JP3020753B2 - 電子ビーム連続照射設備 - Google Patents
電子ビーム連続照射設備Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、電子ビーム連続照射
設備に関し、とくに連続して走行する金属ストリップ
（以下ストリップと記述する）に対して、効果的な電子
ビームの連続照射を可能ならしめようとするものであ
る。
設備に関し、とくに連続して走行する金属ストリップ
（以下ストリップと記述する）に対して、効果的な電子
ビームの連続照射を可能ならしめようとするものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】近年、電磁鋼板の鉄損特性を改善する技
術として磁区細分化技術が脚光を浴びている。かかる磁
区細分化技術の一つとして、電磁鋼板の表面、あるいは
セラミック被膜さらには絶縁被膜を被成した電磁鋼板の
表面に、電子ビームを照射することによって局部的な微
小歪を導入し、もって磁区の細分化を図る技術が知られ
ている（例えば特開昭63-96218号公報、同63−186826号
公報、特開平１−281708号公報、特公平２-40724号公
報）。しかしながら上記の技術はいずれも、実験室レベ
ルでのテストであり、切り板をバッチ式真空室に入れて
電子ビーム照射を行ったものがほとんどであった。
術として磁区細分化技術が脚光を浴びている。かかる磁
区細分化技術の一つとして、電磁鋼板の表面、あるいは
セラミック被膜さらには絶縁被膜を被成した電磁鋼板の
表面に、電子ビームを照射することによって局部的な微
小歪を導入し、もって磁区の細分化を図る技術が知られ
ている（例えば特開昭63-96218号公報、同63−186826号
公報、特開平１−281708号公報、特公平２-40724号公
報）。しかしながら上記の技術はいずれも、実験室レベ
ルでのテストであり、切り板をバッチ式真空室に入れて
電子ビーム照射を行ったものがほとんどであった。
【０００３】これに対し、ストリップの連続的処理を目
的として、特開昭64-230号公報、特開平３-87319号公報
及び同４−131376号公報に示されるような差圧室の利用
が考えられている。しかしながらかような設備について
も、実験室レベルを脱せず、実生産を効率的に行う上で
必要な前後設備については、その必要機能を含めて実際
的な検討は全く行われていないのが現状である。
的として、特開昭64-230号公報、特開平３-87319号公報
及び同４−131376号公報に示されるような差圧室の利用
が考えられている。しかしながらかような設備について
も、実験室レベルを脱せず、実生産を効率的に行う上で
必要な前後設備については、その必要機能を含めて実際
的な検討は全く行われていないのが現状である。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】この発明は、上記の実
情に鑑み開発されたもので、素材ストリップの特性や電
子ビーム照射処理の特性を考慮し、実生産を可能ならし
める電子ビーム連続照射設備を提案することを目的とす
る。
情に鑑み開発されたもので、素材ストリップの特性や電
子ビーム照射処理の特性を考慮し、実生産を可能ならし
める電子ビーム連続照射設備を提案することを目的とす
る。
【０００５】
【課題を解決するための手段】すなわちこの発明の要旨
構成は次のとおりである。 １．ストリップを水平かつ平坦な状態で連続的に真空室
に導入して連続的に電子ビームを照射する電子ビーム照
射室とその前後に設置した差圧式真空シール装置とで電
子ビーム照射装置を構成し、その上流及び下流側にそれ
ぞれ、該電子ビーム照射装置に対するストリップの連続
的な導通を司るペイオフリール及びテンションリールを
配設すると共に、該ペイオフリール及びテンションリー
ルの近傍にそれぞれ入側シャー及び出側シャーを設け、
かつ該入側シャーの下流に溶接機を配設したことを特徴
とする電子ビーム連続照射設備（第１発明）。
構成は次のとおりである。 １．ストリップを水平かつ平坦な状態で連続的に真空室
に導入して連続的に電子ビームを照射する電子ビーム照
射室とその前後に設置した差圧式真空シール装置とで電
子ビーム照射装置を構成し、その上流及び下流側にそれ
ぞれ、該電子ビーム照射装置に対するストリップの連続
的な導通を司るペイオフリール及びテンションリールを
配設すると共に、該ペイオフリール及びテンションリー
ルの近傍にそれぞれ入側シャー及び出側シャーを設け、
かつ該入側シャーの下流に溶接機を配設したことを特徴
とする電子ビーム連続照射設備（第１発明）。
【０００６】２．上記１において、溶接機が突き合わせ
溶接機である電子ビーム連続照射設備。
溶接機である電子ビーム連続照射設備。
【０００７】３．上記１又は２において、電子ビーム照
射装置の入側及び出側にそれぞれ少なくとも１組のブラ
イドルロールを設けてなる電子ビーム連続照射設備（第
２発明）。
射装置の入側及び出側にそれぞれ少なくとも１組のブラ
イドルロールを設けてなる電子ビーム連続照射設備（第
２発明）。
【０００８】４．上記１，２又は３において、電子ビー
ム照射装置の入側に少なくとも１台のストリップセンタ
リング設備を配設してなる電子ビーム連続照射設備（第
３発明）。
ム照射装置の入側に少なくとも１台のストリップセンタ
リング設備を配設してなる電子ビーム連続照射設備（第
３発明）。
【０００９】５．上記１，２，３又は４において、電子
ビーム照射装置の入側にストリップ前処理装置を設置し
てなる電子ビーム連続照射設備（第４発明）。
ビーム照射装置の入側にストリップ前処理装置を設置し
てなる電子ビーム連続照射設備（第４発明）。
【００１０】６．上記５において、ストリップ前処理装
置がサイドトリマである電子ビーム連続照射設備。
置がサイドトリマである電子ビーム連続照射設備。
【００１１】７．上記５において、ストリップ前処理装
置が乾燥装置である電子ビーム連続照射設備。
置が乾燥装置である電子ビーム連続照射設備。
【００１２】８．上記１〜７のいずれかにおいて、電子
ビーム照射装置の出側にストリップの検査装置を設置し
てなる電子ビーム連続照射設備（第５発明）。
ビーム照射装置の出側にストリップの検査装置を設置し
てなる電子ビーム連続照射設備（第５発明）。
【００１３】９. 上記８において、ストリップの検査装
置が連続鉄損測定装置である電子ビーム連続照射設備。
置が連続鉄損測定装置である電子ビーム連続照射設備。
【００１４】10. 上記８において、ストリップの検査装
置が表面疵検査装置である電子ビーム連続照射設備。
置が表面疵検査装置である電子ビーム連続照射設備。
【００１５】11. 上記１〜10のいずれかにおいて、電子
ビーム照射装置の入側及び出側にそれぞれストリップ・
ルーピング設備を設置してなる電子ビーム連続照射設備
（第６発明）。
ビーム照射装置の入側及び出側にそれぞれストリップ・
ルーピング設備を設置してなる電子ビーム連続照射設備
（第６発明）。
【００１６】12. 上記１〜11のいずれかにおいて、電子
ビーム照射装置の電子ビーム照射室とその前後に設置し
た差圧式真空シール装置との間にそれぞれＸ線遮蔽装置
を配設してなる電子ビーム連続照射設備（第７発明）。
ビーム照射装置の電子ビーム照射室とその前後に設置し
た差圧式真空シール装置との間にそれぞれＸ線遮蔽装置
を配設してなる電子ビーム連続照射設備（第７発明）。
【００１７】13. 上記１〜12のいずれかにおいて、電子
ビーム照射室がアイドルターゲットをそなえてなる電子
ビーム連続照射設備（第８発明）。
ビーム照射室がアイドルターゲットをそなえてなる電子
ビーム連続照射設備（第８発明）。
【００１８】14. 上記８〜12のいずれかにおいて、電子
ビーム照射装置とストリップの検査装置は階上に配設す
る一方、他の装置は階下に配設する２階構造とし、しか
もペイオフリールとテンションリールを近接配置として
なる電子ビーム連続照射設備。
ビーム照射装置とストリップの検査装置は階上に配設す
る一方、他の装置は階下に配設する２階構造とし、しか
もペイオフリールとテンションリールを近接配置として
なる電子ビーム連続照射設備。
【００１９】図１に、この発明に従う電子ビーム連続照
射設備の好適例を模式で示す。図中、番号１が電子ビー
ム照射装置であり、この設備は電子ビーム照射室２とそ
の前後に設置した差圧式真空シール装置３，３′からな
る。４はペイオフリール、５はテンションリールであ
り、６，６′はそれぞれペイオフリール４、テンション
リール５の近傍に設けた入側シャー及び出側シャー、そ
して７が入側シャー６の下流に設けた溶接機である。
８，８′はブライドルロール、９はストリップセンタリ
ング設備、10はストリップ前処理装置、11はストリップ
検査装置であり、12, 12′はストリップ・ルーピング設
備、13, 13′はＸ線遮蔽装置である。
射設備の好適例を模式で示す。図中、番号１が電子ビー
ム照射装置であり、この設備は電子ビーム照射室２とそ
の前後に設置した差圧式真空シール装置３，３′からな
る。４はペイオフリール、５はテンションリールであ
り、６，６′はそれぞれペイオフリール４、テンション
リール５の近傍に設けた入側シャー及び出側シャー、そ
して７が入側シャー６の下流に設けた溶接機である。
８，８′はブライドルロール、９はストリップセンタリ
ング設備、10はストリップ前処理装置、11はストリップ
検査装置であり、12, 12′はストリップ・ルーピング設
備、13, 13′はＸ線遮蔽装置である。
【００２０】以下、各発明について具体的に説明する。第１発明 第１発明は、水平かつ平坦な状態で連続的に真空室に導
入したストリップｓに連続的に電子ビームを照射する電
子ビーム照射室２とその前後に設置した差圧式真空シー
ル装置３，３′とで構成した電子ビーム照射装置１の上
流及び下流側にそれぞれ、ペイオフリール４及びテンシ
ョンリール５を配設すると共に、これらペイオフリール
４及びテンションリール５の近傍にそれぞれ入側シャー
６、出側シャー６′を設け、かつこの入側シャー６の下
流に溶接機７を配設したものである。このような構成と
することにより、ストリップｓの連続的な巻戻し、巻取
りが可能となり、もって電子ビーム照射装置１に対する
ストリップｓの安定した導通が実現される。また、先行
ストリップと後続するストリップの接続が可能となり、
ひいては多数のストリップコイルの連続処理が実現され
る。
入したストリップｓに連続的に電子ビームを照射する電
子ビーム照射室２とその前後に設置した差圧式真空シー
ル装置３，３′とで構成した電子ビーム照射装置１の上
流及び下流側にそれぞれ、ペイオフリール４及びテンシ
ョンリール５を配設すると共に、これらペイオフリール
４及びテンションリール５の近傍にそれぞれ入側シャー
６、出側シャー６′を設け、かつこの入側シャー６の下
流に溶接機７を配設したものである。このような構成と
することにより、ストリップｓの連続的な巻戻し、巻取
りが可能となり、もって電子ビーム照射装置１に対する
ストリップｓの安定した導通が実現される。また、先行
ストリップと後続するストリップの接続が可能となり、
ひいては多数のストリップコイルの連続処理が実現され
る。
【００２１】ここに、ストリップの真空室への導入状態
を水平かつ平坦な状態に限定したのは、被処理材が破断
し易いけい素鋼板の場合は平坦パスとすることが、また
電子銃による板面走査の精度、確率の面からは水平・平
坦パスが不可欠だからである。なお、溶接機としては、
レーザビーム溶接機のような突き合わせ溶接機が好適で
ある。というのは、電子ビーム照射装置１の差圧シール
機構としては、シールバー方式及びピンチロール方式が
考えられるが、いずれにしても高度な真空を保つために
は、そのギャップ設定は最小限に止める必要があり、こ
の観点からは溶接部における板厚変動が小さい突き合わ
せ溶接が最適だからである。なおピンチロール方式に限
って言えば、ナローラップシーム溶接までは通板可能で
ある。
を水平かつ平坦な状態に限定したのは、被処理材が破断
し易いけい素鋼板の場合は平坦パスとすることが、また
電子銃による板面走査の精度、確率の面からは水平・平
坦パスが不可欠だからである。なお、溶接機としては、
レーザビーム溶接機のような突き合わせ溶接機が好適で
ある。というのは、電子ビーム照射装置１の差圧シール
機構としては、シールバー方式及びピンチロール方式が
考えられるが、いずれにしても高度な真空を保つために
は、そのギャップ設定は最小限に止める必要があり、こ
の観点からは溶接部における板厚変動が小さい突き合わ
せ溶接が最適だからである。なおピンチロール方式に限
って言えば、ナローラップシーム溶接までは通板可能で
ある。
【００２２】第２発明 良好な電子ビーム照射を行うためには、板面を平坦に維
持することは勿論であるが、処理中におけるストリップ
の蛇行を極力低減する必要があり、一般的には、電子ビ
ーム照射装置１内におけるストリップ張力を上げれば、
通板は安定する。そこで第２発明では、電子ビーム照射
装置１の入側及び出側にそれぞれ少なくとも１組のブラ
イドルロール８，８′を設けることにより、高張力通板
を可能ならしめたものである。
持することは勿論であるが、処理中におけるストリップ
の蛇行を極力低減する必要があり、一般的には、電子ビ
ーム照射装置１内におけるストリップ張力を上げれば、
通板は安定する。そこで第２発明では、電子ビーム照射
装置１の入側及び出側にそれぞれ少なくとも１組のブラ
イドルロール８，８′を設けることにより、高張力通板
を可能ならしめたものである。
【００２３】第３発明 第３発明は、上述したところと同様の理由により、電子
ビーム照射処理の安定化を図るために、電子ビーム照射
装置１の入側に少なくとも１台のストリップセンタリン
グ設備９を配置したものである。
ビーム照射処理の安定化を図るために、電子ビーム照射
装置１の入側に少なくとも１台のストリップセンタリン
グ設備９を配置したものである。
【００２４】第４発明 第４発明は、電子ビーム照射室２内及び差圧式真空シー
ル装置３，３′内で安定した処理が行えるように、電子
ビーム照射装置１の入側にストリップ前処理装置10を設
けたものである。ここに代表的な前処理としては、サイ
ドトリマとストリップの乾燥処理とがある。以下、各処
理について説明する。
ル装置３，３′内で安定した処理が行えるように、電子
ビーム照射装置１の入側にストリップ前処理装置10を設
けたものである。ここに代表的な前処理としては、サイ
ドトリマとストリップの乾燥処理とがある。以下、各処
理について説明する。
【００２５】方向性電磁鋼板は、複雑な製造工程を経る
過程で平坦度が損なわれ、特に側縁部には耳波と呼ばれ
る平坦度不良が発生し易い。この耳波は、差圧式真空シ
ール装置３，３′内通過時にひっかけや破断等のトラブ
ル発生の原因となる。また電子ビーム照射処理中におけ
るパスラインの変動要因ともなるために、電子ビーム照
射処理前にサイドトリミングにより除去することが望ま
しい。しかしながら事前にスリッタを通す等の対応は、
工程の増加を招き、納期やコストの面で不利が生じる。
この点、電子ビーム照射装置１の入側にストリップ前処
理装置10としてサイドトリマを設置すれば、上記の問題
が有利に解消されるわけである。
過程で平坦度が損なわれ、特に側縁部には耳波と呼ばれ
る平坦度不良が発生し易い。この耳波は、差圧式真空シ
ール装置３，３′内通過時にひっかけや破断等のトラブ
ル発生の原因となる。また電子ビーム照射処理中におけ
るパスラインの変動要因ともなるために、電子ビーム照
射処理前にサイドトリミングにより除去することが望ま
しい。しかしながら事前にスリッタを通す等の対応は、
工程の増加を招き、納期やコストの面で不利が生じる。
この点、電子ビーム照射装置１の入側にストリップ前処
理装置10としてサイドトリマを設置すれば、上記の問題
が有利に解消されるわけである。
【００２６】また電子ビーム照射処理は真空中で行われ
るため、処理室は常時真空に引かれている。この時、排
ガス量の内分け（発生ガス量）で最大のものはストリッ
プの持込みガスである。この原因は、ストリップ表面に
吸着されている水分などの気化性物質である。特にスト
リップ表面に絶縁被膜を有する場合は、この絶縁被膜が
微視的にはポーラスな組織であることから、この中に吸
着された水分が電子ビーム照射により表に出て来ること
によるものと考えられている。しかも日本の夏は一般に
高温多湿であり、この時期には被膜中に多量の水分が吸
着していると考えられる。一方、真空排気系は、排気量
に比例してポンプ、配管等が大きくなるため、この吸着
量に応じて真空排気設備を整備することは、設備コスト
及びランニングコストの増大を招く。しかしながら、電
子ビーム照射処理前にかような吸着物を除去しておけ
ば、上記の問題は解消する。そこで、電子ビーム照射装
置１の入側にストリップ前処理装置10として乾燥装置を
設置するのである。
るため、処理室は常時真空に引かれている。この時、排
ガス量の内分け（発生ガス量）で最大のものはストリッ
プの持込みガスである。この原因は、ストリップ表面に
吸着されている水分などの気化性物質である。特にスト
リップ表面に絶縁被膜を有する場合は、この絶縁被膜が
微視的にはポーラスな組織であることから、この中に吸
着された水分が電子ビーム照射により表に出て来ること
によるものと考えられている。しかも日本の夏は一般に
高温多湿であり、この時期には被膜中に多量の水分が吸
着していると考えられる。一方、真空排気系は、排気量
に比例してポンプ、配管等が大きくなるため、この吸着
量に応じて真空排気設備を整備することは、設備コスト
及びランニングコストの増大を招く。しかしながら、電
子ビーム照射処理前にかような吸着物を除去しておけ
ば、上記の問題は解消する。そこで、電子ビーム照射装
置１の入側にストリップ前処理装置10として乾燥装置を
設置するのである。
【００２７】第５発明 電子ビーム照射処理は、ストリップの特性改善を目的と
して実施するものであるから、処理後のストリップ特性
が目標値に達しているかどうかを調べることは重要であ
る。また電子ビーム照射処理は、その副作用で表面に疵
が生じることがあるので、表面性状に問題がないかどう
かを検査することも重要である。そこで第５発明では、
電子ビーム照射装置１の出側に、連続鉄損測定装置や表
面疵検査装置などのストリップの検査装置11を設けるこ
とにしたのである。なおかかる装置で測定された結果
は、電子ビーム照射処理にフィードバックして、所望の
特性及び表面性状が得られるよう、処理条件の制御に利
用する。
して実施するものであるから、処理後のストリップ特性
が目標値に達しているかどうかを調べることは重要であ
る。また電子ビーム照射処理は、その副作用で表面に疵
が生じることがあるので、表面性状に問題がないかどう
かを検査することも重要である。そこで第５発明では、
電子ビーム照射装置１の出側に、連続鉄損測定装置や表
面疵検査装置などのストリップの検査装置11を設けるこ
とにしたのである。なおかかる装置で測定された結果
は、電子ビーム照射処理にフィードバックして、所望の
特性及び表面性状が得られるよう、処理条件の制御に利
用する。
【００２８】第６発明 第６発明は、中央セクションでの非定常な間けつ送りな
どに起因した照射ピッチのずれ等の不具合を防止するた
め、またストリップコイルの装入・搬出の際のライン停
止による生産性の低下を防止するために、電子ビーム照
射装置１の入側及び出側にそれぞれストリップ・ルーピ
ング設備12, 12′を設置したものである。
どに起因した照射ピッチのずれ等の不具合を防止するた
め、またストリップコイルの装入・搬出の際のライン停
止による生産性の低下を防止するために、電子ビーム照
射装置１の入側及び出側にそれぞれストリップ・ルーピ
ング設備12, 12′を設置したものである。
【００２９】第７発明 第７発明は、電子ビーム照射装置１の電子ビーム照射室
２とその前後に設置した差圧式真空シール装置３，３′
との間にそれぞれＸ線遮蔽装置13, 13′を配設したもの
である。図２に示すように、ストリップｓの表面に電子
ビーム14を照射するとＸ線15が生じるが、このＸ線15は
人体に有害であるので遮蔽する必要がある。そのため電
子ビーム照射装置２の内部は、鉛等の内張り16を施して
Ｘ線の外部への漏洩を防止しているが、この方法では不
十分で、鋼板の板面に沿って前後方向に放射されるＸ線
を完全に遮蔽することはできない。というのはストリッ
プは、前述したとおり、水平、平坦パスでしかもゴムロ
ールで挟んで搬送されているからである。そこで第７発
明では、Ｘ線の外部への漏洩を問題のないレベルまで低
減させるために、電子ビーム照射室２と差圧式真空シー
ル装置３，３′との間にＸ線遮蔽装置13, 13′を設ける
ことにしたのである。なお、かかるＸ線遮蔽装置の配置
位置としては、差圧式真空シール装置３，３′の両外側
も考えられるけれども、差圧式真空シール装置３，３′
の両外側に配設する場合には、差圧式真空シール装置の
内部についても鉛で内張りするという煩雑な処理が必要
となる。
２とその前後に設置した差圧式真空シール装置３，３′
との間にそれぞれＸ線遮蔽装置13, 13′を配設したもの
である。図２に示すように、ストリップｓの表面に電子
ビーム14を照射するとＸ線15が生じるが、このＸ線15は
人体に有害であるので遮蔽する必要がある。そのため電
子ビーム照射装置２の内部は、鉛等の内張り16を施して
Ｘ線の外部への漏洩を防止しているが、この方法では不
十分で、鋼板の板面に沿って前後方向に放射されるＸ線
を完全に遮蔽することはできない。というのはストリッ
プは、前述したとおり、水平、平坦パスでしかもゴムロ
ールで挟んで搬送されているからである。そこで第７発
明では、Ｘ線の外部への漏洩を問題のないレベルまで低
減させるために、電子ビーム照射室２と差圧式真空シー
ル装置３，３′との間にＸ線遮蔽装置13, 13′を設ける
ことにしたのである。なお、かかるＸ線遮蔽装置の配置
位置としては、差圧式真空シール装置３，３′の両外側
も考えられるけれども、差圧式真空シール装置３，３′
の両外側に配設する場合には、差圧式真空シール装置の
内部についても鉛で内張りするという煩雑な処理が必要
となる。
【００３０】第８発明 第８発明は、電子ビーム照射室２の内部にアイドルター
ゲットを設けることにより、必要に応じた生産量の調整
を可能ならしめたものである。この発明に従う電子ビー
ム照射は、強く絞った電子ビームをストリップに対し、
その幅方向に特定のピッチで走査するところに特長があ
り、ここに１本の線状痕の形成に要するビーム照射時間
は、ストリップの特性改善効果が最大となるエネルギ入
力量から決定され、また照射ピッチも同様理由で決定さ
れる。また電子銃は、一般にその特性上、電子ビームの
走査は偏向コイルによって極めて迅速に行うことが可能
な反面、電子ビームの起動、停止操作は簡単にはできな
いため、ビーム照射は連続照射で行うことが必要とされ
る。一方、かかる電子ビーム照射によるストリップの特
性改善技術を、実生産ラインに適用する場合を考える
と、ストリップの搬送速度は、本来、その製品生産量に
基づいて決定されるべきものであるが、電子ビームによ
る線状痕１本当たりの照射時間及び照射ピッチは、上述
したとおり製品の品質から決定されるため、製品品質を
考えるとストリップ搬送速度は一義的に決定されてしま
い、生産量を調整することができなくなる。そこで第８
発明では、図３に示すように、電子ビーム照射室２の内
部に、電子ビーム14を受けるアイドルターゲット17を設
け、ストリップｓに対する必要照射時以外は、このアイ
ドルターゲット17で電子ビームを受けることにより、ス
トリップ搬送速度のビーム照射条件からの規制をなく
し、必要に応じた生産量の調整を可能ならしめるのであ
る。
ゲットを設けることにより、必要に応じた生産量の調整
を可能ならしめたものである。この発明に従う電子ビー
ム照射は、強く絞った電子ビームをストリップに対し、
その幅方向に特定のピッチで走査するところに特長があ
り、ここに１本の線状痕の形成に要するビーム照射時間
は、ストリップの特性改善効果が最大となるエネルギ入
力量から決定され、また照射ピッチも同様理由で決定さ
れる。また電子銃は、一般にその特性上、電子ビームの
走査は偏向コイルによって極めて迅速に行うことが可能
な反面、電子ビームの起動、停止操作は簡単にはできな
いため、ビーム照射は連続照射で行うことが必要とされ
る。一方、かかる電子ビーム照射によるストリップの特
性改善技術を、実生産ラインに適用する場合を考える
と、ストリップの搬送速度は、本来、その製品生産量に
基づいて決定されるべきものであるが、電子ビームによ
る線状痕１本当たりの照射時間及び照射ピッチは、上述
したとおり製品の品質から決定されるため、製品品質を
考えるとストリップ搬送速度は一義的に決定されてしま
い、生産量を調整することができなくなる。そこで第８
発明では、図３に示すように、電子ビーム照射室２の内
部に、電子ビーム14を受けるアイドルターゲット17を設
け、ストリップｓに対する必要照射時以外は、このアイ
ドルターゲット17で電子ビームを受けることにより、ス
トリップ搬送速度のビーム照射条件からの規制をなく
し、必要に応じた生産量の調整を可能ならしめるのであ
る。
【００３１】
【作用】次に、この発明設備を用いた最適処理方法につ
いて説明する。さてストリップコイルはまず、ペイオフ
リール４で巻戻され、入側シャー６にて先，後端が切断
される。とくに先行コイルの後端と後行コイルの先端と
を溶接機７で接続すれば、コイルの連続供給が可能とな
る。ここに溶接方式としては、溶接部が差圧式真空シー
ル装置３，３′で狭いクリアランスを通過するのに支障
のない厚みとなるレーザ突き合わせ方式又はナローラッ
プシーム方式とすることが好ましいことは、前述したと
おりである。
いて説明する。さてストリップコイルはまず、ペイオフ
リール４で巻戻され、入側シャー６にて先，後端が切断
される。とくに先行コイルの後端と後行コイルの先端と
を溶接機７で接続すれば、コイルの連続供給が可能とな
る。ここに溶接方式としては、溶接部が差圧式真空シー
ル装置３，３′で狭いクリアランスを通過するのに支障
のない厚みとなるレーザ突き合わせ方式又はナローラッ
プシーム方式とすることが好ましいことは、前述したと
おりである。
【００３２】ストリップｓは、ブライドルロール８，
８′により、電子ビーム照射装置１にて蛇行が発生しな
い程度の張力が付与される。またストリップｓは、サイ
ドトリマでエッジ耳波部を切り落とすことにより、差圧
式真空シール装置３，３′における板破断等のトラブル
を防止すると共に、電子ビーム照射室２内でのパスライ
ン変動による照射不良も併せて防止する。さらに乾燥装
置にて、ストリップ表面に吸着している水分を乾燥する
ことにより、電子ビーム照射装置１におけるガス発生を
低減することができる。そして電子ビーム照射装置１に
入る前に、センタリング設備９（ステアリングロール）
にてストリップｓのセンタリングを行い、電子ビーム照
射装置１での照射不良を未然に防止する。
８′により、電子ビーム照射装置１にて蛇行が発生しな
い程度の張力が付与される。またストリップｓは、サイ
ドトリマでエッジ耳波部を切り落とすことにより、差圧
式真空シール装置３，３′における板破断等のトラブル
を防止すると共に、電子ビーム照射室２内でのパスライ
ン変動による照射不良も併せて防止する。さらに乾燥装
置にて、ストリップ表面に吸着している水分を乾燥する
ことにより、電子ビーム照射装置１におけるガス発生を
低減することができる。そして電子ビーム照射装置１に
入る前に、センタリング設備９（ステアリングロール）
にてストリップｓのセンタリングを行い、電子ビーム照
射装置１での照射不良を未然に防止する。
【００３３】また、電子ビーム照射に伴い発生したＸ線
については、人体に害を与えないように、Ｘ線遮蔽装置
13, 13′にて外部への漏洩を防止する。さらに、ストリ
ップｓに対する必要照射時以外は、電子ビーム照射室２
内に設けたアイドルターゲット17で電子ビームを受ける
ことにより、必要生産量に応じたストリップ搬送速度が
維持される。
については、人体に害を与えないように、Ｘ線遮蔽装置
13, 13′にて外部への漏洩を防止する。さらに、ストリ
ップｓに対する必要照射時以外は、電子ビーム照射室２
内に設けたアイドルターゲット17で電子ビームを受ける
ことにより、必要生産量に応じたストリップ搬送速度が
維持される。
【００３４】次に、電子ビーム照射処理を終えたストリ
ップｓは、検査装置11にて、鉄損値及び表面性状を調査
する。この調査によって異常が発見された場合は、その
調査結果を電子ビーム照射処理にフィードバックし、処
理条件を適切な条件に設定し直す。検査後、テンション
リール５にて再度コイルに巻取りつつ、出側シャー６′
にて適当な長さに切断する。なお電子ビーム照射装置１
の入、出側に、ルーピング設備12, 12′を設置すること
により、コイルの装入、払出し時においても、電子ビー
ム照射処理の連続操業が可能となり、生産性の向上と共
に、インチングに伴う照射不良（照射ピッチのずれ）の
発生を防止することができる。
ップｓは、検査装置11にて、鉄損値及び表面性状を調査
する。この調査によって異常が発見された場合は、その
調査結果を電子ビーム照射処理にフィードバックし、処
理条件を適切な条件に設定し直す。検査後、テンション
リール５にて再度コイルに巻取りつつ、出側シャー６′
にて適当な長さに切断する。なお電子ビーム照射装置１
の入、出側に、ルーピング設備12, 12′を設置すること
により、コイルの装入、払出し時においても、電子ビー
ム照射処理の連続操業が可能となり、生産性の向上と共
に、インチングに伴う照射不良（照射ピッチのずれ）の
発生を防止することができる。
【００３５】
【発明の効果】かくしてこの発明によれば、連続走行す
るストリップに対し、実際上、極めて安定して電子ビー
ム照射を行うことができ、ひいては実生産において、か
かる電子ビーム照射技術の利用を現実のものとすること
ができる。
るストリップに対し、実際上、極めて安定して電子ビー
ム照射を行うことができ、ひいては実生産において、か
かる電子ビーム照射技術の利用を現実のものとすること
ができる。
【図１】この発明に従う電子ビーム連続照射設備の模式
図である。
図である。
【図２】電子ビーム照射に伴うＸ線の発生状況を示した
図である。
図である。
【図３】アイドルターゲットをそなえる電子ビーム照射
室の模式図である。
室の模式図である。
１ 電子ビーム照射装置 ２ 電子ビーム照射室 ３，３′差圧式真空シール装置 ４ ペイオフリール ５ テンションリール ６ 入側シャー ６′出側シャー ７ 溶接機 ８，８′ブライドルロール ９ ストリップセンタリング設備 10 ストリップ前処理装置 11 ストリップ検査装置 12, 12′ストリップ・ルーピング設備 13, 13′Ｘ線遮蔽装置 14 電子ビーム 15 Ｘ線 16 鉛内張り 17 アイドルターゲット
フロントページの続き (72)発明者 岡本 改造 岡山県倉敷市水島川崎通１丁目（番地な し） 川崎製鉄株式会社 水島製鉄所内 (72)発明者 日名 英司 岡山県倉敷市水島川崎通１丁目（番地な し） 川崎製鉄株式会社 水島製鉄所内 (56)参考文献 特開 平１−172570（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−176867（ＪＰ，Ａ) 実開 平２−11612（ＪＰ，Ｕ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G21K 5/04 G21K 5/00 G21K 5/10
Claims (14)
- 【請求項１】 金属ストリップを水平かつ平坦な状態で
連続的に真空室に導入して連続的に電子ビームを照射す
る電子ビーム照射室とその前後に設置した差圧式真空シ
ール装置とで電子ビーム照射装置を構成し、その上流及
び下流側にそれぞれ、該電子ビーム照射装置に対する金
属ストリップの連続的な導通を司るペイオフリール及び
テンションリールを配設すると共に、該ペイオフリール
及びテンションリールの近傍にそれぞれ入側シャー及び
出側シャーを設け、かつ該入側シャーの下流に溶接機を
配設したことを特徴とする電子ビーム連続照射設備。 - 【請求項２】 請求項１において、溶接機が突き合わせ
溶接機である電子ビーム連続照射設備。 - 【請求項３】 請求項１又は２において、電子ビーム照
射装置の入側及び出側にそれぞれ少なくとも１組のブラ
イドルロールを設けてなる電子ビーム連続照射設備。 - 【請求項４】 請求項１，２又は３において、電子ビー
ム照射装置の入側に少なくとも１台のストリップセンタ
リング設備を配設してなる電子ビーム連続照射設備。 - 【請求項５】 請求項１，２，３又は４において、電子
ビーム照射装置の入側にストリップ前処理装置を設置し
てなる電子ビーム連続照射設備。 - 【請求項６】 請求項５において、ストリップ前処理装
置がサイドトリマである電子ビーム連続照射設備。 - 【請求項７】 請求項５において、ストリップ前処理装
置が乾燥装置である電子ビーム連続照射設備。 - 【請求項８】 請求項１〜７のいずれかにおいて、電子
ビーム照射装置の出側にストリップの検査装置を設置し
てなる電子ビーム連続照射設備。 - 【請求項９】 請求項８において、ストリップの検査装
置が連続鉄損測定装置である電子ビーム連続照射設備。 - 【請求項１０】 請求項８において、ストリップの検査
装置が表面疵検査装置である電子ビーム連続照射設備。 - 【請求項１１】 請求項１〜10のいずれかにおいて、電
子ビーム照射装置の出側あるいは入側及び出側にそれぞ
れストリップ・ルーピング設備を設置してなる電子ビー
ム連続照射設備。 - 【請求項１２】 請求項１〜11のいずれかにおいて、電
子ビーム照射室とその前後に設置した差圧式真空シール
装置との間にそれぞれＸ線遮蔽装置を配設してなる電子
ビーム連続照射設備。 - 【請求項１３】 請求項１〜12のいずれかにおいて、電
子ビーム照射室がアイドルターゲットをそなえてなる電
子ビーム連続照射設備。 - 【請求項１４】 請求項８〜12のいずれかにおいて、電
子ビーム照射装置とストリップの検査装置は階上に配設
する一方、他の装置は階下に配設する２階構造とし、し
かもペイオフリールとテンションリールを近接配置とし
てなる電子ビーム連続照射設備。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4261979A JP3020753B2 (ja) | 1992-09-30 | 1992-09-30 | 電子ビーム連続照射設備 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4261979A JP3020753B2 (ja) | 1992-09-30 | 1992-09-30 | 電子ビーム連続照射設備 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06109900A JPH06109900A (ja) | 1994-04-22 |
| JP3020753B2 true JP3020753B2 (ja) | 2000-03-15 |
Family
ID=17369323
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4261979A Expired - Fee Related JP3020753B2 (ja) | 1992-09-30 | 1992-09-30 | 電子ビーム連続照射設備 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3020753B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6233334B2 (ja) * | 2015-03-04 | 2017-11-22 | Ｊｆｅスチール株式会社 | 方向性電磁鋼帯の連続電解エッチング方法および方向性電磁鋼帯の連続電解エッチング装置 |
| JP6471682B2 (ja) * | 2015-12-04 | 2019-02-20 | Ｊｆｅスチール株式会社 | 電子ビーム照射装置 |
| JP6465054B2 (ja) | 2016-03-15 | 2019-02-06 | Ｊｆｅスチール株式会社 | 方向性電磁鋼板の製造方法および製造設備列 |
-
1992
- 1992-09-30 JP JP4261979A patent/JP3020753B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH06109900A (ja) | 1994-04-22 |
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|---|---|---|---|
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