザ媒体内に等方性の温度
プロファイルを得ることを主たる目的の1つにしてい
る。OPDに影響する別の要因は、光ポンピングの方向
と、レージング媒体の若干の面部分に適用される温度制
御要素との幾何学的関係である。一般的に、レージング
媒体は対向している研磨面と、粗くして入射放射を拡散
させる対向している面部分とを有している。レーザをポ
ンピングし、冷却するジオメトリについて言えば、レー
ザを1つの表面からのみポンピングし、別の対向する表
面からそれを冷却すると、ビーム品質は極めて貧弱にな
り、受入れられるものではなくなることが知られてい
る。ジオメトリを対称的にし、媒体の両面から光ポンピ
ングを行い、そして冷却経路も光ポンピング経路を横切
るように両面に設ければ、ビームの品質は改善される。
これは、両面対称ポンピング及び両面冷却として知られ
ている。このようなポンピング及び冷却のジオメトリを
このようにすればOPDが大幅に改善され、その結果ビ
ーム品質が改善される。
【0006】レーザ媒体の冷却方法は、ビーム品質を決
定する上で重要な役割を果たす。従来から知られている
技術は、熱を除去するために面部分に水または他の適当
な流体を流す熱交換器を使用している。熱交換器は、面
部分に液体を循環させるためのポンピング装置を必要と
する。液体の汚染の機会が存在していて、レーザ面部分
に汚染物が沈積し、面の内側の入射ビームの内部反射に
干渉するようになる。熱交換器技術のこれらの公知の欠
陥は、対流冷却の特徴である。以下に本発明に関連付け
て説明する対流冷却技術とは、ポンピング装置を使用
し、面部分に直接液体及びガスを接触循環させて熱を除
去する技術と定義する。本発明は、レーザ媒体上を通過
する冷却材を用いずに、冷却面部分に密着させた熱伝導
材料層を使用してレーザ媒体から熱を伝導転送する。
【0007】前述したように、伝導冷却技術の重要な利
点は、冷却に流体交換器を使用した時にもたらされるレ
ーザ媒体の面部分の汚染問題を排除することにある。以
下に説明する改良された伝導冷却技術の使用によって、
循環する流体を使用することなく、従って循環ポンプ装
置を使用する必要性を排除して、レーザ媒体の冷却が可
能になる。伝導冷却は、液体型の熱交換システムの使用
を可能にする機会をも提供し、しかもレーザ媒体の面を
汚染する危険性を排除する。本発明は、代替型の熱交換
器の使用をも提供し、これらの熱交換器は、汚染の可能
性を生ずることなく熱を効果的に消散させるために、レ
ーザ媒体の面から完全に分離して伝導組立体に取付けら
れる。
【0008】
【発明の概要】本発明は光ポンプ型のレーザを提供する
ものであり、この光ポンプ型レーザはソリッドステート
レーザ媒体を備え、媒体は内部反射によってジグザグ経
路で媒体内を均一に伝播するレーザビーム波を生成す
る。このレーザ媒体は、それらを通してレーザ媒体が励
起される第1の面部分と、それらを通してレーザ媒体を
伝導冷却する第2の冷却面部分とを有している。伝導冷
却面部分は、少なくとも、伝導性接着フィルムを用いて
冷却面部分に接着される銅のような熱伝導層を含んでい
る。高度に反射性のレーザ媒体表面の特性への有害効果
を防ぐために、熱伝導組立体はレーザ結晶表面と伝導接
着材との間に保護薄膜を含んでいる。熱伝導組立体は、
熱拡散要素に関連する熱を消散させる手段を付加的に含
むことができる。
【0009】ポンピング面部分は、入射ポンピング放射
に対して拡散表面を与えるように粗くされている。レー
ザ媒体のポンピング及び冷却のための面部分のジオメト
リは、経路が互いに直交し合うようになっている。レー
ザ媒体は、対向する拡散表面の面部分を通して光学的に
ポンプされ、熱伝導組立体はポンピング面部分に直角な
各対向冷却面部分に取付けられる。本発明のこれらの、
及び他の特色、面、及び長所は以下の説明、前記特許請
求の範囲、及び添付図面から一層明白になるであろう。
【0010】
【実施例】図1に、レーザシステム10の実施例を斜視
図で示す。レーザシステムの中央にレーザ媒体12があ
り、熱伝導組立体は14で、またポンピングダイオード
アレイは16で示されている。例示に過ぎないポンピン
グダイオードアレイは、レーザ媒体12の面部分20及
び22から離間して示されている。実際には、アレイは
ポンピング面部分20及び22に密着されている。熱伝
導組立体14は、熱拡散要素32及び熱放出構造33を
備えている。各組立体14は、レーザ媒体12の上側及
び下側冷却面部分24及び26に取付けられている。レ
ーザ媒体に密着させた熱交換器を通して流体をポンプす
る従来の能動冷却システムとは異なって、本伝導組立体
14は、レーザ媒体の面を流体接触させないように維持
する受動技術であることを特徴としている。本発明の受
動システムは、レーザ媒体を通して一様な、即ち均一な
温度を確立するように設計されているので、レーザ媒体
内に進入したエネルギビームはレーザ媒体を通して異な
る屈折率(温度差によって生ずる)に遭遇することなく
レーザ媒体を通って伝播し、ビームは平坦な波面として
移動する。冷却は、レージング媒体の絶対温度レベルを
達成するのではなく、レージング媒体の温度変化を回避
して等方性状態を維持することが目的であることは理解
されよう。
【0011】図1Aはレーザシステム10の拡大断面図
であって、熱伝導組立体14の構造を示している。レー
ザ媒体12には、冷却面部分24及び26に接着された
消波被膜( evanescent wave coating ) 30が設けられ
ている。消波被膜30は、1.5 またはそれ以下の低屈折
率を有する2ミクロン厚の透明被膜であるので、媒体内
にポンプされた放射エネルギはレーザ媒体内部で全反射
する。被膜30は、ノースカロライナ州の Litton Airt
ron Synoptics of Charlotteから入手可能な二酸化シリ
コン(SiO2 )のフィルムからなる。消波被膜30
は、1064nmの放射に対して透明な誘電材料であること
ができる。例えば、同じ厚みのフッ化マグネシウム(M
gF2 )も被膜30として有利に使用することができ
る。熱拡散要素32は、室温で硬化可能な接着フィルム
34によってレーザ媒体に取付けられる。被膜は誘電材
料であり、接着材料34からの有害な効果から媒体表面
を保護する。接着材料34はシリコンをベースとする接
着剤であり、窒化ホウ素を含む熱伝導性である。熱硬化
シリコンフィルム34の厚みは2−6ミクロンの範囲内
にあり、カリフォルニア州カーピンテリアの Nusil Tec
hnology から商品名CV−2946として入手可能であ
る。接着材料34は 3.8W/cm°Kの熱伝導率を有し
ている。材料34は接着剤としてだけではなく、熱伝導
層としても働く。別の適当な接着材料は、ニューヨーク
州ウォーターフォードの GE Silicones から市販されて
いるシリコンゴムRTV615Aである。
【0012】熱拡散要素32は金属、好ましくは銅で作
られており、一般的にはベリリウム・銅合金、またはア
ルミニウムのような熱伝導金属であることができる。要
素32は、冷却表面24及び26から伝わる熱を拡散さ
せるのに役立つ。要素32の拡散機能に関して説明すれ
ば、面24及び26に接して並置される2mm幅の入力
領域36から、拡散要素が熱放出構造33と係合する1
cmの出力領域38まで広がっているくさび形の形態で
ある。レーザ媒体の長さが3cmであれば、ディフュー
ザは熱伝導組立体14上の熱負荷を減少させるために、
接触の単位面積当たりの熱流束を大幅に減少させるのに
役立つ。動作例として、2mm幅で3cm長のレーザ媒
体は 28 Wの熱、及び 14 W/冷却面部分を発生し得
る。レーザ媒体界面36における熱流束は 23 W/cm
2 であり、界面領域38における出力は 4.6W/cm2
である。熱負荷を拡散させる目的は、約 10 W/cm2
の除去能力を有するヒートパイプ、または熱を放出する
位相変化材料または他の熱消散構造の使用を可能にする
ことである。例えば、収集した熱を放出させるために液
体型熱交換器またはフィン型放熱器を使用することがで
きる。
【0013】図2に、式1で表される高ビーム品質をも
たらすような、受動熱伝導組立体14のレーザ媒体面部
分と光ポンピングアレイ16との好ましいジオメトリ関
係を示す。矢印40はレーザ媒体への光ポンピング入力
の方向を示し、矢印42は熱伝導組立体の面部分位置を
示している。ダイオード16を使用する光ポンピングに
よって供給される励起エネルギの経路、及び熱伝導組立
体14による冷却の経路は互いに直角である。冷却面部
分24及び26は消波被膜30(図1A)で被膜されて
いる。面部分20及び22は、表面を粗くし、それによ
ってレーザ媒体に入る放射を拡散させるために表面研削
を行う。粗くした表面または拡散面部分20及び22を
通して放射エネルギを拡散させると、放射が広がること
によってより効果的になるという長所が得られることが
分かっている。
【0014】図3に、冷却用流体を使用する受動伝導冷
却レーザの構造を示す。ディフューザ要素14には、熱
交換器デバイス43が取付けられている。熱交換器43
は、ディフューザの表面45と熱伝導的に接触している
一連の流体チャンネル44を備えている。レーザ媒体1
2から熱を拾い上げたディフューザは、ディフューザの
表面45と伝導接触しているチャンネル44を通って流
れる循環流体46によって冷却される。適切なポンプ手
段47が、交換器43を通して流体46を循環させる。
チャンネル44は遮蔽されておらず、周囲環境に曝され
ているので、熱を周囲空間に消散させる。以上の説明か
ら、熱交換器43がディフューザ14だけに取付けられ
ているので、レーザ媒体を汚染する恐れがないことが理
解されよう。
【0015】図4は、レーザ結晶媒体内のビーム49の
ジグザグ経路を示している。図4に示すように、レーザ
媒体の前端及び後端の外部には反射性表面50及び52
が設けられ、これらの表面によりレージングビームは結
晶媒体12を長手方向に前後に通過させられる。光ポン
ピングが進行すると媒体はレーズし始め、放射はある角
度で内部表面20及び22(図2)において内部反射す
る。この角度的な反射はレージング結晶の屈折率に起因
するものであり、ジグザグ伝播をもたらす。波面が各端
における反射性表面の間を往復してある利得が達成され
ると、適切なパワーレベルで媒体を出て行く。図2に示
すようなレーザ媒体処理のジオメトリによってレージン
グを開始させるための均一な放射が達成され、受動熱伝
導冷却は伝播波形の振幅の二乗平均平方根として求めら
れるOPDを低い値に維持する。ほぼ平面の波面は、前
記ビーム品質式1の指数を3またはそれ以下の値にし、
ビーム品質値は1になる。
【0016】以上に本発明を好ましい実施例に関して説
明したが他の実施例も可能である。特許請求の範囲に記
載した本発明の思想及び範囲から逸脱することなく、多
くの変更、代替、及び等価が可能であり、本発明はこれ
らの全てを包含することを意図している。
【図面の簡単な説明】
【図1】熱伝導組立体に取付けられたレーザ媒体の斜視
図である。
【図1A】図1の斜視図の円で囲った部分の拡大図であ
って、熱拡散要素がレーザ媒体に取付けられている熱伝
導組立体を示す図である。
【図2】図1の斜視図の端面図であって、ポンピング機
能及び冷却機能のジオメトリを示す図である。
【図3】流体熱交換器を使用して熱伝導組立体から熱を
消散させる手段を含む熱伝導組立体に取付けられている
レーザ媒体の側面図である。
【図4】レーザ結晶媒体を伝播する波のジグザグ経路を
示す概要図である。
【符号の説明】
10 レーザシステム 12 レーザ媒体 14 熱伝導組立体 16 ポンピングダイオードアレイ 20、22 ポンピング面部分 24、26 冷却面部分 30 保護薄膜 32 熱拡散要素 33 熱放出構造 34 接着フィルム 34 入力領域 40 光ポンピング入力方向 42 面部分位置 43 熱交換器デバイス 44 流体チャンネル 45 ディフューザの表面 46 流体 47 ポンプ 49 ビーム 50、52 反射性表面
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ランダル ジェイ セント ピエール アメリカ合衆国 カリフォルニア州 90405 サンタ モニカ サード スト リート 3019−204 (72)発明者 ジョージ エム ハーポール アメリカ合衆国 カリフォルニア州 90505 トーランス リヴィエラ ウェ イ 5602 (72)発明者 ジェームズ エム ザーメル アメリカ合衆国 カリフォルニア州 90254 ハーモサ ビーチ セカンド ストリート 959 (56)参考文献 特開 平3−204984(JP,A) 特開 平6−85357(JP,A) 特開 昭61−287287(JP,A) 特開 平2−65283(JP,A) 特開 平1−119082(JP,A) 特開 平6−283783(JP,A) 米国特許5949805(US,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01S 3/042

Claims (18)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 レーザビーム波形を生成するソリッドス
    テートレーザ媒体を備えている光ポンプ型レーザであっ
    て、上記レーザビーム波形は内部反射によってジグザグ
    経路を通って上記レーザ媒体を均一に伝播し、上記レー
    ザ媒体は、それらを通して上記レーザ媒体が励起される
    第1の面部分と、それらを通して上記レーザ媒体が受動
    的に冷却される第2の冷却面部分とを有する光ポンプ型
    レーザにおいて、 上記第1の面部分には、上記レーザ媒体を励起するため
    の放射が導かれて上記レーザビームを生成させ、 熱を周囲環境内へ放出するための熱伝導組立体からなる
    手段を備え、上記熱伝導組立体は、熱伝導接着層により
    上記第2の面部分に取付けられ、 上記熱伝導接着層と上記ソリッドステートレーザ媒体と
    の間に配置された消波層を備え、上記消波層は、上記熱
    伝導接着層から第2の面部分を保護し、 それによって、上記レーザビーム波形が上記レーザ媒体
    内で遭遇する温度変化を最小にするようにしたことを特
    徴とする光ポンプ型レーザ。
  2. 【請求項2】 上記熱伝導組立体は、少なくとも熱伝導
    拡散要素を含んでいる請求項1に記載の光ポンプ型レー
    ザ。
  3. 【請求項3】 上記熱伝導拡散要素は、銅で形成されて
    いる請求項2に記載の光ポンプ型レーザ。
  4. 【請求項4】 上記第2の面部分は、研磨された表面で
    ある請求項1に記載の光ポンプ型レーザ。
  5. 【請求項5】 上記第1の面部分の表面は、粗くされて
    拡散表面をなしている請求項1に記載の光ポンプ型レー
    ザ。
  6. 【請求項6】 上記熱伝導組立体は、台形形態を有し、
    上記第2の面部分の付近では単位面積当たり高レベルの
    熱密度を呈し、上記第2の面部分の反対側では単位面積
    当たり低レベルの熱密度を呈するようになっている請求
    項1に記載の光ポンプ型レーザ。
  7. 【請求項7】 上記熱伝導組立体は、銅製熱拡散要素
    と、上記銅製熱拡散要素に伝導接触している熱放出手段
    とを備えている請求項1に記載の光ポンプ型レーザ。
  8. 【請求項8】 上記熱伝導組立体は、熱伝導接着層を用
    いて上記第2の面部分に接着されている銅製熱拡散要素
    と、上記銅製熱拡散要素に取付けられ上記熱を周囲空間
    内へ放出する熱放出手段とを備えている請求項1に記載
    の光ポンプ型レーザ。
  9. 【請求項9】 上記熱伝導接着層は、シリコンをベース
    とする熱硬化可能な樹脂である請求項9に記載の光ポン
    プ型レーザ。
  10. 【請求項10】 上記消波層は、二酸化シリコンである
    請求項1に記載の光ポンプ型レーザ。
  11. 【請求項11】 上、下、及び側面部分と、先端及び後
    端面部分とを有する細長いソリッドステート結晶スラブ
    を備えている光ポンプ型レーザ生成システムであって、
    上記光ポンプ型レーザ生成システムは上記先端から上記
    後端へジグザグ経路を通って上記スラブを均一に伝播す
    るレーザビーム波形を生成するようになっており、上記
    レーザビーム波形は上記スラブを通る上記レーザビーム
    波形が遭遇する温度変化の結果として伝播速度が異なる
    ように影響を受けるレーザ生成システムにおいて、 熱伝導接着層により上記結晶スラブの上及び下の面部分
    に取付けられ、上記スラブ内に発生した熱を収集して拡
    散させる受動熱伝導組立体を備え、 上記熱伝導接着層と上記ソリッドステート結晶スラブと
    の間に配置された消波層を備え、上記消波層は、上記熱
    伝導接着層から上及び下の面部分を保護し、 上記スラブを光ポンピングするために、入射ポンピング
    放射を拡散させるように粗くされた上記各側面部分に向
    けられたレーザ放出ダイオードのアレイを備え、 上記端面部分及び後端面部分の付近に設けられ、上記
    レーザビームを上記スラブを通して前後に反射させてビ
    ームパワーのレベルを増加させる反射性表面を備え、 それによって、上記受動熱伝導組立体は上記スラブ内に
    発生した熱を放出し、上記スラブを通しての上記温度変
    化を最小にする、 ことを特徴とする光ポンプ型レーザ生成システム。
  12. 【請求項12】 上記熱伝導組立体は、台形の拡散要素
    を含み、上記台形の拡散要素は、上記上及び下の各面部
    分付近では単位面積当たり高レベルの熱密度を有し、上
    記上及び下の各面部分と反対側で上記台形の拡散要素の
    上に配置された熱放出手段付近では単位面積当たり低レ
    ベルの熱密度を有している請求項11に記載の光ポンプ
    型レーザ生成システム。
  13. 【請求項13】 上記熱放出手段は、ヒートパイプであ
    る請求項11に記載の光ポンプ型レーザ生成システム。
  14. 【請求項14】 上記熱放出手段は、熱放射フィンから
    なる請求項11に記載の光ポンプ型レーザ生成システ
    ム。
  15. 【請求項15】 上記熱放出手段は、流体型熱交換器で
    ある請求項11に記載の光ポンプ型レーザ生成システ
    ム。
  16. 【請求項16】 上記熱伝導接着層は、窒化ホウ素を調
    合したシリコンをベースとする配合物である請求項11
    に記載の光ポンプ型レーザ生成システム。
  17. 【請求項17】 上記消波層は、二酸化シリコンである
    請求項11に記載の光ポンプ型レーザ生成システム。
  18. 【請求項18】 レーザビーム波形を生成するようにな
    っているソリッドステートレーザ媒体を備えている光ポ
    ンプ型レーザであって、上記レーザビーム波形は内部反
    射によってジグザグ経路を通って上記レーザ媒体を均一
    に伝播し、上記レーザ媒体は、それらを通して上記レー
    ザ媒体が励起される第1の面部分と、それらを通して上
    記レーザ媒体が受動的に冷却される第2の冷却面部分と
    を有する光ポンプ型レーザにおいて、 上記第1の面部分には上記レーザ媒体を励起するための
    放射が導かれて上記レーザビームを生成させ、 上記第2の面部分には熱伝導接着層により熱伝導組立体
    が取付けられ、上記熱伝導組立体は上記レーザ媒体内に
    発生した熱を受動的に除去するために上記熱を周囲空間
    内へ消散させる手段を含む台形拡散要素を含み、 上記熱伝導接着層と上記ソリッドステートレーザ媒体と
    の間に配置された消波層を備え、上記消波層は、上記熱
    伝導接着層から第2の面部分を保護し、 上記熱伝導組立体は、上記第2の面部分付近では単位面
    積当たり高レベルの熱密度を呈し、上記熱消散手段付近
    では単位面積当たり低レベルの熱密度を呈するようにな
    っており、 上記熱拡散要素から熱を消散させるためのヒートパイプ
    から成る手段を備え、 それによって上記レーザビーム波形が上記レーザ媒体内
    で遭遇する温度変化を最小にするようにしたことを特徴
    とする光ポンプ型レーザ。
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Families Citing this family (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6873639B2 (en) * 1993-05-28 2005-03-29 Tong Zhang Multipass geometry and constructions for diode-pumped solid-state lasers and fiber lasers, and for optical amplifier and detector
GB2329756A (en) 1997-09-25 1999-03-31 Univ Bristol Assemblies of light emitting diodes
US6418156B1 (en) 1998-11-12 2002-07-09 Raytheon Company Laser with gain medium configured to provide an integrated optical pump cavity
RU2200361C2 (ru) * 2000-07-13 2003-03-10 Государственное унитарное предприятие научно-исследовательский институт лазерной физики Модуль твердотельного пластинчатого лазера с диодной накачкой
DE10038006A1 (de) * 2000-08-04 2002-02-21 Haas Laser Gmbh & Co Kg Laserverstärkeranordnung
DE10226724B4 (de) * 2001-06-15 2006-06-22 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Laserkristall mit einer Kühlstruktur, Verfahren zum Herstellen eines Laserkristalls mit einer Kühlstruktur sowie Verwendung eines solchen Laserkristalls
GB0117788D0 (en) * 2001-07-20 2001-09-12 Mertek Ltd Laser apparatus
EP1459415A2 (en) * 2001-11-13 2004-09-22 Spectra Physics Lasers, Inc. Diode-pumped solid-state thin slab laser
WO2004011848A2 (en) * 2002-07-25 2004-02-05 Dahm Jonathan S Method and apparatus for using light emitting diodes for curing
AU2003298561A1 (en) 2002-08-23 2004-05-13 Jonathan S. Dahm Method and apparatus for using light emitting diodes
US7106777B2 (en) * 2003-01-07 2006-09-12 The Boeing Company Phase-change heat exchanger
US7949022B2 (en) * 2006-04-27 2011-05-24 Lockheed Martin Corporation Diode pumping of a laser gain medium
US8047686B2 (en) 2006-09-01 2011-11-01 Dahm Jonathan S Multiple light-emitting element heat pipe assembly
DE102010003227A1 (de) 2010-03-24 2011-09-29 Universität Stuttgart Institut für Strahlwerkzeuge Lasersystem
FR2969402B1 (fr) 2010-12-17 2013-02-15 Fibercryst Module a gain laser et methode de fabrication d'un tel module
JP2014029548A (ja) * 2013-09-26 2014-02-13 Furukawa Electric Co Ltd:The 光ファイバの被覆部端部の保護構造、レーザ光源装置、および光ファイバの被覆部端部の保護方法
JP2014016644A (ja) * 2013-09-26 2014-01-30 Furukawa Electric Co Ltd:The 光ファイバの接続部構造、レーザ光源装置、および光伝送方法
US10297968B2 (en) 2015-11-25 2019-05-21 Raytheon Company High-gain single planar waveguide (PWG) amplifier laser system
US11114813B2 (en) * 2015-11-25 2021-09-07 Raytheon Company Integrated pumplight homogenizer and signal injector for high-power laser system
US9601904B1 (en) 2015-12-07 2017-03-21 Raytheon Company Laser diode driver with variable input voltage and variable diode string voltage
JP6836848B2 (ja) * 2016-06-22 2021-03-03 株式会社ミツトヨ レーザ光調整方法、及びレーザ光源装置
US10811835B2 (en) 2017-02-16 2020-10-20 University Of Pittsburgh-Of The Commonwealth System Of Higher Education Laser system enabled by additive manufacturing

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4563763A (en) * 1983-08-22 1986-01-07 Board Of Trustees, Leland Stanford University Method and apparatus for cooling a slab laser
US4637028A (en) * 1984-08-02 1987-01-13 Hughes Aircraft Company Conductively cooled laser rod
US4761789A (en) * 1986-07-31 1988-08-02 Amada Engineering & Service Co., Inc. Cooling method for a slab-geometry solid state laser medium and a laser device which employs that cooling method
JPH0728071B2 (ja) * 1988-06-24 1995-03-29 三菱電機株式会社 固体レーザ装置
US4949346A (en) * 1989-08-14 1990-08-14 Allied-Signal Inc. Conductively cooled, diode-pumped solid-state slab laser
US5317585A (en) * 1992-08-17 1994-05-31 Hughes Aircraft Company Laser reflecting cavity with ASE suppression and heat removal
US5555254A (en) * 1993-11-05 1996-09-10 Trw Inc. High brightness solid-state laser with zig-zag amplifier
US5455838A (en) * 1993-11-15 1995-10-03 Hoya Corporation Side pumping arrangement
US5572541A (en) * 1994-10-13 1996-11-05 Coherent Technologies, Inc. Laser rod assembly for side pumped lasers
US5636239A (en) * 1995-05-15 1997-06-03 Hughes Electronics Solid state optically pumped laser head
IL116106A (en) * 1995-11-23 1999-07-14 Elop Electrooptics Ind Ltd Diode pumping module

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