JP3036906B2 - Glass processing method and apparatus - Google Patents

Glass processing method and apparatus

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JP3036906B2
JP3036906B2 JP3190115A JP19011591A JP3036906B2 JP 3036906 B2 JP3036906 B2 JP 3036906B2 JP 3190115 A JP3190115 A JP 3190115A JP 19011591 A JP19011591 A JP 19011591A JP 3036906 B2 JP3036906 B2 JP 3036906B2
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    • C03B33/09Severing cooled glass by thermal shock
    • C03B33/091Severing cooled glass by thermal shock using at least one focussed radiation beam, e.g. laser beam
    • C03B33/093Severing cooled glass by thermal shock using at least one focussed radiation beam, e.g. laser beam using two or more focussed radiation beams

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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は、例えば、LCD基板
用の高品位薄板ガラス等を迅速にかつ正確に所望の形状
に沿って割断加工する場合等に利用できるガラス加工方
法及びその装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a glass processing method and apparatus which can be used when, for example, high-quality thin glass for an LCD substrate is cut quickly and accurately along a desired shape.

【0002】[0002]

【従来の技術】板ガラス等のガラス体を切断するには、
ダイヤモンド工具や超硬工具等によりガラスに切れ込み
を入れ(スクライビング)、その切れ込みに沿って機械
的な応力を加えて割る(割断)という方法が一般的であ
った。
2. Description of the Related Art To cut a glass body such as a sheet glass,
In general, a method of making a cut in glass (scribing) with a diamond tool or a cemented carbide tool, and applying mechanical stress along the cut to split (cut) the glass.

【0003】また、この場合、機械的応力を加える代わ
りに、切れ込み(スクライブ線)に沿ってCO2 レーザ
光を照射し、該部位に熱歪を加えて割断するという方法
も提案されていた(実開昭62-175042 号公報参照)。
In this case, instead of applying mechanical stress, there has been proposed a method of irradiating a CO 2 laser beam along a scribe line (scribe line) to apply thermal strain to the portion and to cut the portion (see FIG. 1). See Japanese Utility Model Application Laid-Open No. Sho 62-175042).

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】ところで、近年、多用
されるようになったLCD基板用の高品位薄板ガラス等
を所望の複雑な形状に沿って正確に切断するような場
合、上述の従来の方法では次のような問題が生じてい
た。
In the case where a high-quality thin glass sheet for an LCD substrate, which has been frequently used in recent years, is to be accurately cut along a desired complicated shape, the above-mentioned conventional technique is required. The method has the following problems.

【0005】すなわち、ダイヤモンド工具や超硬工具等
により機械的にスクライビングを施す場合、スクライブ
線の形状が曲線のような場合には、このスクライブ線か
ら離れた方向への割れ(クラック)が入りやすいため、
曲線を含む複雑な形状の切断が困難であり、歩留まりも
悪いという問題があった。
That is, when mechanical scribing is performed with a diamond tool, a carbide tool, or the like, and when the scribe line has a curved shape, a crack (crack) in a direction away from the scribe line is likely to occur. For,
There is a problem that it is difficult to cut a complicated shape including a curve and the yield is poor.

【0006】また、機械的にスクライビングを行う際と
機械的応力を加えて割断する際に、削り屑や微細な欠け
屑等の塵が発生し易く、この塵が最終製品の歩留まりを
下げる一因ともなるという問題もあった。
Further, when mechanical scribing is performed and when cutting is performed by applying mechanical stress, dust such as shavings and fine chips is easily generated, and this dust is one of the factors that lower the yield of the final product. There was also a problem that it would be.

【0007】この発明は、上述の背景のもとでなされた
ものであり、被加工ガラス体を、塵等の発生を押さえつ
つ容易・迅速に複雑な形状に割断できるガラス加工方法
及びその装置を提供することを目的としたものである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above background, and provides a glass processing method and apparatus capable of easily and quickly breaking a glass body to be processed into a complicated shape while suppressing generation of dust and the like. It is intended to provide.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】上述の課題を解決するた
めに本発明は、(1) 被加工ガラス体の表面部にスク
ライビングを施してこのスクライビングを施した部位に
沿って被加工ガラス体に歪を与え、該部位から被加工ガ
ラス体を割断するガラス加工方法において、前記被加工
ガラス体に対して高い吸収率を有する紫外線領域のレー
ザ光を被加工ガラス体の表面部に集光してその集光点を
加工目的の形状に沿って走査させることにより、該被加
工ガラス体の表面部にスクライビングを施す工程と、こ
のスクライビングを施した部位に沿って前記被加工ガラ
ス体に対して高い吸収率を有する赤外線領域のレーザ光
を照射して該部位に割断に結び付く熱歪みを与える工程
とを含むことを特徴とした構成とし、この構成1の態様
として、(2) 構成1のガラス加工方法において、前
記紫外線領域のレーザ光として、エキシマレーザ光、ま
たはパルスNd:YAGレーザの第3高調波光もしくは
第4高調波光を用い、前記赤外線領域のレーザ光として
CO2 レーザ光を用いることを特徴とした構成とし、ま
た、構成1または2の方法を実施するガラス加工装置と
して、(3) 構成1または2のガラス加工方法を実施
するガラス加工装置であって、前記被加工ガラス体に対
して高い吸収率を有する紫外線領域のレーザ光を発生す
る第1レーザ装置と、前記被加工ガラス体に対して高い
吸収率を有する赤外線領域のレーザ光を発生する第2レ
ーザ装置と、前記第1レーザ装置から射出された紫外線
領域のレーザ光を集光する第1集光手段と、前記第2レ
ーザ装置から射出された赤外線領域のレーザ光を集光す
る第2集光手段と、前記第1集光手段によって集光され
た紫外線領域のレーザ光を前記被加工ガラス体上を加工
目的の形状に沿って走査させてスクライビングを施す第
1走査手段と、前記第2集光手段によって集光された赤
外線領域のレーザ光を前記スクライビングを施した部位
に沿って走査させる第2走査手段とを有することを特徴
とした構成としたものである。
In order to solve the above-mentioned problems, the present invention provides (1) scribing a surface portion of a glass body to be processed, and applying a scribing to the glass body along the scribing portion. In the glass processing method of applying a strain and cutting the glass body to be processed from the portion, a laser beam in an ultraviolet region having a high absorptivity to the glass body to be processed is focused on a surface portion of the glass body to be processed. By scanning the converging point along the shape to be processed, a step of scribing the surface portion of the glass body to be processed, and a step of applying a scribing to the glass body to be processed along the scribed portion A step of irradiating a laser beam in an infrared region having an absorptance to apply thermal strain to the site by fracturing the laser beam. In one glass processing methods, the laser beam of the ultraviolet region, excimer laser light, or pulsed Nd: using a third harmonic light or fourth harmonic light of a YAG laser, a CO 2 laser beam as the laser beam of the infrared region (3) A glass processing apparatus that performs the glass processing method of Configuration 1 or 2, wherein the glass processing apparatus performs the method of Configuration 1 or 2. A first laser device that generates a laser beam in an ultraviolet region having a high absorptivity for a body, a second laser device that generates a laser beam in an infrared region having a high absorptivity for the glass body to be processed, A first focusing means for focusing the laser light in the ultraviolet region emitted from the first laser device; and a laser beam in the infrared region emitted from the second laser device. A second condensing means for condensing the light, and scribing by scanning the laser beam in the ultraviolet region condensed by the first condensing means on the glass body to be processed along a shape to be processed; A structure comprising: a first scanning unit; and a second scanning unit that scans the laser light in the infrared region focused by the second focusing unit along the scribing site. It is.

【0009】[0009]

【作用】上述の構成1において、被加工ガラス体に対し
て高い吸収率を有する紫外線領域のレーザ光を被加工ガ
ラス体の表面部に集光してその集光点を加工目的の形状
に沿って走査させることにより、該被加工ガラス体の表
面部に良好なスクライビングを施すことができる。この
点は本発明者が見出だしたもので、従来は、ガラス体に
レーザスクライビングを施すのは極めて困難とされてい
た。これに対して、本発明者は紫外線領域のレーザ光を
用いることにより、良好なスクライビングを施すことが
できることを見出だしたものである。
In the above configuration 1, laser light in the ultraviolet region having a high absorptivity to the glass body to be processed is focused on the surface of the glass body to be processed, and the focal point is adjusted along the shape to be processed. By performing the scanning, a good scribing can be performed on the surface of the glass body to be processed. This point has been found by the present inventors, and it has conventionally been extremely difficult to apply laser scribing to a glass body. On the other hand, the present inventors have found that good scribing can be performed by using laser light in the ultraviolet region.

【0010】すなわち、紫外線領域のレーザ光は、通常
のガラス材に対する吸収率が著しく高いので、ガラス体
に照射した場合、ガラス体の極表面でのみ吸収される。
従って所定以上の強度を有する紫外線領域のレーザ光を
集光してガラス体の表面に照射することにより、ガラス
体の極表面部、すなわち、数μm内外の深さの範囲内に
レーザ光のエネルギーを集中して吸収させることができ
る。そして、集光スポット径を適切に設定することによ
り、現在、実用的に得られる紫外線領域のレーザ光を用
いても、ガラス体表面部に集中させたレーザ光のエネル
ギー密度をガラス体を蒸発・飛散させる程度まで高める
ことができることを見出だした。以下、この作用を説明
する。
[0010] That is, since the laser light in the ultraviolet region has a remarkably high absorptivity with respect to a normal glass material, when it is irradiated on the glass body, it is absorbed only on the very surface of the glass body.
Therefore, by condensing and irradiating the surface of the glass body with the laser light in the ultraviolet region having a predetermined intensity or more, the energy of the laser light falls within the extreme surface portion of the glass body, that is, within a depth range of several μm or outside. Can be concentrated and absorbed. By appropriately setting the focused spot diameter, the laser beam in the ultraviolet region, which can be obtained practically, can be used to evaporate the energy density of the laser beam concentrated on the surface of the glass body. It has been found that it can be increased to the extent of scattering. Hereinafter, this operation will be described.

【0011】いま、ガラス体の吸収係数をα(c
-1)、レーザ光が1/100に減衰するまでの深さを
t(cm)とすると、 e−αt =0.01 …(1) であるから、この(1) 式より、 t=4.61/α …(2) である。
Now, let the absorption coefficient of the glass body be α (c
m -1 ), and assuming that the depth at which the laser beam attenuates to 1/100 is t (cm), then e- αt = 0.01 (1). From this equation (1), t = 4.61 / α (2)

【0012】また、レーザ光のビーム径をd(cm)と
すると、レーザ光が吸収される体積V(cm3 )は、 V=(d/2)2 πt …(3) である。ここで、レーザ光がこの体積V内で均一に吸収
されると仮定する。そして、このときの吸収エネルギー
をE(J)とし、また、ガラス体の密度をρ(g/cm
3 )、比熱をC(J/g・K)、温度上昇をT(K)と
すると、 E=CρVT …(4) である。この(4) 式から、 T=E/CρV …(5) となる。この(5) 式に上記(2) 式及び(3) 式を代入する
と、 T=(αE)/{4.61πρC(d/2)2 } …
(6) となる。この(6) 式に、通常のガラス体に対する紫外線
領域のレーザ光の吸収係数や現在実用的に発生できる紫
外線領域のレーザ光パワー等の典型値として、下記値を
入れる。
If the beam diameter of the laser beam is d (cm), the volume V (cm 3 ) in which the laser beam is absorbed is as follows: V = (d / 2) 2 πt (3) Here, it is assumed that the laser light is uniformly absorbed in the volume V. The absorbed energy at this time is E (J), and the density of the glass body is ρ (g / cm
3 ) If the specific heat is C (J / g · K) and the temperature rise is T (K), then E = CρVT (4). From this equation (4), T = E / CρV (5) By substituting the above equations (2) and (3) into the equation (5), T = (αE) / {4.61πρC (d / 2) 2 }
(6) In this equation (6), the following values are inserted as typical values of the absorption coefficient of the laser light in the ultraviolet region with respect to the ordinary glass body, the laser light power in the ultraviolet region that can be generated practically at present, and the like.

【0013】α=10000 d=0.003cm(30μm) C=0.2 cal/g・K ρ=2.3 g/cm3 E=0.0001J(100μJ) これにより、T=6700Kと求まる。この温度は、ガ
ラス体の昇華点を十分に越えている。なお、ここでは、
パルス幅が十分に短い(10ns程度)パルスレーザを
用い、かつ、熱伝導等による熱の散逸がないと仮定した
ものであるが、これは、現在実用的に得られる構成2に
かかげたような紫外線領域のレーザにおいても無理のな
い仮定である。また、パルスレーザを用いた場合には、
加工形状に沿って照射位置をずらしながら各位置でパル
スレーザ光を照射するようにすることで加工形状に沿っ
たスクライビングを施すことができる。
Α = 10000 d = 0.003 cm (30 μm) C = 0.2 cal / g · K ρ = 2.3 g / cm 3 E = 0.0001J (100 μJ) As a result, T = 6700K. This temperature is well above the sublimation point of the glass body. Here,
It is assumed that a pulse laser having a sufficiently short pulse width (about 10 ns) is used and there is no dissipation of heat due to heat conduction or the like. This is a reasonable assumption for a laser in the ultraviolet region. When a pulse laser is used,
By irradiating the pulse laser light at each position while shifting the irradiation position along the processing shape, scribing along the processing shape can be performed.

【0014】さて、このようにして、被加工ガラス体の
表面に幅数十μm、深さ数μmのススクライビングを施
した工程の後に、このスクライビングを施した部位に沿
って構成2にかかげたCO2 レーザのような赤外線領域
のレーザ光を照射して割断に結び付く熱歪を与えること
により、被加工ガラス体をスクライビングの形状の沿っ
て割断させることができる。
Now, after the step of scribing the surface of the glass body to be processed with a width of several tens of μm and a depth of several μm in this manner, the glass body was laid along the scribed portion in Configuration 2. By irradiating a laser beam in an infrared region such as a CO 2 laser to apply thermal strain that leads to the cutting, the glass body to be processed can be cut along the scribing shape.

【0015】この方法によれば、レーザ光によるスクラ
イビングであるので、曲線を含む複雑な形状でも、他の
部位にクラック等を入れることなく正確に、かつ、容易
・迅速にスクライビングを施すことができ、しかも、そ
のスクライビングの際には、ガラス体を昇華させ、蒸発
・飛散させるので、削り屑のような、後の製造工程等で
障害となる可能性のある塵等を発生させることがない。
加えて、熱歪を加える工程も、赤外線領域のレーザ光を
照射することにより行うので、スクライビングを施した
部位に正確に沿って熱歪を加えることができ、他の部位
に有害な応力等が加わることがない。従って、割断の際
に割れや欠け等を生ずるおそれがなく、高い歩留まりで
割断を行うことができる。
According to this method, since the scribing is performed by the laser beam, the scribing can be performed accurately, easily and quickly even in a complicated shape including a curve without cracks or the like in other parts. Moreover, at the time of the scribing, the glass body is sublimated and evaporated and scattered, so that there is no generation of dust such as shavings, which may be an obstacle in a later manufacturing process.
In addition, the step of applying thermal strain is also performed by irradiating laser light in the infrared region, so that thermal strain can be applied exactly along the scribed part, and harmful stress etc. will be applied to other parts. Will not join. Therefore, there is no possibility of cracking or chipping at the time of cleaving, and the cleaving can be performed with a high yield.

【0016】さらに、構成3によれば、構成1または2
の方法を容易に実施できる装置を得ることができる。
Further, according to Configuration 3, Configuration 1 or 2
An apparatus that can easily carry out the above method can be obtained.

【0017】[0017]

【実施例】図1はこの発明の一実施例にかかるガラス加
工装置の斜視図、図2は集光光学系の縦(YZ平面で切
断した)断面図、図3は集光光学系の横(XZ平面で切
断した)断面図、図4は偏向光学系の水平(XY平面で
切断した図)、図5は一実施例のガラス加工方法の工程
説明図である。以下、これらの図面を参照にしながら、
まず、この発明の一実施例にかかるガラス加工装置を説
明し、次に、この発明にかかるガラス加工方法を説明す
る。
FIG. 1 is a perspective view of a glass processing apparatus according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a longitudinal sectional view (cut along a YZ plane) of a condensing optical system, and FIG. FIG. 4 is a cross-sectional view (cut on the XZ plane), FIG. 4 is a horizontal view (cut on the XY plane) of the deflecting optical system, and FIG. 5 is a process explanatory view of a glass processing method according to one embodiment. Hereinafter, with reference to these drawings,
First, a glass processing apparatus according to one embodiment of the present invention will be described, and then a glass processing method according to the present invention will be described.

【0018】一実施例のガラス加工装置 図1において、符号1は紫外線領域(UV)レーザ装
置、符号2はCO2 レーザ装置、符号3はガラス加工装
置本体である。
[0018] In glass processing apparatus Figure 1 of an embodiment, reference numeral 1 is an ultraviolet region (UV) laser device, reference numeral 2 is CO 2 laser device, reference numeral 3 is a glass processing apparatus.

【0019】UVレーザ装置1は、Nd:YAGレーザ
の第4高調波(波長:266nm)パルス光を発生して
射出するもので、内部にCWーQスイッチパルスNd:
YAGレーザ装置と、このNd:YAGレーザ装置から
射出した基本波レーザ光を入射してその第4高調波光を
射出する高調波発生素子とを内蔵するものである。射出
されるパルス光のエネルギーは200μJ、パルスの繰
り返し周波数は5KHzである。
The UV laser device 1 generates and emits the fourth harmonic (wavelength: 266 nm) pulse light of an Nd: YAG laser, and internally emits a CW-Q switch pulse Nd:
It incorporates a YAG laser device and a harmonic generation element that receives a fundamental laser beam emitted from the Nd: YAG laser device and emits its fourth harmonic light. The energy of the emitted pulse light is 200 μJ, and the pulse repetition frequency is 5 KHz.

【0020】CO2 レーザ装置は、波長10.6μmの
レーザ光を連続して射出するもので、出力パワーは25
Wである。
The CO 2 laser device continuously emits a laser beam having a wavelength of 10.6 μm, and has an output power of 25.
W.

【0021】ガラス加工装置本体3の概略構成は、基台
4と、この基台4に対して図中Y軸方向に移動可能なよ
うに該基台に取り付けられたY方向走査フレーム5と、
このY方向走査フレーム5に対して図中X軸方向に移動
可能なように該Y方向走査フレーム5に取り付けられた
X方向走査ステージ6と、このX方向走査ステージ6に
固定された集光光学系7とからなる。そして、前記UV
レーザ装置1及びCO2 レーザ装置2からそれぞれ射出
されたUVレーザ光L1 及び赤外レーザ光L2 を、光路
変更用反射鏡81,82ならびに91,92をそれぞれ
介し、さらに、Y方向走査フレーム5に固定された偏向
光学系10を通じて集光光学系7に導き、該集光光学系
7によって集光した後、基台4上に固定された被加工ガ
ラス板11に照射するようにしたものである。
The schematic structure of the glass processing apparatus main body 3 includes a base 4, a Y-direction scanning frame 5 attached to the base 4 so as to be movable with respect to the base 4 in the Y-axis direction in FIG.
An X-direction scanning stage 6 attached to the Y-direction scanning frame 5 so as to be movable in the X-axis direction in the drawing with respect to the Y-direction scanning frame 5, and a condensing optic fixed to the X-direction scanning stage 6 System 7 And the UV
The UV laser beam L 1 and the infrared laser beam L 2 emitted from the laser device 1 and the CO 2 laser device 2 are respectively transmitted through the optical path changing reflecting mirrors 81 and 82 and 91 and 92, and further the Y-direction scanning frame. The light is guided to a condensing optical system 7 through a deflecting optical system 10 fixed to 5, is condensed by the condensing optical system 7, and then irradiates a glass plate 11 to be processed fixed on a base 4. It is.

【0022】Y方向フレーム5は、略「門」形をなして
おり、その両脚5a,5bの下部にそれぞれスライダ5
c,5d(スライダ5dは図示せず)を取り付け、これ
らスライダ5c,5dを、基台4の図中左右端部にそれ
ぞれ形成したレール4a,4b(レール4bは図示せ
ず)に摺動自在に嵌合したものである。そして、スライ
ダ4aにガイドスクリュー4cを貫通螺合させ、このガ
イドスクリュー4cをパルスモータ4dによって回転駆
動することにより、Y方向走査フレーム5をY軸方向に
移動制御するようにしたものである。なお、パルスモー
タ4dは図示しない制御装置により制御されるようにな
っている。
The Y-direction frame 5 has a substantially "gate" shape, and a slider 5 is provided below the legs 5a and 5b, respectively.
c, 5d (sliders 5d are not shown), and these sliders 5c, 5d are slidable on rails 4a, 4b (rails 4b are not shown) formed respectively on the left and right ends of the base 4 in the figure. It is fitted to. A guide screw 4c is threadedly engaged with the slider 4a, and the guide screw 4c is rotationally driven by a pulse motor 4d to control the movement of the Y-direction scanning frame 5 in the Y-axis direction. The pulse motor 4d is controlled by a control device (not shown).

【0023】図2に示されるように、X方向走査ステー
ジ6は、Y方向走査フレーム5の梁部5eの長手方向下
部に取り付けられたレール5fに摺動自在に嵌合されて
おり、図中X軸方向に移動自在になっている。なお、こ
のX方向走査ステージ6には腕5gが取り付けられてお
り、この腕5gにはガイドスクリュー5hが貫通螺合さ
れ、さらに、このガイドスクリュー5hはパルスモータ
5iによって回転駆動されるようになっている。このパ
ルスモータ5iはY方向走査フレーム5に固定されてい
ると共に、図示しない制御装置によって制御されるよう
になっている。したがって、図示しない制御装置の制御
指令によってパルスモータ5iを回転制御することによ
り、X方向走査ステージ6をX軸方向に移動制御するこ
とができるようになっている。このX方向走査ステージ
6には集光光学系7が固定されている。
As shown in FIG. 2, the X-direction scanning stage 6 is slidably fitted on a rail 5f attached to a longitudinally lower portion of the beam 5e of the Y-direction scanning frame 5, and is shown in FIG. It is movable in the X-axis direction. An arm 5g is attached to the X-direction scanning stage 6. A guide screw 5h is screwed through the arm 5g, and the guide screw 5h is driven to rotate by a pulse motor 5i. ing. The pulse motor 5i is fixed to the Y-direction scanning frame 5, and is controlled by a control device (not shown). Therefore, by controlling the rotation of the pulse motor 5i according to a control command from a control device (not shown), the movement of the X-direction scanning stage 6 in the X-axis direction can be controlled. A focusing optical system 7 is fixed to the X-direction scanning stage 6.

【0024】この集光光学系7はX方向走査ステージ6
に固定されたベース71と、このベース71の上側に固
定された2つの偏向ミラー72a,72bと、ベース7
1の下側に取り付けられた2つの集光レンズ73a,7
3bとを有している。
The condensing optical system 7 includes an X-direction scanning stage 6
, Two deflecting mirrors 72 a and 72 b fixed above the base 71,
1, two condenser lenses 73a, 73 attached below
3b.

【0025】偏向ミラー72a,72bはともにXY平
面に対して45°傾むけられ、かつ、互いにY軸方向に
所定の距離をおいて配置されているとともに、それぞ
れ、あおり調整機構付きのミラーホルダー74a(図3
参照)及び74b(図示せず)に取り付けられている。
偏向ミラー72a,72bは、それぞれ、ガラス等の基
板にUVレーザ光L1 及びCO2 レーザ光L2 をほぼ1
00%反射する誘電体多層膜がコーティングされてい
る。そして、ミラーホルダー74a及び74bはそれぞ
れ支柱75a(図3参照)及び75b(図示せず)を介
してベース71に固定されている。なお、偏向ミラー7
2a,72bは、カバーケース71aに収納され、この
カバーケース71aにはレーザ光入射窓71b(図3参
照)及び71c(図示せず)が設けられている。レーザ
光入射窓71b及び71cは、それぞれ偏向ミラー72
a,72bの中心を通りX軸方向に平行な直線上に形成
されている。
The deflecting mirrors 72a and 72b are both tilted by 45 ° with respect to the XY plane, are arranged at a predetermined distance from each other in the Y-axis direction, and are each provided with a mirror holder 74a having a tilt adjustment mechanism. (FIG. 3
) And 74b (not shown).
Deflecting mirrors 72a, 72b, respectively, on a substrate of glass or the like UV laser beam L 1 and the CO 2 laser beam L 2 approximately 1
A dielectric multilayer film that reflects 00% is coated. The mirror holders 74a and 74b are fixed to the base 71 via columns 75a (see FIG. 3) and 75b (not shown), respectively. The deflection mirror 7
2a and 72b are housed in a cover case 71a, and the cover case 71a is provided with laser beam incident windows 71b (see FIG. 3) and 71c (not shown). The laser light entrance windows 71b and 71c are respectively provided with deflection mirrors 72.
It is formed on a straight line that passes through the centers of a and 72b and is parallel to the X-axis direction.

【0026】集光レンズ73a,73bは、それぞれレ
ンズホルダー76a,76bに保持され、また、このレ
ンズホルダー76a,76bは、それぞれ焦点調整機構
77a(図3参照)及び77bを介してベース71に取
り付けられている。焦点調整機構77a及び77bは周
知のラックーピニオン機構等で構成されており、レンズ
ホルダー76a,76bを上下に移動調整することによ
り、レーザ光の集光点を上下に調整できるようになって
いる。さらに、偏向ミラー72a,72bの下部には、
ベース71を貫通してレーザ光射出窓78a,78bが
形成されている。そして、これらレーザ光射出窓78
a,78bとレンズホルダー76a,76bとの間には
伸縮自在な蛇腹状のカバー管79a,79bが設けられ
ている。
The condenser lenses 73a and 73b are held by lens holders 76a and 76b, respectively. The lens holders 76a and 76b are attached to the base 71 via focus adjustment mechanisms 77a (see FIG. 3) and 77b, respectively. Have been. The focus adjustment mechanisms 77a and 77b are constituted by a well-known rack-and-pinion mechanism or the like, and the focal point of the laser beam can be adjusted up and down by moving the lens holders 76a and 76b up and down. . Further, below the deflection mirrors 72a and 72b,
Laser light emission windows 78a and 78b are formed through the base 71. Then, these laser light emission windows 78
A bellows-like cover tube 79a, 79b is provided between the lens holders a, 78b and the lens holders 76a, 76b.

【0027】したがって、レーザ光入射窓71b,71
cを通じてX軸方向に沿って入射したレーザ光はそれぞ
れ偏向ミラー74a,74bによって90°進路を変更
され、レーザ光射出窓78a,78bを通じて集光レン
ズ73a,73bに導かれ、これら集光レンズ73a,
73bによって被加工ガラス板11に集光されるように
なっている。そして、これら集光点は、上述のY方向走
査フレーム5及びX方向走査ステージ6を適宜移動させ
ることにより目的とする加工形状に沿って走査させるこ
とができるようになっている。なお、UVレーザ光L1
の集光スポット径は30μm内外、CO2 レーザ光の集
光スポット径は100μm内外である。また、被加工ガ
ラス板11は、低アルカリガラスの薄板(300×30
0×1mm)である。
Therefore, the laser beam entrance windows 71b, 71
c, the laser light incident along the X-axis direction is changed by 90 degrees by deflection mirrors 74a and 74b, respectively, and guided to condensing lenses 73a and 73b through laser light exit windows 78a and 78b. ,
The light is condensed on the glass plate 11 to be processed by 73b. These converging points can be scanned along a target processing shape by appropriately moving the Y-direction scanning frame 5 and the X-direction scanning stage 6 described above. The UV laser light L 1
Is about 30 μm, and the focused spot diameter of CO 2 laser light is about 100 μm. The glass plate 11 to be processed is a thin plate of low alkali glass (300 × 30).
0 × 1 mm).

【0028】また、図4に示されるように、偏向光学系
10は、反射鏡91,92によって反射されてきたUV
レーザ光L1 及びCO2 レーザ光L2 の進行方向を2つ
の偏向ミラー101及び102によってそれぞれ90°
変更して集光光学系7に入射させるものでである。偏向
ミラー101,102はともにYZ平面に対して45°
傾むけられ、かつ、XY平面上においてY軸方向と45
°なす方向に互いに所定の距離をおいて配置されている
とともに、それぞれ、あおり調整機構付きのミラーホル
ダー101a及び102aに取り付けられている。偏向
ミラー101,102は、それぞれ、ガラス等の基板に
UVレーザ光及びCO2 レーザ光をほぼ100%反射す
る誘電体多層膜がコーティングされている。そして、ミ
ラーホルダー101a及び102aは、それぞれ、図示
しない支柱を介してベース103に固定され、このベー
ス103はY方向走査フレーム5に固定されている。な
お、これら偏向ミラー101,102は、カバーケース
104に収納され、このカバーケース104にはレーザ
光入射窓105a及び105b、ならびに、レーザ光射
出窓106a,106bがそれぞれ設けられており、U
Vレーザ光L1 及びCO2 レーザ光L2 はそれぞれこれ
らの入・出射窓を通じて入・出射され、出射されたレー
ザ光は上述のように、集光光学系7に導入されて被加工
ガラス11に集光される。
As shown in FIG. 4, the deflecting optical system 10 includes a UV light reflected by the reflecting mirrors 91 and 92.
The traveling directions of the laser light L 1 and the CO 2 laser light L 2 are 90 ° by the two deflecting mirrors 101 and 102, respectively.
This is changed so as to be incident on the condensing optical system 7. The deflection mirrors 101 and 102 are both at 45 ° with respect to the YZ plane.
45 degrees with respect to the Y-axis direction on the XY plane.
Are arranged at a predetermined distance from each other in the direction in which they are formed, and are respectively attached to mirror holders 101a and 102a having a tilt adjustment mechanism. Each of the deflecting mirrors 101 and 102 has a substrate made of glass or the like coated with a dielectric multilayer film that reflects almost 100% of UV laser light and CO 2 laser light. The mirror holders 101a and 102a are respectively fixed to a base 103 via columns (not shown), and the base 103 is fixed to the Y-direction scanning frame 5. The deflecting mirrors 101 and 102 are housed in a cover case 104. The cover case 104 is provided with laser light entrance windows 105a and 105b and laser light exit windows 106a and 106b, respectively.
The V laser light L 1 and the CO 2 laser light L 2 enter and exit through these entrance and exit windows, respectively, and the emitted laser light is introduced into the condensing optical system 7 as described above, and Is collected.

【0029】なお、この一実施例の装置では、本発明に
おける第1走査手段(UVレーザ光の走査手段)と、第
2走査手段(CO2 レーザ光の走査手段)とを、1つの
XY走査ステージによって兼ねるようにしているから、
比較的構造が単純であるという利点を有する。
In the apparatus of this embodiment, the first scanning means (UV laser light scanning means) and the second scanning means (CO 2 laser light scanning means) of the present invention are connected to one XY scan. Because it is also used by the stage,
This has the advantage that the structure is relatively simple.

【0030】一実施例のガラス加工方法 次に、上述のガラス加工装置を用いて本発明の一実施例
のガラス加工方法を実施する手順を説明する。
The glass processing method of an embodiment Next, a procedure for implementing the glass processing method of an embodiment of the present invention will be described with reference to glass processing device described above.

【0031】この一実施例の方法は、UVレーザ光L1
によるスクライビング工程と、このスクライビング工程
の次に行われるCO2 レーザ光L2 による割断の工程と
からなる。
The method of this embodiment uses the UV laser light L 1
And a step of cleaving by the CO 2 laser beam L 2 performed after the scribing step.

【0032】スクライビング工程は、UVレーザ光L1
を集光レンズ系7の集光レンズ73aを通じて被加工ガ
ラス板11の極表面に集光させ(集光スポット径;約3
0μm)、集光点のガラス部材を蒸散させる(図5
(a)参照)。図5(a)において、矢印pは蒸散物を
示す。これと同時に、Y方向走査フレーム5及びX方向
走査ステージ6を適宜移動させることにより、UVレー
ザ光L1 の集光点を、目的とする加工形状に沿って走査
させる。この場合、走査速度は、UVレーザ装置1のパ
ルス発振の繰り返し周期(5KHz)を考慮にいれて、
各パルスによる蒸散スポットが僅かに重なるようにす
る。これにより、被加工ガラス板11の極表面に加工目
的の形状に沿って、幅数十μm、深さ数μmの溝12が
形成され(図5(b)参照)、スクライビングが施され
る。
In the scribing step, the UV laser light L 1
Through the condenser lens 73a of the condenser lens system 7 on the very surface of the glass plate 11 to be processed (condensing spot diameter: about 3
0 μm) to evaporate the glass member at the focal point (FIG. 5).
(See (a)). In FIG. 5A, an arrow p indicates a transpiration. At the same time, by moving the Y-direction scanning frame 5 and the X-direction scanning stage 6 as appropriate, the focal point of the UV laser light L 1, is scanned along a machining shape of interest. In this case, the scanning speed is determined in consideration of the repetition cycle (5 KHz) of the pulse oscillation of the UV laser device 1,
The transpiration spots from each pulse are made to slightly overlap. Thus, a groove 12 having a width of several tens of μm and a depth of several μm is formed on the extreme surface of the glass plate 11 to be processed along the shape to be processed (see FIG. 5B), and scribing is performed.

【0033】次に、CO2 レーザ光L2 による割断の工
程は、CO2 レーザ光L2 を、集光レンズ系7の集光レ
ンズ73bを通じて被加工ガラス板11の表面における
溝12が形成されている部位に集光させ(集光スポット
径;約100μm)、この部位に熱歪みsを加える(図
5(c)参照)。これにより、溝12に沿って厚さ方向
に割れ13が入り、この部位から割断される(図5
(d)参照)。これと同時に、Y方向走査フレーム5及
びX方向走査ステージ6を適宜移動させて、CO2 レー
ザ光L2 の集光点を、溝12に沿って走査させる。これ
により、被加工ガラス板11を加工目的の形状に割断す
ることができる。
[0033] Then, the CO 2 laser beam L 2 by the cleaving step, the CO 2 laser beam L 2, the grooves 12 in the surface of the work the glass plate 11 is formed through the condenser lens 73b of the focusing lens system 7 The light is condensed on the portion (condensed spot diameter: about 100 μm), and thermal strain s is applied to this portion (see FIG. 5C). As a result, a crack 13 enters in the thickness direction along the groove 12 and is cut from this portion (FIG. 5).
(D)). At the same time, the Y-direction scanning frame 5 and the X-direction scanning stage 6 are appropriately moved to scan the focal point of the CO 2 laser beam L 2 along the groove 12. Thereby, the glass plate 11 to be processed can be cut into a shape to be processed.

【0034】上述の実施例によれば、UVレーザ光によ
るスクライビングであるので、曲線を含む複雑な形状で
も、他の部位にクラック等を入れることなく正確に、か
つ、容易・迅速にスクライビングを施すことができ、し
かも、そのスクライビングの際には、ガラス体を昇華さ
せ、蒸発・飛散させるので、削り屑のような、後の製造
工程等で障害となる可能性のある塵等を発生させること
がない。加えて、熱歪を加える工程も、赤外線領域のレ
ーザ光を照射することにより行うので、スクライビング
を施した部位に正確に沿って熱歪を加えることができ、
他の部位に有害な応力等を加わることがない。従って、
割断の際に割れや欠け等を生ずるおそれがなく、高い歩
留まりで割断を行うことができる。
According to the above-described embodiment, since scribing is performed by UV laser light, scribing is performed accurately, easily, and quickly without causing cracks or the like in other parts even in a complicated shape including a curve. In addition, during the scribing, the glass body is sublimated and evaporated and scattered, so that dusts such as shavings, which may be obstacles in later manufacturing processes, etc., are generated. There is no. In addition, since the step of applying thermal strain is also performed by irradiating laser light in the infrared region, it is possible to apply thermal strain exactly along the scribed part,
No harmful stress is applied to other parts. Therefore,
There is no risk of cracking or chipping at the time of cleaving, and cleaving can be performed with a high yield.

【0035】なお、上述の一実施例では、UVレーザ光
として、Nd:YAGレーザの第4高調波光を用いた例
をかかげたが、UVレーザ光としては、Nd:YAGレ
ーザの第3高調波光(波長;355nm)、エキシマレ
ーザ(ArF;193nm、KrF;248nm、Xe
Cl;308nm、XeF;351nm、)、窒素レー
ザ(331nm)等を用いることもできる。
In the above-described embodiment, an example is described in which the fourth harmonic light of a Nd: YAG laser is used as the UV laser light. However, the third harmonic light of a Nd: YAG laser is used as the UV laser light. (Wavelength: 355 nm), excimer laser (ArF: 193 nm, KrF: 248 nm, Xe)
Cl; 308 nm, XeF; 351 nm), nitrogen laser (331 nm) and the like can also be used.

【0036】また、加工対象のガラスとしては、石英ガ
ラス以外のガラス、例えば、無アルカリガラス(組成
例:SiO2 ;49%、Al2 3 ;10%、B
2 3 ;15%、ZnO;25%)、中性ホウケイ酸ガ
ラス(組成例:SiO2 ;72%、Al2 3 ;5%、
2 3 ;9%、RO;7.5%、R2 O;6.5%、
ただし、RはNaまたはKとする。)、ソーダ石灰ガラ
ス(組成例:SiO2 ;72.5%、Al2 3 ;2
%、RO;12%、R2 O;13.5%、ただし、Rは
NaまたはKとする。)があげられる。
The glass to be processed is a glass other than quartz glass, for example, non-alkali glass (composition example: SiO 2 ; 49%, Al 2 O 3 ; 10%, B
2 O 3 ; 15%, ZnO; 25%), neutral borosilicate glass (composition example: SiO 2 ; 72%, Al 2 O 3 ; 5%,
B 2 O 3; 9%, RO; 7.5%, R 2 O; 6.5%,
Here, R is Na or K. ), Soda-lime glass (composition example: SiO 2 ; 72.5%, Al 2 O 3 ; 2)
%, RO; 12%, R 2 O; 13.5%, provided that R is Na or K. ).

【0037】さらに、上述の一実施例では、レーザ光の
走査方法として、XYステージによる走査の例をかかげ
たが、これは、例えば、周知のガルバノメータスキャナ
ー等を用いることもできる。
Furthermore, in the above-described embodiment, an example of scanning by an XY stage has been described as a method of scanning a laser beam. However, for example, a well-known galvanometer scanner or the like can be used.

【0038】[0038]

【発明の効果】以上詳述したように、本発明にかかるガ
ラス加工方法及びその装置は、被加工ガラス体に対して
高い吸収率を有する紫外線領域のレーザ光を被加工ガラ
ス体の表面部に集光してその集光点を加工目的の形状に
沿って走査させることにより、該被加工ガラス体の表面
部にスクライビングを施した後、このスクライビングを
施した部位に沿って前記被加工ガラス体に対して高い吸
収率を有する赤外線領域のレーザ光を照射して該部位に
割断に結び付く熱歪みを与えることにより割断するよう
にしたもので、これにより、被加工ガラス体を、塵等の
発生を押さえつつ容易・迅速に複雑な形状に割断するこ
とを可能にしたものである。
As described above in detail, the glass processing method and apparatus according to the present invention apply a laser beam in the ultraviolet region having a high absorptivity to the glass body to be processed to the surface of the glass body to be processed. After condensing and scanning the condensing point along the shape of the object to be processed, scribing is performed on the surface of the glass body to be processed, and then the glass body to be processed is processed along the scribed portion. The laser beam is irradiated in the infrared region having a high absorptivity to give a thermal strain that leads to the cleavage, thereby cutting the glass body to be processed. This makes it possible to cut easily and quickly into a complicated shape while holding down.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】この発明の一実施例にかかるガラス加工装置の
斜視図である。
FIG. 1 is a perspective view of a glass processing apparatus according to an embodiment of the present invention.

【図2】集光光学系の縦(YZ平面で切断した)断面図
である。
FIG. 2 is a vertical sectional view (cut along a YZ plane) of a light-converging optical system.

【図3】集光光学系の横(XZ平面で切断した)断面図
である。
FIG. 3 is a cross-sectional view (cut along the XZ plane) of the light collecting optical system.

【図4】偏向光学系の水平(XY平面で切断した)断面
図である。
FIG. 4 is a horizontal sectional view (cut along an XY plane) of the deflection optical system.

【図5】一実施例のガラス加工方法の工程説明図であ
る。
FIG. 5 is a process explanatory view of a glass processing method according to one embodiment.

【符号の説明】 1…UVレーザ装置、2…CO2 レーザ装置、3…ガラ
ス加工装置本体、5…Y方向走査フレーム、6…X方向
走査ステージ、7…集光光学系、10…偏向光学系、1
1…被加工ガラス板。
[Description of References] 1 ... UV laser device, 2 ... CO 2 laser device, 3 ... Glass processing device main body, 5 ... Y-direction scanning frame, 6 ... X-direction scanning stage, 7 ... Condensing optical system, 10 ... Deflection optics System, 1
1 ... glass plate to be processed.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C03B 33/09 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (58) Field surveyed (Int.Cl. 7 , DB name) C03B 33/09

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 被加工ガラス体の表面部にスクライビン
グを施してこのスクライビングを施した部位に沿って被
加工ガラス体に歪を与え、該部位から被加工ガラス体を
割断するガラス加工方法において、 前記被加工ガラス体に対して高い吸収率を有する紫外線
領域のレーザ光を被加工ガラス体の表面部に集光してそ
の集光点を加工目的の形状に沿って走査させることによ
り、該被加工ガラス体の表面部にスクライビングを施す
工程と、 このスクライビングを施した部位に沿って前記被加工ガ
ラス体に対して高い吸収率を有する赤外線領域のレーザ
光を照射して該部位に割断に結び付く熱歪みを与える工
程とを含むことを特徴としたガラス加工方法。
In a glass processing method, scribing is performed on a surface portion of a glass body to be processed, strain is applied to the glass body to be processed along a portion where the scribing is performed, and the glass body to be processed is cut from the portion. Laser light in the ultraviolet region having a high absorptivity to the glass body to be processed is focused on the surface of the glass body to be processed, and the focal point is scanned along the shape to be processed, thereby forming the glass body to be processed. A step of scribing the surface portion of the processed glass body, and irradiating the processed glass body with laser light in an infrared region having a high absorptance along the site where the scribing is performed, which is linked to the site. Applying a thermal strain to the glass.
【請求項2】 請求項1に記載のガラス加工方法におい
て、 前記紫外線領域のレーザ光として、エキシマレーザ光、
またはパルスNd:YAGレーザの第3高調波光もしく
は第4高調波光を用い、前記赤外線領域のレーザ光とし
てCO2 レーザ光を用いることを特徴としたガラス加工
方法。
2. The glass processing method according to claim 1, wherein an excimer laser beam is used as the laser beam in the ultraviolet region.
Alternatively, a glass processing method characterized by using third harmonic light or fourth harmonic light of a pulsed Nd: YAG laser and using CO 2 laser light as the laser light in the infrared region.
【請求項3】 請求項1または2に記載のガラス加工方
法を実施するガラス加工装置であって、 前記被加工ガラス体に対して高い吸収率を有する紫外線
領域のレーザ光を発生する第1レーザ装置と、 前記被加工ガラス体に対して高い吸収率を有する赤外線
領域のレーザ光を発生する第2レーザ装置と、 前記第1レーザ装置から射出された紫外線領域のレーザ
光を集光する第1集光手段と、 前記第2レーザ装置から射出された赤外線領域のレーザ
光を集光する第2集光手段と、 前記第1集光手段によって集光された紫外線領域のレー
ザ光を前記被加工ガラス体上を加工目的の形状に沿って
走査させてスクライビングを施す第1走査手段と、 前記第2集光手段によって集光された赤外線領域のレー
ザ光を前記スクライビングを施した部位に沿って走査さ
せる第2走査手段とを有することを特徴としたガラス加
工装置。
3. A glass processing apparatus for performing the glass processing method according to claim 1 or 2, wherein the first laser generates a laser beam in an ultraviolet region having a high absorptivity to the glass body to be processed. A second laser device for generating a laser beam in an infrared region having a high absorptance for the glass body to be processed; and a first laser device for condensing a laser beam in an ultraviolet region emitted from the first laser device. Focusing means; second focusing means for focusing laser light in the infrared region emitted from the second laser device; and laser light in the ultraviolet range focused by the first focusing means on the workpiece. A first scanning unit for performing scribing by scanning the glass body along a shape to be processed, and applying a laser beam in an infrared region focused by the second focusing unit along a portion where the scribing is performed. And a second scanning means for performing scanning.
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