JP3029972B2 - Image display device and method of manufacturing the same - Google Patents

Image display device and method of manufacturing the same

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JP3029972B2
JP3029972B2 JP26474694A JP26474694A JP3029972B2 JP 3029972 B2 JP3029972 B2 JP 3029972B2 JP 26474694 A JP26474694 A JP 26474694A JP 26474694 A JP26474694 A JP 26474694A JP 3029972 B2 JP3029972 B2 JP 3029972B2
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rib
main body
wall
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coating layer
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繁夫 森
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、プラズマディスプレイ
や蛍光表示管等の画像表示装置およびその製造方法に関
し、特に、気密空間内に設けられるリブ状壁の構造およ
び製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an image display device such as a plasma display or a fluorescent display tube and a method for manufacturing the same, and more particularly to a structure and a method for manufacturing a rib-like wall provided in an airtight space.

【0002】[0002]

【従来の技術】気密空間内の一部から選択的に発光させ
ることにより所望の文字・記号・図形等の画像を表示さ
せる形式の画像表示装置として、例えば、PDP(プラ
ズマディスプレイパネル:Plasma Display Panel)やV
FD(蛍光表示管:Vacuum Fluorescent Display)等が
知られている。
2. Description of the Related Art For example, a PDP (Plasma Display Panel) is used as an image display device of a type in which an image of a desired character, symbol, figure, or the like is displayed by selectively emitting light from a part of an airtight space. ) And V
FD (fluorescent display tube: Va cu um Fluorescent Display) and the like are known.

【0003】上記のPDPは、例えば、一対の平行平板
間に形成される気密空間を複数の放電空間に区分するた
めのリブ状壁と、それら複数の放電空間内で選択的に放
電を発生させるための複数本の放電電極とを備えたもの
であり、選択された所定の放電空間内で放電により発生
するプラズマを利用して発光させるものである。例え
ば、単色表示のPDPにおいてはプラズマの生成に伴う
ネオンオレンジ等の発光がそのまま表示に利用され、一
方、カラー表示のPDPにおいては放電空間内に蛍光体
が備えられて、プラズマによって生じた紫外線によって
励起された蛍光体の発光が表示に利用される。このよう
なPDPは、薄型大表示面とすることが比較的容易であ
ると共に、ブラウン管並の比較的広い視野角および早い
応答速度が得られるため、ブラウン管に代わる画像表示
装置として考えられている。
[0003] In the above-mentioned PDP, for example, a rib-like wall for dividing an airtight space formed between a pair of parallel flat plates into a plurality of discharge spaces, and selectively generating a discharge in the plurality of discharge spaces. And a plurality of discharge electrodes for emitting light using plasma generated by discharge in a selected predetermined discharge space. For example, in a single-color display PDP, light emission of neon orange or the like accompanying the generation of plasma is used for display as it is, while in a color display PDP, a phosphor is provided in a discharge space, and ultraviolet light generated by the plasma causes The excited light emission of the phosphor is used for display. Such a PDP is relatively easy to have a thin large display surface, and has a relatively wide viewing angle and a fast response speed comparable to a cathode-ray tube. Therefore, it is considered as an image display device replacing the cathode-ray tube.

【0004】また、上記のVFDは、気密空間に面する
平板の一面上に複数個の陽極およびその陽極上に固着さ
れた蛍光体層とを備えると共に、気密空間内のその一面
から離隔した位置に陰極を備えたものであり、陰極から
発生する電子を蛍光体層に衝突させることにより、その
蛍光体層を選択的に発光させるものである。このような
VFDは、陰極から発生した電子が衝突させられる蛍光
体層の表面が表示側に位置するために動作電圧が低く鮮
明に表示されると共に、発光色の異なる蛍光体層を用意
することによりカラー表示が可能となる等の特徴がある
ため、音響機器や自動車の表示パネルの表示部品として
多用されている。
The above-mentioned VFD has a plurality of anodes and a phosphor layer fixed on the anode on one surface of a flat plate facing the airtight space, and is located at a position separated from the one surface in the airtight space. In addition, a cathode is provided, and electrons generated from the cathode collide with the phosphor layer to selectively emit light from the phosphor layer. In such a VFD, the operating voltage is low and the display is clear because the surface of the phosphor layer on which electrons generated from the cathode collide is located on the display side, and a phosphor layer having a different emission color is prepared. Therefore, it is often used as a display component of an audio device or a display panel of an automobile because it has a feature of enabling color display.

【0005】上記のようなVFDにおいては、陽極上の
蛍光体層の発光を制御するためのグリッド電極が蛍光体
層の制御単位毎に備えられる。所定のグリッド電極に正
電圧が印加された場合には、陰極から発生させられた電
子がグリッド電極によって加速され、そのグリッド電極
に対応する位置にある陽極上の蛍光体層に衝突させられ
てその蛍光体層が発光させられるが、所定のグリッド電
極に負電圧が印加された場合には、陰極から発生させら
れた電子が遮蔽されて、そのグリッド電極に対応する位
置にある陽極上の蛍光体層を発光させないようにする。
In the above-described VFD, a grid electrode for controlling light emission of the phosphor layer on the anode is provided for each control unit of the phosphor layer. When a positive voltage is applied to a predetermined grid electrode, electrons generated from the cathode are accelerated by the grid electrode and collide with the phosphor layer on the anode located at a position corresponding to the grid electrode, thereby causing The phosphor layer emits light, but when a negative voltage is applied to a predetermined grid electrode, electrons generated from the cathode are shielded, and the phosphor on the anode at a position corresponding to the grid electrode is shielded. The layer does not emit light.

【0006】上記グリッド電極は様々な構造が考えられ
ており、例えば、特開昭62−290050号公報に記
載されているVFDに用いられているものは、その一例
である。このVFDにおいては、蛍光体層の周囲にリブ
状壁が設けられてグリッド電極はその頂部に形成され、
このグリッド電極の内側に位置する蛍光体層単位に発光
が制御される。この技術によれば、従来用いられていた
メッシュ状グリッド電極のように蛍光体層からの発光を
遮ることないため比較的高い輝度が得られると共に、グ
リッド電極が従来と同様比較的高い位置に設けられて陰
極と陽極との間に位置させられるため、十分な加速遮蔽
作用が得られるという特徴がある。
Various structures are considered for the grid electrode. For example, one used for a VFD described in Japanese Patent Application Laid-Open No. Sho 62-290050 is one example. In this VFD, a rib-like wall is provided around a phosphor layer, and a grid electrode is formed on the top of the rib-like wall.
Light emission is controlled for each phosphor layer located inside the grid electrode. According to this technology, a relatively high luminance can be obtained because the light emission from the phosphor layer is not blocked unlike the conventionally used mesh grid electrode, and the grid electrode is provided at a relatively high position as in the past. Since it is positioned between the cathode and the anode, there is a feature that a sufficient acceleration shielding effect can be obtained.

【0007】[0007]

【発明が解決すべき課題】上記従来のPDPおよびVF
Dは、何れも一面が気密空間に面する平板と、その平板
の一面上に立設されてその一面を区分するリブ状壁とを
備えたものである。このリブ状壁は、例えば、以下のよ
うな方法によって形成される。 所定のパターンの厚膜スクリーンを用いて、厚膜絶
縁ペーストを印刷積層するスクリーン印刷法。 全面ベタに印刷積層或いはブレード等によりコート
した厚膜絶縁ペースト上に、所定のパターンのマスクを
形成して、ガラスビーズブラスト等によって不要な部分
の厚膜絶縁ペーストを除去するドライエッチング法。 リブ状壁の反転パターンに形成されたフォトレジス
ト膜間の凹部に厚膜絶縁ペーストを充填した後、フォト
レジスト膜を除去するリフトオフ法。 感光性材料(フォトレジスト)を添加した厚膜絶縁
ペーストを、全面ベタに印刷積層或いはブレード等によ
りコートし、パターン形成するフォトリソ法。
The above-mentioned conventional PDP and VF
D includes a flat plate having one surface facing the airtight space, and a rib-like wall standing on the one surface of the flat plate to partition the one surface. This rib-like wall is formed, for example, by the following method. A screen printing method in which a thick film insulating paste is printed and laminated using a thick film screen having a predetermined pattern. A dry etching method in which a mask having a predetermined pattern is formed on a thick film insulating paste which is entirely printed and laminated by a blade or the like, and unnecessary portions of the thick film insulating paste are removed by glass bead blasting or the like. A lift-off method in which a thick-film insulating paste is filled into recesses between photoresist films formed in a reverse pattern of rib-like walls, and then the photoresist film is removed. A photolithography method in which a thick film insulating paste to which a photosensitive material (photoresist) is added is coated on the entire surface by printing and laminating or coated with a blade to form a pattern.

【0008】上記の厚膜絶縁ペーストとしては、例え
ば、低融点ガラスのような無機結合剤に、適当な充填材
(すなわちフィラー:例えばアルミナ,ジルコニア,チ
タン酸鉛,チタン酸バリウム等、或いは焼成温度に対し
て高い軟化点を持つガラス等)が添加されたものが用い
られる。この充填材は、以下の目的で添加されるもので
ある。 厚膜絶縁ペーストのレオロジーを制御して、膜形成
条件,乾燥条件,焼成条件等のばらつきを吸収する。 焼成時の無機結合剤の軟化による厚膜パターン収縮
を抑制し、焼成残存率(リブ状壁にあっては[焼成後の
体積/印刷乾燥後焼成前の体積])のばらつきを小さく
する。これにより、気密空間内で均一表示させるための
所定の寸法精度(例えばPDPにおいては放電ギャッ
プ、VFDにおいてはアノード・グリッド間ギャップ)
や、視野角度を均一とするための断面形状精度が確保で
きて、表示特性が得られる。 スクリーン印刷法においては、印刷パターンの保形
性を得ると共に積層回数を少なくする。 ドライエッチング法においては、ブラストによる除
去効率を高める。 リフトオフ法においては、ペーストの粘性或いは基
板との密着強度を調整して、均一なペースト充填を可能
とする。 フォトリソ法においては、解像性を制御する。
As the above thick film insulating paste, for example, an inorganic binder such as a low melting point glass, a suitable filler (ie, a filler such as alumina, zirconia, lead titanate, barium titanate, etc., or a sintering temperature) To which glass having a high softening point is added. This filler is added for the following purpose. The rheology of the thick insulating paste is controlled to absorb variations in film forming conditions, drying conditions, firing conditions, and the like. The thick film pattern shrinkage due to the softening of the inorganic binder at the time of baking is suppressed, and the variation in the baking residual ratio (for rib-shaped walls, [volume after baking / volume after printing / drying and before baking]) is reduced. Thereby, a predetermined dimensional accuracy for uniform display in an airtight space (for example, a discharge gap in PDP, an anode-grid gap in VFD)
In addition, the cross-sectional shape accuracy for making the viewing angle uniform can be secured, and display characteristics can be obtained. In the screen printing method, shape retention of a printed pattern is obtained and the number of laminations is reduced. In the dry etching method, the removal efficiency by blasting is increased. In the lift-off method, the paste can be uniformly filled by adjusting the viscosity of the paste or the adhesive strength with the substrate. In the photolithography method, the resolution is controlled.

【0009】上記の厚膜絶縁ペーストは、充填材の添加
比率を高くするに従って、焼成残存率が高くなると共
に、材料効率が向上する。この効果は、特にスクリーン
印刷法による場合に顕著であるが、その他の製法におい
ても製造効率が向上する。しかし、その一方、焼成後の
リブ状壁には、充填材の添加比率に比例して多数の微細
な開口が形成され、その表面積が大きくなる。
In the above-mentioned thick film insulating paste, the higher the proportion of the filler added, the higher the firing residual ratio and the higher the material efficiency. This effect is particularly remarkable in the case of the screen printing method, but the manufacturing efficiency is also improved in other manufacturing methods. However, on the other hand, a large number of fine openings are formed in the fired rib-shaped wall in proportion to the addition ratio of the filler, and the surface area thereof becomes large.

【0010】前記PDPやVFD等のように気密空間内
で電子放出させ、直接或いは間接に発光させる画像表示
装置においては、その気密空間内に不純ガスがあると、
PDPでは放電のための不活性ガスの純度が低下し、V
FDでは真空度が低下する。また、何れにおいても電極
や蛍光体が劣化させられて、発光・表示品質が低下す
る。したがって、気密空間内の不純ガスは可及的に少な
くされることが必要である。ところが、上記のようにリ
ブ状壁が多孔質に形成されていると、微細な開口内に、
焼成過程で分解されなかった厚膜印刷ペースト中のバイ
ンダ成分(すなわち、未燃焼成分)が内包されたり、水
分や二酸化炭素等のガスが吸着され、不活性ガス封入或
いは真空処理の後に、未燃焼成分に含まれるガスや吸着
されたガス(すなわち、不純ガス)が、微細な開口を通
して徐々に気密空間内に放出されることとなるという問
題があった。そのため、これらを気密空間の形成過程に
おいて、例えば、加熱等することによって除去する必要
があるが、材料や工程上の制約から十分に脱ガスできる
温度まで加熱することができないのである。
In an image display device such as the PDP or VFD, which emits electrons in an airtight space and emits light directly or indirectly, when an impurity gas is present in the airtight space,
In a PDP, the purity of an inert gas for discharge is reduced, and
In FD, the degree of vacuum decreases. In any case, the electrodes and the phosphor are deteriorated, and the light emission / display quality is deteriorated. Therefore, it is necessary to reduce impurity gas in the hermetic space as much as possible. However, if the rib-like wall is formed porous as described above,
Binder components (that is, unburned components) in the thick-film printing paste that have not been decomposed during the firing process are included, and gases such as moisture and carbon dioxide are adsorbed, and unburned after filling with an inert gas or vacuum processing. There is a problem that the gas contained in the components and the adsorbed gas (that is, the impure gas) are gradually released into the hermetic space through the fine openings. Therefore, in the process of forming the hermetic space, it is necessary to remove them by heating, for example, but it is not possible to heat them to a temperature at which degassing can be sufficiently performed due to restrictions on materials and processes.

【0011】これに対して、リブ状壁を緻密質に形成す
れば、リブ状壁にガスが吸着され難く、且つ内包される
未燃焼成分に含まれるガスが気密空間へ出難いため、気
密空間内に不純ガスが放出されるという問題は生じない
が、緻密質のリブ状壁を形成するためには、焼成残存率
が比較的低い厚膜絶縁ペーストを用いることが必要とな
る。そのため、印刷積層回数が多くなって製造効率が低
下すると共に、焼成時の変形が大きくなって高い形状精
度が得られなくなる。しかも、緻密質のリブ状壁では、
ドライエッチング法等による処理が困難となるという問
題が生じるのである。
On the other hand, if the rib-like wall is formed densely, the gas is hardly adsorbed on the rib-like wall, and the gas contained in the unburned components contained therein does not easily flow into the air-tight space. There is no problem that the impurity gas is released into the inside, but in order to form a dense rib-like wall, it is necessary to use a thick-film insulating paste having a relatively low firing residual ratio. For this reason, the number of times of printing and lamination increases, and the manufacturing efficiency is reduced. In addition, the deformation at the time of firing is increased, and high shape accuracy cannot be obtained. Moreover, with a dense ribbed wall,
This causes a problem that processing by dry etching or the like becomes difficult.

【0012】本発明は、以上の事情を背景として為され
たものであって、その目的とするところは、高い製造効
率および形状精度を維持し、且つ、気密空間内への不純
ガス放出を好適に抑制し得るリブ状壁を備えた画像表示
装置およびその製造方法を提供することにある。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and it is an object of the present invention to maintain high production efficiency and shape accuracy and to discharge impurity gas into an airtight space. It is an object of the present invention to provide an image display device having a rib-like wall which can be suppressed to a low level and a method of manufacturing the same.

【0013】[0013]

【課題を解決するための第1の手段】斯かる目的を達成
するための第1発明の要旨とするところは、一面が気密
空間に面する平板と、その平板の一面上に立設されてそ
の一面を区分するリブ状壁と、そのリブ状壁の表面にペ
ーストから生成された層とを備えて、その気密空間内の
リブ状壁に囲まれた一部から選択的に発光させることに
より所望の画像を表示させる形式の画像表示装置であっ
て、前記リブ状壁が、比較的多孔質の本体部と、その本
体部の表面に設けられた比較的緻密質の被覆層と、その
被覆層の表面の所定部分に設けられたその被覆層よりも
多孔質とされた厚み制御層とを含むことにある。
A first aspect of the present invention for achieving the object is to provide a flat plate having one surface facing an airtight space and a flat plate standing on one surface of the flat plate. A rib-shaped wall that divides one surface, and a paper
And a layer produced from paste, an image display device of the type for displaying a desired image by causing selectively emitted from a portion surrounded by the rib-like walls of the airtight space, the ribs The wall is a relatively porous body, a relatively dense coating layer provided on the surface of the body ,
Than the coating layer provided on a predetermined part of the surface of the coating layer
And a porous thickness control layer .

【0014】[0014]

【作用および第1発明の効果】このようにすれば、リブ
状壁は比較的多孔質の本体部の表面比較的緻密質の被
覆層で覆われているため、画像表示装置の気密空間内に
は表層部が比較的緻密質とされたリブ状壁が備えられ
る。したがって、その表層部にはガスが吸着されず、ま
た、本体部の微細な開口内に厚膜印刷ペースト中の未燃
焼成分が内包され、或いは水分や二酸化炭素等のガスが
吸着されている場合にも、気密空間内に不純ガスが放出
されることが被覆層によって妨げられる。しかも、リブ
状壁の本体部は多孔質とされているため、従来と同様に
焼成残存率が高い材料を用いることができる。リブ状壁
の表層部が緻密質とされていれば、本体部の微細な開口
内に内包された未燃焼成分中のガスや吸着ガス等の不純
ガスが、気密空間内へ放出されることが抑制されるた
め、本体部を構成する材料は特性面からは制限されない
のである。したがって、高い製造効率および形状精度を
維持し、且つ、気密空間内への不純ガス放出を好適に抑
制し得るリブ状壁を備えた画像表示装置が得られる。
に、被覆層表面の所定部分にはそれよりも多孔質の厚み
制御層が設けられていることから、リブ状壁の表面にペ
ーストを用いて何らかの層を形成する際に、厚み制御層
の表面においてはペーストの流動抵抗が高くされるた
め、リブ状壁の表面においてその厚みを大きく制御する
ことが可能である。例えば、リブ状壁の表面および平板
の一面に蛍光体層を設ける場合には、リブ状壁の側壁面
の上部のみに厚み制御層を設けることにより、蛍光体ペ
ーストの厚みを略均一とすることが可能となる。
[Function and Effect of the first invention] In this way, the rib-like wall is relatively Since the porous surface of the body portion of the is covered with a relatively dense coating layer, the airtight space of the image display device Is provided with a rib-like wall having a relatively dense surface layer. Therefore, when the gas is not adsorbed to the surface layer portion, the unburned component in the thick film printing paste is included in the fine opening of the main body portion, or the gas such as moisture or carbon dioxide is adsorbed. In addition, the coating layer prevents the release of the impurity gas into the hermetic space. Moreover, since the main body of the rib-like wall is made porous, a material having a high residual firing rate can be used as in the conventional case. If the surface layer of the rib-shaped wall is dense, impure gas such as gas in unburned components and adsorbed gas contained in the fine opening of the main body may be released into the hermetic space. Because of the suppression, the material constituting the main body is not limited in terms of characteristics. Therefore, it is possible to obtain an image display device having a rib-like wall that can maintain high manufacturing efficiency and shape accuracy and can appropriately suppress the release of impurity gas into the hermetic space. Change
In addition, a predetermined portion of the surface of the coating layer has a more porous thickness.
Because the control layer is provided, the surface of the rib-shaped wall is
When forming any layer using a paste, the thickness control layer
The flow resistance of the paste was increased on the surface of
Control the thickness of the rib-like wall surface
It is possible. For example, ribbed wall surfaces and flat plates
When a phosphor layer is provided on one side, the side wall surface of the rib-like wall
By providing a thickness control layer only on top of
The thickness of the paste can be made substantially uniform.

【0015】[0015]

【課題を解決するための第2の手段】また、前記の目的
を達成するための第2発明の要旨とするところは、一面
が気密空間に面する平板と、その平板の一面上に立設さ
れてその一面を区分するリブ状壁とを備えて、その気密
空間内のリブ状壁に囲まれた一部から選択的に発光させ
ることにより所望の画像を表示させる形式の画像表示装
置の製造方法であって、前記リブ状壁が、(a) 所定の高
さの比較的多孔質の本体部を形成する本体部形成工程
と、(b) その形成された本体部の上端面に、焼成後に比
較的緻密質となる厚膜絶縁ペーストを所定の厚みで載置
する載置工程と、(c) その本体部の上端面に平行な方向
へスキージを走査して、その上端面に載置された厚膜絶
縁ペーストを掻き落とすことにより、その本体部の側壁
面をその厚膜絶縁ペーストで被覆する被覆工程と、(d)
その厚膜絶縁ペーストから比較的緻密質の被覆層を加熱
生成する加熱工程とを、含む工程により形成されること
にある。
A second aspect of the present invention for achieving the above object is to provide a flat plate having one surface facing an airtight space, and an upright standing on one surface of the flat plate. Manufacturing of an image display device of a type in which a desired image is displayed by selectively emitting light from a part surrounded by the rib-shaped wall in the hermetic space. The method, wherein the rib-like wall is: (a) forming a main body portion having a predetermined height and forming a relatively porous main body portion; and (b) firing the upper end surface of the formed main body portion. (C) scanning a squeegee in a direction parallel to the upper end surface of the main body, and placing the thick film insulating paste on the upper end surface thereof. By scraping off the thick-film insulating paste, the side wall surface of the main body is removed from the thick-film insulating paste. And in the coating step of coating, (d)
And a heating step of heating and generating a relatively dense coating layer from the thick film insulating paste.

【0016】[0016]

【作用】このようにすれば、画像表示装置のリブ状壁
は、本体部形成工程において比較的多孔質の本体部を形
成し、載置工程においてその本体部の上端面に所定の厚
みの厚膜ペーストを載置し、被覆工程においてその本体
部の上端面に平行な方向へスキージを走査して厚膜絶縁
ペーストを掻き落とすことによりその本体部の側壁面を
厚膜絶縁ペーストで被覆し、更に、加熱工程において加
熱して厚膜絶縁ペーストから比較的緻密質の被覆層を生
成することで形成される。この場合において、適切な粘
性に調整された厚膜絶縁ペーストは、スキージで掻き落
とすことにより、本体部の側壁面に沿って下方に向かっ
て流動させられるが、その側壁面が多孔質とされてその
表面における流動抵抗が高いため、その側壁面に一部が
固着されながら流下させられる。
In this way, the rib-like wall of the image display device forms a relatively porous main body in the main body forming step, and has a predetermined thickness on the upper end surface of the main body in the mounting step. The film paste is placed, and in the coating step, the squeegee is scanned in a direction parallel to the upper end surface of the main body to scrape off the thick insulating paste, thereby covering the side wall surface of the main body with the thick insulating paste, Further, it is formed by heating in a heating step to form a relatively dense coating layer from the thick film insulating paste. In this case, the thick-film insulating paste adjusted to an appropriate viscosity is caused to flow downward along the side wall surface of the main body by scraping off with a squeegee, but the side wall surface is made porous. Since the flow resistance on the surface is high, the flow is caused to flow down while being partially fixed to the side wall surface.

【0017】[0017]

【第2発明の効果】上記により、前記第1発明に示した
比較的多孔質の本体部と比較的緻密質の被覆層とを含む
リブ状壁、すなわち、高い形状精度および高い製造効率
を維持し、且つ、気密空間内への不純ガス放出を好適に
抑制し得るリブ状壁を備えた画像表示装置が得られる。
なお、上記の本体部形成工程は、例えば前述のスクリー
ン印刷法やドライエッチング法等の従来から一般的に行
われている種々の手法が用いられ得る。
As described above, the rib-shaped wall including the relatively porous main body and the relatively dense coating layer shown in the first invention, that is, high shape accuracy and high production efficiency are maintained. In addition, an image display device having a rib-like wall capable of suitably suppressing the release of impurity gas into the hermetic space can be obtained.
In addition, in the above-mentioned main body portion forming step, for example, various methods generally used conventionally, such as the above-described screen printing method and dry etching method, can be used.

【0018】ここで、好適には、前記第1発明および第
2発明において、前記リブ状壁の被覆層は鉛(Pb)お
よびアルカリ成分(Na等)を含まない低融点ガラスか
ら形成される。鉛やアルカリ成分は、一般に、融点の調
節や製造コストの低減の目的で低融点ガラスに添加され
て、PbO或いはNaO等として存在するものである
が、これらの元素は単元素化或いはイオン化することに
より、画像表示装置の構造,電気的駆動条件や信頼性面
で障害を与える可能性があることから、電子部品として
好ましくないものである。上記のようにすれば、被覆層
にそのような元素が含まれていないため、画像表示装置
が用いられるに際して、鉛元素が存在することによる放
電特性や絶縁性の低下、アルカリ成分が存在することに
よるマイグレーション加速から生じる絶縁信頼性の低下
等を好適に抑制できる。
Here, in the first and second aspects of the present invention, preferably, the coating layer of the rib-like wall is formed of a low-melting glass that does not contain lead (Pb) and an alkali component (such as Na). Lead and alkali components are generally added to low-melting glass for the purpose of adjusting the melting point and reducing manufacturing costs, and are present as PbO, NaO, or the like. Therefore, there is a possibility that a failure may occur in the structure, electric driving conditions, and reliability of the image display device, so that it is not preferable as an electronic component. According to the above, since such an element is not contained in the coating layer, when an image display device is used, the discharge characteristics and insulation properties are reduced due to the presence of the lead element, and the presence of an alkali component is present. Therefore, it is possible to preferably suppress a decrease in insulation reliability and the like caused by acceleration of the migration.

【0019】[0019]

【0020】[0020]

【実施例】以下、本発明の一実施例を図面を参照して説
明する。なお、以下の説明において、図面の各部の寸法
の比率等は必ずしも正確に描かれたものではない。
An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. In the following description, dimensional ratios and the like of each part in the drawings are not necessarily drawn accurately.

【0021】図1は、本発明の画像表示装置の一実施例
であるDC型PDP10の構造を示す図である。DC型
PDP10は、例えばガラス平板から成り、透光性を有
する前面板12と、同様にガラス平板から成る背面板1
4と、それら前面板12と背面板14との間に互いに平
行な複数本の放電空間16を形成する複数本の長手状の
隔壁18とを備えて構成されている。隔壁18の間隔す
なわち放電空間16の幅は0.3〜2.0mm程度とさ
れ、また、隔壁の高さは100〜500μm程度とされ
ている。本実施例においては、上記の背面板14が平板
に、放電空間16が気密空間に、隔壁18がリブ状壁に
それぞれ相当する。
FIG. 1 is a diagram showing the structure of a DC PDP 10 which is an embodiment of the image display device of the present invention. The DC PDP 10 is made of, for example, a glass plate, and has a front plate 12 having a light-transmitting property and a back plate 1 made of a glass plate.
4 and a plurality of elongated partition walls 18 forming a plurality of parallel discharge spaces 16 between the front plate 12 and the back plate 14. The interval between the partition walls 18, that is, the width of the discharge space 16 is about 0.3 to 2.0 mm, and the height of the partition wall is about 100 to 500 μm. In this embodiment, the back plate 14 corresponds to a flat plate, the discharge space 16 corresponds to an airtight space, and the partition 18 corresponds to a rib-like wall.

【0022】上記の前面板12の背面板14側に位置す
る内面には、前記隔壁18と直交する方向が長手方向と
された複数本のトリガー電極20が誘電体層22によっ
てそれぞれ覆われた状態で設けられており、その誘電体
層22の表面にはトリガー電極20に沿ってその幅方向
にややずれた状態で複数本のカソード電極24が設けら
れている。上記トリガー電極20およびカソード電極2
4は、何れもそれぞれ略等間隔に配列形成されていると
共に、誘電体層22によって絶縁させられており、これ
によりトリガー電極20とカソード電極24との間の交
流放電(トリガー放電)が可能とされている。
A plurality of trigger electrodes 20 whose longitudinal direction is orthogonal to the partition wall 18 are covered by a dielectric layer 22 on the inner surface of the front plate 12 located on the rear plate 14 side. On the surface of the dielectric layer 22, a plurality of cathode electrodes 24 are provided along the trigger electrode 20 in a slightly shifted state in the width direction. The trigger electrode 20 and the cathode electrode 2
4 are arranged at substantially equal intervals, and are insulated by a dielectric layer 22. This enables an AC discharge (trigger discharge) between the trigger electrode 20 and the cathode electrode 24. Have been.

【0023】上記のトリガー電極20は、例えばAg,
Au,Al等の導電体を厚膜印刷することにより、例え
ば 0.5〜15μm 程度の厚さに形成されたものであり、誘
電体層22は、例えば低軟化点ガラス等を同様に厚膜印
刷することにより、例えばトリガー電極20上の厚みが
20〜60μm 程度に形成されたものである。また、上記カ
ソード電極24は、例えば幅 0.1〜0.5mm 程度、厚さ 5
〜50μm 程度の寸法に、Ni(ニッケル),Al(アル
ミニウム)等の導電体を厚膜印刷して形成されたもので
あり、複数本のカソード電極24相互の間隔すなわち隣
接するカソード電極24の中心間距離は例えば 0.3〜2.
0mm 程度とされている。
The trigger electrode 20 is made of, for example, Ag,
The conductive layer such as Au, Al or the like is formed to a thickness of, for example, about 0.5 to 15 μm by thick-film printing, and the dielectric layer 22 is similarly formed of a low-softening point glass or the like by a thick-film printing. Thereby, for example, the thickness on the trigger electrode 20 becomes
It is formed to about 20 to 60 μm. The cathode electrode 24 has, for example, a width of about 0.1 to 0.5 mm and a thickness of about 5 mm.
It is formed by printing a thick film of a conductor such as Ni (nickel) or Al (aluminum) to a size of about 50 μm, and is formed between a plurality of cathode electrodes 24, that is, the center of adjacent cathode electrodes 24. The distance is, for example, 0.3-2.
It is about 0mm.

【0024】また、前記背面板14上には、前記複数の
隔壁18に沿ってその間の位置に、複数本のアノード電
極26がそれぞれ等間隔に配列形成されている。すなわ
ち、カソード電極24とアノード電極26とは互いに直
交してマトリックス状に配列されており、このカソード
電極24とアノード電極26との交点がPDP10の1
ドットに相当する。上記アノード電極26は例えば幅
0.1〜0.5mm 程度、厚さ0.05〜0.5 μm 程度の寸法に、
カソード電極24と同様にNi,Al等を厚膜印刷して
形成されたものであり、複数本のアノード電極26相互
の間隔は例えば 0.3〜2.0mm 程度とされている。
On the back plate 14, a plurality of anode electrodes 26 are arranged at equal intervals along the plurality of partitions 18 at positions therebetween. That is, the cathode electrode 24 and the anode electrode 26 are arranged in a matrix at right angles to each other, and the intersection of the cathode electrode 24 and the anode electrode 26 is one of the PDPs 10.
Equivalent to a dot. The anode electrode 26 has, for example, a width
Dimensions of about 0.1 to 0.5 mm, thickness of about 0.05 to 0.5 μm,
Like the cathode electrode 24, it is formed by printing a thick film of Ni, Al, or the like, and the interval between the plurality of anode electrodes 26 is, for example, about 0.3 to 2.0 mm.

【0025】また、前記隔壁18は、低軟化点ガラスか
ら形成されてものであり、図2に断面を拡大して示すよ
うに、例えば気孔率15〜70%程度の微細な開口を多数有
する比較的多孔質の本体部28と、その本体部28を覆
う例えば厚み 2〜10μm 程度、気孔率 0〜30%程度の比
較的緻密質の被覆層30とから構成されている。
The partition wall 18 is made of glass having a low softening point. As shown in an enlarged cross section in FIG. 2, the partition wall 18 has a large number of fine openings having a porosity of about 15 to 70%. It comprises a porous main body 28 and a relatively dense coating layer 30 covering the main body 28, for example, having a thickness of about 2 to 10 μm and a porosity of about 0 to 30%.

【0026】本体部28は、例えば、従来から隔壁18
の材料として一般的に用いられている鉛ガラスに、所定
量(例えば50wt%程度)のアルミナ等の充填材(フィラ
ー)と、粘性を得るための有機成分(樹脂と溶剤)とを
添加することによって調整されたガラスペーストから形
成される。所定の版を用いた厚膜スクリーン印刷によっ
て印刷・乾燥を繰り返して、背面板14上に上記のガラ
スペーストを所定の高さまで積層した後に、所定の温度
で焼成することにより本体部28が形成される。上記充
填材は、ガラスペーストの粘性調整、厚膜印刷パターン
の保形性確保、本体部28の焼成残存率を高くすること
によって、形状精度を得ると共に印刷積層回数を減じて
製造効率を高める等の目的で添加されているものであ
り、これにより、上述のように本体部28は気孔率15〜
70%程度の多孔質とされているのである。本実施例にお
いては、上記印刷積層する工程および焼成工程が本体部
形成工程に相当する。
The main body 28 is made of, for example,
A certain amount (for example, about 50 wt%) of a filler such as alumina and an organic component (resin and solvent) for obtaining viscosity are added to lead glass generally used as a material for Formed from the adjusted glass paste. The main body 28 is formed by repeating printing and drying by thick film screen printing using a predetermined plate, laminating the above-mentioned glass paste on the back plate 14 to a predetermined height, and firing at a predetermined temperature. You. The above-mentioned filler obtains shape accuracy by reducing the viscosity of the glass paste, ensuring the shape retention of the thick film printing pattern, and increasing the firing residual ratio of the main body 28, and also reduces the number of times of printing and laminating to increase the manufacturing efficiency. Therefore, the main body 28 has a porosity of 15 to
It is about 70% porous. In the present embodiment, the printing and laminating step and the baking step correspond to a main body part forming step.

【0027】一方、被覆層30は、例えば以下のように
して形成される。先ず、例えば特開平3−196441
号公報に記載されている(例えば、第3頁上左欄第13
行乃至同頁下左欄第12行参照)高アスペクト比のスペ
ーサ(リブ状壁)の製造方法を利用して、図3(a) に示
すように、上記の本体部28の上端面32に、焼成後に
比較的緻密質となる低融点ガラスペースト34を例えば
5〜20μm 程度の厚みで載置する。上記公報に記載され
ている技術は、予め形成されたスペーサ基体(本実施例
においては本体部30に相当する)上に、スペーサ基体
の幅よりも広いスペーサのパターン或いは全面ベタの印
刷面を持つ版を用いてペーストを印刷するものである。
スキージの移動に従って版がスペーサ基体の上端面に接
触させられると、スクリーン印刷の特性により、その接
触した上端面にのみペーストが塗布されるのである。
On the other hand, the coating layer 30 is formed, for example, as follows. First, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 3-196441
(Eg, page 13, upper left column, thirteenth
(See line 12 to line 12 in the lower left column of the same page.) As shown in FIG. 3A, the upper end face 32 of the main body 28 is formed by using a method of manufacturing a spacer (rib-like wall) having a high aspect ratio. A low-melting glass paste 34 that becomes relatively dense after firing is
Place with a thickness of about 5 to 20 μm. According to the technique described in the above publication, a spacer pattern wider than the width of the spacer base or a solid printing surface is provided on a spacer base formed in advance (corresponding to the main body 30 in this embodiment). The paste is printed using a plate.
When the plate is brought into contact with the upper end surface of the spacer base as the squeegee moves, the paste is applied only to the upper end surface in contact with the spacer due to the characteristics of screen printing.

【0028】なお、上記低融点ガラスペースト34は、
例えば、鉛(Pb)やアルカリ分(Na等)を含まない
Bi2O3−ZnO −B2O3−SiO2系ガラス等に、粘性を得るた
めの有機成分(樹脂と溶剤)が添加されたものであり、
上記の本体部28のような多量の充填材は添加されてい
ないものが用いられる。充填材の添加は、主として着色
および粘性調整のために必要な最小限の量とされる。ま
た、上記載置される低融点ガラスペースト34の厚み
は、本体部28の寸法や形成する被覆層30の厚みに応
じて適宜設定されるものである。本実施例においては、
上記の図3(a) に示される上端面32に低融点ガラスペ
ースト34を載置する工程が載置工程に対応する。
The low melting point glass paste 34 is
For example, it does not contain lead (Pb) or alkali (Na, etc.)
The Bi 2 O 3 -ZnO -B 2 O 3 -SiO 2 based glass or the like, which organic component for obtaining a viscosity (resin and solvent) is added,
A material to which a large amount of filler such as the above-described main body 28 is not added is used. The addition of the filler is the minimum amount necessary mainly for coloring and adjusting the viscosity. The thickness of the low-melting glass paste 34 placed above is appropriately set according to the dimensions of the main body 28 and the thickness of the coating layer 30 to be formed. In this embodiment,
The step of placing the low-melting glass paste 34 on the upper end face 32 shown in FIG. 3A corresponds to the placing step.

【0029】そして、図3(b) に示すように、スキージ
36を図の矢印方向すなわち本体部28の長手方向と直
交し、且つ、その上端面32に平行な方向(水平方向)
へ移動させる。このとき、スキージ36の先端は、その
弾性や低融点ガラスペースト34の粘性等によって、上
端面32と所定の僅かな間隔dを保った状態とされる。
これにより、低融点ガラスペースト34は、本体部28
の上端面32から掻き落とされ、図に示されるように、
重力とその粘性に従って本体部28の側壁面38に沿っ
て流下し、スキージ36の進行方向前方側の側壁面38
を覆う。更に、図3(b) に示される方向とは反対方向に
スキージ36を移動させることにより、反対側の側壁面
38に低融点ガラスペースト34が掻き落とされ、本体
部28の側壁面38全体が低融点ガラスペースト34に
よって覆われる。なお、上記の反対方向へのスキージ3
6の移動に先立って、必要に応じて再度前記の手法によ
って上端面32に低融点ガラスペースト34が載置され
る。
Then, as shown in FIG. 3B, the squeegee 36 is moved in a direction (horizontal direction) perpendicular to the arrow direction in the figure, that is, perpendicular to the longitudinal direction of the main body 28 and parallel to the upper end surface 32 thereof.
Move to At this time, the tip of the squeegee 36 is kept at a predetermined slight distance d from the upper end face 32 due to its elasticity, the viscosity of the low-melting glass paste 34, and the like.
Thereby, the low melting point glass paste 34 is applied to the main body 28.
Is scraped off from the upper end surface 32 of the
The squeegee 36 flows down along the side wall surface 38 of the main body 28 in accordance with the gravity and the viscosity of the squeegee 36 in the traveling direction of the squeegee 36.
Cover. Further, by moving the squeegee 36 in the direction opposite to the direction shown in FIG. 3 (b), the low melting point glass paste 34 is scraped off on the opposite side wall surface 38, and the entire side wall surface 38 of the main body 28 is removed. It is covered with the low melting point glass paste 34. The squeegee 3 in the opposite direction as described above
Prior to the movement of 6, the low-melting glass paste 34 is placed on the upper end face 32 again by the above-described method as necessary.

【0030】この後、所定の温度で焼成することによ
り、低融点ガラスペースト34から被覆層30が生成さ
れる。本実施例においては、上記の図3(b) に示される
工程が被覆工程に、所定の温度で焼成する工程が加熱工
程にそれぞれ相当する。
Thereafter, the coating layer 30 is formed from the low-melting glass paste 34 by firing at a predetermined temperature. In the present embodiment, the step shown in FIG. 3B corresponds to the coating step, and the step of firing at a predetermined temperature corresponds to the heating step.

【0031】DC型PDP46は、上述のように前面板
12上にトリガー電極20,カソード電極24等を、背
面板14上にアノード電極26,隔壁18等を印刷・焼
成して形成した後に、それら前面板12と背面板14と
を図示しない周縁部において接合して製造されるもので
あり、放電空間16内には、例えばHe,Ne,Xe等
の放電ガスが200〜500torrの圧力で封入される。
The DC PDP 46 is formed by printing and firing the trigger electrode 20, the cathode electrode 24 and the like on the front plate 12 and the anode electrode 26 and the partition 18 on the back plate 14 as described above. It is manufactured by joining the front plate 12 and the back plate 14 at a peripheral portion (not shown), and a discharge gas such as He, Ne, Xe or the like is sealed in the discharge space 16 at a pressure of 200 to 500 torr. You.

【0032】以上のように構成されたDC型PDP46
は、以下のように駆動させられる。先ず、全トリガー電
極20に比較的高い負電圧を、全アノード電極26に所
定の正電圧を同時に短時間印加することにより、そのト
リガー電極20とアノード電極26との間で補助放電
(所謂トリガーセッティング)が発生し、トリガー電極
20を覆う誘電体層22の表面に電荷が蓄積される。そ
して、一旦両電極20,26への電圧の印加が停止され
た後に、カソード電極24に所定の負電圧を順次印加し
て走査すると共に、その走査に同期して所定のアノード
電極26に所定の正電圧を印加することにより、それら
電圧が印加されたカソード電極24およびアノード電極
26との間で主放電が発生させられ、それらの交点にお
いて順次発光が生じて所望の文字,図形,記号等の画像
が表示される。この場合において、カソード電極24に
負電圧が印加されることによってトリガー電極20との
間で誘電体層22を介してトリガー放電が発生させら
れ、これにより、カソード電極24とアノード電極26
との間の主放電電圧が低くされている。
The DC PDP 46 constructed as described above
Is driven as follows. First, by applying a relatively high negative voltage to all the trigger electrodes 20 and a predetermined positive voltage to all the anode electrodes 26 simultaneously for a short time, an auxiliary discharge (so-called trigger setting) between the trigger electrodes 20 and the anode electrodes 26 is performed. ) Occurs, and charges are accumulated on the surface of the dielectric layer 22 covering the trigger electrode 20. Then, once the application of the voltage to both electrodes 20 and 26 is stopped, a predetermined negative voltage is sequentially applied to cathode electrode 24 to perform scanning, and a predetermined anode voltage is applied to predetermined anode electrode 26 in synchronization with the scanning. When a positive voltage is applied, a main discharge is generated between the cathode electrode 24 and the anode electrode 26 to which the voltages are applied, and light emission is sequentially generated at the intersection between the two, and a desired character, graphic, symbol, or the like is generated. The image is displayed. In this case, by applying a negative voltage to the cathode electrode 24, a trigger discharge is generated between the cathode electrode 24 and the trigger electrode 20 via the dielectric layer 22, whereby the cathode electrode 24 and the anode electrode 26
And the main discharge voltage between them is reduced.

【0033】ここで、本実施例においては、隔壁18
は、比較的多孔質の本体部28と、その本体部28の表
面(すなわち上端面32および側壁面38)を覆う比較
的緻密質の被覆層30とによって構成されていることか
ら、DC型PDP10の放電空間16内には、表層部が
比較的緻密質とされた隔壁18が備えられる。したがっ
て、その表層部にはガスが吸着されず、また、本体部2
8の微細な開口内にガラスペースト中の樹脂の未燃焼成
分が内包され、或いは水分や二酸化炭素等のガスが吸着
されている場合にも、放電ガス封入後に不純ガスが放電
空間16内へ放出されることが被覆層30に妨げられ
る。
Here, in the present embodiment, the partition 18
Is composed of a relatively porous main body 28 and a relatively dense coating layer 30 covering the surface of the main body 28 (that is, the upper end surface 32 and the side wall surface 38). In the discharge space 16, a partition 18 having a relatively dense surface layer is provided. Therefore, no gas is adsorbed on the surface layer, and the main body 2
Even when the unburned components of the resin in the glass paste are included in the fine openings of No. 8 or a gas such as moisture or carbon dioxide is adsorbed, the impure gas is discharged into the discharge space 16 after the discharge gas is filled. Is prevented by the coating layer 30.

【0034】しかも、隔壁18の本体部28は比較的多
孔質とされているため、従来と同様に焼成残存率が高い
材料を用いることができる。隔壁18は、表層部が緻密
質とされていれば、本体部28の微細な開口内に内包さ
れた未燃焼成分中のガスや吸着ガス等の不純ガスが、放
電空間16内へ放出されることが抑制されるため、本体
部28を構成する材料は特性面からは制限されないので
ある。したがって、高い製造効率および形状精度を維持
し、且つ、放電空間16内への不純ガス放出を好適に抑
制し得る隔壁18を備えたDC型PDP10が得られ
る。なお、被覆層にも樹脂等の未燃焼成分が残留し得る
が、その膜厚が前述のように 2〜10μm 程度と極めて薄
いことから樹脂が燃焼し易く、未燃焼成分が極めて微量
となって特に問題とならないのである。
In addition, since the main body 28 of the partition 18 is relatively porous, a material having a high residual firing rate can be used as in the prior art. As long as the surface layer portion of the partition wall 18 is dense, an impurity gas such as a gas in an unburned component or an adsorbed gas contained in a fine opening of the main body portion 28 is discharged into the discharge space 16. Therefore, the material constituting the main body 28 is not limited in terms of characteristics. Therefore, the DC PDP 10 having the partition walls 18 that can maintain high manufacturing efficiency and shape accuracy and can appropriately suppress the release of the impurity gas into the discharge space 16 can be obtained. Although unburned components such as resin may remain in the coating layer, the resin is easily burned because the film thickness is as thin as about 2 to 10 μm as described above, and the unburned components become extremely small. There is no particular problem.

【0035】また、本実施例によれば、比較的焼成残存
率が高い低融点ガラスペーストを印刷積層することによ
り本体部28を形成した後に、その本体部28の上端面
32に焼成後に比較的緻密質となる低融点ガラスペース
ト34を載置し、その上端面32と平行な方向へスキー
ジ36を走査して、その低融点ガラスペースト34を掻
き落とすと共に焼成することにより、本体部28の上端
面32および側壁面38が比較的緻密質の被覆層30で
覆われる。この場合において、適切な粘性に調整された
低融点ガラスペースト34は、スキージ36で掻き落と
すことにより、本体部28の側壁面38に沿って下方に
向かって流動させられるが、その側壁面38が多孔質と
されてその表面における流動抵抗が高いため、その側壁
面38に一部が固着されながら流下させられる。したが
って、焼成残存率が低い低融点ガラスを用いることに起
因する形状精度の低下や製造効率の低下を伴うことな
く、放電空間16内への不純ガスの放出を好適に抑制し
得る隔壁18を備えたDC型PDP10が得られる。
Further, according to the present embodiment, after the main body 28 is formed by printing and laminating a low melting point glass paste having a relatively high firing residual ratio, the main body 28 is formed on the upper end face 32 of the main body 28 after firing. The low-melting glass paste 34 which becomes dense is placed, and the squeegee 36 is scanned in a direction parallel to the upper end surface 32 to scrape the low-melting glass paste 34 and sinter it. The end surface 32 and the side wall surface 38 are covered with the relatively dense covering layer 30. In this case, the low-melting glass paste 34 adjusted to have an appropriate viscosity is caused to flow downward along the side wall surface 38 of the main body 28 by being scraped off with a squeegee 36. Since it is porous and has high flow resistance on its surface, it flows down while being partially fixed to the side wall surface 38. Therefore, the partition wall 18 is provided which can appropriately suppress the discharge of the impurity gas into the discharge space 16 without lowering the shape accuracy and lowering the manufacturing efficiency due to the use of the low melting point glass having a low residual firing rate. As a result, a DC type PDP 10 is obtained.

【0036】また、被覆層30を構成する低融点ガラス
は、鉛およびアルカリ成分を含まないものであるため、
隔壁18の表面に鉛が存在することによる放電特性や絶
縁性の低下、アルカリ成分が存在することによるマイグ
レーション加速から生じる絶縁信頼性の低下等が好適に
抑制される。
The low-melting glass forming the coating layer 30 does not contain lead and alkali components.
A decrease in discharge characteristics and insulation due to the presence of lead on the surface of the partition wall 18 and a decrease in insulation reliability resulting from acceleration of migration due to the presence of an alkali component are suitably suppressed.

【0037】また、被覆層30は、上端面32に載置さ
れた低融点ガラスペースト34をスキージ36で掻き落
とすことによって側壁面38表面に設けられることか
ら、印刷用スクリーンやメッシュを用いて、その側壁面
38表面に直接スクリーン印刷した場合に問題となる被
覆層30表面のピンホールの発生が好適に抑制されて、
放電空間16内への不純ガスの放出が一層確実に防止さ
れる。
Further, the coating layer 30 is provided on the surface of the side wall surface 38 by scraping off the low melting point glass paste 34 placed on the upper end surface 32 with a squeegee 36. The generation of pinholes on the surface of the coating layer 30, which is a problem when screen printing is performed directly on the side wall surface 38, is suitably suppressed,
Release of the impurity gas into the discharge space 16 is more reliably prevented.

【0038】次に、本発明の他の実施例を説明する。な
お、以下の実施例において前述の実施例と共通する部分
は同一の符号を付して説明を省略する。
Next, another embodiment of the present invention will be described. In the following embodiments, portions common to the above-described embodiments will be denoted by the same reference numerals and description thereof will be omitted.

【0039】図4は、DC型カラーPDP40の構造を
示す図である。このDC型カラーPDP40は、前面板
12と背面板14との間にマトリックス状に配列された
放電空間16を形成する格子状隔壁42を備えて構成さ
れている。本実施例においては、この放電空間16が1
ドットを構成する。すなわち、請求の範囲でいう『選択
的に発光させる』部分は、前述の実施例のように隔壁
(リブ状壁)18に囲まれた放電空間(気密空間)16
内の一部でも良く、本実施例のように気密空間内で格子
状隔壁42に囲まれた放電空間16が設けられて、その
放電空間16の単位毎(すなわち、気密空間の一部)で
あっても良いのである。
FIG. 4 is a diagram showing the structure of the DC type color PDP 40. The DC type color PDP 40 includes a grid-like partition wall 42 that forms the discharge spaces 16 arranged in a matrix between the front plate 12 and the back plate 14. In this embodiment, the discharge space 16 is 1
Make up the dots. That is, the "selectively emit light" portion in the claims is a discharge space (airtight space) 16 surrounded by a partition (rib-like wall) 18 as in the above-described embodiment.
The discharge space 16 surrounded by the lattice-shaped partition walls 42 is provided in the hermetic space as in the present embodiment, and the discharge space 16 is provided in units of the discharge space 16 (that is, a part of the hermetic space). It may be.

【0040】背面板14の前面板12側の内面には、そ
の全面を覆う例えば厚さ1〜10μm 程度のトリガー電
極44、およびそのトリガー電極44全面を覆う例えば
厚さ30〜60μm 程度の誘電体層46が設けられてい
る。本実施例においては、アノード電極26および前記
格子状隔壁42は、これらトリガー電極44および誘電
体層46を介して背面板14上に設けられている。な
お、本実施例においては、背面板14側に誘電体層46
およびトリガー電極44が設けられていることから、前
面板12の背面板14側の内面には、アノード電極26
と直交する方向に配列されたカソード電極24のみが設
けられている。
On the inner surface of the back plate 14 on the front plate 12 side, a trigger electrode 44 of, for example, about 1 to 10 μm in thickness covering the entire surface thereof, and a dielectric of, for example, about 30 to 60 μm in thickness covering the entire surface of the trigger electrode 44. A layer 46 is provided. In the present embodiment, the anode electrode 26 and the grid-like partition 42 are provided on the back plate 14 via the trigger electrode 44 and the dielectric layer 46. In this embodiment, the dielectric layer 46 is provided on the back plate 14 side.
And the trigger electrode 44, the anode electrode 26 is provided on the inner surface of the front plate 12 on the back plate 14 side.
Only cathode electrodes 24 arranged in a direction perpendicular to the direction are provided.

【0041】また、誘電体層46およびアノード電極2
6の上面と、格子状隔壁42の側壁面には、例えば厚さ
10〜60μm 程度の蛍光体層48が設けられている。
この蛍光体層48は、カソード電極24とアノード電極
26との間の放電によって発生する紫外線すなわち励起
光により発光させられるものであり、R(赤),G
(緑),B(青)等の発光色に対応する蛍光体が各放電
空間16毎に設けられている。なお、蛍光体層48は、
各放電空間16内における底面中央の矩形部49(すな
わち、カソード電極24の直下)には設けられておら
ず、アノード電極26が部分的に露出させられている。
The dielectric layer 46 and the anode 2
A phosphor layer 48 having a thickness of, for example, about 10 to 60 μm is provided on the upper surface of the substrate 6 and the side wall surface of the lattice-shaped partition wall 42.
The phosphor layer 48 is made to emit light by ultraviolet light, ie, excitation light, generated by a discharge between the cathode electrode 24 and the anode electrode 26, and R (red), G
Phosphors corresponding to emission colors such as (green) and B (blue) are provided for each discharge space 16. Note that the phosphor layer 48 is
It is not provided in the rectangular portion 49 at the bottom center in each discharge space 16 (that is, immediately below the cathode electrode 24), and the anode electrode 26 is partially exposed.

【0042】前記格子状隔壁42は、図5に断面を示す
ように、前述の隔壁18と同様な本体部28と被覆層3
0とを備えたものであるが、その高さ方向中間部よりも
上方側の部分には、その被覆層30の上部を更に覆う第
2被覆層50が設けられている。この第2被覆層50
は、前記の被覆層30よりも多孔質に形成されたもので
あり、これにより、格子状隔壁42の側壁面は上部側が
比較的多孔質に、下部側が比較的緻密質にされている。
As shown in cross section in FIG. 5, the grid-like partition 42 has the same main body 28 and the coating layer 3 as the partition 18 described above.
However, a second coating layer 50 that further covers the upper portion of the coating layer 30 is provided in a portion above the intermediate portion in the height direction. This second coating layer 50
Is formed to be more porous than the above-mentioned coating layer 30, whereby the side wall surface of the lattice-shaped partition wall 42 is relatively porous on the upper side and relatively dense on the lower side.

【0043】この第2被覆層50は、前述の実施例の図
3に示される方法で形成されたものであるが、比較的ペ
ースト粘度が高くされると共に上端面32に載置する量
が比較的少なくされている。そのため、図3(b) に示さ
れるようにスキージ36で掻き落とされた際に、最下部
すなわち背面板14の内面に形成された誘電体層46表
面にまで到達せず、被覆層30の高さ方向中間部までの
流動に留められて、上端面から高さ方向の中間部までの
位置に形成されている。
The second coating layer 50 is formed by the method shown in FIG. 3 of the above-described embodiment, but has a relatively high paste viscosity and a relatively small amount to be placed on the upper end surface 32. Has been reduced. Therefore, as shown in FIG. 3 (b), when scraped off by the squeegee 36, it does not reach the lowermost part, that is, the surface of the dielectric layer 46 formed on the inner surface of the back plate 14, and the height of the coating layer 30 is not increased. It is formed at a position from the upper end surface to the middle part in the height direction, while being stopped by the flow to the middle part in the height direction.

【0044】また、前記蛍光体層48は、R,G,B等
の発光色に対応する蛍光体材料に樹脂分や溶剤等を混合
して調整した蛍光体ペーストを用いて、被覆層30等と
同様な方法で形成されたものである。なお、蛍光体層4
8を形成するに際して、アノード電極26の前記矩形部
49により露出させられる部分には、蛍光体ペーストを
はじく層(例えば蛍光体ペーストが油性の場合は親水性
皮膜、蛍光体ペーストが水性の場合は親油性皮膜)を設
けることにより、前述の矩形部49が形成されている。
但し、蛍光体ペーストをはじく層を設けて矩形部49を
形成する代わりに、アノード電極26に凸部を設け、蛍
光体ペーストが流れ込んだ際にもその凸部のみが露出し
ているように構成しても差し支えない。この蛍光体ペー
ストは、一般に比較的低粘度のものが用いられるが、第
2被覆層50表面を流れる際に、その第2被覆層50が
比較的多孔質に形成されてその流動抵抗が高くされてい
るため、その表面において固着される厚みが大きくされ
る。このため、蛍光体ペーストは、比較的低粘度とされ
て高い流動性を与えられているにも拘らず、格子状隔壁
42の側壁面の比較的上方部の厚みが比較的大きくされ
て、蛍光体層48全体の厚みが略均一とされている。
The phosphor layer 48 is formed by using a phosphor paste prepared by mixing a resin material, a solvent, or the like with a phosphor material corresponding to an emission color such as R, G, B, etc. It is formed in the same manner as in the above. The phosphor layer 4
In forming the anode electrode 8, a portion of the anode electrode 26 exposed by the rectangular portion 49 is provided with a layer repelling a phosphor paste (for example, a hydrophilic film when the phosphor paste is oily, and a hydrophilic film when the phosphor paste is aqueous). The above-described rectangular portion 49 is formed by providing an oleophilic film.
However, instead of forming a rectangular portion 49 by providing a layer that repels the phosphor paste, a convex portion is provided on the anode electrode 26 so that only the convex portion is exposed when the phosphor paste flows. No problem. This phosphor paste generally has a relatively low viscosity, but when flowing on the surface of the second coating layer 50, the second coating layer 50 is formed to be relatively porous and the flow resistance is increased. Therefore, the thickness fixed on the surface is increased. For this reason, despite the fact that the phosphor paste has a relatively low viscosity and a high fluidity, the thickness of the relatively upper portion of the side wall surface of the lattice-shaped partition wall 42 is relatively large, and the phosphor paste has a relatively high viscosity. The thickness of the entire body layer 48 is substantially uniform.

【0045】すなわち、従来は蛍光体層48は隔壁42
の側面には設けられず、背面板14の内面或いは誘電体
層46表面にのみ設けられていたが、カラーPDP40
においては、その輝度が放電空間16内に設けられてい
る蛍光体の量に依存し、通常の蛍光体層48の厚さ(例
えば40μm 以下)の範囲では略比例関係が得られること
が知られている。そのため、背面板14の内面或いは誘
電体層46表面のみならず、隔壁42の側壁面にも蛍光
体層48が設けられることが望ましい。このような側壁
面にスクリーン印刷によって蛍光体ペーストを印刷する
ことは困難であり、被覆層30等と同様に隔壁42の上
端面32から蛍光体ペーストを掻き落とす方法(図3に
示される方法)を採ることが考えられる。ところが、蛍
光体ペーストは比較的低粘度であるため、隔壁42の側
壁面における流動抵抗が均一とされているとその側壁面
に留まる蛍光体ペーストの量が比較的少なく、最下部ま
で流れ落ちる蛍光体ペーストの量が比較的多くされて、
その厚さが隔壁42の上部側程薄く下部側程厚くされ
る。そのため、側壁面の蛍光体は輝度の向上に寄与せ
ず、結局高い輝度は得られないこととなる。
That is, in the prior art, the phosphor layer 48 is
Are provided only on the inner surface of the back plate 14 or the surface of the dielectric layer 46.
In (2), it is known that the luminance depends on the amount of the phosphor provided in the discharge space 16, and a substantially proportional relationship can be obtained in a normal range of the thickness of the phosphor layer 48 (for example, 40 μm or less). ing. Therefore, it is desirable that the phosphor layer 48 be provided not only on the inner surface of the back plate 14 or the surface of the dielectric layer 46 but also on the side wall surface of the partition wall 42. It is difficult to print the phosphor paste on such a side wall surface by screen printing, and a method of scraping the phosphor paste from the upper end surface 32 of the partition wall 42 in the same manner as the coating layer 30 (the method shown in FIG. 3). Can be considered. However, since the phosphor paste has a relatively low viscosity, if the flow resistance on the side wall surface of the partition wall 42 is made uniform, the amount of the phosphor paste remaining on the side wall surface is relatively small, and the phosphor flowing down to the lowermost portion is formed. The amount of paste is relatively large,
The thickness is thinner toward the upper side of the partition 42 and thicker toward the lower side. Therefore, the phosphor on the side wall surface does not contribute to the improvement of the luminance, and as a result, high luminance cannot be obtained.

【0046】これに対して、本実施例によれば、被覆層
30の表面の上部側のみに比較的多孔質の第2被覆層5
0が設けられて、蛍光体ペーストの流動抵抗が高くされ
ることから、前述のように蛍光体層48の厚さが略均一
とされて上部側においても十分な厚さが確保される。し
たがって、比較的高い輝度のカラーPDP40が得られ
るのである。なお、以上の説明から明らかなように、本
実施例においては、第2被覆層50が厚み制御層に相当
する。
On the other hand, according to the present embodiment, the relatively porous second coating layer 5 is formed only on the upper side of the surface of the coating layer 30.
Since 0 is provided to increase the flow resistance of the phosphor paste, the thickness of the phosphor layer 48 is made substantially uniform as described above, and a sufficient thickness is secured also on the upper side. Therefore, the color PDP 40 having relatively high luminance can be obtained. As is clear from the above description, in the present embodiment, the second coating layer 50 corresponds to a thickness control layer.

【0047】図6は、更に他の実施例を示す図である。
本実施例においては、被覆層30に用いられる低融点ガ
ラスペーストの粘度が比較的低くされると共に、本体部
28の上端面32に載置される量が比較的多くされる等
によって、背面板14の内面等に設けられたAg(銀)
電極(例えばアドレス電極)52が低融点ガラスによっ
て覆われた状態とされている。この低融点ガラスは、N
a等のアルカリ分を含まないものが用いられており、こ
れにより、Ag電極のマイグレーションが好適に抑制さ
れる。また、Ag電極52の被覆層が薄く且つピンホー
ルもなく形成されているため、好適なアドレスの信号条
件を得ることができる。
FIG. 6 is a diagram showing still another embodiment.
In this embodiment, the viscosity of the low-melting glass paste used for the coating layer 30 is made relatively low, and the amount of the low-melting glass paste placed on the upper end surface 32 of the main body 28 is made relatively large. Ag (silver) provided on the inner surface etc.
The electrode (for example, the address electrode) 52 is covered with the low-melting glass. This low melting glass is N
A material that does not contain an alkali component such as a is used, whereby the migration of the Ag electrode is suitably suppressed. Further, since the coating layer of the Ag electrode 52 is formed thin and without pinholes, it is possible to obtain a suitable address signal condition.

【0048】また、図7に示す実施例においては、隔壁
18の高さ方向の中間部に電極54が備えられている。
この電極54は、本体部28を形成する過程においてガ
ラスペーストを所定の高さになるまで印刷積層した後
に、ガラスペーストに代えて電極用導電材料ペーストを
用いて所定の厚さになるまで印刷積層し、更にその上に
ガラスペーストを印刷積層することにより形成されたも
のである。この本体部28の上端面32および側壁面3
8には、図1乃至図3に示す実施例と同様に被覆層30
が設けられており、これにより、電極54は誘電体材料
で覆われた状態とされている。AC型PDPにおいて
は、放電電極が誘電体材料によって覆われた状態とされ
る必要があるが、このようにすれば、隔壁18を形成す
ると同時にAC型PDPでのサステイン電極或いはアド
レス電極、DC型PDPでのトリガー電極等の補助電極
が形成されることになる。
In the embodiment shown in FIG. 7, an electrode 54 is provided at an intermediate portion of the partition wall 18 in the height direction.
The electrodes 54 are formed by printing and laminating a glass paste to a predetermined height in the process of forming the main body 28, and then printing and laminating to a predetermined thickness using an electrode conductive material paste instead of the glass paste. Further, it is formed by printing and laminating a glass paste thereon. The upper end surface 32 and the side wall surface 3 of the main body 28
8 has a coating layer 30 similar to the embodiment shown in FIGS.
Are provided, whereby the electrode 54 is covered with a dielectric material. In the AC type PDP, it is necessary that the discharge electrode is covered with a dielectric material. In this case, the partition electrode 18 is formed, and at the same time, the sustain electrode or the address electrode in the AC type PDP, and the DC type. An auxiliary electrode such as a trigger electrode in the PDP is formed.

【0049】図8および図9は、本発明の他の実施例で
あるVFD58を示す断面図および斜視図である。VF
D58は、一対のガラス基板60,62が周縁部におい
て所定の間隔をもって枠状のスペーサガラス64を介し
て互いに接合されることにより形成された気密空間65
を備えたものである。一方のガラス基板60は、その内
面に順次積層形成された陽極配線66、グリッド配線6
7、絶縁層68、グラファイト等の導電物質から成るア
ノード電極70、そのアノード電極70上において所定
の表示パターン(図9においては3つの「8」字パター
ン)とされた蛍光体層72を備えると共に、その蛍光体
層72の周縁部において他方のガラス基板62に向かっ
て絶縁層68から立設されてその上端面にグリッド電極
74が設けられたリブ状壁76を備えている。このリブ
状壁76の上端面と他方のガラス基板62の内面との間
には、ガラス基板60の内面に形成された陰極配線78
に接続された複数本のカソード電極80が設けられてい
る。
FIGS. 8 and 9 are a sectional view and a perspective view showing a VFD 58 according to another embodiment of the present invention. VF
D58 is an airtight space 65 formed by joining a pair of glass substrates 60, 62 at a peripheral portion thereof with a predetermined interval via a frame-shaped spacer glass 64.
It is provided with. One glass substrate 60 has an anode wiring 66 and a grid wiring 6 which are sequentially formed on the inner surface thereof.
7, an insulating layer 68, an anode electrode 70 made of a conductive material such as graphite, and a phosphor layer 72 having a predetermined display pattern (three “8” patterns in FIG. 9) on the anode electrode 70. A rib-like wall 76 is provided upright from the insulating layer 68 toward the other glass substrate 62 at the peripheral edge of the phosphor layer 72, and a grid electrode 74 is provided on the upper end surface thereof. The cathode wiring 78 formed on the inner surface of the glass substrate 60 is provided between the upper end surface of the rib-like wall 76 and the inner surface of the other glass substrate 62.
Are connected to each other.

【0050】上記のVFD58は、アノード電極70お
よびカソード電極80間に、リードピン82および配線
66,78を介して所定の電圧が印加されると共に、グ
リッド電極74に所定の制御電圧が印加されることによ
り、カソード電極80から発生させられた電子が蛍光体
層72に衝突させられて、その蛍光体層72を発光させ
るものである。なお、図8,9において84は水銀ゲッ
タであり、図9において86は気密空間65内を真空に
するための排気管である。
In the VFD 58, a predetermined voltage is applied between the anode electrode 70 and the cathode electrode 80 via the lead pin 82 and the wirings 66 and 78, and a predetermined control voltage is applied to the grid electrode 74. As a result, electrons generated from the cathode electrode 80 are caused to collide with the phosphor layer 72 to cause the phosphor layer 72 to emit light. 8 and 9, reference numeral 84 denotes a mercury getter, and in FIG. 9, reference numeral 86 denotes an exhaust pipe for evacuating the airtight space 65.

【0051】図10は、上記リブ状壁76の断面を拡大
して示す図である。リブ状壁76は、比較的多孔質の本
体部88と、その本体部88を覆う比較的緻密質の被覆
層90とから構成されており、上記グリッド電極74は
この被覆層90上に設けられている。このリブ状壁76
も、前述の隔壁18と同様にして形成されたものであ
り、その表層部が比較的緻密質とされている。なお、図
8から明らかなように、リブ状壁76は気密空間65内
を区分するものとはなっていないが、VFD58におい
ては、このリブ状壁76により囲まれた蛍光体層72
が、その囲まれた単位毎に選択的に発光させられる。す
なわち、請求の範囲でいう『リブ状壁』は、『平板の一
面上に立設されてその一面を区分する』ものであれば、
必ずしも図1乃至図7に示される実施例のように気密空
間を区分するものでなくとも良いのである。
FIG. 10 is an enlarged view showing a cross section of the rib-like wall 76. As shown in FIG. The rib-like wall 76 is composed of a relatively porous main body 88 and a relatively dense covering layer 90 covering the main body 88, and the grid electrode 74 is provided on the covering layer 90. ing. This rib-like wall 76
Is also formed in the same manner as the above-mentioned partition wall 18, and the surface layer portion is made relatively dense. As is clear from FIG. 8, the rib-shaped wall 76 does not partition the airtight space 65, but in the VFD 58, the phosphor layer 72 surrounded by the rib-shaped wall 76 is formed.
Is selectively emitted for each enclosed unit. In other words, if the "rib-shaped wall" in the claims is "one that stands on one surface of a flat plate and separates one surface,"
The airtight space need not necessarily be divided as in the embodiment shown in FIGS. 1 to 7.

【0052】上記のようなVFD58においても、リブ
状壁76には、形状精度および製造効率を高くするため
に、従来、比較的多孔質となる材料が用いられていた
が、その内部が真空にされることから、リブ状壁76に
吸着されたガスや未燃焼成分に含まれるガス等の不純ガ
スが、真空処理後に気密空間65内に放出させられるこ
とは、真空度が低下することとなるため好ましくない。
本実施例によれば、DC型PDP10等の場合と同様
に、形状精度や製造効率を維持し、且つ、ガス放出に起
因する真空度の低下を好適に抑制し得るリブ状壁76を
備えたVFD58が得られる。
In the VFD 58 as described above, a relatively porous material is conventionally used for the rib-shaped wall 76 in order to increase the shape accuracy and the manufacturing efficiency. Therefore, when the impurity gas such as the gas adsorbed on the rib-shaped wall 76 or the gas contained in the unburned components is released into the hermetic space 65 after the vacuum processing, the degree of vacuum is reduced. Therefore, it is not preferable.
According to the present embodiment, as in the case of the DC-type PDP 10 and the like, the rib-shaped wall 76 that can maintain shape accuracy and manufacturing efficiency and can appropriately suppress a decrease in the degree of vacuum due to gas release is provided. VFD 58 is obtained.

【0053】以上、本発明の一実施例を図面を参照して
詳細に説明したが、本発明は更に別の態様でも実施され
る。
While the embodiment of the present invention has been described in detail with reference to the drawings, the present invention can be embodied in still another embodiment.

【0054】例えば、前述の実施例は、本発明がDC型
PDP10,VFD58等に適用された場合について説
明したが、本発明はこれらに限らず、気密空間内にリブ
状壁を備える形式のものであれば、種々の画像表示装置
に適用できる。例えば、隔壁18やリブ状壁76等の形
状は、放電空間16やアノード電極70等の形状に応じ
て適宜変更され、或いは、DC型PDP10等に適用さ
れる場合に、トリガー電極20,44等は必ずしも設け
られなくとも良い。
For example, in the above-described embodiment, the case where the present invention is applied to a DC type PDP 10, a VFD 58 or the like has been described. However, the present invention is not limited to these, and a type having a rib-like wall in an airtight space is provided. Then, it can be applied to various image display devices. For example, the shapes of the partition wall 18 and the rib-like wall 76 and the like are appropriately changed according to the shape of the discharge space 16 and the anode electrode 70 and the like, or when applied to the DC PDP 10 and the like, the trigger electrodes 20 and 44 and the like are used. May not necessarily be provided.

【0055】また、実施例においては、被覆層30等を
形成するために、鉛およびアルカリ成分を含まない低融
点ガラス( Bi2O3−ZnO −B2O3−SiO2系ガラス等)を用
いたが、被覆層30等は緻密質に形成されるものであれ
ば、特にその材料組成は限定されない。但し、実施例で
示したDC型PDP10等においては、安定した放電特
性や絶縁性を得るためには鉛が含有されていないことが
望ましく、また、マイグレーション加速による絶縁信頼
性の低下を生じ難くするためにはアルカリ成分が含有さ
れてないことが望ましい。
Further, in the embodiment, in order to form the coating layer 30 and the like, a low-melting glass (Bi 2 O 3 —ZnO—B 2 O 3 —SiO 2 glass or the like) containing no lead and no alkali component is used. Although used, the material composition of the coating layer 30 is not particularly limited as long as it is formed densely. However, in the DC-type PDP 10 and the like shown in the examples, it is desirable that lead is not contained in order to obtain stable discharge characteristics and insulating properties, and that the insulation reliability is hardly reduced due to accelerated migration. Therefore, it is desirable that no alkali component is contained.

【0056】また、本体部28,88を形成するための
材料は、多孔質材料であれば特性上からは特に限定され
ず、種々の絶縁材料が用いられ得る。但し、低融点ガラ
スペースト等を用いる場合においては、印刷パターンの
保形性が高い方が好ましく、また、焼成残存率が高い方
が形状精度を高くし且つ印刷積層回数を少なくためには
好ましい等の理由から、アルミナ等の充填材が比較的多
く(例えば、実施例で示したように50%程度)含まれて
いることが好ましい。
The material for forming the main bodies 28 and 88 is not particularly limited in terms of characteristics as long as it is a porous material, and various insulating materials can be used. However, when a low-melting glass paste or the like is used, it is preferable that the shape retention of the printed pattern is higher, and that the higher the firing residual ratio is, in order to increase the shape accuracy and reduce the number of times of printing and lamination, etc. For this reason, it is preferable that a relatively large amount of filler such as alumina is contained (for example, about 50% as shown in the embodiment).

【0057】また、実施例においては、本体部28,8
8を厚膜絶縁ペーストを印刷積層することによって形成
したが、本体部28等は、種々の方法で形成され得る。
例えば、背面板14等の一面に全面ベタに本体部28等
の高さに等しい厚さの絶縁層を形成し、ガラスビーズブ
ラスト等のドライエッチング法によって形成しても良
く、或いは背面板14等上に本体部28等の反転パター
ンで形成したフォトレジスト膜間の凹部に厚膜絶縁ペー
ストを充填した後、そのフォトレジスト膜を除去するリ
フトオフ法、フォトレジストを添加した厚膜絶縁ペース
トを全面ベタに形成し、パターン形成するフォトリソ法
等によって形成しても良い。
Further, in the embodiment, the main bodies 28, 8
Although 8 is formed by printing and laminating a thick film insulating paste, the main body 28 and the like can be formed by various methods.
For example, an insulating layer having a thickness equal to the height of the main body 28 or the like may be formed on the entire surface of the back plate 14 or the like, and may be formed by a dry etching method such as glass bead blasting. After filling the concave portions between the photoresist films formed in the reverse pattern of the main body portion 28 and the like with the thick film insulating paste, a lift-off method of removing the photoresist film is applied. And a photolithography method or the like for forming a pattern.

【0058】また、前述の実施例においては、図3に示
される被覆工程において、スキージ36を本体部28の
長手方向と直交し、且つ、その上端面32に平行な水平
方向に移動させたが、被覆層30の厚みが比較的薄い
(例えば10μm 程度以下)の場合、被覆層30の膜厚の
ばらつきが比較的大きく(例えば 5μm 程度以上)とも
良い場合、或いは隔壁18間に被覆層30用の低融点ガ
ラスペースト34が流れ込んでも品質上支障のない場合
には、スキージ36を上記方向とは直交する方向すなわ
ち本体部28の長手方向と平行な方向に移動させても差
し支えない。
In the above-described embodiment, the squeegee 36 was moved in the horizontal direction perpendicular to the longitudinal direction of the main body 28 and parallel to the upper end surface 32 in the covering step shown in FIG. When the thickness of the coating layer 30 is relatively thin (for example, about 10 μm or less), when the thickness variation of the coating layer 30 may be relatively large (for example, about 5 μm or more), If there is no problem in quality even if the low melting glass paste 34 flows into the squeegee 36, the squeegee 36 may be moved in a direction perpendicular to the above-mentioned direction, that is, in a direction parallel to the longitudinal direction of the main body 28.

【0059】その他、一々例示はしないが、本発明はそ
の主旨を逸脱しない範囲で種々変更を加え得るものであ
る。
Although not specifically exemplified, the present invention can be variously modified without departing from the gist thereof.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施例のDC型PDPの構造を示す
斜視図である。
FIG. 1 is a perspective view showing the structure of a DC PDP according to one embodiment of the present invention.

【図2】図1のPDPの隔壁の断面構造を説明する図で
ある。
FIG. 2 is a diagram illustrating a cross-sectional structure of a partition wall of the PDP of FIG.

【図3】図2の隔壁の製造方法を説明するための図であ
り、(a) は本体部の上端面にペーストが乗せられた状態
を、(b) はスキージを走査している状態を示す。
3A and 3B are views for explaining a method of manufacturing the partition wall of FIG. 2, wherein FIG. 3A shows a state in which a paste is placed on an upper end surface of a main body, and FIG. 3B shows a state in which a squeegee is scanned. Show.

【図4】本発明の他の実施例のカラーPDPの構造を示
す斜視図である。
FIG. 4 is a perspective view showing a structure of a color PDP according to another embodiment of the present invention.

【図5】図4のカラーPDPの隔壁の断面を示す図であ
る。
FIG. 5 is a view showing a cross section of a partition wall of the color PDP of FIG. 4;

【図6】本発明の更に他の実施例について隔壁の断面を
示す図である。
FIG. 6 is a view showing a cross section of a partition wall according to still another embodiment of the present invention.

【図7】本発明の更に他の実施例のAC型PDPに用い
られる隔壁の断面構造を説明する図である。
FIG. 7 is a view for explaining a sectional structure of a partition used in an AC type PDP according to still another embodiment of the present invention.

【図8】本発明の更に他の実施例のVFDの断面構造を
示す図である。
FIG. 8 is a view showing a cross-sectional structure of a VFD according to still another embodiment of the present invention.

【図9】図8のVFDの全体を示す斜視図である。FIG. 9 is a perspective view showing the entire VFD of FIG. 8;

【図10】図8のVFDのリブ状壁の近傍を拡大して示
す図である。
FIG. 10 is an enlarged view showing the vicinity of a rib-shaped wall of the VFD of FIG. 8;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10:DC型PDP(画像表示装置) {12:前面板,14:背面板}(一対の平行平板) 18:隔壁(リブ状壁) 28:本体部 30:被覆層 10: DC type PDP (image display device) {12: front plate, 14: rear plate} (a pair of parallel flat plates) 18: partition wall (rib-like wall) 28: main body portion 30: coating layer

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 阪本 進 福岡県朝倉郡夜須町大字三並字八ツ並 2160番地九州ノリタケ株式会社内 (56)参考文献 特開 平4−334845(JP,A) 特開 昭62−200633(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01J 17/04 H01J 9/02 H01J 9/24 H01J 29/86 H01J 31/15 ────────────────────────────────────────────────── ─── The continuation of the front page (72) Susumu Sakamoto, inventor, Kyushu Noritake Co., Ltd., 2160, Yatsunami, Yasumachi, Asakura-gun, Fukuoka Prefecture JP, A 62-200633 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) H01J 17/04 H01J 9/02 H01J 9/24 H01J 29/86 H01J 31/15

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 一面が気密空間に面する平板と、該平板
の一面上に立設されて該一面を区分するリブ状壁と、該
リブ状壁の表面にペーストから生成された層とを備え
て、該気密空間内のリブ状壁に囲まれた一部から選択的
に発光させることにより所望の画像を表示させる形式の
画像表示装置であって、 前記リブ状壁が、比較的多孔質の本体部と、該本体部の
表面に設けられた比較的緻密質の被覆層と、該被覆層の
表面の所定部分に設けられた該被覆層よりも多孔質とさ
れた厚み制御層とを含むことを特徴とする画像表示装
置。
A flat plate having one surface facing an airtight space; a rib-like wall standing on the one surface of the flat plate to partition the one surface ;
An image display device in which a layer formed from a paste is provided on the surface of a rib-like wall, and a desired image is displayed by selectively emitting light from a part surrounded by the rib-like wall in the hermetic space. Wherein the rib-like wall has a relatively porous main body, a relatively dense coating layer provided on the surface of the main body ,
It is more porous than the coating layer provided on a predetermined portion of the surface.
An image display device comprising: a thickness control layer .
【請求項2】 一面が気密空間に面する平板と、該平板
の一面上に立設されて該一面を区分するリブ状壁とを備
えて、該気密空間内のリブ状壁に囲まれた一部から選択
的に発光させることにより所望の画像を表示させる形式
の画像表示装置の製造方法であって、 前記リブ状壁が、 所定の高さの比較的多孔質の本体部を形成する本体部形
成工程と、 該形成された本体部の上端面に、焼成後に比較的緻密質
となる厚膜絶縁ペーストを所定厚みで載置する載置工程
と、 該本体部の上端面に平行な方向へスキージを走査して、
該上端面に載置された厚膜絶縁ペーストを掻き落とすこ
とにより、該本体部の側壁面を該厚膜絶縁ペーストで被
覆する被覆工程と、 該厚膜絶縁ペーストから比較的緻密質の被覆層を加熱生
成する加熱工程とを、含む工程により形成されることを
特徴とする画像表示装置の製造方法。
2. A flat plate having one surface facing the airtight space, and a rib-like wall erected on one surface of the flat plate and dividing the one surface, and surrounded by the rib-like wall in the airtight space. A method of manufacturing an image display device in which a desired image is displayed by selectively emitting light from a part, wherein the rib-shaped wall forms a relatively porous main body having a predetermined height. A step of forming a thick film insulating paste which becomes relatively dense after firing on the upper end face of the formed main body section at a predetermined thickness; and a direction parallel to the upper end face of the main body section. Scan the squeegee,
A step of coating the side wall surface of the main body with the thick film insulating paste by scraping off the thick film insulating paste placed on the upper end surface; and forming a relatively dense coating layer from the thick film insulating paste. And a heating step of generating heat by heating.
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