JP3028709B2 - Plasma spraying equipment - Google Patents

Plasma spraying equipment

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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は、固体素地表面に溶融
した粉末を噴射させ皮膜を形成させる装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an apparatus for spraying a molten powder onto a surface of a solid substrate to form a film.

【0002】[0002]

【従来の技術】プラズマ溶射装置は、粉末状のセラミッ
クス、または金属、プラスチックなどの溶射材料をプラ
ズマで加熱、溶融させて液状微粒子とし、この液状微粒
子をプラズマジェットで固体素地材の表面に高速で衝突
させ(溶射させ)、固体素地に皮膜を形成させるための
ものである。固体素地を被覆することによって耐環性や
耐摩耗性、電気的絶縁性などを向上させる。
2. Description of the Related Art A plasma spraying apparatus heats and melts a powdery ceramic material, a metal, a plastic, or the like with plasma to form liquid fine particles, and the liquid fine particles are rapidly applied to the surface of a solid base material by a plasma jet. This is for causing a collision (spraying) to form a film on a solid substrate. The ring resistance, wear resistance, electrical insulation, etc. are improved by coating the solid substrate.

【0003】図3は従来のプラズマ溶射装置の構成を示
す系統図である。プラズマトーチ1によって、液状微粒
子の混入するプラズマジェット4を成膜させたい固体素
地2の表面に向けて射出させる。プラズマチート1の陽
極端子20Aおよび陰極端子22Aには配線13A、1
3Bを介してパルス電源11が電気的に接続されてい
る。また、ガス吹付け部15が、ガスボンベ9から配管
12Aを介してプラズマトーチ1のガス供給口15Aに
配管接続されている。さらに、粉末投入部14が、原料
粉末5を収納した粉末容器7から配管12Bを介してプ
ラズマトーチ1の粉末供給口14Aに配管接続されてい
る。また、配管12Bにはガスボンベ8が配管接続され
ている。
FIG. 3 is a system diagram showing a configuration of a conventional plasma spraying apparatus. The plasma torch 1 injects a plasma jet 4 containing liquid fine particles toward the surface of the solid substrate 2 on which a film is to be formed. Wirings 13A, 1A are connected to the anode terminal 20A and the cathode terminal 22A of the plasma cheat 1.
The pulse power supply 11 is electrically connected via 3B. Further, a gas spraying section 15 is connected to the gas supply port 15A of the plasma torch 1 from the gas cylinder 9 via a pipe 12A. Further, a powder charging section 14 is connected to the powder supply port 14A of the plasma torch 1 from the powder container 7 containing the raw material powder 5 via a pipe 12B. The gas cylinder 8 is connected to the pipe 12B.

【0004】図4は図3のプラズマトーチ1の構成を示
す断面図である。プラズマトーチ1は陰極端子22Aを
備えた陰電極22を軸中心に備えている。陰電極22の
外周に絶縁体21を介して陽電極20が配されている。
陽電極20は陽極端子20Aを備えるとともに、ノズル
部24を形成している。前述のように、プラズマトーチ
1にはガス供給口15Aが設けられてあり、作動ガス1
0が陰電極22の先端部22Bに吹き付けられる。ま
た、プラズマトーチ1には粉末供給口14Aが設けられ
てあり、原料粉末5がプラズマジェット4に投入され
る。
FIG. 4 is a sectional view showing the structure of the plasma torch 1 of FIG. The plasma torch 1 has a negative electrode 22 provided with a cathode terminal 22A around the axis. The positive electrode 20 is arranged on the outer periphery of the negative electrode 22 with an insulator 21 interposed therebetween.
The positive electrode 20 has an anode terminal 20 </ b> A and forms a nozzle part 24. As described above, the plasma torch 1 is provided with the gas supply port 15A,
0 is sprayed on the tip 22B of the negative electrode 22. The plasma torch 1 is provided with a powder supply port 14A, and the raw material powder 5 is injected into the plasma jet 4.

【0005】図4において、陽電極20と陰電極22の
間に電圧を印加して、陰電極22の先端部22Bにプラ
ズマアークを発生させる。このプラズマアークに作動ガ
ス10、例えばアルゴンガスを吹き付け、矢印25方向
にプラズマジェット4を射出させる。そのとき、プラズ
マジェット4中には原料粉末5が投入され、原料粉末5
はプラズマ熱によって溶融し液体微粒子になる。プラズ
マジェット4は液体微粒子とともにノズル部24から外
部に射出される。
In FIG. 4, a voltage is applied between the positive electrode 20 and the negative electrode 22 to generate a plasma arc at the tip 22 B of the negative electrode 22. A working gas 10, for example, an argon gas is blown onto the plasma arc, and a plasma jet 4 is ejected in the direction of arrow 25. At this time, the raw material powder 5 is injected into the plasma jet 4 and the raw material powder 5
Are melted by plasma heat to become liquid fine particles. The plasma jet 4 is ejected from the nozzle unit 24 to the outside together with the liquid fine particles.

【0006】図3に戻り、パルス電源11はプラズマジ
ェット4の電極間を絶縁破壊させるとともに、電極間に
大電流を流し高温のプラズマを発生させる。ガスボンベ
9には、作動ガス10が充填されている。また、ガスボ
ンベ8にはキャリアガス6、例えばアルゴンガスが充填
されている。キャリアガス6は、その風圧で原料粉末5
を粉末供給口14Aへ送り、プラズマジェット4中に投
入させるためのものである。
Returning to FIG. 3, the pulse power supply 11 causes dielectric breakdown between the electrodes of the plasma jet 4 and generates a high-temperature plasma by flowing a large current between the electrodes. The gas cylinder 9 is filled with a working gas 10. The gas cylinder 8 is filled with a carrier gas 6, for example, an argon gas. The carrier gas 6 is supplied with the raw material powder 5 by the wind pressure.
Is supplied to the powder supply port 14A and injected into the plasma jet 4.

【0007】図3において、プラズマトーチ1にギャツ
プ長Gを介して固体素地2が対向して配されている。プ
ラズマジェット4はギャツプ長Gを進むとともに半径方
向にも広がりを見せ、固体素地2の表面に直径Dの範囲
の円形皮膜3を形成する。原料粉末5として溶融温度が
2300°Kのアルミナ粉末を用いた場合、数万°Kプ
ラズマジェット4を発生させ、アルミナ粉末を固体素地
に溶射させる。
In FIG. 3, a solid body 2 is arranged to face a plasma torch 1 with a gap length G therebetween. The plasma jet 4 travels along the gap length G and expands in the radial direction, forming a circular coating 3 having a diameter D on the surface of the solid substrate 2. When alumina powder having a melting temperature of 2300 ° K is used as the raw material powder 5, a plasma jet 4 of tens of thousands of K is generated, and the alumina powder is sprayed on a solid body.

【0008】また、図3の装置は、電流源としてパルス
電源11が用いられるとともに、ギャツプ長Gは1cm程
度になっている。従来の異なる装置例として、電流源を
直流電源とし、ギャツプ長Gを10cm程度にしているも
のがある。しかし、ギャツプ長Gをあまり大きくする
と、皮膜3の厚さが場所によって不均一になる。皮膜3
の中央部分がかなり厚く盛り上がり、周辺部分に行くに
従って皮膜3が薄く形成される。ギャツプ長Gを1cm程
度に縮めておけば、皮膜3の厚さは均一に形成される。
ギャツプ長Gを小さくすると、プラズマジェット4の熱
で固体素地2自体が損傷を受ける可能性がある。そこ
で、電流源をパルス電源11とし、極く短かい間だけプ
ラズマジェット4を射出することによって固体素地2自
体の温度上昇を抑える方法が同一出願人によって既に特
許出願されている。パルス電源11を用いたプラズマ溶
射によって、厚さが均一で、かつ薄い(数μm厚さ)皮
膜3が、形成されるとともに、固体素地2との密着性が
直流電源によるものよりはるかに優れた皮膜3が得られ
る。
In the apparatus shown in FIG. 3, a pulse power supply 11 is used as a current source, and a gap length G is about 1 cm. As an example of a different conventional device, there is a device in which a current source is a DC power supply and a gap length G is about 10 cm. However, if the gap length G is too large, the thickness of the film 3 becomes uneven at some places. Film 3
The center portion of the film 3 rises considerably thickly, and the film 3 is formed thinner toward the peripheral portion. If the gap length G is reduced to about 1 cm, the thickness of the film 3 is formed uniformly.
If the gap length G is reduced, the solid substrate 2 itself may be damaged by the heat of the plasma jet 4. Accordingly, a patent application has already been filed by the same applicant for a method of using a pulse power supply 11 as a current source and injecting the plasma jet 4 only for a very short time to suppress a rise in the temperature of the solid substrate 2 itself. A uniform and thin (thickness of several μm) film 3 is formed by plasma spraying using the pulse power supply 11, and the adhesion to the solid substrate 2 is far superior to that of a DC power supply. The coating 3 is obtained.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前述し
たような従来の装置は、1回のプラズマ溶射で形成され
る皮膜の面積が小さいという問題があった。すなわち、
前述のように、ギャツプ長Gを1cm程度にし、パルス電
圧を加えることによって、優れた皮膜を形成することが
できる。しかし、1回のプラズマ溶射によって形成され
る皮膜の直径は、ギャツプ長Gにほぼ等しく、1cm程度
であった。従来、広い面積の皮膜を形成したい場合、固
体素地の位置をずらしながらプラズマ溶射を多数回実施
していた。そのために、プラズマ溶射に多大な時間を必
要としていた。
However, the conventional apparatus as described above has a problem that the area of a film formed by one plasma spraying is small. That is,
As described above, by setting the gap length G to about 1 cm and applying a pulse voltage, an excellent film can be formed. However, the diameter of the film formed by one plasma spraying was almost equal to the gap length G, and was about 1 cm. Conventionally, when it is desired to form a coating having a large area, plasma spraying has been performed many times while shifting the position of the solid substrate. Therefore, a large amount of time was required for plasma spraying.

【0010】この発明の目的は、1回のプラズマ溶射で
形成される皮膜の面積を増大させることにある。
An object of the present invention is to increase the area of a film formed by one plasma spraying.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、この発明によれば、プラズマを発生させるための
電極対と、この電極対に並列接続された電源と、プラズ
マに作動ガスを吹き付けプラズマジェットを形成させる
ガス吹き付け部と、プラズマジェットに原料粉末を投入
する粉末投入部と、プラズマ熱によって溶融した原料粉
末をプラズマジェットとともに射出させるノズル部とを
備えてなるプラズマ溶射装置において、前記電源として
パルス的に電圧を出力するパルス電源を用いるととも
に、前記ノズル部がプラズマジェットの射出側に複数の
射出穴を備えてなるものとする。
According to the present invention, an electrode pair for generating plasma, a power supply connected in parallel to the electrode pair, and a working gas are supplied to the plasma. In a plasma spraying apparatus comprising a gas blowing unit for forming a sprayed plasma jet, a powder charging unit for charging the raw material powder into the plasma jet, and a nozzle unit for discharging the raw material powder melted by plasma heat together with the plasma jet. A pulse power source that outputs a voltage in a pulsed manner is used as the power source, and the nozzle unit has a plurality of injection holes on the plasma jet emission side.

【0012】かかる構成において、粉末投入部が各射出
穴内のプラズマジェットにそれぞれ個別の原料粉末を投
入可能であるものとする。
In this configuration, it is assumed that the powder inputting section can input individual raw material powders into the plasma jets in the respective injection holes.

【0013】[0013]

【作用】この発明の構成によれば、ノズル部がプラズマ
ジェットの射出側に複数の射出穴を備える。各射出穴か
ら射出されるプラズマジェットによって、固体素地上の
互いに異なる位置にそれぞれ複数の皮膜が形成される。
これによって、1回のプラズマ溶射によって形成される
皮膜の面積が増大する。
According to the structure of the present invention, the nozzle portion has a plurality of injection holes on the plasma jet emission side. A plurality of coatings are respectively formed at different positions on the solid substrate by the plasma jets emitted from the injection holes.
This increases the area of the film formed by one plasma spray.

【0014】かかる構成において、各射出穴のプラズマ
ジェットにそれぞれ個別の原料粉末を投入できるように
粉末投入部を構成する。これによって、互いに材料の異
なる皮膜の模様を1回のプラズマ溶射によって形成する
ことができる。
In this configuration, the powder input section is configured so that individual raw material powders can be input into the plasma jets of the respective injection holes. Thereby, the patterns of the coatings made of different materials can be formed by one plasma spraying.

【0015】[0015]

【実施例】以下この発明を実施例を基づいて説明する。
図1はこの発明の実施例にかかるプラズマ溶射装置の構
成を示す要部断面図である。プラズマトーチ1のノズル
部24が、プラズマジェット4の射出側で複数の射出穴
24A,24Bに分岐している。その他は図4の従来の
構成と同じである。同じ部分には同一参照符号を用いる
ことにより詳細な説明は省略する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below based on embodiments.
FIG. 1 is a sectional view of a main part showing a configuration of a plasma spraying apparatus according to an embodiment of the present invention. The nozzle part 24 of the plasma torch 1 branches into a plurality of injection holes 24A and 24B on the emission side of the plasma jet 4. The rest is the same as the conventional configuration of FIG. The detailed description is omitted by using the same reference numerals for the same parts.

【0016】図1の装置は、1回のプラズマジェット溶
射によって、原料粉末5と混合したプラズマジェット4
が分流し、固体素地2の上に複数の皮膜3が形成され
る。各射出穴24A,24Bの離隔位置を適切に配して
おけば、プラズマジェット4に拡がりがあるので複数の
皮膜3が互いにつながるように形成することができる。
これによって、従来の装置より皮膜3の面積を複数倍に
増大することができる。なお、図1には2個の射出穴2
4A,24Bしか示されていないが、多数の射出穴を固
体素地2に向けて配することにより、皮膜3面積を大幅
に増やすことができる。
The apparatus shown in FIG. 1 uses a plasma jet spray 4 mixed with a raw material powder 5 by one plasma jet spraying.
Are diverted to form a plurality of coatings 3 on the solid substrate 2. If the separation positions of the injection holes 24A and 24B are appropriately arranged, the plasma jet 4 spreads, so that the plurality of coatings 3 can be formed so as to be connected to each other.
This makes it possible to increase the area of the coating 3 several times as compared with the conventional apparatus. FIG. 1 shows two injection holes 2.
Although only 4A and 24B are shown, the area of the coating 3 can be greatly increased by arranging a large number of injection holes toward the solid substrate 2.

【0017】図2は、この発明の異なる実施例にかかる
プラズマ溶射装置の構成を示す要部断面図である。粉末
供給口25A,25Bが射出穴24A,24Bのそれぞ
れに設けられてあるとともに、粉末供給口25A,25
Bには、原料粉末5A,5Bを個別に供給することがで
きる。その他は図1の構成と同じである。図2の装置
は、原料粉末5A,5Bを異なる材料にすれば、皮膜3
A,3Bはそれぞれ互いに異なる材料によって形成され
たものになる。そのために、1回のプラズマ溶射によっ
て、互いに異なる皮膜の模様を作ることができる。な
お、図2は、2種類の皮膜を1回のプラズマ溶射によっ
て形成する装置であるが、多数の射出穴を設けることに
より、広い面積をもち、かつ、種々の模様の皮膜を形成
することができる。
FIG. 2 is a sectional view showing a main part of a configuration of a plasma spraying apparatus according to another embodiment of the present invention. Powder supply ports 25A, 25B are provided in each of injection holes 24A, 24B, and powder supply ports 25A, 25B are provided.
Raw material powders 5A and 5B can be individually supplied to B. The rest is the same as the configuration of FIG. In the apparatus shown in FIG. 2, if the raw material powders 5A and 5B are made of different materials, the coating 3
A and 3B are formed of materials different from each other. Therefore, different coating patterns can be formed by one plasma spraying. FIG. 2 shows an apparatus for forming two types of films by one plasma spraying. However, by providing a large number of injection holes, it is possible to form films having a large area and various patterns. it can.

【0018】[0018]

【発明の効果】この発明は前述のように、ノズル部がプ
ラズマジェットの射出側に複数の射出穴を備える。これ
によって、プラズマ溶射の必要回数が減り、プラズマ溶
射に必要な時間が大幅に短縮された。また、かかる構成
において、各射出穴内にそれぞれ個別の原料粉末が投入
できるようにする。これによって、互いに材料の異なる
皮膜の模様も少ないプラズマ溶射回数で形成することが
できる。
According to the present invention, as described above, the nozzle portion has a plurality of injection holes on the plasma jet emission side. Thereby, the required number of times of plasma spraying was reduced, and the time required for plasma spraying was greatly reduced. Further, in such a configuration, individual raw material powders can be charged into each injection hole. This makes it possible to form the patterns of the coating films made of different materials with a small number of times of plasma spraying.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】この発明の実施例にかかるプラズマ溶射装置の
構成を示す要部断面図
FIG. 1 is a sectional view of a main part showing a configuration of a plasma spraying apparatus according to an embodiment of the present invention.

【図2】この発明の異なる実施例にかかるプラズマ溶射
装置の構成を示す要部断面図
FIG. 2 is a cross-sectional view of a main part showing a configuration of a plasma spraying apparatus according to another embodiment of the present invention.

【図3】従来のプラズマ溶射装置の構成を示す系統図FIG. 3 is a system diagram showing a configuration of a conventional plasma spraying apparatus.

【図4】図3のプラズマトーチの構成を示す断面図FIG. 4 is a sectional view showing the configuration of the plasma torch of FIG. 3;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1:プラズマトーチ、4:プラズマジェット、20:陽
電極、22:陰電極、24:ノズル部、24A,24
B:射出穴、14A,25A,25B:粉末供給口、
5,5A,5B:原料粉末、3,3A,3B:皮膜、
2:固体素地
1: plasma torch, 4: plasma jet, 20: positive electrode, 22: negative electrode, 24: nozzle part, 24A, 24
B: injection hole, 14A, 25A, 25B: powder supply port,
5, 5A, 5B: raw material powder, 3, 3A, 3B: coating,
2: Solid body

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】プラズマを発生させるための電極対と、こ
の電極対に並列接続された電源と、プラズマに作動ガス
を吹き付けプラズマジェットを形成させるガス吹き付け
部と、プラズマジェットに原料粉末を投入する粉末投入
部と、プラズマ熱によって溶融した原料粉末をプラズマ
ジェットとともに射出させるノズル部とを備えてなるプ
ラズマ溶射装置において、前記電源としてパルス的に電
圧を出力するパルス電源を用いるとともに、前記ノズル
部がプラズマジェットの射出側に複数の射出穴を備えて
なることを特徴とするプラズマ溶射装置。
1. A pair of electrodes for generating plasma, a power supply connected in parallel to the pair of electrodes, a gas blowing unit for blowing a working gas to the plasma to form a plasma jet, and charging raw material powder to the plasma jet. In a plasma spraying apparatus including a powder input unit and a nozzle unit for injecting raw material powder melted by plasma heat together with a plasma jet, a pulse power supply that outputs a pulsed voltage as the power supply is used, and the nozzle unit is A plasma spraying apparatus comprising a plurality of injection holes on an injection side of a plasma jet.
【請求項2】請求項1記載のプラズマ溶射装置におい
て、粉末投入部が各射出穴内のプラズマジェットにそれ
ぞれ個別の原料粉末を投入可能であることを特徴とする
プラズマ溶射装置。
2. The plasma spraying apparatus according to claim 1, wherein the powder injection section is capable of inputting individual raw material powders into the plasma jets in the respective injection holes.
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