JP3019612B2 - Manufacturing method of magnetic recording medium - Google Patents

Manufacturing method of magnetic recording medium

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JP3019612B2 JP4185104A JP18510492A JP3019612B2 JP 3019612 B2 JP3019612 B2 JP 3019612B2 JP 4185104 A JP4185104 A JP 4185104A JP 18510492 A JP18510492 A JP 18510492A JP 3019612 B2 JP3019612 B2 JP 3019612B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、磁気記録媒体の製造方
法に関し、特に、磁気記録媒体の保護層の成膜法に関す
るものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a magnetic recording medium, and more particularly to a method for forming a protective layer on a magnetic recording medium.

【0002】[0002]

【従来の技術】代表的な磁気記録媒体としての磁気記録
ディスクは、一般に、非磁性基体にNi−Pめっき層な
どの下地金属層が形成された磁気記録媒体用基板と、そ
の表面側に形成された磁性層、およびその保護層などか
ら構成され、その最表層の表面状態は磁気記録ディスク
の記録密度および信頼性を大きく支配する。とくに、C
SS(コンタクトスタートストップ)方式の磁気記録デ
ィスクでは、稼動時に磁気ヘッドが磁気記録ディスク表
面から僅かに浮上して情報の読み取り動作または書込み
動作が行われるが、停止時には磁気ヘッドと磁気記録デ
ィスク表面とが接触するため、磁気記録ディスク表面が
鏡面状態であると、磁気ヘッドと磁気記録ディスク表面
の摩擦係数が大きく、磁気ヘッドが磁気記録ディスク表
面に吸着してしまうことがある。また、始動時におい
て、磁気ヘッドが磁気記録ディスク表面上を摺動すると
きに、磁気ヘッドが磁性層を磨耗させてしまうこともあ
る。
2. Description of the Related Art A magnetic recording disk as a typical magnetic recording medium generally has a substrate for a magnetic recording medium in which a base metal layer such as a Ni-P plating layer is formed on a non-magnetic substrate, and a magnetic recording disk formed on the surface side thereof. The surface state of the outermost layer largely governs the recording density and reliability of the magnetic recording disk. In particular, C
In an SS (contact start / stop) type magnetic recording disk, the magnetic head floats slightly from the surface of the magnetic recording disk during operation to read or write information. When the surface of the magnetic recording disk is mirror-finished, the friction coefficient between the magnetic head and the surface of the magnetic recording disk is large, and the magnetic head may be attracted to the surface of the magnetic recording disk. Further, at the time of starting, when the magnetic head slides on the surface of the magnetic recording disk, the magnetic head may wear the magnetic layer.

【0003】そこで、磁気記録ディスクの表面層に微細
な凹凸を形成して、磁気ヘッドと磁気記録ディスク表面
との接触面積を小さくし、摩擦係数を低下させる対策が
施されている。その代表的な凹凸形成加工が、回転する
基板の下地金属層表面に研磨テープなどを摺動させ、図
12に示すように、基板42上に積層された下地金属層
43に同心円状の微細な凹凸43aを形成し、その凹凸
を磁性層44の表面にまで反映させるテクスチャー加工
である。また、45は磁性層44の表面に形成されたフ
ッソ系オイルからなる潤滑剤層であり、磁気記録ディス
ク表面と磁気ヘッドとの摩擦係数を低減するものであ
る。
Therefore, measures have been taken to form fine irregularities on the surface layer of the magnetic recording disk to reduce the contact area between the magnetic head and the surface of the magnetic recording disk and reduce the friction coefficient. The typical concavo-convex forming process slides a polishing tape or the like on the surface of the underlying metal layer of the rotating substrate, and as shown in FIG. 12, the underlying metal layer 43 laminated on the substrate 42 has fine concentric circles. This is a texture processing in which the unevenness 43a is formed and the unevenness is reflected on the surface of the magnetic layer 44. Reference numeral 45 denotes a lubricant layer formed of a fluorine-based oil formed on the surface of the magnetic layer 44, and serves to reduce the coefficient of friction between the surface of the magnetic recording disk and the magnetic head.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、テクス
チャー加工によって形成された凹凸43aは、同心円状
に形成され、回転する磁気記録ディスクの表面と磁気ヘ
ッドとの相対的な移動方向と同方向であるため、磁気記
録ディスク表面と磁気ヘッドとの摩擦力を低減する効果
が小さいという問題点がある。このため、テクスチャー
加工による凹凸をさらに粗くすることによって、磁気記
録ディスク表面と磁気ヘッドとの摩擦力を低減する方法
が採用されている。このようなテクスチャー加工によっ
て形成された凹凸では、磁気記録ディスク表面と磁気ヘ
ッドとの摩擦係数を所定の値とするために、磁気記録デ
ィスク表面の中心線粗さRaが800Å(0.080μ
m)程度、表面粗さの最大高さRmaxが1200Å
(0.12μm)程度の加工が必要であり、磁気記録デ
ィスク表面からの磁気ヘッドの浮上量が大きくなってし
まうので、記録密度の低下を招くという問題点がある。
However, the irregularities 43a formed by texture processing are formed concentrically and are in the same direction as the relative movement direction between the surface of the rotating magnetic recording disk and the magnetic head. However, there is a problem that the effect of reducing the frictional force between the surface of the magnetic recording disk and the magnetic head is small. For this reason, a method of reducing the frictional force between the surface of the magnetic recording disk and the magnetic head by further roughening the unevenness due to the texture processing has been adopted. In the unevenness formed by such texture processing, the center line roughness Ra of the magnetic recording disk surface is set to 800 ° (0.080 μm) in order to set the coefficient of friction between the magnetic recording disk surface and the magnetic head to a predetermined value.
m), the maximum height Rmax of the surface roughness is 1200 °
(0.12 μm) processing is required, and the flying height of the magnetic head from the surface of the magnetic recording disk becomes large, which causes a problem of lowering the recording density.

【0005】かかる問題点を解消するためには、テクス
チャー加工に代えて、図2に示すような、方向性のない
微細な凹凸5aを備えた保護層を形成することが理想的
である。すなわち、凹凸の方向性をなくすことによっ
て、回転する磁気記録ディスクと磁気ヘッドとの接触面
積の低減効果を効率よく発揮させて、表面粗さを小さく
維持すると共に、相互間の摩擦力を低減することによっ
て、磁気記録ディスクの信頼性および記録密度を維持、
向上することである。かかる凹凸を形成する方法として
は、酸化物粒子をテトラヒドロキシシランと共に溶媒に
混合し、これをディスク表面に塗布した後、熱処理を施
して、酸化物粒子をポリ珪酸膜に固着させる方法が考え
られる。この方法によれば、図13に示すように、酸化
物粒子52はポリ珪酸膜51によって固着され、酸化物
粒子52の粒径に対応した凹凸をポリ珪酸膜51の表面
に形成でき、磁気記録ディスクの円周方向に限らず、方
向性がない状態で凹凸を均一に分布させることができる
ので、磁気ヘッドの耐磨耗特性および吸着特性などの摺
動特性および記録特性のいずれをも向上することができ
る。しかしながら、この方法により形成された磁気記録
ディスクにおいては、酸化物粒子52自身がポリ珪酸膜
51の表面から突出しているため、磁気記録ディスク表
面を磁気ヘッドが摺動するときに、酸化物粒子52が大
きな力を受けてポリ珪酸膜51から脱落しやすく、摺動
特性の経時劣化が大きいという問題点がある。
In order to solve such a problem, it is ideal to form a protective layer having fine irregularities 5a having no directivity as shown in FIG. 2 instead of texture processing. In other words, by eliminating the directionality of the irregularities, the effect of reducing the contact area between the rotating magnetic recording disk and the magnetic head is efficiently exhibited, the surface roughness is kept small, and the frictional force between them is reduced. By maintaining the reliability and recording density of the magnetic recording disk,
It is to improve. As a method of forming such irregularities, a method in which oxide particles are mixed with a solvent together with tetrahydroxysilane, applied to the disk surface, and then subjected to a heat treatment to fix the oxide particles to the polysilicate film can be considered. . According to this method, as shown in FIG. 13, the oxide particles 52 are fixed by the polysilicate film 51, and irregularities corresponding to the particle size of the oxide particles 52 can be formed on the surface of the polysilicate film 51. Not only in the circumferential direction of the disk, but also unevenness can be uniformly distributed in a non-directional state, so that all of the sliding characteristics such as abrasion resistance and suction characteristics of the magnetic head and the recording characteristics are improved. be able to. However, in the magnetic recording disk formed by this method, since the oxide particles 52 themselves protrude from the surface of the polysilicate film 51, when the magnetic head slides on the surface of the magnetic recording disk, the oxide particles 52 Has a problem in that it is easily dropped from the polysilicate film 51 due to a large force, and the sliding characteristics are greatly deteriorated with time.

【0006】以上の問題点に鑑みて、本発明の課題は、
表面に方向性のない凹凸が分布し内部にシリコン酸化物
粒子が分散するポリ珪酸膜の保護層を有し、耐磨耗特性
および耐吸着特性向上、並びに磁気ヘッドの低浮上化
による記録密度の向上を可能とする磁気記録媒体の製造
方法を提供することにある
[0006] In view of the above problems, an object of the present invention is to provide:
Uneven irregularities are distributed on the surface and silicon oxide inside
A protective layer of polysilicic acid film particles are dispersed, the improvement of wear characteristics and absorption resistance adhesive properties, as well as the production of a magnetic recording medium which can improve a recording density by low flying height of the magnetic head
It is to provide a method .

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】まず、本発明に係る磁気
記録媒体の製造方法は、非磁性基板の表面側に積層され
た磁性層の表面側には、表面に凹凸が分布する保護層が
積層され、この保護層は、内部にシリコン酸化物粒子が
分散するポリ珪酸膜により形成されている磁気記録媒体
を得ることにある
SUMMARY OF THE INVENTION First, according to the present invention,
In the method of manufacturing a recording medium, a protective layer having irregularities distributed on the surface is laminated on the surface side of the magnetic layer laminated on the surface side of the non-magnetic substrate, and silicon oxide particles are dispersed inside the protective layer. Recording medium formed of a polysilicate film
Is to get

【0008】かかる構成の磁気記録媒体を製造するため
に、本発明に係る磁気記録媒体の製造方法は、非磁性基
板の表面側に積層された磁性層の表面側に、シリコン酸
化物粒子およびテトラヒドロキシシランが混合された塗
布液を相対湿度が50%以上の雰囲気中でスピンコート
法などにより塗布する塗布工程と、磁性層の表面側に塗
布した塗布液に対して加熱処理を施し、内部にシリコン
酸化物粒子を分散させた状態でテトラヒドロキシシラン
をポリ珪酸膜に転化させて保護層を形成する加熱工程と
を有する。なお、塗布液を塗布する雰囲気としては、相
対湿度が50%以上であることが必要であるが、結露を
生じない条件であることが好ましい。
In order to manufacture a magnetic recording medium having such a configuration, the method for manufacturing a magnetic recording medium according to the present invention comprises the steps of: A coating process in which a coating solution containing hydroxysilane is applied in an atmosphere having a relative humidity of 50% or more by a spin coating method or the like; and a heating process is applied to the coating solution applied on the surface side of the magnetic layer, and A heating step of converting tetrahydroxysilane into a polysilicate film in a state where the silicon oxide particles are dispersed to form a protective layer. Note that the atmosphere in which the coating liquid is applied needs to have a relative humidity of 50% or more, but is preferably a condition that does not cause condensation.

【0009】ここで、保護層表面の凹凸の分布を制御し
やすいように、塗布液におけるシリコン酸化物粒子の配
合量は、テトラヒドロキシシランの配合量に対し、Si
2(二酸化シリコン)量に換算して1wt%から50
wt%までの範囲であることが好ましい。
Here, in order to easily control the distribution of irregularities on the surface of the protective layer, the amount of silicon oxide particles in the coating solution is set to be less than the amount of tetrahydroxysilane.
1 wt% to 50 in terms of O 2 (silicon dioxide)
It is preferably in the range up to wt%.

【0010】また、通常の保護膜の厚さに対応できるよ
うに、シリコン酸化物粒子は、その平均粒径が5nmか
ら30nmまでの範囲であることが好ましい。
The average particle diameter of the silicon oxide particles is preferably in the range of 5 nm to 30 nm so that the thickness of the silicon oxide particles can be adapted to the thickness of the ordinary protective film.

【0011】また、本発明に係る磁気記録媒体の製造方
法は、非磁性体からなる磁気記録媒体用基板の表面側
に、磁性層と、この磁性層の表面側に形成されており、
表面全体に凹凸が分布する保護層と、この保護層の表面
に保持された潤滑剤層とを有し、保護層をテトラヒドロ
キシシランなどのSi化合物が加熱により転化したポリ
珪酸膜で構成されている磁気記録媒体を得ることにあ
Also, a method of manufacturing a magnetic recording medium according to the present invention
In the method , a magnetic layer is formed on the surface side of the magnetic recording medium substrate made of a non-magnetic material, and the magnetic layer is formed on the surface side of the magnetic layer.
It has a protective layer in which unevenness is distributed over the entire surface and a lubricant layer held on the surface of the protective layer, and the protective layer is made of a polysilicate film in which a Si compound such as tetrahydroxysilane is converted by heating. To obtain a magnetic recording medium
You .

【0012】[0012]

【0013】このような構成の磁気記録媒体を形成する
ための製造方法においては、加熱処理によってポリ珪酸
に転化可能なSi化合物を有機溶媒中に配合すると共
に、このSi化合物とは不溶性、かつ、有機溶媒とは易
溶性であって、Si化合物のポリ珪酸への転化温度で高
い蒸発性を有する凹凸形成成分を配合してなる塗布液
を、磁性層の表面に所定の相対湿度に規定された雰囲気
中で塗布する塗布工程と、磁性層の表面に塗布した塗布
液に対して、Si化合物の転化温度以上の温度で加熱処
理を施し、Si化合物をポリ珪酸膜に転化させて保護層
を形成する加熱工程とを行う。
In a manufacturing method for forming a magnetic recording medium having such a structure, a Si compound which can be converted into polysilicic acid by heat treatment is mixed in an organic solvent, and is insoluble in the Si compound and An organic solvent is easily soluble, and a coating liquid containing a concavo-convex forming component having a high evaporating property at a conversion temperature of a Si compound to polysilicic acid is defined on a surface of a magnetic layer at a predetermined relative humidity. A coating step of applying in an atmosphere and a heating treatment of the coating liquid applied on the surface of the magnetic layer at a temperature higher than the conversion temperature of the Si compound, thereby converting the Si compound into a polysilicate film to form a protective layer. And a heating step.

【0014】ここで、塗布液に用いる材料としては、た
とえば、Si化合物にテトラヒドロキシシラン、有機溶
媒に主成分がイソプロピルアルコールであるもの、凹凸
形成成分に少なくとも13の炭素数を有する脂肪族炭化
水素などを用いることができる。この場合には、塗布液
中のテトラヒドロキシシランと脂肪族炭化水素との配合
比を、テトラヒドロキシシランをSiO2 に換算したと
きの重量比で1:1から1:0.05までの範囲とする
ことが好ましい。
Here, the material used for the coating solution is, for example, tetrahydroxysilane as the Si compound, isopropyl alcohol as the main component in the organic solvent, or an aliphatic hydrocarbon having at least 13 carbon atoms as the concavo-convex forming component. Etc. can be used. In this case, the mixing ratio of the tetrahydroxysilane and the aliphatic hydrocarbon in the coating solution is in the range of 1: 1 to 1: 0.05 in terms of the weight ratio when the tetrahydroxysilane is converted to SiO 2. Is preferred.

【0015】[0015]

【0016】[0016]

【0017】[0017]

【0018】[0018]

【作用】斯かる製法により得られる磁気記録媒体におい
ては、保護層の表面のみに方向性のない凹凸が形成され
るため、表面粗さが小さいにも拘らず、磁気記録媒体と
磁気ヘッドとの摩擦係数を低減することができ、摺動特
性の良好な磁気記録媒体を実現することができる。従っ
て、磁気ヘッドの低浮上化が可能であり、高記録密度を
実現することができる。
In the magnetic recording medium obtained by such a method, irregularities having no directivity are formed only on the surface of the protective layer. The coefficient of friction can be reduced, and a magnetic recording medium with good sliding characteristics can be realized. Therefore, the flying height of the magnetic head can be reduced, and a high recording density can be realized.

【0019】また、凹凸をテクスチャー加工のような機
械的加工により形成するのではなく、以下のような、化
学的,物理的な製法により形成するため、保護層の厚み
を減縮することが可能である。従って、磁性層と磁気ヘ
ッドとの距離を短縮することが可能となるので、高密度
記録を実現することが可能となる。
Further, since the unevenness is formed not by mechanical processing such as texture processing but by a chemical or physical manufacturing method as described below, the thickness of the protective layer can be reduced. is there. Therefore, the distance between the magnetic layer and the magnetic head can be shortened, so that high-density recording can be realized.

【0020】すなわち、本発明に係る磁気記録媒体の製
造方法において、非磁性基板の表面側に積層された磁性
層の表面側に、シリコン酸化物粒子およびテトラヒドロ
キシシランが混合された塗布液をスピンコート法などに
より塗布するときに、その雰囲気の相対湿度を50%以
上の条件に設定しておき、磁性層表面に塗布した塗布液
に対して加熱処理を施すと、凹凸がポリ珪酸膜からなる
保護層の表面に形成される。ここで、保護層表面の凹凸
は、ポリ珪酸膜内部に分散しているシリコン酸化物粒子
が表面から突出することによって形成されるのではな
く、塗布液が局部的に凝集し、その凝集現象が凹凸を形
成すると想定されている。すなわち、磁性層表面に塗布
された塗布液からは、塗布途中にも溶媒成分が蒸発する
が、この溶媒の蒸発によって、塗布液の成分分布に偏り
が生じる。この偏りは、溶媒の蒸発速度およびシリコン
酸化物粒子の存在によって規定される。このうち、溶媒
の蒸発速度に対しては、雰囲気中の相対湿度が影響を与
え、成分が偏るのに充分な時間、すなわち、塗布液が凝
集するのに充分な時間をもたらすと想定される。従っ
て、所定の状態に凝集した塗布液に加熱処理を施して、
テトラヒドロキシシランをポリ珪酸膜に転化させると、
その凝集状態に対応して凹凸が形成される。また、雰囲
気の相対湿度などは、溶媒の蒸発速度に対する影響に加
えて、水分自身がシリコン酸化物に影響を与え、シリコ
ン酸化物粒子相互間の斥力または引力を生じさせ、塗布
液層の凝集を起こさせているとも想定される。
That is, in the method for manufacturing a magnetic recording medium according to the present invention, a coating solution containing silicon oxide particles and tetrahydroxysilane is spin-coated on the surface side of the magnetic layer laminated on the surface side of the non-magnetic substrate. When applying by a coating method or the like, the relative humidity of the atmosphere is set to a condition of 50% or more, and the coating liquid applied to the surface of the magnetic layer is subjected to a heat treatment. Formed on the surface of the protective layer. Here, the irregularities on the surface of the protective layer are not formed by the silicon oxide particles dispersed inside the polysilicate film protruding from the surface, but the coating liquid is locally aggregated, and the aggregation phenomenon is caused. It is assumed that irregularities are formed. That is, the solvent component evaporates from the coating liquid applied to the surface of the magnetic layer even during the application, and the evaporation of the solvent causes a bias in the component distribution of the coating liquid. This bias is defined by the evaporation rate of the solvent and the presence of silicon oxide particles. Of these, it is assumed that the relative humidity in the atmosphere affects the evaporation rate of the solvent, and provides sufficient time for the components to be biased, that is, sufficient time for the coating liquid to aggregate. Therefore, a heat treatment is performed on the coating liquid that has been aggregated in a predetermined state,
When tetrahydroxysilane is converted into a polysilicate film,
Irregularities are formed corresponding to the aggregation state. In addition to the influence of the relative humidity of the atmosphere on the evaporation rate of the solvent, the water itself affects the silicon oxide, causing a repulsive or attractive force between the silicon oxide particles and causing the aggregation of the coating liquid layer. It is also assumed that they are awake.

【0021】また、テトラヒドロキシシランなどのSi
化合物および脂肪族炭化水素などの凹凸形成成分が有機
溶媒中に配合された塗布液を磁性層の表面に塗布すると
きに、その雰囲気中の相対湿度を規定しておくため、ポ
リ珪酸膜に転化させて保護層を形成した後の凹凸形状が
均一化される。また、ポリ珪酸膜に膜厚さばらつきが発
生しないため、保護層の厚さを不必要に厚く設定する必
要がなく、また、下地層としてSiO2 などを形成して
おく必要もない。従って、磁性層と磁気ヘッドとの相対
距離を短縮できるので、磁気記録媒体の記録トラックを
高密度化できる。加えて、保護層の凹凸によって、磁気
記録媒体の表面と磁気ヘッドとの摩擦力が低減されると
共に、保護層の凹凸により、潤滑剤層が確実に保持され
るので、磁気記録媒体の耐磨耗特性および耐吸着特性を
初期的および経時的にも向上させることができる。
In addition, Si such as tetrahydroxysilane
When applying a coating liquid containing a compound and an unevenness forming component such as an aliphatic hydrocarbon in an organic solvent to the surface of the magnetic layer, the coating liquid is converted to a polysilicate film to regulate the relative humidity in the atmosphere. As a result, the uneven shape after forming the protective layer is made uniform. In addition, since the thickness of the polysilicate film does not vary, the thickness of the protective layer does not need to be set unnecessarily large, and there is no need to form SiO 2 or the like as a base layer. Therefore, since the relative distance between the magnetic layer and the magnetic head can be reduced, the density of recording tracks on the magnetic recording medium can be increased. In addition, the frictional force between the surface of the magnetic recording medium and the magnetic head is reduced by the unevenness of the protective layer, and the lubricant layer is reliably held by the unevenness of the protective layer. The wear characteristics and the adsorption resistance can be improved both initially and over time.

【0022】このような相対湿度とポリ珪酸膜の形成機
構との関係については、詳しく解明できてはいないのが
現状であるが、以下のとおり想定される。すなわち、本
手段における凹凸形成プロセスは、塗布液の各溶媒成分
が蒸発するとともに、その蒸発によって、凹凸形成成分
の分布、たとえば脂肪族炭化水素の分布に偏りが生じ、
この偏りに対応して、蒸発した後の痕跡としての凹凸が
ポリ珪酸膜の表面に形成されることを利用したものであ
る。ここで、塗布中または塗布した後の塗布液表面が雰
囲気中の水分を吸湿すると、吸湿した水分も、塗布液の
第三成分として塗布液の成分分布の偏りに影響を与える
が、本発明においては、相対湿度が規定された状態にあ
るため、その影響にばらつきがなく、均一化された凹凸
および安定した膜厚さをもって、ポリ珪酸膜が形成され
ると想定される。また、イソロピルアルコールのような
親水性の成分の中に脂肪族炭化水素のような疏水性の成
分が配合された塗布液表面に、脂肪族炭化水素との相溶
性がない水分が存在することによって、脂肪族炭化水素
の分散が均一化される結果、凹部および凸部の分布が均
一化されるとも考えられる。さらに、塗布層表面に吸収
された水分は、塗布工程中の溶剤成分の蒸発を抑え、加
熱工程に移るまでの間、塗布液組成の変化を抑える作用
も有しているとも推定できる。
The relationship between the relative humidity and the formation mechanism of the polysilicate film has not been elucidated in detail at present, but is assumed as follows. That is, in the unevenness forming process in the present means, each solvent component of the coating liquid evaporates, and due to the evaporation, the distribution of the unevenness forming components, for example, the distribution of the aliphatic hydrocarbons is biased,
In response to this deviation, the fact that unevenness as a trace after evaporation is formed on the surface of the polysilicate film is utilized. Here, when the surface of the coating liquid during or after coating absorbs moisture in the atmosphere, the absorbed moisture also affects the bias of the component distribution of the coating liquid as the third component of the coating liquid. Since the relative humidity is in a state where the relative humidity is specified, it is assumed that the polysilicate film is formed with uniform unevenness and a stable film thickness without any variation in the influence. In addition, on the surface of a coating liquid in which a hydrophobic component such as an aliphatic hydrocarbon is blended in a hydrophilic component such as isopropyl alcohol, there is water that is not compatible with the aliphatic hydrocarbon. Thereby, it is considered that the distribution of the aliphatic hydrocarbons is made uniform, so that the distribution of the concave portions and the convex portions is made uniform. Furthermore, it can be estimated that the water absorbed on the surface of the coating layer also has the effect of suppressing the evaporation of the solvent component during the coating process and of suppressing the change in the composition of the coating solution until the process proceeds to the heating process.

【0023】[0023]

【0024】[0024]

【実施例】つぎに、本発明の実施例について説明する。Next, embodiments of the present invention will be described.

【0025】[0025]

【0026】図1は、磁気記録ディスクの一部を切り欠
いて示す概略断面図である。
FIG. 1 is a schematic sectional view showing a magnetic recording disk with a part thereof cut away.

【0027】図において、1は3.5インチの磁気記録
ディスクであり、その基体たる金属薄膜磁気記録ディス
ク用のアルミニウム合金基板(非磁性基板)2の両面側
には、下地金属層としてのNi−Pめっき層3と、スパ
ッタ形成されたCo−Cr−Ni磁性層4(コバルト−
クロム−ニッケル磁性薄膜層)とを有している。ここ
で、Ni−Pめっき層3の表面は、アルミナ遊離砥粒お
よび研磨テープを用いて鏡面加工されており、その表面
粗さを2μmR針の触針式粗さ計を用いて測定した結
果、中心線平均粗さRaは25〜30Å(0.0025
〜0.0030μm)で、その最大高さRmaxは40
0Å(0.0400μm)以下になっている。なお、磁
性層の材質などに応じて、磁性層の上層側に上地金属層
が積層される場合もある。
Referring to FIG. 1, reference numeral 1 denotes a 3.5-inch magnetic recording disk, and Ni metal as a base metal layer is provided on both sides of an aluminum alloy substrate (non-magnetic substrate) 2 for a metal thin-film magnetic recording disk as a base. -P plating layer 3 and a Co-Cr-Ni magnetic layer 4 (cobalt-
Chromium-nickel magnetic thin film layer). Here, the surface of the Ni—P plating layer 3 was mirror-finished using alumina free abrasive grains and a polishing tape, and the surface roughness was measured using a stylus-type roughness meter with a 2 μm R needle. The center line average roughness Ra is 25 to 30 ° (0.0025).
0.000.0030 μm), and its maximum height Rmax is 40
0 ° (0.0400 μm) or less. Note that an upper metal layer may be laminated on the upper side of the magnetic layer depending on the material of the magnetic layer and the like.

【0028】かかる構成の磁気記録ディスク1に対し、
Co−Cr−Ni磁性層3の表面側に、方向性を有しな
い微細な凹凸が均一に分布する保護層5を形成する本手
段にかかる各実施例について、以下に説明する。
With respect to the magnetic recording disk 1 having such a configuration,
Each embodiment according to the present means for forming a protective layer 5 in which fine irregularities having no directionality are uniformly distributed on the surface side of the Co-Cr-Ni magnetic layer 3 will be described below.

【0029】〔実施例1〕実施例1に係る磁気記録ディ
スクは、図1に示すとおり、Co−Cr−Ni磁性層4
の表面側に保護層5が形成されており、この保護層5の
表面には、それを模式的に示す図2、および電子顕微鏡
で観察した場合(拡大倍率7500倍)の表面状態の模
式図である図3に示すように、方向性を有しない微細な
凹凸、すなわち、凹凸5aが均一に形成されている。こ
こで、保護層5は、平均粒径が12nmのシリコン酸化
物粒子が分散するポリ珪酸膜で構成されている。
[Embodiment 1] A magnetic recording disk according to Embodiment 1 has a Co—Cr—Ni magnetic layer 4 as shown in FIG.
A protective layer 5 is formed on the surface side of FIG. 2. The surface of the protective layer 5 is schematically shown in FIG. 2 and a schematic view of the surface state when observed with an electron microscope (magnification: 7500 times). As shown in FIG. 3, fine irregularities having no directionality, that is, irregularities 5a are uniformly formed. Here, the protective layer 5 is composed of a polysilicate film in which silicon oxide particles having an average particle diameter of 12 nm are dispersed.

【0030】この磁気記録ディスク1においては、保護
層5の表面に形成された凹凸が方向性を有していないた
め、回転する磁気記録ディスク1の表面と磁気ヘッドと
の摩擦力に対する低減効率が高いため、その評価結果に
基づいて後述するとおり、表面粗さが小さく、しかも良
好な摺動特性を示す。なお、保護層5の表面側にはフッ
素系オイル層6が形成されており、その高い潤滑性によ
って、磁気記録ディスク1の表面の磁気ヘッドに対する
摺動特性はさらに高いものになっている。
In this magnetic recording disk 1, since the unevenness formed on the surface of the protective layer 5 has no directionality, the efficiency of reducing the frictional force between the surface of the rotating magnetic recording disk 1 and the magnetic head is reduced. As described later, based on the evaluation result, the surface roughness is small and good sliding characteristics are exhibited. The fluorine-based oil layer 6 is formed on the surface side of the protective layer 5, and the sliding property of the surface of the magnetic recording disk 1 with respect to the magnetic head is further enhanced due to its high lubricity.

【0031】かかる磁気記録ディスク1の製造方法につ
いて説明する。
A method for manufacturing the magnetic recording disk 1 will be described.

【0032】まず、アルミニウム合金基板2の両面側
に、無電解めっきによりNi−Pめっき層3を形成した
後に、その表面に鏡面加工を施し、磁気記録ディスクの
平面性を確保する。さらに、その表面側に、スパッタ法
によりCo−Cr−Ni磁性層4を積層する。
First, after the Ni-P plating layer 3 is formed on both sides of the aluminum alloy substrate 2 by electroless plating, the surface thereof is mirror-finished to secure the flatness of the magnetic recording disk. Further, a Co—Cr—Ni magnetic layer 4 is laminated on the surface side by a sputtering method.

【0033】つぎに、Co−Cr−Ni磁性層4の表面
上に、シリコン酸化物粒子およびテトラヒドロキシシラ
ンが混合された塗布液をスピンコート法により塗布す
る。このスピンコートは、磁気記録ディスクの回転数を
約1500rpmの条件に設定して行う。本例において
は、テトラヒドロキシシランとして、日本曹達株式会社
製の商品名アトロンNSi−310(SiO2 含有量と
して換算して、含有量が5.9wt%のテトラヒドロキ
シシランの酢酸エチル溶液)3.559gと、コロイダ
ルシリカ(シリコン酸化物粒子)として、触媒化成工業
株式会社製の商品名オスカル1432(平均粒径が12
nm、SiO2 含有量として換算して、含有量が30w
t%のコロイダルシリカのイソプロピルアルコール溶
液)0.3gを、イソプロピルアルコールに全重量が1
00gとなるように混合して、テトラヒドロキシシラン
とコロイダルシリカとの配合量の比が、SiO2 量に換
算して7:3の塗布液(テトラヒドロキシシランおよび
コロイダルシリカをSiO2 に換算すると、0.3%の
SiO2 を含有)を用いた。
Next, a coating solution in which silicon oxide particles and tetrahydroxysilane are mixed is applied on the surface of the Co—Cr—Ni magnetic layer 4 by spin coating. This spin coating is performed by setting the number of revolutions of the magnetic recording disk to about 1500 rpm. In the present example, as the tetrahydroxysilane, a trade name, Atron NSi-310 (trade name, manufactured by Nippon Soda Co., Ltd.) (a solution of tetrahydroxysilane in ethyl acetate having a content of 5.9 wt% in terms of SiO 2 content) 559 g, as colloidal silica (silicon oxide particles), Oscar 1432 (trade name, manufactured by Catalyst Chemical Industry Co., Ltd .;
nm, SiO 2 content is 30 w
0.3 g of t% colloidal silica in isopropyl alcohol) was added to isopropyl alcohol in a total weight of 1 g.
And the mixture ratio of tetrahydroxysilane and colloidal silica was 7: 3 in terms of the amount of SiO 2 (when tetrahydroxysilane and colloidal silica were converted to SiO 2 , 0.3% SiO 2 ) was used.

【0034】このスピンコート法による塗布工程におい
ては、その雰囲気の条件として、温度を約20℃、相対
湿度を約60%の条件に設定して行う(塗布工程)。
In the coating step by the spin coating method, the atmosphere is set at a temperature of about 20 ° C. and a relative humidity of about 60% (coating step).

【0035】つぎに、Co−Cr−Ni磁性層4の表面
に塗布した状態の磁気記録ディスクに対して、温度が約
150℃の雰囲気中で約4時間の加熱処理を施して、塗
布液中のテトラヒドロキシシランに対する焼成処理を行
う。この焼成処理によって、テトラヒドロキシシランは
ポリ珪酸膜になり、その内部にシリコン酸化物粒子が分
散している状態となる。かかるシリコン酸化物粒子が分
散しているポリ珪酸膜が保護層5であり、その表面に
は、図1ないし図3に示すように、微細な凹凸が方向性
のない分布状態で形成されている(加熱工程)。
Next, the magnetic recording disk coated on the surface of the Co—Cr—Ni magnetic layer 4 is subjected to a heat treatment for about 4 hours in an atmosphere at a temperature of about 150 ° C. Is performed on tetrahydroxysilane. By this baking treatment, the tetrahydroxysilane becomes a polysilicate film and silicon oxide particles are dispersed therein. The protective layer 5 is a polysilicate film in which such silicon oxide particles are dispersed, and fine irregularities are formed on the surface of the protective layer 5 in a non-directional distribution state as shown in FIGS. (Heating step).

【0036】しかる後に、保護層5の表面側に、フッ素
系オイルとしてモンテフルオス社製の商品名FOMBL
IN・Z−DOLを、パーフルオロカーボン溶媒として
同社製の商品名FOMBLIN・ZS−100で0.0
75wt%に希釈した溶液を、磁気記録ディスク1の回
転数を約1500rpmに設定して、保護層5の表面に
スピンコートし、その後、温度が約150℃の雰囲気中
で約1時間の熱処理を行って、溶媒を除去して潤滑剤層
6を形成する。
Thereafter, on the surface side of the protective layer 5, as a fluorinated oil, FOMBL (trade name, manufactured by Montefluos)
IN · Z-DOL was used as a perfluorocarbon solvent with a product name of FOMBLIN · ZS-100 manufactured by the same company as 0.0.
The solution diluted to 75 wt% is spin-coated on the surface of the protective layer 5 with the rotation speed of the magnetic recording disk 1 set to about 1500 rpm, and then heat-treated for about 1 hour in an atmosphere at a temperature of about 150 ° C. Then, the solvent is removed to form the lubricant layer 6.

【0037】これにより、磁気記録ディスク1が製造さ
れる。
Thus, the magnetic recording disk 1 is manufactured.

【0038】ここで、保護層5の表面に凹凸が形成され
るプロセスについては、詳細には把握できていないが、
スピンコート法による塗布工程の雰囲気の相対湿度を約
60%に設定しておくことにより、塗布液中のイソプロ
ピルアルコールが蒸発してく過程で、イソプロピルアル
コールの蒸発速度、コロイダルシリカの存在、雰囲気中
の水分の存在によって、塗布液の微視的な凝縮が生じ、
この凝縮した状態で加熱されたテトラヒドロキシシラン
がポリ珪酸膜となることによって、保護層5の表面に凹
凸が形成されるものと想定される。従って、保護層5の
凹凸5aは、シリコン酸化物粒子の形状がそのまま凹凸
5aに反映されることによって形成されたものではない
と考えられる。
Here, the process of forming irregularities on the surface of the protective layer 5 cannot be understood in detail,
By setting the relative humidity of the atmosphere in the coating step by the spin coating method to about 60%, the evaporation rate of isopropyl alcohol, the presence of colloidal silica, The presence of moisture causes microscopic condensation of the coating solution,
It is assumed that irregularities are formed on the surface of the protective layer 5 when the tetrahydroxysilane heated in this condensed state becomes a polysilicate film. Therefore, it is considered that the irregularities 5a of the protective layer 5 are not formed by reflecting the shape of the silicon oxide particles as they are on the irregularities 5a.

【0039】以上の想定は、後述する比較例1の結果に
おいて、相対湿度を30%に設定した場合には、上記の
凹凸5aが形成されないことからも支持される。
The above assumption is supported by the fact that when the relative humidity is set to 30% in the results of Comparative Example 1 described later, the above-mentioned unevenness 5a is not formed.

【0040】〔実施例2〕実施例2に係る磁気記録ディ
スクも、その構成は実施例1と同様な構成になってお
り、対応する層には同符号を付して説明する。本例の磁
気記録ディスク1のCo−Cr−Ni磁性層4の表面側
に積層された保護層5の表面には、電子顕微鏡で観察し
た場合(拡大倍率7500倍)の表面状態の模式図であ
る図4に示すように、方向性を有しない微細な凹凸が形
成されている。ここでも、保護層4は、平均粒径が12
nmのシリコン酸化物粒子が分散するポリ珪酸膜であ
る。
[Embodiment 2] The configuration of a magnetic recording disk according to Embodiment 2 is the same as that of Embodiment 1, and corresponding layers are denoted by the same reference numerals. The surface of the protective layer 5 laminated on the surface side of the Co—Cr—Ni magnetic layer 4 of the magnetic recording disk 1 of the present example is a schematic diagram of the surface state when observed with an electron microscope (magnification: 7500 times). As shown in FIG. 4, fine irregularities having no directionality are formed. Again, the protective layer 4 has an average particle size of 12
This is a polysilicate film in which silicon oxide particles of nm are dispersed.

【0041】この磁気記録ディスクにおいても、保護層
5の表面に形成された凹凸が方向性を有していないた
め、後述するとおり、回転する磁気記録ディスク1の表
面と磁気ヘッドとの摩擦係数が低く、しかも表面粗さは
小さい。また、保護層5の表面側にはフッ素系オイル層
6が形成されており、その高い潤滑性によって磁気記録
ディスク1の摺動特性はさらに高いものになっている。
Also in this magnetic recording disk, since the unevenness formed on the surface of the protective layer 5 has no directionality, as described later, the friction coefficient between the surface of the rotating magnetic recording disk 1 and the magnetic head is low. Low and low surface roughness. Further, a fluorine-based oil layer 6 is formed on the surface side of the protective layer 5, and the sliding characteristics of the magnetic recording disk 1 are further enhanced by its high lubricity.

【0042】かかる構成の磁気記録ディスク1の製造方
法について説明する。
A method for manufacturing the magnetic recording disk 1 having such a configuration will be described.

【0043】まず、実施例1と同様に、アルミニウム合
金基板2の両面側に、鏡面加工されたNi−Pめっき層
3と、Co−Cr−Ni磁性層4を積層した後に、Co
−Cr−Ni磁性層4の表面上に、シリコン酸化物粒子
およびテトラヒドロキシシランが混合された塗布液をス
ピンコート法により塗布する。このスピンコートは、磁
気記録ディスクの回転数を約1500rpmの条件に設
定して行う。また、スピンコート法による塗布工程にお
ける雰囲気の条件は、実施例1と同様、温度は約20
℃、相対湿度は約60%に設定されている。
First, in the same manner as in Example 1, a mirror-finished Ni—P plating layer 3 and a Co—Cr—Ni magnetic layer 4 were laminated on both sides of an aluminum alloy
-A coating solution in which silicon oxide particles and tetrahydroxysilane are mixed is applied on the surface of the Cr-Ni magnetic layer 4 by a spin coating method. This spin coating is performed by setting the number of revolutions of the magnetic recording disk to about 1500 rpm. The conditions of the atmosphere in the application step by the spin coating method were as follows:
C. and relative humidity are set at about 60%.

【0044】本例においては、塗布液を実施例1と異な
る組成の塗布液を用いた。すなわち、テトラヒドロキシ
シランとして日本曹達株式会社製の商品名アトロンNS
i−310(SiO2 含有量として換算して、含有量が
5.9wt%のテトラヒドロキシシランの酢酸エチル溶
液)4.576gと、コロイダルシリカ(シリコン酸化
物粒子)として触媒化成工業株式会社製の商品名オスカ
ル1432(平均粒径が12nm、SiO2 含有量とし
て換算して、含有量が30wt%のコロイダルシリカの
イソプロピルアルコール溶液)0.1gを、イソプロピ
ルアルコールに全重量が100gとなるように混合し
て、テトラヒドロキシシランとコロイダルシリカとの配
合量の比が、SiO2 に換算して9:1の塗布液(テト
ラヒドロキシシランおよびコロイダルシリカをSiO2
に換算すると、0.3%のSiO2を含有)を用いた。
In this example, a coating liquid having a composition different from that of Example 1 was used. That is, Nippon Soda Co., Ltd. product name Atron NS as tetrahydroxysilane
4.576 g of i-310 (ethyl acetate solution of tetrahydroxysilane having a content of 5.9 wt% in terms of SiO 2 content) and colloidal silica (silicon oxide particles) manufactured by Catalyst Chemicals, Inc. 0.1 g of brand name Oscar 1432 (an isopropyl alcohol solution of colloidal silica having an average particle diameter of 12 nm and a content of 30 wt% in terms of SiO 2 content) mixed with isopropyl alcohol so that the total weight becomes 100 g. to the ratio of the amount of the tetrahydroxy silane and colloidal silica, in terms of SiO 2 9: 1 coating solution (SiO tetra hydroxy silane and colloidal silica 2
(Containing 0.3% of SiO 2 when converted to).

【0045】この組成の塗布液をCo−Cr−Ni磁性
層4の表面に塗布した後は、温度が約150℃の雰囲気
中で約4時間の加熱処理を行って、塗布液中のテトラヒ
ドロキシシランに対する焼成処理を行い、図1ないし図
3に示すように、方向性をもたずに均一に分布する凹凸
5aが表面に形成され、シリコン酸化物粒子が分散する
ポリ珪酸膜たる保護層5を形成する。
After the coating solution of this composition is applied to the surface of the Co—Cr—Ni magnetic layer 4, a heating treatment is performed for about 4 hours in an atmosphere at a temperature of about 150 ° C. As shown in FIGS. 1 to 3, a baking treatment is performed on the silane, and unevenness 5 a uniformly distributed without directionality is formed on the surface, and the protective layer 5 as a polysilicate film in which silicon oxide particles are dispersed. To form

【0046】ここで、保護層5の表面に凹凸が形成され
るプロセスについては、実施例1と同様に、スピンコー
ト法による塗布工程の雰囲気の相対湿度を約60%に設
定しておくことにより、塗布液の凝縮が生じ、この凝縮
状態に対応して、保護層5の表面に凹凸が形成されるも
のと想定されている。
Here, as for the process of forming irregularities on the surface of the protective layer 5, as in the first embodiment, the relative humidity of the atmosphere in the application step by the spin coating method is set to about 60%. It is assumed that the coating liquid is condensed and that the surface of the protective layer 5 is formed with irregularities corresponding to the condensed state.

【0047】〔比較例1〕つぎに、上記実施例1および
実施例2における凹凸形成機構を実証するため、実施例
1の条件を変えて磁気記録ディスクを形成した比較例を
説明する。
Comparative Example 1 Next, a comparative example in which the conditions of Example 1 were changed to form a magnetic recording disk will be described in order to demonstrate the unevenness forming mechanism in Examples 1 and 2.

【0048】まず、比較例1においては、実施例1にお
ける製造方法のうち、塗布工程において行うスピンコー
トの雰囲気の相対湿度を30%に設定を変えて製造し
た。その他の条件は、実施例1と同様である。
First, in Comparative Example 1, of the manufacturing method in Example 1, the relative humidity of the atmosphere of the spin coating performed in the coating step was changed to 30%. Other conditions are the same as in the first embodiment.

【0049】この比較例1により形成された保護層の表
面は、電子顕微鏡で観察した場合(拡大倍率7500
倍)の表面状態の模式図である図5に示すとおり、保護
層は内部にシリコン酸化物粒子が分散するポリ珪酸膜で
はあるが、その表面には微細な凹凸が形成されなかっ
た。すなわち、実施例1および実施例2において形成さ
れた保護層5の凹凸5aは、単に、ポリ珪酸膜中のシリ
コン酸化物粒子が突出することによって形成されたもの
ではなく、相対湿度などの設定により、塗布液に生じた
凝集によって形成されたものであるとの想定が支持され
たことになる。
The surface of the protective layer formed in Comparative Example 1 was observed with an electron microscope (magnification: 7500
As shown in FIG. 5, which is a schematic view of the surface state of (2), the protective layer is a polysilicate film in which silicon oxide particles are dispersed, but fine irregularities were not formed on the surface. That is, the unevenness 5a of the protective layer 5 formed in Example 1 and Example 2 is not simply formed by the projection of the silicon oxide particles in the polysilicate film, but is determined by setting the relative humidity and the like. In other words, the assumption that the particles were formed by the aggregation generated in the coating liquid was supported.

【0050】〔比較例2〕また、比較例2においては、
塗布液として、シリコン酸化物粒子の粒径を45nmに
変えたものを用いて磁気記録ディスクを製造した。すな
わち、比較例2において用いた塗布液は、テトラヒドロ
キシシランとして日本曹達株式会社製の商品名アトロン
NSi−310(SiO2 含有量として換算して、含有
量が5.9wt%のテトラヒドロキシシランの酢酸エチ
ル溶液)3.559gと、コロイダルシリカ(シリコン
酸化物粒子)として触媒化成工業株式会社製の商品名オ
スカル1435(平均粒径が45nm、SiO2 含有量
として換算して、含有量が1wt%のコロイダルシリカ
のイソプロピルアルコール溶液)9.0gを、イソプロ
ピルアルコールに全重量が100gとなるように混合し
て、テトラヒドロキシシランとコロイダルシリカとの配
合量の比を、SiO2 に換算して7:3の組成(テトラ
ヒドロキシシランおよびコロイダルシリカをSiO2
換算すると、0.3%のSiO2 を含有)としたものを
用いた。その他の条件は、実施例1と同様である。
[Comparative Example 2] In Comparative Example 2,
A magnetic recording disk was manufactured using a coating liquid in which the particle diameter of silicon oxide particles was changed to 45 nm. That is, the coating solution used in Comparative Example 2 is calculated as Nippon Soda K.K. Atron NSi-310 (SiO 2 content as tetrahydroxy silane content of 5.9 wt% of tetrahydroxy silane 3.559 g of an ethyl acetate solution and Oscar 1435 (trade name, manufactured by Catalysts & Chemicals, Inc., having a mean particle size of 45 nm and a SiO 2 content of 1 wt% as a colloidal silica (silicon oxide particles)) 9.0 g of colloidal silica in isopropyl alcohol) is mixed with isopropyl alcohol so that the total weight becomes 100 g, and the mixing ratio of tetrahydroxysilane and colloidal silica is converted into SiO 2 by 7: 3 composition (the tetrahydroxy silane and colloidal silica in terms of SiO 2, 0 3% SiO 2 was used as a contained). Other conditions are the same as in the first embodiment.

【0051】この比較例2により形成された保護層の表
面は、電子顕微鏡で観察した場合(拡大倍率7500
倍)の表面状態の模式図である図6に示すとおり、保護
層は内部にシリコン酸化物粒子が分散するポリ珪酸膜で
はあるが、その表面には約1μmの多数の凹凸が形成さ
れている。従って、後述するとおり、摺動特性は比較的
良好ではあるが、磁気記録ディスク表面への磁気ヘッド
の接触を繰り返すと、シリコン酸化物粒子が脱落してし
まうという問題があった。
The surface of the protective layer formed in Comparative Example 2 was observed with an electron microscope (magnification: 7500
As shown in FIG. 6 which is a schematic diagram of the surface state of (2), the protective layer is a polysilicate film in which silicon oxide particles are dispersed, and a large number of irregularities of about 1 μm are formed on the surface. . Therefore, as described later, although the sliding characteristics are relatively good, there is a problem that silicon oxide particles fall off when the contact of the magnetic head to the surface of the magnetic recording disk is repeated.

【0052】〔比較例3〕さらに、磁気記録ディスクの
摺動特性を向上させるために採用されている従来の方法
として、Co−Cr−Ni磁性層の表面に厚さが約20
0Å(20nm)のアモルファスカーボン層を保護膜と
して形成し、その表面に、フッ素系オイルとしてモンテ
フルオス社製の商品名FOMBLIN・AM2001
を、パーフルオロカーボン溶媒として同社製の商品名F
OMBLIN・ZS−100で0.1wt%に希釈した
溶液を、磁気記録ディスクの回転数を約2000rpm
に設定して、潤滑剤層6を形成した。
[Comparative Example 3] Further, as a conventional method employed for improving the sliding characteristics of a magnetic recording disk, a thickness of about 20 mm was formed on the surface of a Co-Cr-Ni magnetic layer.
An amorphous carbon layer having a thickness of 0 ° (20 nm) is formed as a protective film, and the surface thereof is coated with fluorinated oil as FOMBLIN AM 2001 (trade name, manufactured by Montefluos).
As a perfluorocarbon solvent
The solution diluted to 0.1 wt% with OMBLIN.ZS-100 was rotated at about 2,000 rpm by rotating the magnetic recording disk.
And the lubricant layer 6 was formed.

【0053】この場合の保護層の表面には、電子顕微鏡
で観察した場合(拡大倍率7500倍)の表面状態の模
式図である図7に示すとおり、凹凸が形成されなかっ
た。
In this case, no irregularities were formed on the surface of the protective layer as shown in FIG. 7, which is a schematic view of the surface state when observed with an electron microscope (magnification: 7,500 times).

【0054】〔比較例4〕磁気記録ディスクの摺動特性
を向上させるために採用されている別の従来方法とし
て、従来の技術として先に説明したテクスチャー加工に
より表面粗さRa=60〜70Å(0.0060〜0.
0070μm)、Rmax=800Å(0.0800μ
m)以下となるように凹凸を形成したNi−P層の表面
側に、Co−Cr−Ni磁性層を積層し、さらに、その
表面側に、比較例3と同様な工程により、アモルファス
カーボン層およびフッ素系オイル層を設けた磁気記録デ
ィスクを形成した。
[Comparative Example 4] As another conventional method employed for improving the sliding characteristics of a magnetic recording disk, the surface roughness Ra = 60 to 70 ° (texture processing described above as a conventional technique) was used. 0.0060-0.
0070 μm), Rmax = 800 ° (0.0800 μm)
m) A Co—Cr—Ni magnetic layer is laminated on the surface side of the Ni—P layer on which the irregularities are formed as described below, and an amorphous carbon layer is formed on the surface side by the same process as in Comparative Example 3. Then, a magnetic recording disk provided with a fluorine-based oil layer was formed.

【0055】この場合の保護層の表面には、電子顕微鏡
で観察した場合(拡大倍率7500倍)の表面状態の模
式図である図8に示すとおり、図9を用いて説明した同
心円状の凹凸が観察され、方向性のない凹凸は形成され
ていない。
In this case, as shown in FIG. 8, which is a schematic view of the surface state when observed with an electron microscope (magnification: 7,500), the concentric unevenness described with reference to FIG. Are observed, and no irregularities having no direction are formed.

【0056】〔磁気記録ディスクの特性の評価結果〕以
上の実施例1,2および比較例1〜4に係る磁気記録デ
ィスクA〜Fについて、それらの特性を調査した結果を
表1に示す。
[Evaluation Results of Characteristics of Magnetic Recording Disk] Table 1 shows the results of investigating the characteristics of the magnetic recording disks A to F according to Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1 to 4.

【0057】ここでの調査項目は、中心線平均粗さR
a,最大高さRmaxに加えて、2000サイクルのC
SSテスト、すなわち、ディスク装置の起動および停止
を2000サイクル繰り返した後の各磁気記録ディスク
の相対速度2mm/secにおける動摩擦係数μD ,温
度が約33℃の雰囲気中で約240時間放置した後の静
止摩擦係数μS を測定した。ここで、動摩擦係数μD
磨耗特性への指標であり、静止摩擦係数μS は吸着し難
さの指標であり、いずれも小さい方が好ましく、1を越
えるものは不良と見做すことができる。
The investigation items here are center line average roughness R
a, 2000 cycles of C in addition to the maximum height Rmax
The SS test, that is, the dynamic friction coefficient μ D of each magnetic recording disk at a relative speed of 2 mm / sec after the start and stop of the disk device was repeated 2000 cycles, and the magnetic recording disk was left in an atmosphere of about 33 ° C. for about 240 hours. the static friction coefficient mu S was measured. Here, the dynamic friction coefficient mu D is indicative of the wear characteristics, the coefficient of static friction mu S is an index of the of difficulty adsorbed, either it is preferably less, be regarded is a bad thing exceeding 1 it can.

【0058】[0058]

【表1】 [Table 1]

【0059】表1に示すように、本発明に係る実施例1
および実施例2に係る磁気記録ディスクA,Bは、いず
れも表面粗さ(Ra,Rmax)は小さく、しかも、動
摩擦係数μD および静止摩擦係数μS のいずれもが小さ
い。従って、磁気ヘッドの浮上量を小さく保持して記録
密度を高く保ったままで、耐磨耗特性および耐吸着特性
を向上させることができることが確認できた。
As shown in Table 1, Example 1 according to the present invention
And a magnetic recording disk A, B according to the second embodiment, both the surface roughness (Ra, Rmax) is small, and none of the dynamic friction coefficient mu D and static friction coefficient mu S is small. Accordingly, it was confirmed that the abrasion resistance and the adsorption resistance can be improved while the flying height of the magnetic head is kept small and the recording density is kept high.

【0060】これに対し、比較例1および比較例3に係
る磁気ディスクC,Eは、いずれも表面粗さ(Ra,R
max)は小さいものの、動摩擦係数μD および静止摩
擦係数μS のいずれもが大きく、充分な耐磨耗特性およ
び耐吸着特性を得ることができないものであった。ま
た、比較例2に係る磁気記録ディスクDは、表面粗さ
(Ra,Rmax)は小さいものの、動摩擦係数μD
大きく、充分な耐磨耗特性を得ることができなかった。
On the other hand, the magnetic disks C and E according to Comparative Examples 1 and 3 each had a surface roughness (Ra, R
max) Although small, none of the dynamic friction coefficient mu D and static friction coefficient mu S is large and was not possible to obtain sufficient anti-wear properties and absorption resistance adhesive properties. The magnetic recording disk D according to Comparative Example 2, although the surface roughness (Ra, Rmax) is small, can not be dynamic friction coefficient mu D is increased to obtain a sufficient wear properties.

【0061】また、比較例4に係る磁気記録ディスクF
は、動摩擦係数μD および静止摩擦係数μS のいずれを
も小さくして、耐磨耗特性および耐吸着特性が良好なレ
ベルとなるようにテクスチャー加工したため、表面粗さ
(Ra,Rmax)が大きく、磁気ヘッドの損傷などを
防止するためには、磁気ヘッドの浮上量を大きくする必
要があり、記録密度が犠牲となるものであった。
The magnetic recording disk F according to Comparative Example 4
It is to reduce any of the dynamic friction coefficient mu D and static friction coefficient mu S, since the wear characteristics and absorption resistance adhesive properties is textured to have a good level, the surface roughness (Ra, Rmax) is large In order to prevent damage to the magnetic head, it is necessary to increase the flying height of the magnetic head, thereby sacrificing the recording density.

【0062】{実施例1,2の効果} 以上のとおり、実施例1および実施例2に係る磁気記録
ディスクは、、磁性層の表面側に塗布したシリコン酸化
物粒子およびテトラヒドロキシシランが混合された塗布
液の凝集現象を利用して凹凸を形成するため、表面粗さ
を犠牲にすることなく、方向性のない凹凸が均一に分布
する保護層を形成することができる。それ故、いずれの
実施例に係る磁気記録ディスクにおいても、耐磨耗特性
および耐吸着特性の向上を図ることができる。
[0062] As described above {Effect of Examples 1 and 2}, a magnetic recording disk according to Example 1 and Example 2 Silicon oxide particles and tetrahydroxy-silane was applied to the surface side of the ,, magnetic layer is mixed Since the unevenness is formed by utilizing the aggregation phenomenon of the applied coating solution, a protective layer in which unevenness without directivity is uniformly distributed can be formed without sacrificing surface roughness. Therefore, in the magnetic recording disks according to any of the embodiments, the wear resistance and the adsorption resistance can be improved.

【0063】なお、塗布液におけるシリコン酸化物粒子
の配合量は、テトラヒドロキシシランの配合量に対し、
SiO2 に換算して1wt%から50wt%までの範囲
であれば、確実に凹凸を形成可能なことが確認された
が、この範囲を外れた場合には、凹凸の形成密度を制御
し難くなる。また、シリコン酸化物粒子は、その平均粒
径が5nmから30nmまでの範囲であれば、通常形成
する保護膜の厚さに充分に対応可能である。さらに、塗
布液の塗布するときの雰囲気の相対湿度を種々変えて評
価した結果、50%以上の雰囲気中で安定して所望の凹
凸が得られたが、50%未満の雰囲気では凹凸の形成に
ばらつきなどが発生することが確認された。なお、相対
湿度は50%より高くてもよいが、結露する状態は好ま
しくないことが確認されている。
The compounding amount of the silicon oxide particles in the coating solution is based on the compounding amount of tetrahydroxysilane.
It has been confirmed that the unevenness can be surely formed in the range of 1 wt% to 50 wt% in terms of SiO 2 , but when it is out of this range, it is difficult to control the formation density of the unevenness. . Further, the silicon oxide particles can sufficiently cope with the thickness of the normally formed protective film as long as the average particle size is in the range of 5 nm to 30 nm. Furthermore, as a result of variously evaluating the relative humidity of the atmosphere at the time of applying the coating liquid, the desired unevenness was obtained stably in an atmosphere of 50% or more. It was confirmed that variations occurred. Although the relative humidity may be higher than 50%, it has been confirmed that the state of dew condensation is not preferable.

【0064】続いて、実施例3,4について説明する前
に、各実施例に使用した磁気記録ディスクの構成につい
て説明しておく。
Next, before describing the third and fourth embodiments, the configuration of the magnetic recording disk used in each embodiment will be described.

【0065】図9は、磁気記録ディスクの一部を切り欠
いて示す概略断面図である。
FIG. 9 is a schematic sectional view showing a part of the magnetic recording disk cut away.

【0066】図において、11は3.5インチの磁気記
録ディスクであり、その基体たる金属薄膜磁気ディスク
用のアルミニウム合金基板(非磁性基板)12の両面側
には、下地金属層としてのNi−Pめっき層13が形成
されて、磁気記録ディスク用基板11aが構成されてい
る。この磁気記録ディスク用基板11aの表面側には、
Co−Cr−Ta磁性層14(コバルト−クロム−タン
タル磁性薄膜層)がスパッタ形成されている。ここで、
Ni−Pめっき層13の表面は、アルミナ遊離砥粒およ
び研磨テープを用いて鏡面加工されており、その表面粗
さを2μmR針の触針式粗さ計を用いて測定した結果、
中心線平均粗さRaは15〜20Å(0.0015〜
0.0020μm)で、その最大高さRmaxは300
Å(0.0300μm)以下になっている。なお、磁性
層の材質などに応じて、磁性層の上層側または下層側に
金属層が積層される場合もある。
In the drawing, reference numeral 11 denotes a 3.5-inch magnetic recording disk, and Ni--Ni as a base metal layer is provided on both sides of an aluminum alloy substrate (non-magnetic substrate) 12 for a metal thin-film magnetic disk as a base. The P plating layer 13 is formed to form the magnetic recording disk substrate 11a. On the front side of the magnetic recording disk substrate 11a,
A Co-Cr-Ta magnetic layer 14 (cobalt-chromium-tantalum magnetic thin film layer) is formed by sputtering. here,
The surface of the Ni-P plating layer 13 was mirror-finished using alumina free abrasive grains and a polishing tape, and the surface roughness was measured using a stylus-type roughness meter with a 2 μm R needle.
The center line average roughness Ra is 15 to 20 mm (0.0015 to
0.0020 μm) and the maximum height Rmax is 300
Å (0.0300 μm) or less. Note that, depending on the material of the magnetic layer, a metal layer may be laminated on the upper or lower side of the magnetic layer.

【0067】このような構成の磁気記録ディスク用基板
11aに対し、Co−Cr−Ta磁性層14の表面側
に、微細な凹凸が表面に均一分布する表面保護層15を
形成する本発明の実施例について、以下に説明する。
On the surface of the Co—Cr—Ta magnetic layer 14, a surface protective layer 15 in which fine irregularities are uniformly distributed on the surface side of the magnetic recording disk substrate 11a having such a structure is implemented. An example is described below.

【0068】〔実施例3〕実施例3に係る磁気記録ディ
スクは、図9に示すとおり、Co−Cr−Ta磁性層1
4の表面側に保護層15が形成されており、この保護層
15の表面には、それを模式的に示すように、微細なク
レーター状の凸部15aおよび凹部15bが均一に形成
されている。ここで、保護層15は、テトラヒドロキシ
シランが転化してなるポリ珪酸膜で構成されており、そ
の最大厚さは、約10nmないし約20nmである。ま
た、保護層15の表面においては、その凸部15aおよ
び凹部15bによってフッ素系オイルからなる潤滑剤層
16が保持されている。
[Embodiment 3] As shown in FIG. 9, a magnetic recording disk according to Embodiment 3 has a Co—Cr—Ta magnetic layer 1.
4, a protective layer 15 is formed on the surface side, and fine crater-shaped convex portions 15a and concave portions 15b are uniformly formed on the surface of the protective layer 15, as schematically shown. . Here, the protective layer 15 is made of a polysilicate film formed by converting tetrahydroxysilane, and has a maximum thickness of about 10 nm to about 20 nm. Further, on the surface of the protective layer 15, a lubricating layer 16 made of fluorine-based oil is held by the convex portions 15a and the concave portions 15b.

【0069】この磁気記録ディスク11においては、保
護層15の表面に形成された凸部15aと凹部15bと
が方向性を有していないため、回転する磁気記録ディス
ク11の表面と磁気ヘッドとの摩擦力に対する低減効率
が高い。従って、その評価結果については後述するが、
表面粗さが小さいにもかかわらず、磁気ヘッドに対する
耐吸着特性が優れている。また、保護層15の表面側に
おいては、とくに、凹部15bに潤滑剤層16が強く保
持されているため、その潤滑性によって、磁気記録ディ
スク11の表面の初期的な潤滑特性が高いことは勿論の
こと、その経時的な耐磨耗特性も向上している。さら
に、本例の磁気記録ディスク11においては、磁気ヘッ
ドの浮上距離を圧縮できると共に、保護層15自身が薄
いため、Co−Cr−Ta磁性層14と磁気ヘッドとの
相対距離が短いので、磁気記録ディスク11の記録トラ
ックを高密度化可能になっている。
In the magnetic recording disk 11, since the convex portions 15a and the concave portions 15b formed on the surface of the protective layer 15 do not have any directionality, the magnetic recording disk 11 is in a position between the surface of the rotating magnetic recording disk 11 and the magnetic head. High efficiency in reducing frictional force. Therefore, although the evaluation results will be described later,
Despite its small surface roughness, it has excellent adsorption resistance to the magnetic head. On the surface side of the protective layer 15, the lubricant layer 16 is particularly strongly held in the concave portion 15b, so that the lubricating property of course ensures that the initial lubricating property of the surface of the magnetic recording disk 11 is high. In addition, its wear resistance over time has been improved. Further, in the magnetic recording disk 11 of the present embodiment, the flying distance of the magnetic head can be reduced, and since the protective layer 15 itself is thin, the relative distance between the Co—Cr—Ta magnetic layer 14 and the magnetic head is short. The recording tracks on the recording disk 11 can be made denser.

【0070】このような構成の磁気記録ディスク11の
製造方法について説明する。
A method for manufacturing the magnetic recording disk 11 having such a configuration will be described.

【0071】まず、磁気記録ディスク用基板11aのC
o−Cr−Ta磁性層14の表面上に、テトラヒドロキ
シシランが配合された塗布液をスピンコート法により塗
布する。このスピンコートは、磁気記録ディスクの回転
数を約2500rpmの条件に設定して行う。本例にお
いては、テトラヒドロキシシランとして、日本曹達株式
会社製の商品名アトロンNSi−310(SiO2 含有
量として換算して、含有量が5.9wt%のテトラヒド
ロキシシランの酢酸エチル溶液)5.085gと、n−
ヘキサデカン0.3gとをイソプロピルアルコールに全
重量が100gとなるように配合したものを、塗布液
(テトラヒドロキシシランの配合量は、SiO2 に換算
して、約0.3g)として用いた。ここで、塗布液中に
おけるテトラヒドロキシシランとn−ヘキサデカンとの
配合比は、テトラヒドロキシシランをSiO2 に換算し
たときの重量比で略1:1になっている。
First, the C of the magnetic recording disk substrate 11a
On the surface of the o-Cr-Ta magnetic layer 14, a coating solution containing tetrahydroxysilane is applied by spin coating. This spin coating is performed by setting the number of revolutions of the magnetic recording disk to about 2500 rpm. In this example, as the tetrahydroxysilane, a trade name of Atron NSi-310 (trade name, manufactured by Nippon Soda Co., Ltd.) (ethyl acetate solution of tetrahydroxysilane having a content of 5.9 wt% in terms of SiO 2 content) 5. 085g and n-
A mixture of 0.3 g of hexadecane and isopropyl alcohol so that the total weight was 100 g was used as a coating solution (the blending amount of tetrahydroxysilane was about 0.3 g in terms of SiO 2 ). Here, the mixing ratio of tetrahydroxysilane and n-hexadecane in the coating solution is approximately 1: 1 in terms of weight ratio when tetrahydroxysilane is converted to SiO 2 .

【0072】このスピンコート法による塗布工程におい
ては、その雰囲気を温度が約20℃、相対湿度が約60
%の条件に設定した状態で行う(塗布工程)。
In the spin coating method, the atmosphere is set at a temperature of about 20 ° C. and a relative humidity of about 60 ° C.
% (Coating step).

【0073】つぎに、Co−Cr−Ta磁性層14の表
面上の塗布液に対して、温度が約150℃の雰囲気中で
約4時間の加熱処理を施して、テトラヒドロキシシラン
に対する焼成処理を行う。この焼成処理によって、テト
ラヒドロキシシランはポリ珪酸膜となる。このポリ珪酸
膜が保護層15であり、その表面には、図9に示すよう
に、微細な凸部15aと凹部15bとが方向性のない状
態で分布している。(加熱工程)。
Next, the coating solution on the surface of the Co—Cr—Ta magnetic layer 14 is subjected to a heat treatment for about 4 hours in an atmosphere at a temperature of about 150 ° C., and a baking treatment for tetrahydroxysilane is performed. Do. By this baking treatment, the tetrahydroxysilane becomes a polysilicate film. This polysilicic acid film is the protective layer 15, and on the surface thereof, as shown in FIG. 9, fine convex portions 15a and concave portions 15b are distributed without directivity. (Heating step).

【0074】しかる後に、フッ素系オイルとしてモンテ
フルオス社製の商品名FOMBLIN・Z−DOLを、
パーフルオロカーボン溶媒として同社製の商品名FOM
BLIN・ZS−100で0.075wt%に希釈して
なる溶液を、磁気記録ディスク11の回転数を約250
0rpmに設定して、保護層15の表面にスピンコート
し、その後、温度が約150℃の雰囲気中で約1時間の
熱処理を行って、潤滑剤層16を形成する。これによ
り、磁気記録ディスク11が製造される。
Thereafter, FOMBLIN Z-DOL (trade name, manufactured by Montefluos Co., Ltd.) was used as a fluorine-based oil.
Company name FOM as perfluorocarbon solvent
A solution prepared by diluting the solution to 0.075 wt% with BLIN-ZS-100 was applied to the magnetic recording disk 11 at about 250 rpm.
At a setting of 0 rpm, the surface of the protective layer 15 is spin-coated, and then a heat treatment is performed in an atmosphere at a temperature of about 150 ° C. for about 1 hour to form the lubricant layer 16. Thereby, the magnetic recording disk 11 is manufactured.

【0075】本例の製造方法においては、塗布液を塗布
するときに、その雰囲気中の相対湿度を規定しておくた
め、ポリ珪酸膜に転化させて保護層15を形成した後の
凹凸形状が均一化される。また、ポリ珪酸膜に膜厚さば
らつきが発生しないため、保護層15の厚さを不必要に
厚く設定する必要がなく、また、下地層としてSiO2
などを形成しておく必要もない。
In the manufacturing method of the present embodiment, when the coating liquid is applied, the relative humidity in the atmosphere is regulated, so that the concavo-convex shape after forming the protective layer 15 by converting to a polysilicate film is used. Be uniformed. Further, since the film thickness variation in the polysilicic acid film is not generated, it is not necessary to set unnecessarily increase the thickness of the protective layer 15, also SiO 2 as an underlayer
It is not necessary to form such as.

【0076】〔実施例4〕実施例4に係る磁気記録ディ
スクも、その構成は実施例3と同様な構成になってお
り、対応する層には同符号を付して説明する。本例の磁
気記録ディスク11も、図9に示すように、保護層15
の表面に、方向性のない微細な凸部15aおよび凹部1
5bが分布している。ここでも、保護層15はテトラヒ
ドロキシシランが転化してなるポリ珪酸膜で構成されて
おり、その最大厚さは約10nmないし約20nmであ
る。また、保護層15の表面においては、その凸部15
aと凹部15bとによってフッ素系オイルからなる潤滑
剤層16が保持されている。
[Fourth Embodiment] The magnetic recording disk according to the fourth embodiment has the same structure as that of the third embodiment, and the corresponding layers are denoted by the same reference numerals. As shown in FIG. 9, the magnetic recording disk 11 of this example also has a protective layer 15.
Fine protrusions 15a and recesses 1 having no directivity on the surface of
5b are distributed. Also in this case, the protective layer 15 is formed of a polysilicate film obtained by converting tetrahydroxysilane, and has a maximum thickness of about 10 nm to about 20 nm. In addition, on the surface of the protective layer 15,
The lubricant layer 16 made of a fluorine-based oil is held by the a and the recess 15b.

【0077】この磁気記録ディスク11においても、実
施例3と同様に、保護層15の表面に形成された凸部1
5aと凹部15bとが方向性を有していないため、その
評価結果については後述するが、表面粗さが小さいにも
かかわらず、磁気ヘッドに対する耐吸着特性が優れてい
る。また、保護層15の凹部15bに潤滑剤層16が強
く保持されているため、磁気記録ディスク11の表面の
初期的および経時的な耐磨耗特性も向上している。さら
に、磁気ヘッドの浮上距離を圧縮できると共に、保護層
15自身が薄いため、Co−Cr−Ta磁性層14と磁
気ヘッドとの相対距離が短いので、磁気記録ディスク1
1の記録トラックを高密度化可能になっている。
Also in this magnetic recording disk 11, similarly to the third embodiment, the protrusions 1 formed on the surface of the protective layer 15 are formed.
Since the 5a and the recess 15b do not have directionality, the evaluation results thereof will be described later. However, despite the small surface roughness, the magnetic head has excellent adsorption resistance. Further, since the lubricant layer 16 is strongly held in the concave portion 15b of the protective layer 15, the initial and temporal wear resistance of the surface of the magnetic recording disk 11 is also improved. Further, the flying distance of the magnetic head can be reduced, and since the protective layer 15 itself is thin, the relative distance between the Co—Cr—Ta magnetic layer 14 and the magnetic head is short.
It is possible to increase the density of one recording track.

【0078】このような構成の磁気記録ディスク11の
製造方法について説明する。
A method for manufacturing the magnetic recording disk 11 having such a configuration will be described.

【0079】まず、実施例3と同様に、Co−Cr−T
a磁性層14の表面上に、テトラヒドロキシシランが配
合された塗布液をスピンコート法により塗布する。ここ
で、塗布液を実施例3と異なる組成の塗布液を用いた。
すなわち、テトラヒドロキシシランとして日本曹達株式
会社製の商品名アトロンNSi−310(SiO2 含有
量として換算して、含有量が5.9wt%のテトラヒド
ロキシシランの酢酸エチル溶液)5.085gと、n−
ヘキサデカン0.1gとをイソプロピルアルコールに全
重量が100gとなるように配合した塗布液(テトラヒ
ドロキシシランの配合量は、SiO2 に換算して、約
0.3g)を用いた。ここでのスピンコートは磁気記録
ディスクの回転数を約2500rpmの条件に設定して
行う。また、スピンコート法による塗布工程における雰
囲気の条件は、実施例3と同様、温度は約20℃、相対
湿度は約60%である(塗布工程)。
First, as in the third embodiment, Co-Cr-T
On the surface of the a magnetic layer 14, a coating solution containing tetrahydroxysilane is applied by spin coating. Here, a coating liquid having a composition different from that of Example 3 was used.
That is, 5.085 g of a product of Atron NSi-310 (trade name, manufactured by Nippon Soda Co., Ltd. as a tetrahydroxysilane) (a solution of tetrahydroxysilane in ethyl acetate having a content of 5.9 wt% in terms of SiO 2 content) and n −
A coating solution in which 0.1 g of hexadecane was mixed with isopropyl alcohol so that the total weight was 100 g (the mixing amount of tetrahydroxysilane was about 0.3 g in terms of SiO 2 ) was used. Here, the spin coating is performed by setting the number of revolutions of the magnetic recording disk to a condition of about 2500 rpm. The conditions of the atmosphere in the application step by the spin coating method are, as in Example 3, a temperature of about 20 ° C. and a relative humidity of about 60% (application step).

【0080】つぎに、Co−Cr−Ta磁性層14の表
面の塗布液に対して、温度が約150℃の雰囲気中で約
4時間の加熱処理を行って、塗布液中のテトラヒドロキ
シシランに対する焼成処理を行う。これによって、図9
示すように、微細な凸部15aおよび凹部15bが方向
性をもたずに均一に分布するポリ珪酸膜たる保護層15
を形成する(加熱工程)。
Next, the coating liquid on the surface of the Co—Cr—Ta magnetic layer 14 is subjected to a heat treatment for about 4 hours in an atmosphere at a temperature of about 150 ° C. to remove tetrahydroxysilane in the coating liquid. A firing process is performed. As a result, FIG.
As shown, the protection layer 15 is a polysilicate film in which fine projections 15a and depressions 15b are uniformly distributed without any directivity.
Is formed (heating step).

【0081】しかる後に、フッ素系オイルとしてモンテ
フルオス社製の商品名FOMBLIN・Z−DOLをパ
ーフルオロカーボン溶媒として同社製の商品名FOMB
LIN・ZS−100で0.075wt%に希釈してな
る溶液を、磁気記録ディスク11の回転数を約2500
rpmに設定して、保護層15の表面にスピンコート
し、その後、温度が約150℃の雰囲気中で約1時間の
熱処理を行って、潤滑剤層16を形成する。これによ
り、磁気記録ディスク11が製造される。
Thereafter, FOMBLIN.Z-DOL (trade name, manufactured by Montefluos) as a fluorine-based oil was used as a perfluorocarbon solvent, and FOMB (trade name, manufactured by the company)
The solution obtained by diluting the solution to 0.075 wt% with LIN-ZS-100 was adjusted to about 2500 revolutions of the magnetic recording disk 11.
At a setting of rpm, the surface of the protective layer 15 is spin-coated, and then heat-treated for about 1 hour in an atmosphere at a temperature of about 150 ° C. to form the lubricant layer 16. Thereby, the magnetic recording disk 11 is manufactured.

【0082】本例の製造方法においても、実施例3と同
様に、塗布液を塗布するときに、雰囲気中の相対湿度を
規定しておくため、ポリ珪酸膜に転化させて保護層15
を形成した後の凹凸形状が均一化される。また、ポリ珪
酸膜に膜厚さばらつきが発生しないため、保護層15の
厚さを不必要に厚く設定する必要がなく、また、下地層
としてSiO2 などを形成しておく必要もない。
In the manufacturing method of this embodiment, as in the case of the third embodiment, when the coating liquid is applied, the protective layer 15 is converted into a polysilicate film in order to regulate the relative humidity in the atmosphere.
The uneven shape after forming is uniformized. Further, since the thickness of the polysilicate film does not vary, the thickness of the protective layer 15 does not need to be set unnecessarily thick, and it is not necessary to form SiO 2 or the like as a base layer.

【0083】〔比較例5〕つぎに、実施例3および実施
例4に係る磁気記録ディスクの摺動特性を評価するため
に用いた比較例としての磁気記録ディスクについて説明
しておく。
Comparative Example 5 Next, a magnetic recording disk as a comparative example used for evaluating the sliding characteristics of the magnetic recording disks according to the third and fourth embodiments will be described.

【0084】比較例5に係る磁気記録ディスクおいて
は、実施例3における製造方法のうち、塗布工程におい
て用いる塗布液として、実施例3および実施例4と異な
る組成の塗布液を用いた。すなわち、テトラヒドロキシ
シランとして日本曹達株式会社製の商品名アトロンNS
i−310(SiO2 含有量として換算して、含有量が
5.9wt%のテトラヒドロキシシランの酢酸エチル溶
液)5.085gのみをイソプロピルアルコールに全重
量が100gとなるように配合した塗布液を用いた。す
なわち、n−ヘキサデカンは配合されていない。他の工
程条件については、実施例3および実施例4と同様であ
るため、その説明を省略する。
In the magnetic recording disk according to Comparative Example 5, in the manufacturing method of Example 3, a coating liquid having a composition different from that of Examples 3 and 4 was used as the coating liquid used in the coating step. That is, Nippon Soda Co., Ltd. product name Atron NS as tetrahydroxysilane
A coating solution prepared by blending 5.085 g of i-310 (a solution of tetrahydroxysilane in ethyl acetate having a content of 5.9 wt% in terms of SiO 2 content) with isopropyl alcohol in a total weight of 100 g was used. Using. That is, n-hexadecane is not blended. The other process conditions are the same as those in the third and fourth embodiments, and thus the description thereof is omitted.

【0085】この比較例5により形成された保護層の表
面を、電子顕微鏡で観察しても、保護層の表面には微細
が凹凸が形成されていないことが確認されている。
When the surface of the protective layer formed in Comparative Example 5 was observed with an electron microscope, it was confirmed that no fine irregularities were formed on the surface of the protective layer.

【0086】〔比較例6〕さらに、比較例6として、C
o−Cr−Ta磁性層の表面に、厚さが約20nm(2
00Å)のアモルファスカーボン層を、ポリ珪酸膜に代
えて、保護層として形成してある。その表面に対して
は、フッ素系オイルとしてモンテフルオス社製の商品名
FOMBLIN・AM2001をパーフルオロカーボン
溶媒としての同社製の商品名FOMBLIN・ZS−1
00で0.1wt%に希釈した溶液を、磁気記録ディス
クの回転数を約2000rpmに設定して塗布し、表面
潤滑剤層を形成した。この保護層の表面には、凹凸が形
成されていないことが確認されている。
[Comparative Example 6] Further, as Comparative Example 6, C
On the surface of the o-Cr-Ta magnetic layer, a thickness of about 20 nm (2
The amorphous carbon layer of (00) is formed as a protective layer instead of the polysilicate film. On the surface, FOMBLIN.AM2001 (trade name, manufactured by Montefluos) as a fluorinated oil, and FOMBLIN (ZS-1, trade name, manufactured by the company) as a perfluorocarbon solvent.
A solution diluted to 0.1 wt% with 00 was applied at a rotation speed of the magnetic recording disk of about 2000 rpm to form a surface lubricant layer. It has been confirmed that no irregularities are formed on the surface of this protective layer.

【0087】{実施例3,4の効果} 〔磁気記録ディスクの特性の評価結果〕 以上の実施例3,4および比較例5,6に係る磁気記録
ディスクG〜Jについて、それらの各特性を評価した結
果を表2に示す。
{Effects of Examples 3 and 4 } [Evaluation Results of Characteristics of Magnetic Recording Disks] The characteristics of the magnetic recording disks G to J according to Examples 3 and 4 and Comparative Examples 5 and 6 are described below. Table 2 shows the results of the evaluation.

【0088】ここでの評価項目は、中心線平均粗さR
a,最大高さRmaxに加えて、20000サイクルの
CSSテスト、すなわち、ディスク装置の起動および停
止を20000サイクル繰り返した後の各磁気記録ディ
スクの相対速度2mm/secにおける動摩擦係数
μD ,温度が約33℃、相対湿度が80%の雰囲気中で
約240時間放置した後の静止摩擦係数μS を測定し
た。ここで、動摩擦係数μD は磨耗特性への指標であ
り、静止摩擦係数μS は吸着し難さの指標であり、いず
れも小さい方が好ましく、1を越えるものは不良と見做
すことができる。なお、表中、p−Siはポリ珪酸膜
を、α−Cはアモルファスカーボンを表す。
The evaluation items here are center line average roughness R
a, In addition to the maximum height Rmax, a 20,000 cycle CSS test, that is, a dynamic friction coefficient μ D at a relative speed of 2 mm / sec of each magnetic recording disk after 20,000 cycles of starting and stopping of the disk device, and a temperature of about 2,000 cycles 33 ° C., was measured static friction coefficient mu S after the relative humidity was left in 80% atmosphere about 240 hours. Here, the dynamic friction coefficient mu D is indicative of the wear characteristics, the coefficient of static friction mu S is an index of the of difficulty adsorbed, either it is preferably less, be regarded is a bad thing exceeding 1 it can. In the table, p-Si represents a polysilicate film, and α-C represents amorphous carbon.

【0089】[0089]

【表2】 [Table 2]

【0090】表2に示すように、実施例3および実施例
4に係る磁気記録ディスクG,Hはいずれも、表面粗さ
(Ra,Rmax)が小さく、しかも、動摩擦係数μD
および静止摩擦係数μS のいずれもが小さい。従って、
磁気ヘッドの浮上量を小さく保持して、記録密度を高く
保ったままで、耐磨耗特性および耐吸着特性を向上させ
ることができる。
As shown in Table 2, the magnetic recording disks G and H according to Example 3 and Example 4 each have a small surface roughness (Ra, Rmax) and a kinetic friction coefficient μ D.
And any of static friction coefficient mu S is small. Therefore,
The wear resistance and the adsorption resistance can be improved while the flying height of the magnetic head is kept small and the recording density is kept high.

【0091】これに対し、比較例5に係る磁気ディスク
Iは、表面粗さ(Ra,Rmax)が小さいものの、動
摩擦係数μD および静止摩擦係数μS のいずれもが大き
く、耐磨耗特性および耐吸着特性に劣ることが確認され
た。また、比較例6に係る磁気記録ディスクJは、表面
粗さ(Ra,Rmax)が大きいため、磁気ヘッドの浮
上距離を広く確保する必要があるのに加えて、動摩擦係
数μD および静止摩擦係数μS のいずれもが大きく、耐
磨耗特性および耐吸着特性に劣ることが確認された。
[0091] In contrast, a magnetic disk I according to Comparative Example 5, although the surface roughness (Ra, Rmax) is small, both of the dynamic friction coefficient mu D and static friction coefficient mu S is large, the abrasion characteristics and It was confirmed that the adsorption resistance was poor. The magnetic recording disk J of Comparative Example 6, the surface roughness (Ra, Rmax) is large, in addition to it is necessary to secure a wide floating distance of the magnetic head, the dynamic friction coefficient mu D and coefficient of static friction any of the mu S is large, poor in wear characteristics and absorption resistance adhesive properties was confirmed.

【0092】なお、実施例3および実施例4のいずれに
おいても、少なくとも13の炭素数を有し、かつ、テト
ラヒドロキシランと不溶性、およびイソプロピルアルコ
ールとは易溶性の脂肪族炭化水素としてn−ヘキサデカ
ンを用いたが、これに限らず、上記の条件を満足する脂
肪族炭化水素であれば、炭素数が13以上のものでも同
様な効果を得ることができると推定できる。
In both Examples 3 and 4, n-hexadecane was used as an aliphatic hydrocarbon having at least 13 carbon atoms and insoluble in tetrahydroxylane and isopropyl alcohol as a readily soluble aliphatic hydrocarbon. However, the present invention is not limited to this, and it can be estimated that similar effects can be obtained with aliphatic hydrocarbons having 13 or more carbon atoms as long as they satisfy the above conditions.

【0093】なお、塗布液に対するテトラヒドロキシシ
ランとn−ヘキサデカン(脂肪族炭化水素)との配合比
は、テトラヒドロキシシランをSiO2 に換算したとき
の重量比で1:1〜1:0.05までの範囲であれば、
凹凸を安定して形成することができるが、この範囲外で
は凹凸の形成密度を制御し難くなる。
The mixing ratio of tetrahydroxysilane and n-hexadecane (aliphatic hydrocarbon) to the coating liquid is from 1: 1 to 1: 0.05 in terms of weight ratio when tetrahydroxysilane is converted to SiO 2. Up to
The irregularities can be formed stably, but outside this range, it is difficult to control the density of the irregularities.

【0094】また、塗布液の塗布するときの雰囲気の相
対湿度を種々変えて評価した結果、50%以上の相対湿
度であって結露しない状態、とくに、約60%前後の雰
囲気中であることが好ましい。
As a result of various changes in the relative humidity of the atmosphere when the coating liquid is applied, the relative humidity of 50% or more and non-condensing, especially about 60% of the atmosphere. preferable.

【0095】{実施例5乃至10} つぎに、実施例5乃至10について説明する。Embodiments 5 to 10 Next, Embodiments 5 to 10 will be described.

【0096】〔実施例5〕図10に実施例5に係る磁気
ディスクの断面を示してある。本例のディスクは、先
ず、アルミニウム製の基板31にNi−Pメッキ32を
施した3.5インチディスクの基体21の表面を、アル
ミナ遊離砥粒および研磨テープを用いて、表面粗さRa
=15〜20Å(0・0015〜0.0020μm)、
その最大高さRmax=300Å(0.0300μm)
以下(2μmR針の触針式粗さ計を用いて測定した場
合)となるように鏡面加工する。そして、この基体21
の表面に、スパッタ法を用いてCo−Cr−Ta薄膜磁
性層22を形成する。さらに、この磁性層22の表面
に、ポリ珪酸膜による保護層23と、液体潤滑剤による
潤滑層(潤滑剤層)24を形成する。
Fifth Embodiment FIG. 10 shows a cross section of a magnetic disk according to a fifth embodiment. In the disk of this example, first, the surface of the substrate 21 of the 3.5-inch disk in which the Ni-P plating 32 was applied to the aluminum substrate 31 was coated with alumina free abrasive grains and a polishing tape to obtain a surface roughness Ra.
= 15-20 ° (0.0015-0.0020 μm),
Its maximum height Rmax = 300Å (0.0300 μm)
Mirror finishing is performed as follows (when measured using a stylus-type roughness meter with a 2 μmR needle). And this base 21
A Co—Cr—Ta thin film magnetic layer 22 is formed on the surface of the substrate by using a sputtering method. Further, a protective layer 23 made of a polysilicate film and a lubricating layer (lubricant layer) 24 made of a liquid lubricant are formed on the surface of the magnetic layer 22.

【0097】本例の保護層23は、テトラヒドロキシシ
ランとして日本曹達株式会社製アトロンNSi−310
(SiO2 含有量5.9%酢酸エチル溶液)5.085
gに、ナフタレンを0.9g加えた後、イソプロピール
アルコールにて全重量が100gになるように希釈混合
した塗布液を用いている。この塗布液のSiO2 含有量
は0.3wt%である。また、塗布方法は、室温20°
C、湿度60%の環境下における、ディスク回転速度2
500rpmのスピンコートを採用した。そして、その
ディスクを150°Cで4時間焼成してポリ珪酸保護層
23を形成してある。
The protective layer 23 of the present example is made of Astron NSi-310 manufactured by Nippon Soda Co., Ltd. as tetrahydroxysilane.
(SiO 2 content 5.9% ethyl acetate solution) 5.085
To 0.9 g, a coating liquid obtained by adding 0.9 g of naphthalene and diluting and mixing with isopropyl alcohol so that the total weight becomes 100 g is used. The SiO 2 content of this coating solution is 0.3% by weight. The coating method is room temperature 20 °
C, disk rotation speed 2 in an environment of 60% humidity
Spin coating at 500 rpm was employed. Then, the disk is baked at 150 ° C. for 4 hours to form a polysilicate protective layer 23.

【0098】また、潤滑層24は、フッ素オイルのモン
テフルオス社製FOMBLIN・Z−DOLをパーフロ
ロカーボン溶媒の同社製FOMBIN・ZS−100に
より0.075wt%に希釈した溶液を、ディスク回転
数2500rpmのスピンコートにより塗布した後、1
50°C1時間の熱処理を行って形成してある。
The lubricating layer 24 is formed by spin-coating a solution obtained by diluting a fluorine oil, FOMBLIN.Z-DOL, manufactured by Montefluos Co., Ltd. to 0.075 wt% with a perfluorocarbon solvent, FOMBIN.ZS-100 manufactured by the company, at a disk rotation speed of 2500 rpm. After applying with a coat,
It is formed by performing a heat treatment at 50 ° C. for 1 hour.

【0099】このようにして製造された磁気ディスクに
対し、後述する条件下で静止摩擦係数、および動摩擦係
数を測定した。その結果は表3に纏めて示してある。
The magnetic disk manufactured as described above was measured for the static friction coefficient and the dynamic friction coefficient under the conditions described below. The results are summarized in Table 3.

【0100】〔実施例6〕実施例5と同様の構成の磁気
ディスクにおいて、ポリ珪酸保護層23を以下の条件で
形成した。磁気ディスクの構成、潤滑層24など、ポリ
珪酸保護膜23以外は実施例5と同様につき、説明を省
略する。
[Embodiment 6] On a magnetic disk having the same structure as in Embodiment 5, a polysilicate protective layer 23 was formed under the following conditions. Except for the structure of the magnetic disk, the lubricating layer 24, and the like, except for the polysilicate protective film 23, they are the same as in the fifth embodiment, and the description is omitted.

【0101】本例のポリ珪酸保護膜23は、テトラヒド
ロキシシランとして日本曹達株式会社製アトロンNSi
−310(SiO2 含有量5.9%酢酸エチル溶液)
5.085gに、n−ヘキサデカンを0.3g加えた
後、イソプロピールアルコールにて全重量が100gに
なるように希釈混合した塗布液を用いている。この塗布
液のSiO2 含有量は0.3wt%である。また、塗布
方法は、室温20°C、湿度60%の環境下における、
ディスク回転速度2500rpmのスピンコートを採用
した。そして、そのディスクを150°Cで4時間焼成
してポリ珪酸保護層23を形成した。
The polysilicic acid protective film 23 of this example is made of Atron NSi manufactured by Nippon Soda Co., Ltd. as tetrahydroxysilane.
-310 (5.9% SiO 2 solution in ethyl acetate)
A coating liquid obtained by adding 0.3 g of n-hexadecane to 5.085 g and then diluting and mixing with isopropyl alcohol so that the total weight becomes 100 g is used. The SiO 2 content of this coating solution is 0.3% by weight. The coating method is as follows, under an environment of a room temperature of 20 ° C. and a humidity of 60%.
Spin coating at a disk rotation speed of 2500 rpm was employed. Then, the disk was baked at 150 ° C. for 4 hours to form a polysilicate protective layer 23.

【0102】本例の磁気ディスクに対しても、後述する
条件下で静止摩擦係数、および動摩擦係数を測定した。
その結果は表3に纏めて示してある。
For the magnetic disk of this example, the static friction coefficient and the dynamic friction coefficient were measured under the conditions described later.
The results are summarized in Table 3.

【0103】〔実施例7〕実施例5と同様の構成の磁気
ディスクにおいて、ポリ珪酸保護層23を以下の条件で
形成した。磁気ディスクの構成、潤滑層24など、ポリ
珪酸保護膜23以外は実施例5と同様につき、説明を省
略する。
[Embodiment 7] On a magnetic disk having the same structure as in Embodiment 5, a polysilicate protective layer 23 was formed under the following conditions. Except for the structure of the magnetic disk, the lubricating layer 24, and the like, except for the polysilicate protective film 23, they are the same as in the fifth embodiment, and the description is omitted.

【0104】本例のポリ珪酸保護膜23は、テトラヒド
ロキシシランとして日本曹達株式会社製アトロンNSi
−310(SiO2 含有量5.9%酢酸エチル溶液)
3.559gに、コロイダルシリカとして触媒化成工業
株式会社製オスカル1432(平均粒径12nm、Si
2 含有量30%IPA溶液)を0.3g加えた後、イ
ソプロピールアルコールにて全重量が100gになるよ
うに希釈混合した塗布液を用いている。この塗布液のテ
トラヒドロキシシランとコロイダルシリカの混合比は
7:3であり、SiO2 含有量は0.3wt%である。
また、塗布方法は、室温20°C、湿度60%の環境下
における、ディスク回転速度2500rpmのスピンコ
ートを採用した。そして、そのディスクを150°Cで
4時間焼成してポリ珪酸保護層23を形成した。
The polysilicic acid protective film 23 of this example is made of Nippon Soda Co., Ltd.
-310 (5.9% SiO 2 solution in ethyl acetate)
3.559 g of Oscar 1432 (average particle size 12 nm, Si
A coating solution prepared by adding 0.3 g of a 30% O 2 content IPA solution) and then diluting and mixing with isopropyl alcohol so that the total weight becomes 100 g is used. The mixing ratio of tetrahydroxysilane and colloidal silica in this coating solution was 7: 3, and the SiO 2 content was 0.3 wt%.
The coating method employed was spin coating at a disk rotation speed of 2500 rpm in an environment at a room temperature of 20 ° C. and a humidity of 60%. Then, the disk was baked at 150 ° C. for 4 hours to form a polysilicate protective layer 23.

【0105】本例の磁気ディスクに対しても、後述する
条件下で静止摩擦係数、および動摩擦係数を測定した。
その結果は表3に纏めて示してある。
For the magnetic disk of this example, the static friction coefficient and the dynamic friction coefficient were measured under the conditions described later.
The results are summarized in Table 3.

【0106】〔実施例8〕実施例5と同様の構成の磁気
ディスクにおいて、ポリ珪酸保護層23を以下の条件で
形成した。磁気ディスクの構成、潤滑層24など、ポリ
珪酸保護膜23以外は実施例5と同様につき、説明を省
略する。
[Embodiment 8] On a magnetic disk having the same structure as in Embodiment 5, a polysilicate protective layer 23 was formed under the following conditions. Except for the structure of the magnetic disk, the lubricating layer 24, and the like, except for the polysilicate protective film 23, they are the same as in the fifth embodiment, and the description is omitted.

【0107】本例のポリ珪酸保護膜23は、テトラヒド
ロキシシランとして日本曹達株式会社製アトロンNSi
−310(SiO2 含有量5.9%酢酸エチル溶液)
3.559gに、コロイダルシリカとして触媒化成工業
株式会社製オスカル1432(平均粒径12nm、Si
2 含有量30%IPA溶液)を0.3g加えた後、さ
らに、ナフタレンを0.9g加えた後、イソプロピール
アルコールにて全重量が100gになるように希釈混合
した塗布液を用いている。この塗布液のテトラヒドロキ
シシランとコロイダルシリカの混合比は7:3であり、
SiO2 含有量は0.3wt%である。また、塗布方法
は、室温20°C、湿度60%の環境下における、ディ
スク回転速度2500rpmのスピンコートを採用し
た。そして、そのディスクを150°Cで4時間焼成し
てポリ珪酸保護層23を形成した。
The polysilicic acid protective film 23 of this example is made of Nippon Soda Co., Ltd.
-310 (5.9% SiO 2 solution in ethyl acetate)
3.559 g of Oscar 1432 (average particle size 12 nm, Si
After addition of O 2 content of 30% IPA solution) 0.3 g, furthermore, after the addition of naphthalene 0.9 g, total weight in isopropyl alcohol is used a coating solution obtained by diluting mixed so that 100g . The mixing ratio of tetrahydroxysilane and colloidal silica in this coating solution was 7: 3,
The SiO 2 content is 0.3% by weight. The coating method employed was spin coating at a disk rotation speed of 2500 rpm in an environment at a room temperature of 20 ° C. and a humidity of 60%. Then, the disk was baked at 150 ° C. for 4 hours to form a polysilicate protective layer 23.

【0108】本例の磁気ディスクに対しても、後述する
条件下で静止摩擦係数、および動摩擦係数を測定した。
その結果は表3に纏めて示してある。
For the magnetic disk of this example, the static friction coefficient and the dynamic friction coefficient were measured under the conditions described later.
The results are summarized in Table 3.

【0109】〔実施例9〕実施例5と同様の構成の磁気
ディスクにおいて、ポリ珪酸保護層23を以下の条件で
形成した。磁気ディスクの構成、潤滑層24など、ポリ
珪酸保護膜23以外は実施例5と同様につき、説明を省
略する。
[Embodiment 9] In a magnetic disk having the same structure as that of Embodiment 5, a polysilicate protective layer 23 was formed under the following conditions. Except for the structure of the magnetic disk, the lubricating layer 24, and the like, except for the polysilicate protective film 23, they are the same as in the fifth embodiment, and the description is omitted.

【0110】本例のポリ珪酸保護膜23は、テトラヒド
ロキシシランとして日本曹達株式会社製アトロンNSi
−310(SiO2 含有量5.9%酢酸エチル溶液)
3.559gに、コロイダルシリカとして触媒化成工業
株式会社製オスカル1432(平均粒径12nm、Si
2 含有量30%IPA溶液)を0.3g加えた後、さ
らに、n−ヘキサデカンを0.2g加えた後、イソプロ
ピールアルコールにて全重量が100gになるように希
釈混合した塗布液を用いている。この塗布液のテトラヒ
ドロキシシランとコロイダルシリカの混合比は7:3で
あり、SiO2 含有量は0.3wt%である。また、塗
布方法は、室温20°C、湿度60%の環境下におけ
る、ディスク回転速度2500rpmのスピンコートを
採用した。そして、そのディスクを150°Cで4時間
焼成してポリ珪酸保護層23を形成した。
The polysilicic acid protective film 23 of this example is made of Nippon Soda's Atron NSi as tetrahydroxysilane.
-310 (5.9% SiO 2 solution in ethyl acetate)
3.559 g of Oscar 1432 (average particle size 12 nm, Si
After addition of O 2 content of 30% IPA solution) 0.3 g, furthermore, after the n- hexadecane was added 0.2 g, the coating solution total weight in isopropyl alcohol was diluted mixed at a 100g using ing. The mixing ratio of tetrahydroxysilane and colloidal silica in this coating solution was 7: 3, and the SiO 2 content was 0.3 wt%. The coating method employed was spin coating at a disk rotation speed of 2500 rpm in an environment at a room temperature of 20 ° C. and a humidity of 60%. Then, the disk was baked at 150 ° C. for 4 hours to form a polysilicate protective layer 23.

【0111】本例の磁気ディスクに対しても、後述する
条件下で静止摩擦係数、および動摩擦係数を測定した。
その結果は表3に纏めて示してある。
For the magnetic disk of this example, the static friction coefficient and the dynamic friction coefficient were measured under the conditions described later.
The results are summarized in Table 3.

【0112】〔実施例10〕実施例5と同様の構成の磁
気ディスクにおいて、ポリ珪酸保護層23を以下の条件
で形成した。磁気ディスクの構成、潤滑層24など、ポ
リ珪酸保護膜23以外は実施例5と同様につき、説明を
省略する。
[Embodiment 10] On a magnetic disk having the same structure as in Embodiment 5, a polysilicate protective layer 23 was formed under the following conditions. Except for the structure of the magnetic disk, the lubricating layer 24, and the like, except for the polysilicate protective film 23, they are the same as in the fifth embodiment, and the description is omitted.

【0113】本例のポリ珪酸保護膜23は、テトラヒド
ロキシシランとして日本曹達株式会社製アトロンNSi
−310(SiO2 含有量5.9%酢酸エチル溶液)
3.559gに、コロイダルシリカとして触媒化成工業
株式会社製オスカル1432(平均粒径12nm、Si
2 含有量30%IPA溶液)を0.3g加えた後、さ
らに、ナフタレンを0.6gとn−ヘキサデカンを0.
2g加えた後、イソプロピールアルコールにて全重量が
100gになるように希釈混合した塗布液を用いてい
る。この塗布液のテトラヒドロキシシランとコロイダル
シリカの混合比は7:3であり、SiO2 含有量は0.
3wt%である。また、塗布方法は、室温20°C、湿
度60%の環境下における、ディスク回転速度2500
rpmのスピンコートを採用した。そして、そのディス
クを150°Cで4時間焼成してポリ珪酸保護層23を
形成した。
The polysilicic acid protective film 23 of this example is manufactured by Nippon Soda Co., Ltd.
-310 (5.9% SiO 2 solution in ethyl acetate)
3.559 g of Oscar 1432 (average particle size 12 nm, Si
After addition of O 2 content of 30% IPA solution) 0.3 g, further, the naphthalene and 0.6 g n-hexadecane 0.
After adding 2 g, a coating solution diluted and mixed with isopropyl alcohol so that the total weight becomes 100 g is used. The mixture ratio of tetrahydroxysilane and colloidal silica in this coating solution was 7: 3, and the content of SiO 2 was 0.1%.
3 wt%. The coating method is such that the disk rotation speed is 2500 in an environment of a room temperature of 20 ° C. and a humidity of 60%.
Spin coating at rpm was employed. Then, the disk was baked at 150 ° C. for 4 hours to form a polysilicate protective layer 23.

【0114】本例の磁気ディスクに対しても、後述する
条件下で静止摩擦係数、および動摩擦係数を測定した。
その結果は表3に纏めて示してある。
For the magnetic disk of this example, the static friction coefficient and the dynamic friction coefficient were measured under the conditions described later.
The results are summarized in Table 3.

【0115】〔比較例7〕実施例5と同様の構成の磁気
ディスクにおいて、ポリ珪酸保護層23を以下の条件で
形成した。磁気ディスクの構成、潤滑層24など、ポリ
珪酸保護膜23以外は実施例5と同様につき、説明を省
略する。
Comparative Example 7 On a magnetic disk having the same configuration as in Example 5, a polysilicate protective layer 23 was formed under the following conditions. Except for the structure of the magnetic disk, the lubricating layer 24, and the like, except for the polysilicate protective film 23, they are the same as in the fifth embodiment, and the description is omitted.

【0116】本例のポリ珪酸保護膜23は、テトラヒド
ロキシシランとして日本曹達株式会社製アトロンNSi
−310(SiO2 含有量5.9%酢酸エチル溶液)
5.085gをイソプロピールアルコールにて全重量が
100gになるように希釈混合した塗布液を用いてい
る。この塗布液のSiO2 含有量は0.3wt%であ
る。
The polysilicic acid protective film 23 of this example is made of Nippon Soda Co., Ltd.
-310 (5.9% SiO 2 solution in ethyl acetate)
A coating solution obtained by diluting 5.085 g with isopropyl alcohol so that the total weight becomes 100 g is used. The SiO 2 content of this coating solution is 0.3% by weight.

【0117】また、塗布方法は、室温20°C、湿度6
0%の環境下における、ディスク回転速度2500rp
mのスピンコートを採用した。そして、そのディスクを
150°Cで4時間焼成してポリ珪酸保護層23を形成
した。
The coating method is as follows: room temperature 20 ° C., humidity 6
Disk rotation speed 2500rpm under 0% environment
m spin coat was adopted. Then, the disk was baked at 150 ° C. for 4 hours to form a polysilicate protective layer 23.

【0118】本例の磁気ディスクに対しても、後述する
条件下で静止摩擦係数、および動摩擦係数を測定した。
その結果は表3に纏めて示してある。
For the magnetic disk of this example, the static friction coefficient and the dynamic friction coefficient were measured under the conditions described later.
The results are summarized in Table 3.

【0119】〔比較例8〕本比較例として、図11に示
す従来のテクスチャの形成されたディスクを用いてい
る。本例のディスクは、先ず、アルミニウム製の基板7
1にNi−Pメッキ72を施した3.5インチディスク
の基体61の表面を、アルミナ遊離砥粒および研磨テー
プを用いて、表面粗さRa=30Å(0.0030μ
m)、その最大高さRmax=350Å(0.0350
μm)以下(2μmR針の触針式粗さ計を用いて測定し
た場合)となるように同心円状のテクスチャー加工を施
す。そして、この基体61の表面に、スパッタ法を用い
てCo−Cr−Ta薄膜磁性層62と、アモルファスカ
ーボン保護層63を順次形成する。さらに、液体潤滑剤
による潤滑層64を形成する。潤滑層64は、フッ素オ
イルのモンテフルオス社製FOMBLIN・AM200
1をパーフロロカーボン溶媒の同社製FOMBIN・Z
S−100により0.0075wt%に希釈した溶液
を、ディスク回転数2500rpmのスピンコートによ
り塗布した後、150°C1時間の熱処理を行って形成
してある。
[Comparative Example 8] As a comparative example, a conventional textured disk shown in FIG. 11 was used. First, the disc of this example is made of an aluminum substrate 7.
The surface of the substrate 61 of the 3.5-inch disk on which the Ni-P plating 72 was applied to the substrate 1 was coated with a surface roughness Ra = 30 ° (0.0030 μm) using alumina free abrasive grains and a polishing tape.
m), its maximum height Rmax = 350 ° (0.0350
μm) or less (when measured using a stylus-type roughness meter with a 2 μm R needle). Then, a Co—Cr—Ta thin film magnetic layer 62 and an amorphous carbon protective layer 63 are sequentially formed on the surface of the base 61 by using a sputtering method. Further, a lubricating layer 64 made of a liquid lubricant is formed. The lubricating layer 64 is made of fluorine oil FOMBLIN AM200 manufactured by Montefluos.
1 is a perfluorocarbon solvent FOMBIN-Z
It is formed by applying a solution diluted to 0.0075 wt% by S-100 by spin coating at a disk rotation speed of 2500 rpm, and then performing a heat treatment at 150 ° C. for 1 hour.

【0120】このようにして製造された磁気ディスクに
対し、後述する条件下で静止摩擦係数、および動摩擦係
数を測定した。その結果は表3に纏めて示してある。
The static friction coefficient and the dynamic friction coefficient of the magnetic disk manufactured as described above were measured under the conditions described below. The results are summarized in Table 3.

【0121】〔比較例9〕本比較例として、比較例8に
おいて、従来と同様の粗さの凹凸を備えたテクスチャー
の形成されたディスクを採用してある。本例のディスク
は、先ず、アルミニウム製の基板71にNi−Pメッキ
72を施した3.5インチディスクの基体61の表面
を、アルミナ遊離砥粒および研磨テープを用いて、表面
粗さRa=60〜70Å(0.0060〜0.0070
μm)、その最大高さRmax=800Å(0.080
0μm)以下(2μmR針の触針式粗さ計を用いて測定
した場合)となるように同心円状のテクスチャー加工を
施す。そして、この基体61の表面に、スパッタ法を用
いてCo−Cr−Ta薄膜磁性層62と、アモルファス
カーボン保護層63を順次形成する。さらに、液体潤滑
剤による潤滑層64を形成する。潤滑層64は、比較例
8と同様のものを採用してある。
[Comparative Example 9] As Comparative Example 8, a disk in which a texture having the same roughness as that of the related art was formed in Comparative Example 8 was employed. In the disk of this example, first, the surface of a substrate 61 of a 3.5-inch disk in which an Ni-P plating 72 was applied to an aluminum substrate 71 was coated with alumina free abrasive grains and a polishing tape to obtain a surface roughness Ra = 60 ~ 70Å (0.0060 ~ 0.0070
μm) and its maximum height Rmax = 800 ° (0.080
0 μm) or less (when measured using a stylus-type roughness meter with a 2 μm R needle). Then, a Co—Cr—Ta thin film magnetic layer 62 and an amorphous carbon protective layer 63 are sequentially formed on the surface of the base 61 by using a sputtering method. Further, a lubricating layer 64 made of a liquid lubricant is formed. The same lubricating layer 64 as that of Comparative Example 8 is employed.

【0122】このようにして製造された磁気ディスクに
対し、後述する条件下で静止摩擦係数、および動摩擦係
数を測定した。その結果は表3に纏めて示してある。
The static friction coefficient and the dynamic friction coefficient of the magnetic disk manufactured as described above were measured under the conditions described below. The results are summarized in Table 3.

【0123】〔測定結果〕上記にて製造された各実施例
5〜10および各比較例7〜9の磁気ディスクの潤滑層
24,64の表面状態および磨耗特性を測定し、表3に
示してある。
[Measurement Results] The surface conditions and wear characteristics of the lubricating layers 24 and 64 of the magnetic disks of the respective Examples 5 to 10 and Comparative Examples 7 to 9 manufactured as described above were measured. is there.

【0124】[0124]

【表3】 [Table 3]

【0125】表中のRa、Rmaxは、各ディスクの表
面に形成された潤滑層24,64の表面粗さを示す。な
お、測定装置としては、小坂研究所製ET−30Kを用
いており、触針は2μmR、測定長は2.50mmであ
る。また、保護膜厚は、ポリ珪酸保護層の膜重量厚を示
す。この膜重量厚は、ポリ珪酸保護層のSiの蛍光X線
強度(Kα)を測定し、既知の膜重量厚の試料から求め
た検出線と比較することにより測定している。また、カ
ーボン保護層の膜厚はCの蛍光X線強度(Kα)を測定
し、既知の膜厚の試料から求めた検出線と比較すること
により測定している。
Ra and Rmax in the table indicate the surface roughness of the lubricating layers 24 and 64 formed on the surface of each disk. The measuring device used was ET-30K manufactured by Kosaka Laboratories, the probe was 2 μmR, and the measurement length was 2.50 mm. The protective film thickness indicates the thickness of the polysilicate protective layer. This film thickness is measured by measuring the fluorescent X-ray intensity (Kα) of Si in the polysilicate protective layer and comparing it with a detection line obtained from a sample having a known film thickness. The film thickness of the carbon protective layer is measured by measuring the fluorescent X-ray intensity (Kα) of C and comparing it with a detection line obtained from a sample having a known film thickness.

【0126】μD は動摩擦係数であり、20000回の
CSSテスト(ディスク装置を用いた起動、停止繰り返
し試験)後のディスクと磁気ヘッドとの動摩擦係数の測
定結果を示してある。なお、磁気ヘッドは、荷重6gの
薄膜型の磁気ヘッドを用い、ディスクとの相対速度は、
2mm/sである。また、μS は、静止摩擦係数であ
り、室温33°C、湿度80%の環境下に240時間放
置したディスクと磁気ヘッドとの静止摩擦係数の測定結
果を示してある。なお、磁気ヘッドは、荷重6gの薄膜
型の磁気ヘッドを用いている。
Μ D is the coefficient of kinetic friction, and shows the measurement result of the coefficient of kinetic friction between the disk and the magnetic head after 20,000 CSS tests (repeated start / stop tests using a disk device). The magnetic head used was a thin-film magnetic head with a load of 6 g, and the relative speed to the disk was:
2 mm / s. Further, mu S is the static friction coefficient are shown the results of measurement of the static friction coefficient between room temperature 33 ° C, left for the disk and the magnetic head 240 hours under a humidity of 80% RH. The magnetic head is a thin-film magnetic head with a load of 6 g.

【0127】{実施例5乃至10の効果} この表3に示した測定結果から判るように、各実施例5
〜10のディスクにおいては、Raが25Å(0.00
25μm)、Rmaxが300Å(0.0300μm)
程度という非常に粗さの小さい表面でありながら、比較
例9に示す従来の粗さの大きなディスクと略同等の動摩
擦係数μD 、および静止摩擦μS を有している。この動
摩擦係数μD は、磨耗特性の指標であり、静止摩擦μS
は吸着のし難さの指標である。従って、上記の各実施例
5〜10のディスクは、表面粗さが小さいにも関わら
ず、従来のディスクと同様の磨耗特性を有し、また、磁
気ヘッドの吸着においても同様の特性を有していること
が判る。そして、本実施例のディスクは、表面粗さが小
さいため、磁気ヘッドの低浮上化が可能であり、磁気ヘ
ッドと磁性層との距離を短縮して高密度の記録が可能な
ディスクとなっている。さらに、保護膜厚も少ないた
め、磁気ヘッドと磁性層の距離をさらに短縮することが
可能である。
<< Effects of Examples 5 to 10 >> As can be seen from the measurement results shown in Table 3, each of Examples 5 to 10 has
In the discs No. 10 to No. 10, the Ra is 25 ° (0.00
25 μm), Rmax is 300 ° (0.0300 μm)
Yet very roughness smaller surface that extent, has large disk substantially equal to the dynamic friction coefficient of a conventional roughness shown in Comparative Example 9 mu D, and the static friction mu S. The dynamic friction coefficient μ D is an index of wear characteristics, and the static friction μ S
Is an indicator of the difficulty of adsorption. Therefore, the disks of Examples 5 to 10 have the same abrasion characteristics as the conventional disks in spite of the small surface roughness, and also have the same characteristics in attracting the magnetic head. You can see that Since the disk of this embodiment has a small surface roughness, it is possible to lower the flying height of the magnetic head, and it is possible to reduce the distance between the magnetic head and the magnetic layer and perform high-density recording. I have. Further, since the protective film thickness is small, the distance between the magnetic head and the magnetic layer can be further reduced.

【0128】上記の各実施例のディスクに表面粗さが小
さいにも関わらず、比較例7および8のディスクのよう
に動摩擦係数μD 、および静止摩擦μS が1以上となる
ような表面性能の悪化が見られない理由は明確ではな
い。しかし、表3に示した本実施例5〜10のディスク
の表面状態が、ヒドロキシシランのみによる比較例7の
表面状態と略同等であることを考慮すると、混入された
昇華性の炭化水素であるナフタレン、あるいは高沸点で
しかも保護層形成後の焼成過程において蒸発するような
炭化水素であるn−ヘキサデカンにより、保護層の焼成
過程において保護層の表面で炭化水素の蒸発などが現象
が起こり、その結果、無数の微小な凹凸が形成されてい
ることが想定される。同様の効果は、微小な粒径のコロ
イダルシリカを混入させることによっても、得られてお
り、これからも、保護層の表面に微小な凹凸を無数に形
成することにより、表面粗さは小さくとも磨耗特性の良
い磁気ディスクを形成することが可能であることが判
る。また、本実施例より、これらの炭化水素、コロイダ
ルシリカのいずれか、あるいは、2以上を混入させても
良いことが判る。一方、比較例8に示すように、基体6
1のテクスチャー加工の粗さを減じて、表面粗さを低く
したディスクでは、測定上、実施例と同様の表面状態が
形成可能であるが、良好な磨耗特性を得ることができな
い。従って、磁気ヘッドの低浮上化を実現し、さらに、
保護層の厚みを低減することにより、高密度記録の可能
な磁気ディスクを実現するためには、テクスチャー加工
のような機械加工による表面処理ではなく、上記に示し
たような蒸発などの化学的な手段、あるいは、微粒子を
混入するなどの物理的な手段を採用することが有効であ
ると考えられる。
Despite the low surface roughness of the disks of the above Examples, the surface performance was such that the kinetic friction coefficient μ D and the static friction μ S were 1 or more as in the disks of Comparative Examples 7 and 8. It is not clear why there is no deterioration. However, considering that the surface condition of the disks of Examples 5 to 10 shown in Table 3 is substantially the same as the surface condition of Comparative Example 7 using only hydroxysilane, it is a mixed sublimable hydrocarbon. Due to naphthalene or n-hexadecane, which is a hydrocarbon having a high boiling point and evaporating in the firing process after forming the protective layer, a phenomenon such as evaporation of hydrocarbons occurs on the surface of the protective layer in the firing process of the protective layer. As a result, it is assumed that countless minute irregularities are formed. The same effect has been obtained by mixing colloidal silica having a small particle size. From now on, by forming numerous infinitesimal irregularities on the surface of the protective layer, even if the surface roughness is small, abrasion will occur. It can be seen that a magnetic disk having good characteristics can be formed. Further, from this example, it is understood that any one of these hydrocarbons and colloidal silica, or two or more thereof may be mixed. On the other hand, as shown in Comparative Example 8,
In a disk in which the surface roughness is reduced by reducing the roughness of the texture processing of No. 1, the same surface state as that of the embodiment can be formed by measurement, but good abrasion characteristics cannot be obtained. Therefore, a low flying height of the magnetic head is realized, and furthermore,
In order to realize a magnetic disk capable of high-density recording by reducing the thickness of the protective layer, instead of surface treatment by mechanical processing such as texture processing, chemical processing such as evaporation described above is required. It is considered effective to employ means or physical means such as mixing fine particles.

【0129】なお、表面粗さの計測上の限界より、表面
粗さの下限は、Raが10Å(0.010μm)程度、
Rmaxが100Å(0.0100μm)程度と想定さ
れる。また、保護層の厚みの下限は、層構造を確保する
ために、略15mg/m2 (50Å程度)と想定され
る。
From the measurement limit of the surface roughness, the lower limit of the surface roughness is that Ra is about 10 ° (0.010 μm),
It is assumed that Rmax is about 100 ° (0.0100 μm). The lower limit of the thickness of the protective layer is assumed to be approximately 15 mg / m 2 (about 50 °) in order to secure the layer structure.

【0130】[0130]

【発明の効果】以上のとおり、本発明に係る磁気記録媒
の製造方法においては、磁性層の表面側に、シリコン
酸化物粒子およびテトラヒドロキシシランが混合された
塗布液を、相対湿度が50%以上に設定された雰囲気中
で塗布することなどによって、方向性のない凹凸が形成
されるため、表面粗さが小さいにも拘らず、磁気記録媒
体と磁気ヘッドとの摩擦係数を低減することができるの
で、磁気ヘッドの低浮上化が可能で、高記録密度を実現
することができる。
As described above, in the method of manufacturing a magnetic recording medium according to the present invention, a coating solution containing silicon oxide particles and tetrahydroxysilane is applied to the surface of the magnetic layer at a relative humidity of 50%. Irregularities with no directivity are formed by application in an atmosphere set as described above, so that the friction coefficient between the magnetic recording medium and the magnetic head can be reduced despite the small surface roughness. Therefore, the flying height of the magnetic head can be reduced, and a high recording density can be realized.

【0131】また、磁性層表面に形成された保護層が、
テトラヒドロキシシランのSi化合物をイソプロピルア
ルコールの有機溶媒中に配合し、さらに、Si化合物と
不溶性であって、有機溶媒には易溶性の凹凸形成成分、
たとえば、n−ヘキサデカンのように炭素数が13以上
の脂肪族炭化水素を配合した塗布液を、磁性層表面に所
定の相対湿度に規定された雰囲気中で塗布した後に、加
熱処理して、ポリ珪酸膜の保護層を形成する場合には、
保護層の表面には凸凹が方向性なく分布しているため、
磁気ヘッドとの接触面積が低減され、また、凹部に潤滑
剤層が保持されるので、磁気記録媒体の摩擦特性が初期
的および経時的にも向上する。また、相対湿度を規定し
た状態で行うため、保護層の膜厚さや凹凸の形状が安定
し、磁気ヘッドの浮上距離を圧縮できる。また、保護層
の下地層としてSiO2 などをスパッタ形成しておく必
要や保護層を不必要に厚くする必要がないので、たとえ
ば最大厚さが10〜20nmの保護層で磁気記録媒体を
構成できる。従って、磁気ヘッドと磁性層との距離を短
縮できるので、磁気記録媒体の記録トラックを高密度化
でき、その記録容量を向上することができる。
Further, the protective layer formed on the surface of the magnetic layer
An Si compound of tetrahydroxysilane is blended in an organic solvent of isopropyl alcohol.
For example, a coating liquid containing an aliphatic hydrocarbon having 13 or more carbon atoms, such as n-hexadecane, is applied to the surface of the magnetic layer in an atmosphere defined at a predetermined relative humidity, and then subjected to a heat treatment to obtain When forming a protective layer of a silica film,
Since irregularities are distributed without directionality on the surface of the protective layer,
Since the contact area with the magnetic head is reduced, and the lubricant layer is held in the concave portions, the friction characteristics of the magnetic recording medium are improved both initially and over time. In addition, since the relative humidity is regulated, the thickness of the protective layer and the shape of the irregularities are stabilized, and the flying distance of the magnetic head can be reduced. Also, since it is not necessary to sputter-form SiO 2 or the like as an underlayer of the protective layer or to unnecessarily increase the thickness of the protective layer, for example, the magnetic recording medium can be constituted by a protective layer having a maximum thickness of 10 to 20 nm. . Accordingly, since the distance between the magnetic head and the magnetic layer can be reduced, the recording tracks of the magnetic recording medium can be made denser, and the recording capacity can be improved.

【0132】[0132]

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施例1または実施例2に係る磁気記
録ディスクの一部を切り欠いて示す概略断面図である。
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing a magnetic recording disk according to a first embodiment or a second embodiment of the present invention with a part cut away.

【図2】本発明の実施例1または実施例2に係る磁気記
録ディスクの保護層の表面を模式的に示す斜視図であ
る。
FIG. 2 is a perspective view schematically showing the surface of a protective layer of a magnetic recording disk according to Example 1 or Example 2 of the present invention.

【図3】本発明の実施例1に係る磁気記録ディスクの保
護層の表面状態を電子顕微鏡によって拡大倍率7500
倍で観察した場合の模式図である。
FIG. 3 shows the surface state of the protective layer of the magnetic recording disk according to the first embodiment of the present invention by an electron microscope at a magnification of 7500.
It is a schematic diagram at the time of observing by magnification.

【図4】本発明の実施例2に係る磁気記録ディスクの保
護層の表面状態を電子顕微鏡によって拡大倍率7500
倍で観察した場合の模式図である。
FIG. 4 shows the surface state of the protective layer of the magnetic recording disk according to the second embodiment of the present invention by an electron microscope at a magnification of 7500.
It is a schematic diagram at the time of observing by magnification.

【図5】本発明の比較例1に係る磁気記録ディスクの保
護層の表面状態を電子顕微鏡によって拡大倍率7500
倍で観察した場合の模式図である。
FIG. 5 shows the surface state of the protective layer of the magnetic recording disk according to Comparative Example 1 of the present invention, which was observed by an electron microscope at a magnification of 7500.
It is a schematic diagram at the time of observing by magnification.

【図6】本発明の比較例2に係る磁気記録ディスクの保
護層の表面状態を電子顕微鏡によって拡大倍率7500
倍で観察した場合の模式図である。
FIG. 6 shows the surface state of the protective layer of the magnetic recording disk according to Comparative Example 2 of the present invention, which was observed at an magnification of 7500 using an electron microscope.
It is a schematic diagram at the time of observing by magnification.

【図7】本発明の比較例3に係る磁気記録ディスクの保
護層の表面状態を電子顕微鏡によって拡大倍率7500
倍で観察した場合の模式図である。
FIG. 7 shows the surface state of the protective layer of the magnetic recording disk according to Comparative Example 3 of the present invention, which was observed at an magnification of 7500 using an electron microscope.
It is a schematic diagram at the time of observing by magnification.

【図8】本発明の比較例4に係る磁気記録ディスクの保
護層の表面状態を電子顕微鏡によって拡大倍率7500
倍で観察した場合の模式図である。
FIG. 8 shows the surface state of the protective layer of the magnetic recording disk according to Comparative Example 4 of the present invention, which was observed at an magnification of 7500 by an electron microscope.
It is a schematic diagram at the time of observing by magnification.

【図9】本発明の実施例3または実施例4に係る磁気記
録ディスクの一部を切り欠いて示す概略断面図である。
FIG. 9 is a schematic cross-sectional view illustrating a magnetic recording disk according to a third embodiment or a fourth embodiment of the present invention, with a portion cut away.

【図10】本発明の実施例5ないし実施例10に係る磁
気記録ディスクの構成を示す概略断面図である。
FIG. 10 is a schematic sectional view showing a configuration of a magnetic recording disk according to Embodiments 5 to 10 of the present invention.

【図11】本発明の比較例8または比較例9に係る磁気
記録ディスクの構成を示す概略断面図である。
FIG. 11 is a schematic sectional view showing a configuration of a magnetic recording disk according to Comparative Example 8 or 9 of the present invention.

【図12】従来の磁気記録ディスクの保護層の表面を模
式的に示す斜視図である。
FIG. 12 is a perspective view schematically showing the surface of a protective layer of a conventional magnetic recording disk.

【図13】本発明の参考例に係る磁気記録ディスクの概
略断面図である。
FIG. 13 is a schematic sectional view of a magnetic recording disk according to a reference example of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,11・・・磁気記録ディスク 2,12・・・アルミニウム合金基板(非磁性基板) 3,13・・・Ni−Pめっき層 4・・・Co−Cr−Ni磁性層(磁性層) 5,15,23・・・保護層 5a・・・凹凸 6,16,24・・・潤滑剤層 14・・・Co−Cr−Ta磁性層(磁性層) 15a・・・凸部 15b・・・凹部 21・・・基体 22・・・磁性層 31・・・基板 32・・・メッキ層 1, 11: Magnetic recording disk 2, 12: Aluminum alloy substrate (non-magnetic substrate) 3, 13: Ni-P plating layer 4: Co-Cr-Ni magnetic layer (magnetic layer) 5 , 15, 23 ... Protective layer 5a ... Unevenness 6, 16, 24 ... Lubricant layer 14 ... Co-Cr-Ta magnetic layer (magnetic layer) 15a ... Convex part 15b ... Concave part 21 ... Base 22 ... Magnetic layer 31 ... Substrate 32 ... Plating layer

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 二村 和男 神奈川県川崎市川崎区田辺新田1番1号 富士電機株式会社内 (72)発明者 草深 浩志 神奈川県川崎市川崎区田辺新田1番1号 富士電機株式会社内 (56)参考文献 特開 昭62−36727(JP,A) 特開 昭61−73227(JP,A) 特開 昭52−20804(JP,A) 特開 平2−73518(JP,A) 特開 昭60−5423(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G11B 5/84 G11B 5/72 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Inventor Kazuo Nimura 1-1 1-1 Tanabe Nitta, Kawasaki-ku, Kawasaki City, Kanagawa Prefecture Inside Fuji Electric Co., Ltd. No. 1 Fuji Electric Co., Ltd. (56) References JP-A-62-36727 (JP, A) JP-A-61-73227 (JP, A) JP-A-52-20804 (JP, A) JP-A-2- 73518 (JP, A) JP-A-60-5423 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) G11B 5/84 G11B 5/72

Claims (6)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 非磁性基板の表面側に積層された磁性層
の表面側には、表面に凹凸が分布する保護層が積層さ
れ、この保護層は、内部にシリコン酸化物粒子が分散す
るポリ珪酸膜により形成されて成る磁気記録媒体の製造
方法において、前記磁性層の表面側に、前記シリコン酸
化物粒子およびテトラヒドロキシシランが混合された塗
布液を相対湿度が50%以上の雰囲気中で塗布する塗布
工程と、前記磁性層の表面側に塗布した塗布液に対して
加熱処理を施し、内部に前記シリコン酸化物粒子を分散
させた状態でテトラヒドロキシシランを前記ポリ珪酸膜
に転化させて前記保護層を形成する加熱工程と、を有す
ることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
1. A protective layer having irregularities on its surface is laminated on the surface side of a magnetic layer laminated on the surface side of a non-magnetic substrate, and the protective layer is made of a poly-oxide in which silicon oxide particles are dispersed. manufacturing a magnetic recording medium comprising formed by silicate film
The method, wherein the silicon oxide is provided on the surface side of the magnetic layer.
Coating with oxide particles and tetrahydroxysilane
Coating to apply cloth liquid in an atmosphere with relative humidity of 50% or more
And a coating solution applied to the surface side of the magnetic layer.
Heat treatment to disperse the silicon oxide particles inside
In the state in which tetrahydroxysilane is applied to the polysilicate film,
A heating step of forming the protective layer by
A method for manufacturing a magnetic recording medium.
【請求項2】 請求項1において、前記塗布液を、スピ
ンコート法により前記磁性層の表面側に塗布することを
特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
Wherein Oite to claim 1, the coating solution, spin
A method for producing a magnetic recording medium, wherein the method is applied to the surface side of the magnetic layer by an uncoating method.
【請求項3】 請求項1または請求項2において、前記
塗布液における前記シリコン酸化物粒子の配合量は、テ
トラヒドロキシシランの配合量に対し、二酸化シリコン
量に換算して1wt%から50wt%までの範囲である
ことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
3. The method according to claim 1 , wherein
The blending amount of the silicon oxide particles in the coating solution is
Silicon dioxide to the amount of trahydroxysilane
A method for producing a magnetic recording medium, wherein the amount is in the range of 1 wt% to 50 wt% in terms of amount .
【請求項4】 請求項1ないし請求項3のいずれかの項
において、前記シリコン酸化物粒子は、その平均粒径が
5nmから30nmまでの範囲であることを特徴とする
磁気記録媒体の製造方法。
4. The method according to claim 1 , wherein:
In the above, the silicon oxide particles have an average particle size
A method for manufacturing a magnetic recording medium, wherein the thickness is in the range of 5 nm to 30 nm .
【請求項5】 非磁性体からなる磁気記録媒体用基板の
表面側に、磁性層と、この磁性層の表面側に形成されて
おり、表面全体に凹凸が分布する保護層と、この保護層
の表面に保持された潤滑剤層とを有し、前記保護層は、
Si化合物が加熱により転化したポリ珪酸膜である磁気
記録媒体の製造方法において、加熱処理によって前記ポ
リ珪酸に転化可能なSi化合物を有機溶媒中に配合する
と共に、前記Si化合物とは不溶性、かつ、前記有機溶
媒とは易溶性であって、前記Si化合物の前記ポリ珪酸
への転化温度で高い蒸発性を有する凹凸形成成分を配合
してなる塗布液を、前記磁性層の表面に50%以上の相
対湿度に規定された雰囲気中で塗布する塗布工程と、前
記磁性層の表面に塗布した塗布液に対して、前記転化温
度以上の温度で加熱処理を施し、前記Si化合物を前記
ポリ珪酸膜に転化させて前記保護層を形成する加熱工程
と、を有し、前記Si化合物はテトラヒドロキシシラン
であって、前記有機溶媒の主成分はイソプロピルアルコ
ールであり、前記凹凸形成成分は組成式に少なくとも1
3の炭素数を有する脂肪族炭化水素であることを特徴と
する磁気記録媒体の製造方法。
5. A magnetic layer on a surface side of a substrate for a magnetic recording medium made of a non-magnetic material, a protective layer formed on the surface side of the magnetic layer, and having irregularities distributed over the entire surface; And a lubricant layer held on the surface of the, the protective layer,
In the method for producing a magnetic recording medium in which a Si compound is a polysilicate film converted by heating, a Si compound that can be converted into the polysilicic acid by heat treatment is mixed in an organic solvent, and the Si compound is insoluble, and The organic solvent is easily soluble, and a coating solution comprising a concavo-convex forming component having a high evaporating property at the conversion temperature of the Si compound to the polysilicic acid is added to the surface of the magnetic layer by 50% or more . A coating step of coating in an atmosphere defined by relative humidity, and a coating liquid applied to the surface of the magnetic layer, a heating treatment is performed at a temperature equal to or higher than the conversion temperature, and the Si compound is applied to the polysilicate film. A heating step of forming the protective layer by inversion, wherein the Si compound is tetrahydroxysilane, a main component of the organic solvent is isopropyl alcohol, Convex forming component at least in formula 1
A method for producing a magnetic recording medium, wherein the method is an aliphatic hydrocarbon having 3 carbon atoms.
【請求項6】 請求項5において、前記塗布液における
テトラヒドロキシシランと前記脂肪族炭化水素との配合
比が、テトラヒドロキシシランをSiO 2 に換算したと
きの重量比で1:1から1:0.05までの範囲にある
ことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法
6. The coating liquid according to claim 5, wherein
Combination of tetrahydroxysilane and the aliphatic hydrocarbon
The ratio is calculated by converting tetrahydroxysilane to SiO 2.
In Kino weight ratio of 1: 1 to 1: The method of manufacturing a magnetic recording medium characterized <br/> in the range of up to 0.05.
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