JP3024570B2 - Semiconductor integrated circuit - Google Patents

Semiconductor integrated circuit

Info

Publication number
JP3024570B2
JP3024570B2 JP8272059A JP27205996A JP3024570B2 JP 3024570 B2 JP3024570 B2 JP 3024570B2 JP 8272059 A JP8272059 A JP 8272059A JP 27205996 A JP27205996 A JP 27205996A JP 3024570 B2 JP3024570 B2 JP 3024570B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
mos transistor
voltage application
current
circuit
drain
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP8272059A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH10126236A (en
Inventor
靖広 堀
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NEC Corp filed Critical NEC Corp
Priority to JP8272059A priority Critical patent/JP3024570B2/en
Publication of JPH10126236A publication Critical patent/JPH10126236A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3024570B2 publication Critical patent/JP3024570B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は半導体集積回路に関
し、特に入出力回路に設けられて所要の電流を通流させ
るためのプルアップ用抵抗やプルダウン用抵抗(以下、
プルアップ用抵抗で代表する)を備える半導体集積回路
に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor integrated circuit, and more particularly to a pull-up resistor and a pull-down resistor (hereinafter, referred to as an "input / output" circuit) for passing a required current.
(Represented by a pull-up resistor).

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、CMOS構造の半導体集積回路で
は、例えば入力回路に設けたプルアップ用抵抗における
電流値を変化させることが要求される場合がある。図3
(a)は特開昭61−43016号公報に記載された例
であり、入力端子301は、ラッチ回路302の入力端
Dに接続されるとともに、プルアップ用抵抗303とス
イッチング用PMOSトランジスタ304を介して高電
位電源が印加される。このスイッチング用PMOSトラ
ンジスタ304のゲートにはタイミング信号発生回路3
05が接続され、前記タイミング信号発生回路305に
よってスイッチング制御され、また、前記ラッチ回路3
02のクロック入力端Cには、前記タイミング信号発生
回路305からラッチタイミング用クロックが入力さ
れ、前記ラッチ回路302のラッチ動作によって出力信
号を得るように構成される。
2. Description of the Related Art Conventionally, in a semiconductor integrated circuit having a CMOS structure, for example, it is sometimes required to change a current value in a pull-up resistor provided in an input circuit. FIG.
(A) is an example described in JP-A-61-43016, in which an input terminal 301 is connected to an input terminal D of a latch circuit 302 and a pull-up resistor 303 and a switching PMOS transistor 304 are connected. A high-potential power supply is applied via the power supply. The timing signal generating circuit 3 is connected to the gate of the switching PMOS transistor 304.
The switching of the latch circuit 3 is controlled by the timing signal generation circuit 305.
02, a clock input terminal C is supplied with a latch timing clock from the timing signal generation circuit 305, and an output signal is obtained by a latch operation of the latch circuit 302.

【0003】このプルアップ抵抗回路では、図3(b)
にタイミングチャートを示すように、スイッチング用P
MOSトランジスタ304は、パルス信号φのロウレベ
ルで周期的にオン状態になり、電流の導通状態と遮蔽状
態を繰り返し、電流量を制御する。そして、このパルス
信号φのロウレベルの期間内に、前記パルスに同期され
るパルス信号ψがタイミング発生回路305から周期的
にラッチ回路302のクロック端Cに入力され、前記パ
ルス信号ψがハイレベル時にラッチ回路302は、入力
信号をラッチし、スイッチング用PMOSトランジスタ
304の導通状態の信号がラッチ回路の出力端へ出力さ
れる。このため、タイミング発生回路305からのパル
ス信号によってスイッチング用トランジスタ304のオ
ン/オフを周期的に繰り返すことで、入力端子の電流量
を制御することが可能となる。
In this pull-up resistor circuit, FIG.
As shown in the timing chart in FIG.
The MOS transistor 304 is periodically turned on at the low level of the pulse signal φ, and repeats a current conduction state and a current blocking state to control the current amount. During the low level period of the pulse signal φ, a pulse signal さ れ る synchronized with the pulse is periodically input from the timing generation circuit 305 to the clock terminal C of the latch circuit 302, and when the pulse signal ψ is at the high level. The latch circuit 302 latches an input signal, and outputs a signal of a conductive state of the switching PMOS transistor 304 to an output terminal of the latch circuit. Therefore, the amount of current at the input terminal can be controlled by periodically turning on / off the switching transistor 304 by a pulse signal from the timing generation circuit 305.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】上述した従来のプルア
ップ用抵抗回路では、プルアップ用抵抗に経時的に流れ
る電流を制御して低消費電力化を達成することは可能で
あるが、プルアップ用抵抗の抵抗値は半導体集積回路チ
ップの作り込み過程で一義的に決定されるため、一段落
ちによる入力電圧降下等の、アプリケーション回路に対
応することはできない。したがって、このようなアプリ
ケーション回路に対して最適な電流値を設定するには、
プルアップ用抵抗の抵抗値を変化させて電流値を制御す
る必要があり、そのためにはプルアップ抵抗を構成する
パターンや半導体に対する不純物の拡散濃度等の回路の
変更をしなければならず、半導体集積回路の汎用化が困
難になる。また、その設定される抵抗値は拡散中のパラ
メターにより、ばらつきができ、設計通りの抵抗値を高
精度に得ることが難しいという問題もある。
In the above-described conventional pull-up resistor circuit, it is possible to achieve low power consumption by controlling the current flowing through the pull-up resistor with time. Since the resistance value of the resistor for use is uniquely determined in the process of fabricating the semiconductor integrated circuit chip, it cannot cope with an application circuit such as an input voltage drop due to one step drop. Therefore, to set the optimal current value for such an application circuit,
It is necessary to control the current value by changing the resistance value of the pull-up resistor, and for that purpose, it is necessary to change the circuit such as the pattern constituting the pull-up resistor and the diffusion concentration of impurities into the semiconductor. It becomes difficult to generalize the integrated circuit. Further, there is a problem that the set resistance value varies depending on the parameter being diffused, and it is difficult to obtain a designed resistance value with high accuracy.

【0005】本発明の目的は、プルアップ用抵抗の抵抗
値を任意に可変し、種々の異なるアプリケーション回路
に対して好適な電流値に設定することを可能にした半導
体集積回路を提供することにある。
An object of the present invention is to provide a semiconductor integrated circuit in which the resistance value of a pull-up resistor can be arbitrarily varied and set to a current value suitable for various different application circuits. is there.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】 本発明は、半導体集積
回路の入出力用の信号線と、フローティングゲートとコ
ントロールゲートとを有するMOSトランジスタと、電
圧印加端子と、カレントミラー回路とを備え、前記MO
Sトランジスタのコントロールゲートに電圧印加端子
接続し、前記MOSトランジスタのドレインをカレント
ミラー回路の一方の電流路に接続し、信号線をカレント
ミラー回路の他方の電流路に接続し、電圧印加端子への
電圧印加時間を変化させ、前記MOSトランジスタのフ
ローティングゲートへの電荷注入量を変えることによっ
て、前記MOSトランジスタのソースとドレインとの間
に流れる電流を制御し、信号線電流値設定できる
とを特徴とする。
The present invention includes an input / output signal line of a semiconductor integrated circuit, a MOS transistor having a floating gate and a control gate, a voltage application terminal, and a current mirror circuit. MO
It is connected with a voltage application terminal to the control gate of the S transistor, the current drain of the MOS transistor
Connect the signal line to one current path of the mirror circuit , connect the signal line to the other current path of the current mirror circuit, and connect to the voltage application terminal .
The voltage application time is changed to change the voltage of the MOS transistor.
By changing the amount of charge injected into the loading gate,
The current flowing between the source and the drain of the MOS transistor can be controlled to set the current value of the signal line .

【0007】[0007]

【発明の実施の形態】次に、本発明の実施形態について
図面を参照して説明する。図1は本発明をプルアップ用
抵抗回路に適用した第1の実施形態の回路図である。同
図において、入力信号は入力端子101より信号線10
2を介してバッファ103に入力され、このバッファ1
03を介して半導体集積回路の内部回路に入力される。
また、前記信号線102の電流値を制御するための電圧
印加端子104が設けられており、この電圧印加端子1
04によって制御される電流値制御用ブロック105が
設けられる。この電流値制御用ブロック105は、ソー
スが高電位電源に接続されるディメンションの同じ第1
のPMOSトランジスタ106と第2のPMOSトラン
ジスタ107とのゲートを互いに接続し、かつこの接続
点を第1のPMOSトランジスタ106のドレインに接
続してカレントミラー回路を構成する。そして、第1の
PMOSトランジスタ106のドレインは、詳細を後述
するNMOSトランジスタ110のドレインに接続さ
れ、そのコントロールゲートに前記電圧印加端子104
が接続される。また、堰第2のPMOSトランジスタ1
07のドレインは前記信号線102に接続される。
Next, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a circuit diagram of a first embodiment in which the present invention is applied to a pull-up resistor circuit. In the figure, an input signal is sent from an input terminal 101 to a signal line 10.
2 is input to the buffer 103, and this buffer 1
The signal is input to the internal circuit of the semiconductor integrated circuit through the circuit 03.
Further, a voltage application terminal 104 for controlling the current value of the signal line 102 is provided.
There is provided a current value control block 105 controlled by the current value control block 04. The current value control block 105 has the first dimension of the same dimension whose source is connected to the high potential power supply.
The gates of the PMOS transistor 106 and the second PMOS transistor 107 are connected to each other, and this connection point is connected to the drain of the first PMOS transistor 106 to form a current mirror circuit. The drain of the first PMOS transistor 106 is connected to the drain of an NMOS transistor 110 which will be described in detail later.
Is connected. Also, the second PMOS transistor 1
07 is connected to the signal line 102.

【0008】前記NMOSトランジスタ110はMOS
トランジスタのゲートとしてフローティングゲートとコ
ントロールゲートが積層された構成であり、そのソース
が接地され、かつコントロールゲートには前記電圧印加
端子104から任意の電位が印加される。このNMOS
トランジスタ110のフローティングゲートは、コント
ロールゲート112とソース、ドレインチャンネル領域
に酸化膜を介して接し、一部がドレイン領域と極めて薄
いトンネル酸化膜と接している構成であるため、ドレイ
ン電圧より高い定電圧をコントロールゲート112に加
えると、フローティンクゲート111はコントロールゲ
ート112とのカップリングにより高電位に上がり、フ
ローティングゲート111とドレイン間の電位差が大き
くなり、前記トンネル酸化膜を通してトンネル電流が流
れ、フローティングゲート111に電子が注入される。
そして、このフローティングゲート111への電子注入
量を可変にすることで、チャネルの誘起の度合いが変化
し、これに伴ってしきい電圧を変化させる。
The NMOS transistor 110 is a MOS transistor.
The transistor has a configuration in which a floating gate and a control gate are stacked, the source thereof is grounded, and an arbitrary potential is applied to the control gate from the voltage application terminal 104. This NMOS
The floating gate of the transistor 110 has a structure in which the control gate 112 is in contact with the source and drain channel regions via an oxide film, and part of the floating gate is in contact with the drain region and an extremely thin tunnel oxide film. To the control gate 112, the floating gate 111 rises to a high potential due to the coupling with the control gate 112, the potential difference between the floating gate 111 and the drain increases, and a tunnel current flows through the tunnel oxide film, and the floating gate 111 Electrons are injected into 111.
By varying the amount of electrons injected into the floating gate 111, the degree of channel induction changes, and the threshold voltage changes accordingly.

【0009】(数1)で示す(1)式により、電圧印加
端子104に印加する電圧印加時間を制御することによ
って電子注入量の制御が可能となる。
The amount of electron injection can be controlled by controlling the voltage application time applied to the voltage application terminal 104 according to the equation (1) shown in (Equation 1).

【数1】 C:フローティングゲートとコントロールゲート間の容
量 J:フローティングゲートへの注入電流密度 t:時間
(Equation 1) C: capacitance between floating gate and control gate J: current density injected into floating gate t: time

【0010】これにより、NMOSトランジスタ110
は、抵抗値設定用トランジスタとして動作し、電圧印加
端子104の電圧印加時間に応じてNMOSトランジス
タ110のソース・ドレイン電流が変化制御される。こ
れにより、第1のPMOSトランジスタ106のソース
・ドレイン電流が追従して変化制御される。ここで、第
1及び第2のPMOSトランジスタ106,107は、
MOSトランジスタの電流電圧特性によってそれぞれの
ソースとドレイン間の電位差が異なった値であっても同
じゲート電位になるため、カレントミラー動作によって
各MOSトランジスタに接続されている信号線108と
信号線102に流れる電流値は常に同じ値になる。すな
わち、信号線102の電流はNMOSトランジスタのソ
ース・ドレイン電流と同じになり、結果としてNMOS
トランジスタ110によって信号線102の電流値を制
御することが可能となる。
As a result, the NMOS transistor 110
Operates as a resistance value setting transistor, and the source / drain current of the NMOS transistor 110 is controlled to change according to the voltage application time of the voltage application terminal 104. As a result, the source / drain current of the first PMOS transistor 106 is changed and controlled to follow. Here, the first and second PMOS transistors 106 and 107 are
Even if the potential difference between the source and the drain is different depending on the current-voltage characteristics of the MOS transistor, the same gate potential is obtained. Therefore, the current mirror operation causes the signal lines 108 and 102 connected to each MOS transistor to be connected to each other. The flowing current value always becomes the same value. That is, the current of the signal line 102 becomes the same as the source / drain current of the NMOS transistor, and as a result, the
The current value of the signal line 102 can be controlled by the transistor 110.

【0011】したがって、この実施形態では、NMOS
トランジスタ110のソース・ドレイン電流を制御する
ことで、等価的に信号線108におけるNMOSトラン
ジスタの抵抗値を変化させることができ、これに伴って
信号線102の電流値を変化させ、入力信号の電流値を
アプリケーション回路により必要とされる最適な値に設
定することが可能となる。このため、半導体集積回路の
製造時にブルアップ用抵抗の抵抗値を予め設定しておく
必要はなく、そのための設計や製造が不要となる。ま
た、不純物拡散により抵抗を形成する場合のような、拡
散むらによる抵抗値のばらつきが生じることもなく、高
精度の抵抗を電圧印加の制御のみで得ることが可能とな
る。
Therefore, in this embodiment, the NMOS
By controlling the source / drain current of the transistor 110, the resistance value of the NMOS transistor in the signal line 108 can be equivalently changed, and accordingly, the current value of the signal line 102 is changed. The value can be set to an optimum value required by the application circuit. For this reason, it is not necessary to preset the resistance value of the bull-up resistor at the time of manufacturing the semiconductor integrated circuit, and design and manufacturing for that purpose are not required. Further, it is possible to obtain a highly accurate resistor only by controlling the voltage application without causing a variation in resistance value due to uneven diffusion as in the case where a resistor is formed by impurity diffusion.

【0012】次に、本発明の第2の実施形態について図
面を参照して説明する。図2は本発明をブルダウン用抵
抗回路に適用した第2の実施形態の回路図である。同図
において、入力信号は入力端子201より信号線202
を介して入力バッファ203に入力され、半導体集積回
路の内部回路に入力される。また、前記信号線202の
電流値を制御するために、電圧印加端子204と電流値
制御用ブロック205が設けられる。この電流値制御用
ブロックは、第1の実施形態とは極性が逆に構成されて
おり、ソースが接地電位電源に接続される、ディメンシ
ョンの同じ第1のNMOSトランジスタ206と第2の
NMOSトランジスタ207とのゲートを互いに接続し
たカレントミラー回路を構成し、前記信号線202と信
号線208にそれぞれ接続している。したがって、これ
らNMOSトランジスタの電流電圧特性によって、第
1、第2のNMOSトランジスタ206,207のそれ
ぞれのソースとドレイン間の電位差が異なった値であっ
ても、同じゲート電位になるため、信号線208と信号
線202に流れる電流値は常に同じ値になる。
Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 2 is a circuit diagram of a second embodiment in which the present invention is applied to a bull-down resistor circuit. In the figure, an input signal is sent from an input terminal 201 to a signal line 202.
And input to the input buffer 203, and to the internal circuit of the semiconductor integrated circuit. Further, in order to control the current value of the signal line 202, a voltage application terminal 204 and a current value control block 205 are provided. The current value control block is configured to have a polarity opposite to that of the first embodiment, and the first NMOS transistor 206 and the second NMOS transistor 207 having the same dimensions and having the source connected to the ground potential power supply. And a current mirror circuit in which the gates are connected to each other, and are connected to the signal lines 202 and 208, respectively. Therefore, even if the potential difference between the source and the drain of each of the first and second NMOS transistors 206 and 207 has a different value due to the current-voltage characteristics of these NMOS transistors, the same gate potential is obtained. And the current value flowing through the signal line 202 always becomes the same value.

【0013】また、信号線208には、抵抗値を可変に
できるフローティングゲート211を有するPMOSト
ランジスタ210のソース・ドレインが接続されてお
り、このPMOSトランジスタ210のゲートに前記電
圧印加端子204が接続されている。なお、このPMO
Sトランジスタ210の構造は第1の実施形態のNMO
Sトランジスタと同様である。そして、この電圧印加端
子204から、そのドレイン電圧より高い定電圧をコン
トロールゲート212に加えると、フローティングゲー
ト211はコントロールゲート212とのカップリング
により高電位に上がり、フローティングゲート211と
ドレイン間の電位差が大きくなり、トンネル電流によっ
てフローティングゲート211に電子が注入される。こ
のフローティングゲート211への電子注入量を可変に
する場合には、第1の実施形態で示した(数1)の
(1)式によっており、電圧印加端子204での電圧印
加時間を制御することによって電子注入量の制御が可能
となる。
The source / drain of a PMOS transistor 210 having a floating gate 211 whose resistance can be varied is connected to the signal line 208. The voltage application terminal 204 is connected to the gate of the PMOS transistor 210. ing. This PMO
The structure of the S transistor 210 is the same as that of the NMO of the first embodiment.
It is the same as the S transistor. When a constant voltage higher than the drain voltage is applied to the control gate 212 from the voltage application terminal 204, the floating gate 211 rises to a high potential due to the coupling with the control gate 212, and the potential difference between the floating gate 211 and the drain is reduced. As the tunnel current increases, electrons are injected into the floating gate 211. In the case where the amount of electrons injected into the floating gate 211 is made variable, the voltage application time at the voltage application terminal 204 is controlled by the equation (1) of (Equation 1) shown in the first embodiment. Thus, the amount of electron injection can be controlled.

【0014】このように、この第2の実施形態において
は、電圧印加端子204での電圧印加時間を制御するこ
とによってPMOSトランジスタ210におけるソース
・ドレイン電流量を可変にでき、PMOSトランジスタ
210をプルダウン用抵抗としての抵抗値設定用トラン
ジスタとして動作させることが可能となる。そして、こ
のPMOSトランジスタ210の抵抗値を変化させるこ
とによって、入力信号が入力される信号線202におけ
る電流値をアプリケーション回路により必要とされる最
適な値に設定することが可能となる。
As described above, in the second embodiment, the amount of source / drain current in the PMOS transistor 210 can be varied by controlling the voltage application time at the voltage application terminal 204, and the PMOS transistor 210 is pulled down. It is possible to operate as a resistance setting transistor as a resistor. By changing the resistance value of the PMOS transistor 210, the current value on the signal line 202 to which the input signal is input can be set to an optimum value required by the application circuit.

【0015】[0015]

【発明の効果】 以上説明したように、本発明はMOS
トランジスタのコントロールゲートに電圧印加端子を接
続し、前記MOSトランジスタのドレインをカレントミ
ラー回路の一方の電流路に接続し、信号線をカレントミ
ラー回路の他方の電流路に接続し、電圧印加端子への電
圧印加時間を変化させ、前記MOSトランジスタのフロ
ーティングゲートへの電荷注入量を変えることによっ
て、前記MOSトランジスタのソースとドレインとの間
に流れる電流を制御し、信号線電流値設定できる
成としているので、一段落ちによる入力電圧降下等の、
様々なアプリケーション回路に対し、入力信号の電流値
を最適値に設定できる。したがって、半導体集積回路の
製造時に所定の抵抗値のプルアップ用抵抗やプルダウン
用抵抗を製造する必要がなく、しかも拡散により抵抗を
製造する際に生じる拡散ばらつきによる抵抗値のばらつ
き等も生じることがなく、高精度のプルアップまたはプ
ルダウン用抵抗を容易に得ることが可能となる。
As described above, the present invention provides a MOS
Is connected with a voltage application terminal to the control gate of the transistor, a drain connected to the MOS transistor on one current path of the current mirror circuit, to connect the signal line to the other current path of the current mirror circuit, to the voltage application terminal Electric
Voltage application time to change the flow of the MOS transistor.
Changing the amount of charge injected into the
Te, wherein controlling the current flowing between the source and the drain of the MOS transistor, since the structure <br/> formed which can set the current value of the signal line, the input voltage drop or the like according to one-step drop,
The current value of the input signal can be set to an optimum value for various application circuits. Therefore, it is not necessary to manufacture a pull-up resistor or a pull-down resistor having a predetermined resistance value when manufacturing a semiconductor integrated circuit, and there may be a variation in resistance value due to a diffusion variation generated when manufacturing a resistor by diffusion. Therefore, a highly accurate pull-up or pull-down resistor can be easily obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1の実施形態の回路図である。FIG. 1 is a circuit diagram of a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の第2の実施形態の回路図である。FIG. 2 is a circuit diagram according to a second embodiment of the present invention.

【図3】従来のプルアップ抵抗を有する入力回路とその
動作を説明するための波形図である。
FIG. 3 is a waveform diagram for explaining a conventional input circuit having a pull-up resistor and its operation.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

101,201 入力端子 102,202 信号線 103,203 入力バッファ 104,204 電圧印加端子 106,107 PMOSトランジスタ 110 フローティングゲートを有するNMOSトラン
ジスタ 206,207 NMOSトランジスタ 210 フローティングゲートを有するPMOSトラン
ジスタ 111,211 フローティングゲート 112,212 コントロールゲート
101, 201 input terminal 102, 202 signal line 103, 203 input buffer 104, 204 voltage application terminal 106, 107 PMOS transistor 110 NMOS transistor with floating gate 206, 207 NMOS transistor 210 PMOS transistor with floating gate 111, 211 floating gate 112, 212 Control gate

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 半導体集積回路の入出力用の信号線と、
フローティングゲートとコントロールゲートとを有する
MOSトランジスタと、電圧印加端子と、カレントミラ
ー回路とを備え、 前記MOSトランジスタのコントロールゲートに前記電
圧印加端子を接続し、前記MOSトランジスタのドレイ
ンを前記カレントミラー回路の一方の電流路に接続し、
前記信号線をカレントミラー回路の他方の電流路に接続
し、前記電圧印加端子への電圧印加時間を変化させ、前
記MOSトランジスタのフローティングゲートへの電荷
注入量を変えることによって、前記MOSトランジスタ
のソースとドレインとの間に流れる電流を制御し、前記
信号線の電流値設定できることを特徴とする半導体集
積回路。
An input / output signal line for a semiconductor integrated circuit;
A MOS transistor having a floating gate and a control gate; a voltage application terminal; and a current mirror circuit. The voltage application terminal is connected to a control gate of the MOS transistor, and a drain of the MOS transistor is connected to the current mirror circuit. Connected to one of the current paths,
Connecting the signal line to the other current path of the current mirror circuit changes the voltage application time to the voltage application terminal, before
Charge to floating gate of MOS transistor
A semiconductor integrated circuit characterized in that a current flowing between a source and a drain of the MOS transistor is controlled by changing an injection amount, and a current value of the signal line can be set .
【請求項2】 半導体集積回路におけるプルアップまた
はプルダウン用抵抗回路において、 第1の電位電源と、第2の電位電源と、電圧印加端子
と、入出力端子と、第1の導電型チャネルを有する第1
のMOSトランジスタと、前記第1のMOSトランジス
タと同じディメンジョンを持つ第1の導電型チャネルを
有する第2のMOSトランジスタと、フローティングゲ
ートとコントロールゲートと第2の導電型チャネルとを
有する第3のMOSトランジスタとを備え、 前記第1のMOSトランジスタ、及び前記第2のMOS
トランジスタのソースを前記第1の電位電源に接続し、 前記第1のMOSトランジスタ、及び前記第2のMOS
トランジスタのゲートを互いに接続し、前記第1のMO
Sトランジスタのゲートとドレインとが接続される電流
路を介して、前記第1のMOSトランジスタと前記第3
のMOSトランジスタのドレインとを接続し、 前記第3のMOSトランジスタのソースを第2の電位電
源に接続し、前記第3のMOSトランジスタのコントロ
ールゲートを前記電圧印加端子に接続し、 前記第2のMOSトランジスタのドレインに接続される
電流路を前記信号線を介して前記入出力端子に接続して
いることを特徴とする半導体集積回路。
2. A pull-up or pull-down resistor circuit in a semiconductor integrated circuit, comprising: a first potential power supply, a second potential power supply, a voltage application terminal, an input / output terminal, and a first conductivity type channel. First
MOS transistor, a second MOS transistor having a first conductivity type channel having the same dimensions as the first MOS transistor, and a third MOS transistor having a floating gate, a control gate, and a second conductivity type channel A first MOS transistor; and a second MOS transistor.
A source of the transistor is connected to the first potential power source, the first MOS transistor, and the second MOS
Connecting the gates of the transistors to each other,
The first MOS transistor and the third MOS transistor are connected via a current path connecting the gate and the drain of the S transistor.
Connecting the source of the third MOS transistor to a second potential power supply; connecting the control gate of the third MOS transistor to the voltage application terminal; A semiconductor integrated circuit, wherein a current path connected to a drain of a MOS transistor is connected to the input / output terminal via the signal line.
【請求項3】 前記電圧印加端子への電圧印加時間を変
化させ、前記MOS トランジスタのフローティングゲー
トへの電荷注入量を変えることによって、前記MOSト
ランジスタのソースとドレインとの間に流れる電流を制
御し、前記信号線の電流値設定できることを特徴とす
る請求項2に記載の半導体集積回路。
3. A floating gate of the MOS transistor , wherein a voltage application time to the voltage application terminal is changed.
3. The semiconductor integrated circuit according to claim 2, wherein a current flowing between the source and the drain of the MOS transistor is controlled by changing a charge injection amount into the MOS transistor, and a current value of the signal line can be set. 4. circuit.
JP8272059A 1996-10-15 1996-10-15 Semiconductor integrated circuit Expired - Fee Related JP3024570B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8272059A JP3024570B2 (en) 1996-10-15 1996-10-15 Semiconductor integrated circuit

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8272059A JP3024570B2 (en) 1996-10-15 1996-10-15 Semiconductor integrated circuit

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH10126236A JPH10126236A (en) 1998-05-15
JP3024570B2 true JP3024570B2 (en) 2000-03-21

Family

ID=17508534

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP8272059A Expired - Fee Related JP3024570B2 (en) 1996-10-15 1996-10-15 Semiconductor integrated circuit

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3024570B2 (en)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6813178B2 (en) 2003-03-12 2004-11-02 Micron Technology, Inc. Chalcogenide glass constant current device, and its method of fabrication and operation
JP6506968B2 (en) * 2015-01-09 2019-04-24 旭化成エレクトロニクス株式会社 Voltage detector

Also Published As

Publication number Publication date
JPH10126236A (en) 1998-05-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100274918B1 (en) Silicon-on-insulator body-coupled gated diode for electrostatic discharge(esd) and analog applications
EP0717334B1 (en) Circuit for providing a compensated bias voltage
US5347179A (en) Inverting output driver circuit for reducing electron injection into the substrate
EP0134731A1 (en) Complementary logic integrated circuit
US6970037B2 (en) Programmable analog bias circuits using floating gate CMOS technology
US6005434A (en) Substrate potential generation circuit that can suppress variation of output voltage with respect to change in external power supply voltage and environment temperature
JPH10508175A (en) High voltage level shifter for high voltage switching in nonvolatile memory integrated circuits
US5886920A (en) Variable conducting element and method of programming
US7193264B2 (en) Floating gate transistors
JP3680122B2 (en) Reference voltage generation circuit
US4347476A (en) Voltage-temperature insensitive on-chip reference voltage source compatible with VLSI manufacturing techniques
JP2809768B2 (en) Reference potential generation circuit
US6275100B1 (en) Reference voltage generators including first and second transistors of same conductivity type and at least one switch
KR0163728B1 (en) Constant voltage generating circuit comprising bi-mos
JP3024570B2 (en) Semiconductor integrated circuit
US4025940A (en) MOS type semiconductor device
JPS6070822A (en) Semiconductor integrated circuit
US6023157A (en) Constant-current circuit for logic circuit in integrated semiconductor
JPH06230840A (en) Bias circuit
EP0645890B1 (en) BiCMOS logic circuit
US5821588A (en) Transistor and semiconductor device
JPH10229333A (en) Integrated circuit detecting threshold voltage of transistor and biasing digitally the same and method related thereto
US4680481A (en) Integrated JK-flipflop circuit including hot-electron transistors
JP2964775B2 (en) Reference voltage generation circuit
JP2557846B2 (en) Semiconductor integrated circuit

Legal Events

Date Code Title Description
LAPS Cancellation because of no payment of annual fees