JP3011504B2 - Evaluation device for semiconductor light emitting device - Google Patents

Evaluation device for semiconductor light emitting device

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JP3011504B2
JP3011504B2 JP27977791A JP27977791A JP3011504B2 JP 3011504 B2 JP3011504 B2 JP 3011504B2 JP 27977791 A JP27977791 A JP 27977791A JP 27977791 A JP27977791 A JP 27977791A JP 3011504 B2 JP3011504 B2 JP 3011504B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、半導体発光素子、例え
ば発光ダイオード(LED)、レーザダイオードのよう
な素子の電気的特性や発光特性を検査する半導体発光素
子の評価装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor light emitting device evaluation apparatus for inspecting electrical characteristics and light emitting characteristics of semiconductor light emitting devices such as light emitting diodes (LEDs) and laser diodes.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体ウェーハを用いて半導体装置を製
造する際には事前にウェーハの特性を調べてウェーハを
選別する必要がある。なぜなら、ウェーハが不良か否か
の判断を的確に行わないと、歩留まりの低下や信頼性の
低下、コストの上昇を招くことになるからである。同様
に、ウェーハ上に多数の素子を形成した後にも個々の素
子の特性を調べてその良否の判定や、特性値による選別
を的確に行う必要がある。特に、近年では、LEDの応
用が単体ランプからアレーやディスプレイパネルへと急
速に拡大しており、より特性の揃ったLEDペレットが
大量に要求されてきている。
2. Description of the Related Art When manufacturing a semiconductor device using a semiconductor wafer, it is necessary to examine the characteristics of the wafer in advance and select the wafer. This is because, if the determination of whether or not the wafer is defective is not properly performed, the yield, the reliability, and the cost are increased. Similarly, even after a large number of elements are formed on a wafer, it is necessary to examine the characteristics of the individual elements and judge the quality of the individual elements, and accurately perform selection based on the characteristic values. In particular, in recent years, the application of LEDs has been rapidly expanding from single lamps to arrays and display panels, and a large number of LED pellets having more uniform characteristics have been demanded.

【0003】ところで、従来のLED用エピタキシャル
ウェーハにおいては、素子形成後、ペレットに分割した
後、抜取り検査により電気特性や発光特性を調べ、特に
発光効率でペレットを輝度選別することが広く行われて
いる。
In a conventional epitaxial wafer for LED, after forming an element, the wafer is divided into pellets, and then electrical characteristics and luminous characteristics are examined by sampling inspection. In particular, luminance sorting of the pellets based on luminous efficiency is widely performed. I have.

【0004】しかしながら、この従来の方法には作業に
費やす時間の短縮と検査精度の向上との間にジレンマが
ある。すなわち、時間短縮を考えた場合には抜取りサン
プル数に限られる分だけ検査精度が低下し、選別したペ
レット間の特性の均一性が再現性良く得られなくなる。
発光ダイオードの場合、ウェーハ面内での特性のばらつ
きがロットの度に大きく、その再現性も十分ではない。
それゆえ、出来上がったディスプレイの面内輝度むらを
招くこととなる。反対に、精度向上を考えた場合には抜
取りサンプル数を多くしなければならない分だけ時間が
長くかかることとなるのである。
[0004] However, this conventional method has a dilemma between shortening the time spent for work and improving the inspection accuracy. That is, when the time is reduced, the inspection accuracy is reduced by the number of the extracted samples, and the uniformity of the characteristics among the selected pellets cannot be obtained with good reproducibility.
In the case of the light emitting diode, the variation in the characteristics within the wafer surface is large for each lot, and the reproducibility is not sufficient.
Therefore, in-plane luminance unevenness of the completed display is caused. Conversely, when accuracy is considered, it takes a long time to increase the number of sampling samples.

【0005】そこで、ペレットに分割する前にウェーハ
の段階で選別する方法が考えられる。これはICで行わ
れているダイソート法の応用にあたる。
[0005] Therefore, a method of sorting at the wafer stage before dividing into pellets is considered. This corresponds to an application of the die sorting method performed in the IC.

【0006】このダイソート法をLEDに利用する場
合、LEDはウェーハ段階では電気的な素子間分離が行
われないため、ウェーハを粘着シートに貼付けてハーフ
ダイスすることにより素子間分離する。そして、各素子
を順次走査して発光駆動し、その光検知レベルに基づい
て発光効率を測定することになる。例えば、図5におい
てはLEDへの入力パルス電流、はLEDの発光出
力検出信号であり、LEDの発光効率が悪いほど、入力
パルス電流波と発光出力波とのピークレベルの差が大き
くなる。よって、そのピークレベルの差をもって発光効
率を判定することができる。また、DC駆動の場合でも
全く同様である。
When this die sorting method is used for LEDs, since electrical separation of the LEDs is not performed at the wafer stage, the devices are separated by attaching the wafer to an adhesive sheet and half-dicing. Then, the respective elements are sequentially scanned and driven to emit light, and the luminous efficiency is measured based on the light detection level. For example, in FIG. 5, the input pulse current to the LED is a light emission output detection signal of the LED, and the lower the light emission efficiency of the LED, the larger the difference between the peak levels of the input pulse current wave and the light emission output wave. Therefore, the luminous efficiency can be determined based on the difference between the peak levels. The same applies to the case of DC driving.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、素子間
分離を行ったとしても隣接ペレット間での光の散乱が避
けられず、その相互干渉により発光出力レベルが変動
し、正確な測定値が得られないという問題がある。実際
に試してみた結果、ペレットに分割して測定した値との
不一致が多く、実用に耐え得る程度の精度は得られなか
った。
However, even if separation between elements is performed, scattering of light between adjacent pellets is unavoidable, and the light output level fluctuates due to the mutual interference, so that an accurate measured value can be obtained. There is no problem. As a result of actual trials, there were many discrepancies with the values measured by dividing into pellets, and the accuracy that could withstand practical use was not obtained.

【0008】本発明はこのような従来技術の有する問題
点に鑑みてなされたもので、その目的とするところは隣
接ペレット間での光の散乱による相互干渉の影響を受け
ることのないウェーハ段階での素子評価を可能とする半
導体発光素子の評価装置を提供することにある。
The present invention has been made in view of the above-mentioned problems of the prior art, and an object of the present invention is to provide a wafer stage which is not affected by mutual interference due to light scattering between adjacent pellets. It is an object of the present invention to provide a semiconductor light emitting device evaluation device which enables the device evaluation of the above.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】請求項1記載の本発明の
半導体発光素子の評価装置は、半導体ウェーハ上に形成
された複数の発光素子をパルス発光させ、その一つ一つ
からの光波形を検出する素子走査手段と、その光波形に
おける減衰時定数の示す少数キャリアのライフタイムか
ら各発光素子の発光効率を推定評価する評価処理手段と
を備えている。
According to a first aspect of the present invention, there is provided an apparatus for evaluating a semiconductor light emitting device, wherein a plurality of light emitting devices formed on a semiconductor wafer emit light in pulses, and an optical waveform from each of the light emitting devices. And an evaluation processing means for estimating and evaluating the luminous efficiency of each light emitting element from the lifetime of the minority carrier indicated by the decay time constant in the optical waveform.

【0010】請求項2記載の本発明の半導体発光素子の
評価装置は、素子走査手段が、複数の発光素子を一つず
つ順次的に測定対象として切換え駆動する素子駆動手段
と、その測定対象素子からの光波形を検出する光検出手
段とからなることを特徴とする。
According to a second aspect of the present invention, there is provided an apparatus for evaluating a semiconductor light emitting element, wherein the element scanning means switches the plurality of light emitting elements one by one as an object to be measured one by one, and an element to be measured. And light detecting means for detecting a light waveform from the light source.

【0011】請求項3記載の本発明の半導体発光素子の
評価装置は、素子駆動手段が、複数の発光素子のうちの
一の発光素子に接続される一本のプローブ針と、測定対
象素子に、この一本のプローブ針を介してパルス電流を
供給するパルス電流供給手段と、半導体ウェーハとその
一本のプローブ針とを相対的に移動させて、この一本の
プローブ針を複数の発光素子へ順次接続させることによ
り測定対象素子を切換える測定対象素子切換え手段とを
備えていることを特徴とする。
According to a third aspect of the present invention, there is provided an apparatus for evaluating a semiconductor light emitting element, wherein the element driving means comprises: a probe needle connected to one of the plurality of light emitting elements; Pulse current supply means for supplying a pulse current via the one probe needle, and relatively moving the semiconductor wafer and the one probe needle so that the one probe needle is connected to a plurality of light emitting elements. And a device to switch the device to be measured by sequentially connecting the devices to the device to be measured.

【0012】請求項4記載の本発明の半導体発光素子の
評価装置は、素子駆動手段が、それぞれ複数の発光素子
に対設接続された複数本のプローブ針と、測定対象素子
にこれと対応するプローブ針を介してパルス電流を供給
する一つのパルス電流発生手段と、この一つのパルス電
流発生手段を複数本のプローブ針に順次切換え接続する
ことにより測定対象素子を切換える測定対象素子切換え
手段とを備えていることを特徴とする。
According to a fourth aspect of the present invention, there is provided an apparatus for evaluating a semiconductor light emitting device, wherein the device driving means corresponds to a plurality of probe needles connected to the plurality of light emitting devices, respectively, and a device to be measured. One pulse current generating means for supplying a pulse current via a probe needle, and a measuring element switching means for switching a measuring element by sequentially connecting this one pulse current generating means to a plurality of probe needles. It is characterized by having.

【0013】請求項5記載の本発明の半導体発光素子の
評価装置は、光検出手段が、受信光の波形情報を出力す
る光電変換手段と、半導体ウェーハ上のいずれの位置か
ら発生される光をも光電変換手段の受光部へ集中させる
集光手段とを備えていることを特徴とする。
According to a fifth aspect of the present invention, there is provided an apparatus for evaluating a semiconductor light emitting device, wherein the light detecting means includes a photoelectric conversion means for outputting waveform information of the received light, and a light generated from any position on the semiconductor wafer. And light collecting means for concentrating the light on the light receiving portion of the photoelectric conversion means.

【0014】請求項6記載の本発明の半導体発光素子の
評価装置は、集光手段が集光ミラーからなることを特徴
とする。
According to a sixth aspect of the present invention, in the apparatus for evaluating a semiconductor light emitting device according to the present invention, the condensing means comprises a converging mirror.

【0015】請求項7記載の本発明の半導体発光素子の
評価装置は、集光手段が光ファイバケーブルからなるこ
とを特徴としている。
According to a seventh aspect of the present invention, there is provided the apparatus for evaluating a semiconductor light emitting device, wherein the condensing means comprises an optical fiber cable.

【0016】[0016]

【作用】本発明は、半導体発光素子の発光効率が、注入
された少数キャリアのライフタイムと強い相関があるこ
と、そして、この少数キャリアのライフタイムは隣接ペ
レットの相互干渉の影響を全く受けないことに着目し、
この少数キャリアのライフタイム測定を含む前述の構成
に至ったものである。
According to the present invention, the luminous efficiency of the semiconductor light emitting device has a strong correlation with the lifetime of the injected minority carriers, and the lifetime of the minority carriers is not affected at all by the mutual interference of the adjacent pellets. Focusing on
This is the configuration described above including the measurement of the lifetime of the minority carrier.

【0017】本発明によれば、測定対象素子の発光波形
における減衰時定数から少数キャリアのライフタイムを
求め、このライフタイムから測定対象素子の発光効率を
推定するようになっているから、隣接ペレット間での光
の散乱による相互干渉の影響を受けることなくウェーハ
段階での素子評価を行うことができる。
According to the present invention, the minority carrier lifetime is obtained from the decay time constant of the emission waveform of the device under test, and the luminous efficiency of the device under test is estimated from this lifetime. Device evaluation can be performed at the wafer stage without being affected by mutual interference due to light scattering between the devices.

【0018】また、複数の発光素子を一つずつ順次的に
測定対象として切換えることにより、半導体ウェーハ上
の多数の素子をシーケンシャルに自動測定することが可
能となる。
In addition, by sequentially switching a plurality of light emitting elements one by one as an object to be measured, it becomes possible to sequentially and automatically measure a large number of elements on a semiconductor wafer.

【0019】さらに、半導体ウェーハ上のいずれの位置
から発生される光をも光電変換手段の受光部へ集中させ
ることにより、光電変換手段の受光部と素子との位置関
係に関係なく正確な測定が可能となる。特に、複数のプ
ローブ針を使用し、これとパルス電流発生手段との接続
を切換えることにより測定対象素子を切換えるシステ
ム、あるいは、半導体ウェーハの方を動かさずにプロー
ブ針の方を動かすように構成した場合には都合が良い。
Further, by concentrating light generated from any position on the semiconductor wafer to the light receiving portion of the photoelectric conversion means, accurate measurement can be performed regardless of the positional relationship between the light receiving portion of the photoelectric conversion means and the element. It becomes possible. In particular, a plurality of probe needles are used, and a system for switching the element to be measured by switching the connection between the probe needles and the pulse current generating means, or a configuration in which the probe needles are moved without moving the semiconductor wafer. It is convenient in the case.

【0020】[0020]

【実施例】以下に本発明の実施例について図面を参照し
つつ説明する。図1は本発明の第1実施例に係る評価装
置の構成を示すものである。この図において、100は
その表面に評価対象である多数のLED200が形成さ
れたウェーハであり、このウェーハ100にはハーフダ
イス処理が施されている。300はその切込み溝であ
る。ウェーハ100は、この切込み溝300により電気
的な素子間分離がなされている。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 shows the configuration of the evaluation device according to the first embodiment of the present invention. In this figure, reference numeral 100 denotes a wafer on which a large number of LEDs 200 to be evaluated are formed, and the wafer 100 has been subjected to a half-die processing. Reference numeral 300 denotes the cut groove. The wafer 100 is electrically separated between the elements by the cut grooves 300.

【0021】1は測定用ステージであり、ウェーハ10
0は、この測定用ステージ1上に載置されている。2は
X−Yテーブルであり、測定用ステージ1は、このX−
Yテーブル2上に載置され、これによってX−Y平面内
を移動させられ、伴ってウェーハ100も移動させられ
るようになっている。3はこのX−Yテーブル2を駆動
するX−Yテーブル駆動装置である。
Reference numeral 1 denotes a measurement stage, and a wafer 10
Numeral 0 is mounted on the measurement stage 1. Reference numeral 2 denotes an XY table, and the measurement stage 1
The wafer 100 is placed on the Y table 2, thereby being moved in the XY plane, so that the wafer 100 is also moved. Reference numeral 3 denotes an XY table driving device that drives the XY table 2.

【0022】4はプローブ針であり、その針先は一つの
LED200の電極に接触されてそのLED200と電
気的に接続され、この状態でプローブ針4からLED2
00にパルス電流が供給され、このパルス電流によりL
ED200がパルス点灯させられるようになっている。
このプローブ針4は前述したX−Y平面内のウェーハ1
00の移動により順次各LED200に接続され、これ
によりLED200全てが走査される。5はプローブ針
4にパルス電流を供給するパルス電流発生器である。
Reference numeral 4 denotes a probe needle, the tip of which is in contact with the electrode of one LED 200 and is electrically connected to the LED 200. In this state, the probe needle 4
00, a pulse current is supplied.
The ED 200 is pulse-lit.
The probe needle 4 is used for the wafer 1 in the XY plane described above.
The movement of 00 causes the LEDs 200 to be sequentially connected to each other, whereby all the LEDs 200 are scanned. A pulse current generator 5 supplies a pulse current to the probe needle 4.

【0023】6は光検出器、7は波形解析装置、8はデ
ータ処理装置、9はデータ出力装置である。光検出器6
はLED200からの光を受光して光電変換するもの
で、その出力信号は波形解析装置7に与えられる。図5
において、はLED200に与えられるパルス電流、
はそのパルス電流によりLED200が点灯したと
きの光検出信号である。この図に示すように、検出信号
は電源パルス電流よりも通常はピークレベルが低下
し且つ鈍った波形となる。波形解析装置7は、このよう
な光検出器6の出力信号波形のピーク値を求め、減衰波
形を指数関数近似し最小二乗法により減衰時定数を求め
る。この時定数が少数キャリアのライフタイムを示すも
のである。なお、ここで言う指数関数とは次式で示すも
のである。
Reference numeral 6 is a photodetector, 7 is a waveform analyzer, 8 is a data processor, and 9 is a data output device. Photodetector 6
Is for receiving light from the LED 200 and performing photoelectric conversion, and the output signal is given to the waveform analyzer 7. FIG.
In the above, the pulse current given to the LED 200,
Is a light detection signal when the LED 200 is turned on by the pulse current. As shown in this figure, the detection signal has a waveform whose peak level is lower than that of the power supply pulse current and is dull. The waveform analyzer 7 calculates the peak value of the output signal waveform of the photodetector 6, approximates the decay waveform by an exponential function, and obtains the decay time constant by the least square method. This time constant indicates the lifetime of the minority carrier. Here, the exponential function is represented by the following equation.

【0024】すなわち、 I(t)=exp(−t/τ)・I0 であり、この式中、I0 はピーク値、tは減衰時間、τ
は減衰時定数である。近似によりこのτを求めるのであ
る。
That is, I (t) = exp (−t / τ) · I 0 , where I 0 is a peak value, t is a decay time, τ
Is the decay time constant. This τ is obtained by approximation.

【0025】データ処理装置8は、波形解析装置7から
のライフタイムデータに基づいて素子の発光効率を求
め、この発光効率を規格値と比較して対象LED200
が良品であるか否かを判断し、またそのランクを決定す
る機能を有し、詳細には図2にフローチャートとして示
すような処理を実行することにより評価作働全般を司る
ものとなっている。その詳細については後述する。この
データ処理装置8における評価結果はデータ出力装置9
によりプリントアウトされる。
The data processor 8 obtains the luminous efficiency of the element based on the lifetime data from the waveform analyzer 7, compares the luminous efficiency with a standard value, and compares the luminous efficiency with the target LED 200.
Has a function of determining whether or not the product is a non-defective product, and determining a rank of the product. In detail, the process as shown in the flowchart of FIG. . The details will be described later. The evaluation result in the data processing device 8 is transmitted to the data output device 9
Is printed out.

【0026】このデータ処理装置8はLED200一つ
の測定開始ごとに測定指示信号を発生する機能を有して
いる。10は同期制御装置であり、この同期制御装置1
0は、その測定指示信号に応答して、対象LED200
のプローブ針4に対する位置決めと、この対象LED2
00へのパルス電流供給と、測定データの取込みとのタ
イミングを制御するものである。すなわち、この同期制
御装置10は、測定指示信号を受けると、まず、X−Y
テーブル駆動装置3に対する駆動タイミング信号を発生
する。これにより、X−Yテーブル駆動装置3がX−Y
テーブル2を駆動し、対象LED200がプローブ針4
に対して位置決めされる。同期制御装置10は、その位
置決め完了を時間や駆動装置3からの応答に基づいて知
ると、パルス電流発生器5に対するパルス供給タイミン
グ信号と波形解析装置7に対するデータ取込みタイミン
グ信号とを発生する。パルス電流発生器5は、そのパル
ス供給タイミング信号に応答してパルス電流をプローブ
針4に向けて出力する。波形解析装置7はデータ取込み
タイミング信号に応答して光検出器6の出力信号を解析
用データとして取込むこととなる。このような同期制御
がデータ処理装置8からの測定指示信号を受ける毎にな
され、ウェーハ100上のLED200が一つずつ順次
走査され、各LED200についての測定がシーケンシ
ャルに確実になされてゆく。
The data processor 8 has a function of generating a measurement instruction signal each time one LED 200 starts measurement. Reference numeral 10 denotes a synchronous control device.
0 corresponds to the target LED 200 in response to the measurement instruction signal.
Of the target LED 2 with respect to the probe needle 4
It controls the timing of supplying a pulse current to 00 and taking in measurement data. That is, upon receiving the measurement instruction signal, the synchronization control device 10 firstly performs XY
A drive timing signal for the table drive device 3 is generated. As a result, the XY table driving device 3 becomes XY
When the table 2 is driven, the target LED 200 is
Is positioned with respect to When the synchronization control device 10 knows the completion of the positioning based on the time and the response from the drive device 3, it generates a pulse supply timing signal to the pulse current generator 5 and a data capture timing signal to the waveform analysis device 7. The pulse current generator 5 outputs a pulse current to the probe needle 4 in response to the pulse supply timing signal. The waveform analyzer 7 captures the output signal of the photodetector 6 as analysis data in response to the data capture timing signal. Such synchronization control is performed every time the measurement instruction signal is received from the data processing device 8, the LEDs 200 on the wafer 100 are sequentially scanned one by one, and the measurement of each LED 200 is sequentially and reliably performed.

【0027】以下、図2を参照しつつデータ処理装置1
0の働きについて説明する。まず、ステップST1にお
いて初期設定を行う。この初期設定ではウェーハの種
類、口径、測定モード等を設定する。ウェーハの種類と
は、ウェーハ上に形成される素子の種別、例えば発光色
赤のLED、発光色緑のLED等の種類によるIDや、
素子の材質別に設定されたID等を示すもので、後述す
る評価処理にて測定データと比較対照される規格値選定
の際に参照されるものである。口径とはウェーハの直径
で、X−Yテーブル2の素子一つ位置決めするときの駆
動ストロークを同期制御装置10を経由してX−Yテー
ブル駆動装置3に指示するために参照される。測定モー
ドは、例えば素子全てを測定するモードであるか、ある
いは一部を測定するモードであるかを示し、一部測定で
ある場合には素子何個置きに測定するかを示すピッチを
指定するものとしても機能する。
Hereinafter, the data processing apparatus 1 will be described with reference to FIG.
The function of 0 will be described. First, initialization is performed in step ST1. In this initial setting, the type, diameter, measurement mode, and the like of the wafer are set. The type of the wafer is a type of an element formed on the wafer, for example, an ID based on a type such as a red LED of a luminescent color, a green LED,
It indicates an ID or the like set for each element material, and is referred to when selecting a standard value to be compared with measured data in an evaluation process described later. The aperture is the diameter of a wafer, and is referred to instruct the XY table driving device 3 via the synchronous control device 10 with a drive stroke when positioning one element of the XY table 2. The measurement mode indicates, for example, a mode for measuring all the elements or a mode for partially measuring the element, and in the case of a partial measurement, specifies a pitch indicating how many elements are to be measured. Also works as a thing.

【0028】この初期設定の後、ステップST2におい
て測定用ステージ1へのウェーハ1のセットを図示しな
いウェーハ搬送装置に指示する。これにより、一枚のウ
ェーハ1がウェーハ供給カセットより取出され、測定用
ステージ1上にセットされ、ウェーハ100のアライン
メント(X,Y,Z方向の位置合わせ)により測定準備
が完了し、ウェーハ搬送装置から作業完了通知が送られ
てくる。この作業完了通知を受けて、LED200一つ
ずつの測定を始める。
After this initial setting, in step ST2, the setting of the wafer 1 on the measurement stage 1 is instructed to a wafer transfer device (not shown). As a result, one wafer 1 is taken out from the wafer supply cassette, set on the measurement stage 1, and preparation for measurement is completed by alignment of the wafer 100 (positioning in the X, Y, and Z directions). Will send a work completion notification. Upon receiving this work completion notification, measurement of each LED 200 is started.

【0029】まず、ステップST3において、前述した
測定指示信号を同期制御装置10に与える。すると、一
つのLED200がプローブ針4に対し位置決めされ
て、発光駆動され、その光データが光検出器6を介して
波形解析装置7に取込まれる。
First, in step ST3, the above-mentioned measurement instruction signal is given to the synchronization control device 10. Then, one LED 200 is positioned with respect to the probe needle 4 and driven to emit light, and the optical data is taken into the waveform analyzer 7 via the photodetector 6.

【0030】次いで、ステップST4において、同期制
御装置10を経由して解析指示信号を波形解析装置7に
与える。この時、波形解析装置7は取込んだデータにつ
いて前述した波形のピーク値ならびに減衰時定数から少
数キャリアのライフタイムを求める。
Next, in step ST4, an analysis instruction signal is given to the waveform analyzer 7 via the synchronization controller 10. At this time, the waveform analyzer 7 obtains the minority carrier lifetime from the above-described waveform peak value and decay time constant of the acquired data.

【0031】そして、ステップST5において、波形解
析装置7からのライフタイムデータの示す発光効率を検
量線により求める。この検量線は少数キャリアのライフ
タイムと発光効率との相関を示すもので、予め実測によ
りデータを取り、プリセットしておくものである。その
プリセットの仕方としてはテーブルの形を取るのが簡単
な方法であり、中間値は補間により算出するようにす
る。
Then, in step ST5, the luminous efficiency indicated by the lifetime data from the waveform analyzer 7 is obtained from a calibration curve. This calibration curve shows the correlation between the lifetime of the minority carrier and the luminous efficiency, and is obtained by acquiring data by actual measurement in advance and presetting it. A simple way of presetting is to take the form of a table, and the intermediate value is calculated by interpolation.

【0032】これにより一つのLED200についての
測定を終り、ステップST6において、全素子を測定し
たか否かを判断し、測定していなければステップST7
においてLED200のプローブ針4に対する前述した
位置決めを行った後、ステップST3に戻る。つまり、
全素子の測定が済むまでステップST3〜ST7を繰返
す。
This completes the measurement of one LED 200. In step ST6, it is determined whether or not all the elements have been measured.
After the above-described positioning of the LED 200 with respect to the probe needle 4 is performed, the process returns to step ST3. That is,
Steps ST3 to ST7 are repeated until all the elements have been measured.

【0033】そして、全素子についての測定が終了する
と、ステップST8において図示しないウェーハ搬送装
置に指示して対象ウェーハ100を測定済みウェーハ収
納用カセットに戻す。
When the measurement of all the elements is completed, in step ST8, an instruction is given to a wafer transfer device (not shown) to return the target wafer 100 to the measured wafer storage cassette.

【0034】その後、ステップST9において、全ウェ
ーハについての測定が済んだか否かを判定し、済んでい
なければ、ステップST1に戻る。つまり、全ウェーハ
についての測定が終了するまでステップST1〜ST9
を繰返す。
Thereafter, in step ST9, it is determined whether or not the measurement has been completed for all wafers. If not, the process returns to step ST1. That is, steps ST1 to ST9 are performed until the measurement for all wafers is completed.
Is repeated.

【0035】全てのウェーハについて測定が終了する
と、ステップST10において、処理結果をデータ出力
装置9によりプリントアウトする。なお、このとき、C
RTにモニタしても良い。
When the measurement has been completed for all the wafers, the processing results are printed out by the data output device 9 in step ST10. At this time, C
It may be monitored at RT.

【0036】本実施例によれば、測定対象LED200
の発光波形における減衰時定数から少数キャリアのライ
フタイムを求め、このライフタイムから測定対象LED
200の発光効率を推定するようになっているから、隣
接ペレット間での光の散乱による相互干渉の影響を受け
ることなくウェーハ段階での高精度な素子特性の評価を
行うことができ、スループットが向上する。
According to the present embodiment, the LED 200 to be measured is
The minority carrier lifetime is determined from the decay time constant of the emission waveform of
Since the luminous efficiency of 200 is estimated, high-precision evaluation of device characteristics at the wafer stage can be performed without being affected by mutual interference due to light scattering between adjacent pellets, and throughput is reduced. improves.

【0037】また、複数のLED200を一つずつ順次
的に測定対象として切換えることにより、半導体ウェー
ハ100上の多数のLED200をシーケンシャルに自
動測定することが可能となり、この点からもスループッ
トが向上する。これにより、ウェーハ100上のLED
200全ての検査が実現可能となり、不良ウェーハ、不
良素子が次工程に流れるのを防ぐことができ、ウェーハ
の品質管理向上に寄与することができる。よって、ウェ
ーハ内の発光効率のマッピングが可能となり、ダイソー
トの信頼性が上がる他、輝度のランク別け精度が大幅に
向上し、アレーやディスプレイパネル等の製造工程にお
いて発生する面内輝度ムラ不良を大幅に低減することが
でき、製造歩留まりも向上することとなる。
Further, by sequentially switching the plurality of LEDs 200 one by one as an object to be measured, a large number of LEDs 200 on the semiconductor wafer 100 can be sequentially and automatically measured, thereby improving the throughput. Thereby, the LED on the wafer 100
All 200 inspections can be realized, and defective wafers and defective elements can be prevented from flowing to the next step, which can contribute to improvement of wafer quality control. Therefore, it is possible to map the luminous efficiency in the wafer, and to improve the reliability of die sort, greatly improve the accuracy of luminance sorting, and significantly reduce in-plane luminance unevenness that occurs in the manufacturing process of arrays and display panels. And the production yield can be improved.

【0038】図3は本発明の第2実施例に係る評価装置
の構成を示すものである。この図において、ここでは、
プローブ針4が複数本設けられ、LED200をマルチ
プローブするようになっている。つまり、各プローブ針
4は複数のLED200に対設され、全てのプローブ針
4が対応するLED200に同時に接続されている。パ
ルス電流発生器5と複数本のプローブ針4との間には切
換え器11が介在され、この切換え器11によりパルス
電流発生器5が1本のプローブ針4に選択的に接続され
るようになっている。その切換え制御は同期制御装置1
0により行われる。この同期制御装置10は、データ処
理装置10からの指令に従い、プローブ針4の本数分の
一群のLED200について測定している間は一つのL
ED200についての測定を開始する度に一つのパルス
電流発生器5を複数本のプローブ針4に順次切換え接続
することにより測定対象LEDを切換える。そして、こ
の同期制御装置10は全てのプローブ針4に繋がってい
るLED200についての測定が終了すると、X−Yテ
ーブル2を駆動し、次の一群のLED200をプローブ
針4に位置決め接続し、切換え器11によりこの群のL
ED200を順次測定対象素子として切換える。
FIG. 3 shows the configuration of the evaluation device according to the second embodiment of the present invention. In this figure, here,
A plurality of probe needles 4 are provided to multi-probe the LED 200. That is, each probe needle 4 is provided opposite a plurality of LEDs 200, and all the probe needles 4 are simultaneously connected to the corresponding LEDs 200. A switch 11 is interposed between the pulse current generator 5 and the plurality of probe needles 4 so that the pulse current generator 5 is selectively connected to one probe needle 4 by the switch 11. Has become. The switching control is performed by the synchronous control device 1
Performed by 0. According to the command from the data processing device 10, the synchronization control device 10 performs one L while measuring one group of LEDs 200 corresponding to the number of the probe needles 4.
Each time the measurement of the ED 200 is started, one pulse current generator 5 is sequentially switched and connected to the plurality of probe needles 4 to switch the LED to be measured. When the measurement of the LEDs 200 connected to all the probe needles 4 is completed, the synchronous control device 10 drives the XY table 2 to position and connect the next group of LEDs 200 to the probe needles 4, and 11, L of this group
The ED 200 is sequentially switched as the element to be measured.

【0039】測定ステージ1と光検出器6との間には集
光ミラー12,13が配設されており、LED200か
ら発生された光は、まず集光ミラー12に反射されて集
光ミラー13に導かれ、この集光ミラー13により光検
出器6の受光部へ導かれるようになっている。
Condensing mirrors 12 and 13 are provided between the measuring stage 1 and the photodetector 6, and the light generated from the LED 200 is first reflected by the condensing mirror 12 and To the light receiving portion of the photodetector 6 by the condenser mirror 13.

【0040】他の構成は図1に示すものと同様である。The other structure is the same as that shown in FIG.

【0041】本実施例によれば、プローブ針4の本数が
多い分だけウェーハ100の機械的な位置決め回数を減
らすことができ、測定の高速化を図ることができる。こ
こで、プローブ針4の本数をNとしたとき、図1に示す
ものに比べてこの機械的位置決め回数は1/N回に減少
する。時間についてもほぼ1/Nとなる。よって、大幅
にスループットが向上することとなる。
According to this embodiment, the number of times of mechanical positioning of the wafer 100 can be reduced by the number of the probe needles 4 and the speed of measurement can be increased. Here, assuming that the number of probe needles 4 is N, the number of times of mechanical positioning is reduced to 1 / N times as compared with that shown in FIG. The time is also approximately 1 / N. Therefore, the throughput is greatly improved.

【0042】また、本実施例ではウェーハ100の広範
囲から受光するため、光検出器6での受光状態が懸念さ
れるが、集光ミラー12,13の存在によりいずれの位
置から発せられた光をも光検出器6の受光部へ導かれる
ようになっていることから、その問題は解消される。
In this embodiment, since the light is received from a wide area of the wafer 100, the light receiving state of the photodetector 6 may be a concern. Is also guided to the light receiving section of the photodetector 6, so that the problem is solved.

【0043】さらに、集光ミラーの集光効率は、プロー
ブされたいずれのLED200に対しても一定(理想的
には“1”)であること、また多数のプローブ針4がプ
ローブされたいずれのLED200に対しても影になら
ないことが好ましいが、キャリアのライフタイムは、波
形さえ得られれば全く影響されないため特には問題にな
らない。
Further, the light-collecting efficiency of the light-collecting mirror is constant (ideally, "1") for any of the probed LEDs 200, and the light-collecting efficiency of any of the probe needles 4 is large. It is preferable that the shadow is not shadowed on the LED 200, but the carrier lifetime is not particularly affected since it is not affected at all if a waveform is obtained.

【0044】なお、集光ミラー12,13はウェーハ1
00表面全域を網羅できれば最高であるが、必ずしもそ
の必要はない。この集光ミラー12,13はプローブ針
4が接続されている全てのLED200の存在位置を網
羅できれば足りる。
Note that the condensing mirrors 12 and 13 correspond to the wafer 1
It would be best if it could cover the entire 00 surface, but this is not necessary. It is sufficient that the light collecting mirrors 12 and 13 cover the existing positions of all the LEDs 200 to which the probe needles 4 are connected.

【0045】図4は本発明の第3実施例に係る評価装置
の構成を示すものである。この図に示す装置において
は、集光手段が光ファイバケーブルにより構成されてい
る。14はそのファイバ集光器である。このファイバ集
光器14は複数本の光ファイバケーブル15を備え、こ
れら光ファイバケーブル15は複数のLED200に対
設された状態で使用される。つまり、各光ファイバケー
ブル15の一端は、プローブ針4の接続されているLE
D200の発光部に近接配置され、他端は光検出器6の
受光部近傍に配置されている。これにより、LED20
0からの光は光ファイバケーブル15により光検出器6
の受光部へ導かれることとなる。
FIG. 4 shows the configuration of the evaluation device according to the third embodiment of the present invention. In the apparatus shown in this figure, the light collecting means is constituted by an optical fiber cable. Reference numeral 14 denotes the fiber condenser. The fiber concentrator 14 includes a plurality of optical fiber cables 15, and the optical fiber cables 15 are used in a state where the optical fiber cables 15 are opposed to a plurality of LEDs 200. That is, one end of each optical fiber cable 15 is connected to the LE to which the probe needle 4 is connected.
The other end is arranged near the light receiving section of the photodetector 6. Thereby, the LED 20
Light from the optical detector 6 through the optical fiber cable 15
To the light-receiving part of.

【0046】他の構成は図3に示す第2実施例と同様で
ある。
The other structure is the same as that of the second embodiment shown in FIG.

【0047】本実施例によっても上記第2実施例に記載
の装置と同等の作用効果を奏する。
According to this embodiment, the same operation and effect as those of the device described in the second embodiment can be obtained.

【0048】さらに、本実施例によれば、プローブ針4
が光検出器6に対し影になるという誤差要因はなく、装
置をよりコンパクトにすることができる。
Further, according to the present embodiment, the probe needle 4
There is no error factor that the light is shadowed on the photodetector 6, and the apparatus can be made more compact.

【0049】ここにおいて、図1に示す第1実施例のシ
ステム構成で具体的に試験を行った結果について述べ
る。その際のサンプル素子は、GaPウェーハ上に形成
された発光色緑色のLEDとし、このLEDを形成した
2”φGaPウェーハを1カセット(25枚)用意し、
1mmピッチでウェーハ1枚あたり約2000個のLE
Dについて図2に示す手順で測定を行った。
Here, the results of a specific test performed with the system configuration of the first embodiment shown in FIG. 1 will be described. The sample element at that time was an LED of green emission color formed on a GaP wafer, and one cassette (25) of 2 ″ φ GaP wafers on which the LEDs were formed was prepared.
About 2000 LEs per wafer at 1mm pitch
D was measured according to the procedure shown in FIG.

【0050】また、図6にその時データ処理用としたラ
イフタイムと発光効率との相関図を示す。
FIG. 6 shows a correlation diagram between lifetime and luminous efficiency for data processing at that time.

【0051】結果、従来方法ではウェーハ1枚あたり2
0個が限度であった測定時間で2000個×25枚の全
てのLEDについて測定を終了できた。よって、上記実
施例によれば、従来法に比して2桁以上きめ細かにウェ
ーハ上を測定できることになり、測定時間は1ポイント
あたり数秒と高速である。第2、第3の実施例によれ
ば、更に高速になることは明白である。例えば、100
〜200本のマルチプローブを使用すれば20%以上の
測定時間短縮を図ることができる。
As a result, in the conventional method, two wafers
The measurement was completed for all of the 2,000 × 25 LEDs in the measurement time when the limit was 0. Therefore, according to the above embodiment, the measurement on the wafer can be performed more finely than the conventional method by two digits or more, and the measurement time is as fast as several seconds per point. Obviously, according to the second and third embodiments, the speed is further increased. For example, 100
Using up to 200 multiprobes can reduce the measurement time by 20% or more.

【0052】そして、上述したように、本発明の装置に
よれば、このような短時間で高精度の測定結果、評価結
果が得られるものである。図7は、得られたライフタイ
ムのヒストグラムを示している。このライフタイムが発
光効率に置換えられるわけであるが、その一部(20
個)の結果と、その20個について従来法により測定し
た場合の結果とを比較したところ、いずれも±5%偏差
範囲で一致していた。この±5%という数字はいずれの
測定法における誤差であるかわからない程度に小さなも
のである。
As described above, according to the apparatus of the present invention, highly accurate measurement results and evaluation results can be obtained in such a short time. FIG. 7 shows a histogram of the obtained lifetime. This lifetime can be replaced by the luminous efficiency.
And the results obtained by measuring the 20 samples according to the conventional method, all of which were consistent within a ± 5% deviation range. The figure of ± 5% is so small that it is not clear which error is in which measurement method.

【0053】以上説明したように具体的に実施するにあ
たって使用するパルス電流発生器5としてはライフタイ
ムが50〜400nsec 程度が見られるものであれば、
パルスの立上がり、立下がり、持続時間、繰返し数等は
制限されず、測定対象により適宜選択することができ
る。同じく、光検出器6としてはライフタイムが見られ
る程度の応答速度を持つものであれば良く、一般的には
フォトセル、PINフォトダイオード、APD、さらに
はストリークカメラ等を適宜選択して良い。
As described above, when the pulse current generator 5 used in the concrete implementation has a life time of about 50 to 400 nsec,
The rise, fall, duration, and number of repetitions of the pulse are not limited and can be appropriately selected depending on the measurement object. Similarly, the photodetector 6 only needs to have a response speed such that a lifetime can be seen. In general, a photocell, a PIN photodiode, an APD, and a streak camera may be appropriately selected.

【0054】また、上述した実施例では減衰波形を指数
関数近似し、最小二乗法により時定数を求めているが、
簡便には図5に示すように0.9I0 から0.2I0
減衰するまでの時間を求める近似を行っても良い。
In the above-described embodiment, the attenuation waveform is approximated by an exponential function, and the time constant is obtained by the least square method.
Conveniently may be carried out an approximation to determine the time from 0.9I 0 as shown in FIG. 5 until attenuated to 0.2i 0.

【0055】また、測定ウェーハとしては電極パターニ
ングされ、ハーフダイスにより電気的に素子分離された
ものを対象に説明したが、ダイス前のウェーハあるいは
無電極ウェーハを測定しても良い。この場合は、通電電
流路の広がりにより一素子より広い領域の平均的な値が
得られ、より少ない測定ポイントでウェーハ全体の傾向
を判断することができる。これにより、ウェーハ工程途
中でより早くウェーハの品質モニタ管理が可能となる。
Although the measurement wafer has been described as having a pattern of electrode-patterned and electrically separated elements by a half die, a wafer before dicing or a non-electrode wafer may be measured. In this case, an average value of a region wider than one element can be obtained due to the spread of the conduction current path, and the tendency of the entire wafer can be determined with fewer measurement points. As a result, quality monitor management of the wafer can be performed earlier during the wafer process.

【0056】[0056]

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、測
定対象素子の発光波形における減衰時定数から少数キャ
リアのライフタイムを求め、このライフタイムから測定
対象素子の発光効率を推定するようになっているから、
隣接ペレット間での光の散乱による相互干渉の影響を受
けることなくウェーハ段階での素子評価を行うことがで
き、スループットが向上する。
As described above, according to the present invention, the lifetime of the minority carrier is determined from the decay time constant of the emission waveform of the device under test, and the luminous efficiency of the device under test is estimated from this lifetime. Because
Element evaluation at the wafer stage can be performed without being affected by mutual interference due to light scattering between adjacent pellets, and the throughput is improved.

【0057】また、複数の発光素子を一つずつ順次的に
測定対象として切換えることにより、半導体ウェーハ上
の多数の素子をシーケンシャルに自動測定することが可
能となる。この点からもスループットが向上する。
Further, by sequentially switching a plurality of light emitting elements one by one as an object to be measured, it becomes possible to sequentially and automatically measure a large number of elements on a semiconductor wafer. This also improves the throughput.

【0058】よって、ウェーハ上の全素子の検査が実現
可能となり、不良ウェーハ、不良素子が次工程に流れる
のを防ぐことができ、ウェーハの品質管理向上に寄与す
ることができる。よって、ウェーハ内の発光効率のマッ
ピングが可能となり、ダイソートの信頼性が上がる他、
輝度のランク別け精度が大幅に向上し、アレーやディス
プレイパネル等の製造工程において発生する面内輝度ム
ラ不良を大幅に低減することができ、製造歩留まりも向
上することとなる。
Therefore, inspection of all elements on the wafer can be realized, and defective wafers and defective elements can be prevented from flowing to the next step, which can contribute to improvement of wafer quality control. Therefore, it is possible to map the luminous efficiency in the wafer, and to increase the reliability of die sort,
The accuracy of the luminance ranking can be greatly improved, and in-plane luminance unevenness defects occurring in the manufacturing process of an array, a display panel, or the like can be significantly reduced, and the manufacturing yield can be improved.

【0059】さらに、半導体ウェーハ上のいずれの位置
から発生される光をも光電変換手段の受光部へ集中させ
ることにより、光電変換手段の受光部と素子との位置関
係に関係なく正確な測定が可能となる。特に、複数のプ
ローブ針を使用し、これとパルス電流発生手段との接続
を切換えることにより測定対象素子を切換えるシステ
ム、あるいは、半導体ウェーハの方を動かさずにプロー
ブ針の方を動かすように構成した場合には都合が良い。
Further, by concentrating light generated from any position on the semiconductor wafer to the light receiving portion of the photoelectric conversion means, accurate measurement can be performed regardless of the positional relationship between the light receiving portion of the photoelectric conversion means and the element. It becomes possible. In particular, a plurality of probe needles are used, and a system for switching the element to be measured by switching the connection between the probe needles and the pulse current generating means, or a configuration in which the probe needles are moved without moving the semiconductor wafer. It is convenient in the case.

【0060】総じて、本発明はその工業的使用により大
幅な生産性向上を期待することができ、極めて実用価値
が高い。
As a whole, the present invention can be expected to greatly improve productivity by its industrial use, and has extremely high practical value.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1実施例に係る半導体発光素子の評
価装置の構成を示すブロック図。
FIG. 1 is a block diagram showing a configuration of a semiconductor light emitting device evaluation apparatus according to a first embodiment of the present invention.

【図2】図1に示すデータ処理装置の処理内容を示すフ
ローチャート。
FIG. 2 is a flowchart showing processing contents of the data processing device shown in FIG. 1;

【図3】本発明の第2実施例に係る半導体発光素子の評
価装置の構成を示すブロック図。
FIG. 3 is a block diagram showing a configuration of a semiconductor light emitting device evaluation apparatus according to a second embodiment of the present invention.

【図4】本発明の第3実施例に係る半導体発光素子の評
価装置の構成を示すブロック図。
FIG. 4 is a block diagram showing a configuration of a semiconductor light emitting device evaluation apparatus according to a third embodiment of the present invention.

【図5】測定対象素子に与えられるパルス電流と測定対
象素子から発せられる光の検出信号を示す波形図。
FIG. 5 is a waveform diagram showing a pulse current supplied to a measurement target element and a detection signal of light emitted from the measurement target element.

【図6】少数キャリアのライフタイムと発光効率との相
関図。
FIG. 6 is a correlation diagram between the lifetime of a minority carrier and the luminous efficiency.

【図7】本発明装置により多数のLEDにつき減衰時定
数τを測定したときのヒストグラム。
FIG. 7 is a histogram when the decay time constant τ is measured for a large number of LEDs by the device of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 測定ステージ 2 X−Yテーブル 3 X−Yテーブル駆動装 置 4 プローブ針 5 パルス電流発生器 6 光検出器 7 波形解析装置 8 データ処理装置 9 データ出力装置 10 同期制御装置 11 切換え器 12,13 集光ミラー 14 光ファイバ集光器 100 ウェーハ 200 LED 電源パルス電流 LED発光検出信号 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Measurement stage 2 XY table 3 XY table driving device 4 Probe needle 5 Pulse current generator 6 Photodetector 7 Waveform analyzer 8 Data processor 9 Data output device 10 Synchronous control device 11 Switching device 12, 13 Condensing mirror 14 Optical fiber concentrator 100 Wafer 200 LED power supply pulse current LED emission detection signal

Claims (7)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】半導体ウェーハ上に形成された複数の発光
素子をパルス発光させ、その一つ一つからの光波形を検
出する素子走査手段と、 前記光波形における減衰時定数の示す少数キャリアのラ
イフタイムから前記複数の発光素子各々の発光効率を推
定評価する評価処理手段とを備えている半導体発光素子
の評価装置。
An element scanning means for pulsating a plurality of light emitting elements formed on a semiconductor wafer and detecting an optical waveform from each of the plurality of light emitting elements, and a minority carrier of a minority carrier indicated by an attenuation time constant in the optical waveform. An evaluation processing means for estimating and evaluating the luminous efficiency of each of the plurality of light emitting elements from a lifetime;
【請求項2】素子走査手段は、 複数の発光素子を一つずつ順次的に測定対象として切換
え駆動する素子駆動手段と、 前記測定対象素子からの光波形を検出する光検出手段と
からなる請求項1記載の半導体発光素子の評価装置。
2. An element scanning means comprising: element driving means for sequentially switching a plurality of light emitting elements one by one as an object to be measured; and light detecting means for detecting a light waveform from the element to be measured. Item 2. An evaluation device for a semiconductor light emitting device according to item 1.
【請求項3】素子駆動手段は、 複数の発光素子のうちの一の発光素子に接続される一本
のプローブ針と、 測定対象素子に前記一本のプローブ針を介してパルス電
流を供給するパルス電流供給手段と、 半導体ウェーハと該一本のプローブ針とを相対的に移動
させて該一本のプローブ針を複数の発光素子へ順次接続
させることにより前記測定対象素子を切換える測定対象
素子切換え手段とを備えている請求項2記載の半導体発
光素子の評価装置。
3. An element driving means, comprising: one probe needle connected to one of the plurality of light emitting elements; and a pulse current supplied to the element to be measured via the one probe needle. Pulse current supply means, and a target element switch for switching the target element by relatively moving the semiconductor wafer and the one probe needle and sequentially connecting the one probe needle to a plurality of light emitting elements. 3. The apparatus for evaluating a semiconductor light emitting device according to claim 2, further comprising means.
【請求項4】素子駆動手段は、 それぞれ複数の発光素子に対設接続された複数本のプロ
ーブ針と、 測定対象素子に該測定対象素子と対応するプローブ針を
介してパルス電流を供給する一つのパルス電流発生手段
と、 該一つのパルス電流発生手段を前記複数本のプローブ針
に順次切換え接続することにより前記測定対象素子を切
換える測定対象素子切換え手段とを備えている請求項2
記載の半導体発光素子の評価装置。
4. An element driving means comprising: a plurality of probe needles respectively connected to a plurality of light emitting elements; and a pulse current supplied to the measurement target element via a probe needle corresponding to the measurement target element. 3. A device according to claim 2, further comprising: two pulse current generating means; and a measuring element switching means for switching the measuring element by sequentially switching and connecting the one pulse current generating means to the plurality of probe needles.
An apparatus for evaluating a semiconductor light-emitting device according to claim 1.
【請求項5】光検出手段は、 受信光の波形情報を出力する光電変換手段と、 前記半導体ウェーハ上のいずれの位置から発生される光
をも前記光電変換手段の受光部へ集中させる集光手段と
を備えている請求項4記載の半導体発光素子の評価装
置。
5. A light detecting means, comprising: a photoelectric conversion means for outputting waveform information of a received light; and a light condensing means for concentrating light generated from any position on the semiconductor wafer to a light receiving portion of the photoelectric conversion means. 5. The apparatus for evaluating a semiconductor light emitting device according to claim 4, further comprising: means.
【請求項6】集光手段は集光ミラーからなる請求項5記
載の半導体発光素子の評価装置。
6. The apparatus for evaluating a semiconductor light emitting device according to claim 5, wherein the light collecting means comprises a light collecting mirror.
【請求項7】集光手段は光ファイバケーブルからなる請
求項5記載の半導体発光素子の評価装置。
7. An apparatus for evaluating a semiconductor light emitting device according to claim 5, wherein said light condensing means comprises an optical fiber cable.
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