JP3030106U - Irradiation optical system - Google Patents

Irradiation optical system

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JP3030106U
JP3030106U JP1996003882U JP388296U JP3030106U JP 3030106 U JP3030106 U JP 3030106U JP 1996003882 U JP1996003882 U JP 1996003882U JP 388296 U JP388296 U JP 388296U JP 3030106 U JP3030106 U JP 3030106U
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irradiation
optical system
light beam
light
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JP1996003882U
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Inventor
誠 上原
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株式会社目白プレシジョン
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Abstract

(57)【要約】 【課題】製造コストの上昇を招くことなしに迅速に照射
領域を変更でき、なおかつ照射距離の変更がなく、均一
な強度での照射が可能な照射光学系を得る。 【解決手段】光源と、光ファイバーと、光束均一化手段
と、結像レンズからなる照射光学系において、前記光束
均一化手段を複数配置するとともに、これら複数の光束
均一化手段を結像レンズの光軸と直交する方向に移動可
能とする。
(57) An object of the present invention is to provide an irradiation optical system capable of rapidly changing the irradiation area without increasing the manufacturing cost, and without changing the irradiation distance, which enables irradiation with uniform intensity. SOLUTION: In an irradiation optical system including a light source, an optical fiber, a light beam homogenizing means, and an imaging lens, a plurality of the light beam homogenizing means are arranged, and the plurality of light flux homogenizing means are used for the light of the imaging lens. It can move in the direction orthogonal to the axis.

Description

【考案の詳細な説明】[Detailed description of the device]

【0001】[0001]

【考案の属する技術分野】[Technical field to which the device belongs]

本考案は、特定領域を均一に強く照射する光学系に関する。 このような光学系は、たとえば紫外光を使って接着剤を硬化させる作業に用いら れる。その他、物体の画像を取り込んで画像処理を行うために物体を照射するの にも用いられる。 The present invention relates to an optical system that uniformly and strongly illuminates a specific area. Such an optical system is used, for example, in the work of curing an adhesive using ultraviolet light. It is also used to illuminate an object in order to capture the image of the object and perform image processing.

【0002】[0002]

【従来の技術】[Prior art]

上記のような分野に用いられる照射光学系は、第1に特定領域だけを照射する必 要がある。不要な領域を照射すると、無用の接着を生じたり、画像処理に有害な フレアを生じるからである。 In the irradiation optical system used in the above fields, firstly, it is necessary to irradiate only a specific area. Irradiating an unnecessary area causes unnecessary adhesion and causes flare harmful to image processing.

【0003】 第2に、特定領域内は均一な光で照射する必要がある。照射ムラが大きいと接着 が不十分になったり、画像処理のダイナミックレンジの低下を招くからである。Secondly, it is necessary to irradiate the specific region with uniform light. This is because if the irradiation unevenness is large, adhesion will be insufficient and the dynamic range of image processing will be reduced.

【0004】 第3に、強い光で照射する必要がある。接着にしても画像入力にしても、照射光 が強いほど短い時間で処理を終えられるからである。Third, it is necessary to irradiate with intense light. This is because the process can be completed in a shorter time as the irradiation light is stronger, whether it is adhesion or image input.

【0005】 このような要望に応えるため、たとえば長方形領域を照射する光学系として、図 4に示すようなものが従来から知られている。すなわち、光源1と、光ファイバ ー2と、光束均一化手段3と、結像レンズ4からなる照射光学系である。光束均 一化手段3としては、たとえばガラスや石英などの透明体を直方体状に切り出し たものが用いられる。光ファイバー2から出射した光束はガラス内部で全反射を 繰り返し、その長方形の出射端を均一に照射する。そして、結像レンズ4が光束 均一化手段3の出射端と照射面を共役にすることによって、照射面もまた均一な 強度で照射されるのである。ここで、マスク9は、電子部品6に無用の光が照射 されるのを防止している。In order to meet such a demand, for example, an optical system as shown in FIG. 4 is conventionally known as an optical system for irradiating a rectangular area. That is, it is an irradiation optical system including a light source 1, an optical fiber 2, a light beam homogenizing means 3, and an imaging lens 4. As the light beam equalizing means 3, for example, a transparent body such as glass or quartz cut into a rectangular parallelepiped shape is used. The light beam emitted from the optical fiber 2 is repeatedly totally reflected inside the glass to uniformly illuminate the rectangular emission end. Then, the imaging lens 4 makes the exit end of the light beam homogenizing means 3 and the irradiation surface conjugate, so that the irradiation surface is also irradiated with uniform intensity. Here, the mask 9 prevents the electronic component 6 from being irradiated with useless light.

【0006】 なお、長方形領域の外枠を照射する場合は、図5のような構成が用いられる場合 もある。これは、光ファイバー出射端22を図6のように枠形にするとともに、 光束均一化手段3も図7の断面図のように枠状のものにしたものである。When illuminating the outer frame of the rectangular area, the configuration as shown in FIG. 5 may be used. This is such that the optical fiber emitting end 22 has a frame shape as shown in FIG. 6 and the light flux uniformizing means 3 also has a frame shape as shown in the sectional view of FIG.

【0007】[0007]

【考案が解決しようとする課題】[Problems to be solved by the device]

ところが、接着にしても画像処理にしても、たとえば照射対象物が変更になった 場合などに、照射領域を変更しなければならない場合がある。従来の照射光学系 でこれに対処するには、光束均一化手段3を変更するか、結像レンズ4の結像倍 率を変更する必要があった。 However, there is a case where the irradiation area needs to be changed regardless of whether the object to be irradiated is changed, whether it is adhesion or image processing. In order to cope with this with the conventional irradiation optical system, it is necessary to change the light beam homogenizing means 3 or the imaging magnification of the imaging lens 4.

【0008】 しかし、これには以下の問題点があった。第1に、光束均一化手段3を変更する 場合は、新たな光束均一化手段3を製作する必要があるだけでなく、これを以前 使用していたものと交換する手数も必要になる。つまり、製造コストが大幅に増 加するばかりか、迅速な変更ができないのである。第2に、結像レンズ4の結像 倍率を変更する場合は、照射距離が変わるだけでなく、通常は結像レンズ4の歪 曲収差が変化するため、均一な強度での照射ができないのである。照射距離の変 化は結像レンズ4の移動機構を必要とするだけでなく、照射光学系の設置体積の 増大をもたらすのである。However, this has the following problems. First, when changing the light beam homogenizing means 3, it is necessary not only to manufacture a new light beam homogenizing means 3 but also to replace it with a previously used one. In other words, not only is the manufacturing cost greatly increased, but also rapid changes cannot be made. Secondly, when the imaging magnification of the imaging lens 4 is changed, not only the irradiation distance changes but also the distortion aberration of the imaging lens 4 usually changes, so that irradiation with uniform intensity cannot be performed. is there. The change of the irradiation distance not only requires the moving mechanism of the imaging lens 4, but also increases the installation volume of the irradiation optical system.

【0009】 そこで、本考案は、製造コストの上昇を招くことなく迅速に照射領域を変更でき 、なおかつ照射距離の変更がなく、均一な強度での照射が可能な照射光学系を提 供することを課題とする。Therefore, the present invention provides an irradiation optical system capable of rapidly changing the irradiation area without increasing the manufacturing cost, and also capable of performing irradiation with uniform intensity without changing the irradiation distance. It is an issue.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】[Means for Solving the Problems]

光源1と、光ファイバー2と、光束均一化手段3と、結像レンズ4からなる照射 光学系において、前記光束均一化手段を複数配置するとともに、これら複数の光 束均一化手段を結像レンズ4の光軸と直交する方向に移動可能とする。 In the irradiation optical system including the light source 1, the optical fiber 2, the light beam homogenizing means 3, and the imaging lens 4, a plurality of the light beam homogenizing means are arranged, and the plurality of light flux homogenizing means are provided in the imaging lens 4. It is movable in the direction orthogonal to the optical axis of.

【0011】[0011]

【考案の実施の形態】 図1は、本考案にかかる照射光学系を示している。これは、紫外光によって電子 部品を接着するのに用いられるものである。光源1には超高圧水銀灯が内蔵され ていて、光ファイバー2の入射端面に紫外光を集光する。光ファイバー2は4本 に分岐し、その各出射端面21は0.5mm×4mmのライン状になっている。 これによって、4つの偏平な光束均一化手段31、32、33、34に紫外光を 導く。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION FIG. 1 shows an irradiation optical system according to the present invention. It is used to bond electronic components with ultraviolet light. The light source 1 has a built-in ultra-high pressure mercury lamp and focuses ultraviolet light on the incident end face of the optical fiber 2. The optical fiber 2 is branched into four, and each output end face 21 thereof has a line shape of 0.5 mm × 4 mm. As a result, the ultraviolet light is guided to the four flat light beam homogenizing means 31, 32, 33, 34.

【0012】 光束均一化手段31は直方体状で、紫外光を損失なく透過させるために石英でで きている。その断面は1×5mmで、長さが50mmである。光束均一化手段3 1に入射した光は、石英内部で全反射を繰り返す。図2に示すように光束均一化 手段31の出射側311は45°にカットされており、その斜面にはアルミニウ ムの薄膜が蒸着されている。従って光はこの斜面で直角に折れ曲がり、光束均一 化手段31の下面312から出射する。ここに至るまでに光束は光束均一化手段 の内部で全反射を繰り返し、下面出口312において均一な分布になる。他の光 束均一化手段32、33、34も同様である。The light beam homogenizing means 31 is in the shape of a rectangular parallelepiped and can be made of quartz in order to transmit ultraviolet light without loss. Its cross section is 1 × 5 mm and its length is 50 mm. The light incident on the light beam homogenizing means 31 repeats total reflection inside the quartz. As shown in FIG. 2, the exit side 311 of the light beam homogenizing means 31 is cut at 45 °, and a thin film of aluminum is vapor-deposited on its slope. Therefore, the light is bent at a right angle on this slope and is emitted from the lower surface 312 of the light beam homogenizing means 31. By this time, the luminous flux repeats total reflection inside the luminous flux homogenizing means, and has a uniform distribution at the lower surface outlet 312. The same applies to the other light flux uniformizing means 32, 33, 34.

【0013】 結像レンズ4は、光束均一化手段31、32、33、34の出射端面312、3 22、332、342の像を照射面5に投影する。投影レンズ4は十分に歪曲収 差が補正されており、照射面5の特定領域51、52、53、54を均一に照射 する。照射面5には電子部品6と基板7が設置されており、その間には紫外光で 硬化する接着剤8が塗布されている。従って照射光学系から紫外光が照射される ことにより接着剤8が硬化する。The imaging lens 4 projects the images of the emission end faces 312, 322, 332, 342 of the light beam homogenizing means 31, 32, 33, 34 on the irradiation surface 5. The projection lens 4 is sufficiently corrected for the distortion difference and uniformly irradiates the specific regions 51, 52, 53 and 54 of the irradiation surface 5. An electronic component 6 and a substrate 7 are installed on the irradiation surface 5, and an adhesive 8 which is cured by ultraviolet light is applied between them. Therefore, the adhesive 8 is cured by the irradiation of ultraviolet light from the irradiation optical system.

【0014】 ここで、照射光学系は電子部品6の外枠の特定領域51、52、53、54のみ を照射するため、意図に反してそれ以外の領域を硬化させてしまうことはない。 また、紫外光によって電子部品6を無用に損傷させることもない。Here, since the irradiation optical system irradiates only the specific regions 51, 52, 53, 54 of the outer frame of the electronic component 6, it does not unintentionally cure the other regions. Further, the electronic component 6 is not unnecessarily damaged by the ultraviolet light.

【0015】 さて、以上のような接着作業が続けられた後、電子部品6のサイズが変更になっ た場合、本考案による光学系は次のように機能する。図3はその様子を示したも のである。すなわち、光束均一化手段31、32、33、34は手動もしくはモ ーターによって図3矢印方向に移動させられる。すると光束均一化手段31等の 出射端面312等は、結像レンズ4の光軸と直交方向に移動する。これによって 照射領域も移動し、新たな特定領域55、56、57、58を照射することにな る。なお、光束均一化手段31の下面には、遮光板313が設置されており、光 束均一化手段32の下面出口322から出る端部の光を遮る。これによって照射 面が井桁状に照射されるのが防止され、ロの字状に照射される。When the size of the electronic component 6 is changed after the above bonding work is continued, the optical system according to the present invention functions as follows. Figure 3 shows the situation. That is, the light beam homogenizing means 31, 32, 33, 34 are moved in the arrow direction in FIG. 3 manually or by a motor. Then, the emission end face 312 and the like of the light beam homogenizing means 31 and the like move in the direction orthogonal to the optical axis of the imaging lens 4. As a result, the irradiation area also moves and new specific areas 55, 56, 57 and 58 are irradiated. A light-shielding plate 313 is installed on the lower surface of the light beam homogenizing means 31 to block light from the end portion of the light flux uniformizing means 32, which exits from the lower surface outlet 322. As a result, the irradiation surface is prevented from being irradiated in a cross beam shape, and is irradiated in a square shape.

【0016】[0016]

【考案の効果】[Effect of device]

本考案による照射光学系は、部品の交換をすることなく、単に部品を移動させる だけで照射領域の変更ができる。従って、照射光学系の製造コストの上昇を伴う ことがないばかりか、迅速な変更が可能になる。しかも、結像レンズ4は一切移 動する必要がないため、照射距離の変更がない上、均一な強度での照射が確保さ れる。従って、照射距離を変更させる機構が不要なだけでなく、単位面積当たり の照射強度も変化しない。 The irradiation optical system according to the present invention can change the irradiation area by simply moving the parts without replacing the parts. Therefore, not only does the manufacturing cost of the irradiation optical system increase, but also rapid changes are possible. Moreover, since the imaging lens 4 does not need to move at all, the irradiation distance is not changed, and irradiation with uniform intensity is secured. Therefore, not only is a mechanism for changing the irradiation distance unnecessary, but the irradiation intensity per unit area does not change.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本考案による照射光学系が大きな電子部品を照
射する場合の斜視図である。
FIG. 1 is a perspective view of a case where an irradiation optical system according to the present invention irradiates a large electronic component.

【図2】本考案による照射光学系の側面図である。FIG. 2 is a side view of an irradiation optical system according to the present invention.

【図3】本考案による照射光学系が小さな電子部品を照
射する場合の斜視図である。
FIG. 3 is a perspective view of a case where the irradiation optical system according to the present invention irradiates a small electronic component.

【図4】直方体状の光束均一化手段を用いた従来の照射
光学系の斜視図である。
FIG. 4 is a perspective view of a conventional irradiation optical system using a rectangular parallelepiped light beam homogenizing means.

【図5】枠状の光束均一化手段を用いた従来の照射光学
系の斜視図である。
FIG. 5 is a perspective view of a conventional irradiation optical system using a frame-shaped light beam homogenizing means.

【図6】枠状の光束均一化手段に光を投入するために用
いられる光ファイバーの出射端形状である。
FIG. 6 is an emission end shape of an optical fiber used for introducing light into a frame-shaped light beam homogenizing means.

【図7】枠状の光束均一化手段の断面である。FIG. 7 is a cross-section of a frame-shaped light beam homogenizing means.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1:光源 2:光ファイバー 3:光束均一化手段 4:結像レンズ 5:照射面 1: Light source 2: Optical fiber 3: Luminous flux uniformizing means 4: Imaging lens 5: Irradiation surface

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】[Scope of utility model registration request] 【請求項1】光源と、光ファイバーと、光束均一化手段
と、結像レンズからなる照射光学系において、前記光束
均一化手段を複数配置するとともに、これら複数の光束
均一化手段を結像レンズの光軸と直交する方向に移動可
能としたことを特徴とする照射光学系。
1. An irradiation optical system comprising a light source, an optical fiber, a light beam homogenizing means, and an imaging lens, wherein a plurality of the light beam homogenizing means are arranged and the plurality of light beam homogenizing means are provided in the imaging lens. An irradiation optical system characterized by being movable in a direction orthogonal to the optical axis.
JP1996003882U 1996-04-12 1996-04-12 Irradiation optical system Expired - Lifetime JP3030106U (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0540910U (en) * 1991-10-31 1993-06-01 エスエムシー株式会社 Pressure reducing valve

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPH0540910U (en) * 1991-10-31 1993-06-01 エスエムシー株式会社 Pressure reducing valve

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