JP3007811B2 - ガスサンプリング装置 - Google Patents
ガスサンプリング装置Info
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- JP3007811B2 JP3007811B2 JP7084782A JP8478295A JP3007811B2 JP 3007811 B2 JP3007811 B2 JP 3007811B2 JP 7084782 A JP7084782 A JP 7084782A JP 8478295 A JP8478295 A JP 8478295A JP 3007811 B2 JP3007811 B2 JP 3007811B2
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、例えば、ボイラーな
どから排出される燃焼排ガスの一部をサンプルガスとし
てガス分析装置に供給するためのガスサンプリング装置
に関する。
どから排出される燃焼排ガスの一部をサンプルガスとし
てガス分析装置に供給するためのガスサンプリング装置
に関する。
【０００２】
【従来の技術】例えば、石炭を燃焼させるボイラーから
排出される燃焼排ガス中のＳＯ2 、ＮＯX 、ＣＯ2 、Ｃ
Ｏなどの成分を連続分析する場合、前記燃焼排ガスの一
部をサンプリングし、これをサンプルガスとしてガス分
析装置に連続的に供給する必要がある。ところで、ボイ
ラーからの燃焼排ガス中には、多量の粉塵や煤塵（以
下、粉塵等という）が混入しており、ガスサンプリング
時に粉塵等を除去する必要があり、従来のガスサンプリ
ング装置においては、ガス採取部とガス分析装置とを結
ぶサンプルガス供給路に脱塵用のフィルタを設けるとと
もに、フィルタに溜まる粉塵等をブローバックによって
時々除去するようにしていた。
排出される燃焼排ガス中のＳＯ2 、ＮＯX 、ＣＯ2 、Ｃ
Ｏなどの成分を連続分析する場合、前記燃焼排ガスの一
部をサンプリングし、これをサンプルガスとしてガス分
析装置に連続的に供給する必要がある。ところで、ボイ
ラーからの燃焼排ガス中には、多量の粉塵や煤塵（以
下、粉塵等という）が混入しており、ガスサンプリング
時に粉塵等を除去する必要があり、従来のガスサンプリ
ング装置においては、ガス採取部とガス分析装置とを結
ぶサンプルガス供給路に脱塵用のフィルタを設けるとと
もに、フィルタに溜まる粉塵等をブローバックによって
時々除去するようにしていた。
【０００３】図６は、上記従来のガスサンプリング装置
を示すもので、この図において、４１は煙道で、矢印で
示すように燃焼排ガスＧが流れている。４２はこの煙道
４１に挿入配置されるガス採取部で、このガス採取部４
２はサンプルガス供給路４３を介してガス分析装置４４
に接続されている。そして、サンプルガス供給路４３に
は、脱塵用のフィルタ装置４５、測定用の仕切弁４６、
サンプリング用のポンプ４７が設けられている。また、
４８，４９はブローバック用計装エアーＡをフィルタ装
置４５のフィルタ本体４５ａの内部側、外部側にそれぞ
れ供給するブローバックエアー供給路で、仕切弁５０，
５１をそれぞれ備えている。５２は仕切弁４６，５０，
５１やポンプ４７などを制御する制御部である。
を示すもので、この図において、４１は煙道で、矢印で
示すように燃焼排ガスＧが流れている。４２はこの煙道
４１に挿入配置されるガス採取部で、このガス採取部４
２はサンプルガス供給路４３を介してガス分析装置４４
に接続されている。そして、サンプルガス供給路４３に
は、脱塵用のフィルタ装置４５、測定用の仕切弁４６、
サンプリング用のポンプ４７が設けられている。また、
４８，４９はブローバック用計装エアーＡをフィルタ装
置４５のフィルタ本体４５ａの内部側、外部側にそれぞ
れ供給するブローバックエアー供給路で、仕切弁５０，
５１をそれぞれ備えている。５２は仕切弁４６，５０，
５１やポンプ４７などを制御する制御部である。
【０００４】上記構成のガスサンプリング装置において
は、ガス分析を行う場合には、仕切弁４６のみを開状態
にして、ポンプ４７を動作させることにより、ガスサン
プリングを行い、採取されたサンプルガスＳ中に含まれ
る粉塵等はフィルタ装置４５によって除去され、所望の
サンプルガスＳがガス分析装置４４に供給される。とこ
ろで、石炭を燃焼させるボイラーからの燃焼排ガス中に
は、かなりの粉塵等が含まれているところから、フィル
タ本体４５ａにこの粉塵等が付着し、フィルタ４５にお
ける圧力損失が増加し、分析に悪影響が及ぼされる。
は、ガス分析を行う場合には、仕切弁４６のみを開状態
にして、ポンプ４７を動作させることにより、ガスサン
プリングを行い、採取されたサンプルガスＳ中に含まれ
る粉塵等はフィルタ装置４５によって除去され、所望の
サンプルガスＳがガス分析装置４４に供給される。とこ
ろで、石炭を燃焼させるボイラーからの燃焼排ガス中に
は、かなりの粉塵等が含まれているところから、フィル
タ本体４５ａにこの粉塵等が付着し、フィルタ４５にお
ける圧力損失が増加し、分析に悪影響が及ぼされる。
【０００５】そこで、フィルタ本体４５ａの内部側、外
部側にブローバック用エアーＡを供給してブローバック
を定期的に行い、付着した粉塵等を除去するようにして
いる。すなわち、このブローバックに際しては、仕切弁
４６およびポンプ４７を停止してガスサンプリングを停
止し、仕切弁５０，５１を開状態にして、ブローバック
用計装エアーＡをフィルタ装置４５に供給し、フィルタ
本体４５ａに付着している粉塵等を煙道４１側に吹き飛
ばすのである。
部側にブローバック用エアーＡを供給してブローバック
を定期的に行い、付着した粉塵等を除去するようにして
いる。すなわち、このブローバックに際しては、仕切弁
４６およびポンプ４７を停止してガスサンプリングを停
止し、仕切弁５０，５１を開状態にして、ブローバック
用計装エアーＡをフィルタ装置４５に供給し、フィルタ
本体４５ａに付着している粉塵等を煙道４１側に吹き飛
ばすのである。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上述したよ
うに、前記ブローバックを行うに際しては、ガスサンプ
リングを停止しなければならないため、ブローバックに
要する時間（約１０〜１５分程度）は、ガス分析を行う
ことができない。そして、このブローバックも１日〜４
日に１回の割合で行う必要があり、分析できない時間
（欠測時間）が多くなる。特に、高速応答のガス分析装
置４４では、サンプリング流量が多い（例えば２０リッ
トル／分）ため、前記周期より一層頻繁にブローバック
を行う必要があり、この場合、実質的にガス分析を行え
ないといった問題が生ずる。
うに、前記ブローバックを行うに際しては、ガスサンプ
リングを停止しなければならないため、ブローバックに
要する時間（約１０〜１５分程度）は、ガス分析を行う
ことができない。そして、このブローバックも１日〜４
日に１回の割合で行う必要があり、分析できない時間
（欠測時間）が多くなる。特に、高速応答のガス分析装
置４４では、サンプリング流量が多い（例えば２０リッ
トル／分）ため、前記周期より一層頻繁にブローバック
を行う必要があり、この場合、実質的にガス分析を行え
ないといった問題が生ずる。
【０００７】この発明は、上述の事柄に留意してなされ
たもので、サンプルガスとして採取される燃焼排ガス中
の粉塵等を連続的に分離・除去することができ、高速応
答のガス分析装置に対しても連続的にサンプルガスを供
給することができるガスサンプリング装置を提供するこ
とを目的としている。
たもので、サンプルガスとして採取される燃焼排ガス中
の粉塵等を連続的に分離・除去することができ、高速応
答のガス分析装置に対しても連続的にサンプルガスを供
給することができるガスサンプリング装置を提供するこ
とを目的としている。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、この発明のガスサンプリング装置は、ガス採取部と
ガス分析装置とを結ぶサンプルガス供給路に、ガス採取
部によって採取されたサンプルガスとしての燃焼排ガス
中に含まれる粉塵や煤塵を分離・除去処理しうる粒径の
範囲が大小それぞれ異なる複数個のサイクロンを、より
大きい粒径の範囲に適用するものほど前段に、逆により
小さい粒径の範囲に適用するものほど後段にして直列に
設けるとともに、最終段のサイクロンの後段にフィルタ
装置を設けたことを特徴としている。
め、この発明のガスサンプリング装置は、ガス採取部と
ガス分析装置とを結ぶサンプルガス供給路に、ガス採取
部によって採取されたサンプルガスとしての燃焼排ガス
中に含まれる粉塵や煤塵を分離・除去処理しうる粒径の
範囲が大小それぞれ異なる複数個のサイクロンを、より
大きい粒径の範囲に適用するものほど前段に、逆により
小さい粒径の範囲に適用するものほど後段にして直列に
設けるとともに、最終段のサイクロンの後段にフィルタ
装置を設けたことを特徴としている。
【０００９】この場合、サイクロンとサイクロンとの間
に、例えば、バタフライ弁などの絞り弁を設けてあって
もよい。
に、例えば、バタフライ弁などの絞り弁を設けてあって
もよい。
【００１０】
【作用】例えば図４は、石炭を燃焼させたときに生ずる
フライアッシュの粒度分布を示すものであり、その粒径
は１〜１００μｍの範囲にわたっているが、２つのピー
クＰ1 ，Ｐ2 を持っている。なお、曲線Ｉはトータル量
を表している。
フライアッシュの粒度分布を示すものであり、その粒径
は１〜１００μｍの範囲にわたっているが、２つのピー
クＰ1 ，Ｐ2 を持っている。なお、曲線Ｉはトータル量
を表している。
【００１１】そして、サイクロンにおいては、ガス中の
粉塵等を分離・除去処理する能力は、ガスの流入する入
口の口径、遠心分離部の円筒部の内径や高さ、ガスの流
入速度（前記口径に密接に関連している）などによっ
て、分離・除去できる粉塵等の粒径の範囲が決定され
る。例えば、前記口径を小さくして流入速度を大きくし
たり、あるいは、内径を小さくするほど、より小さい粉
塵等を分離・処理できる。つまり、サイクロンにおける
前記各部の寸法などを適宜設定することにより、粉塵等
の分離・処理能力を変えることができる。
粉塵等を分離・除去処理する能力は、ガスの流入する入
口の口径、遠心分離部の円筒部の内径や高さ、ガスの流
入速度（前記口径に密接に関連している）などによっ
て、分離・除去できる粉塵等の粒径の範囲が決定され
る。例えば、前記口径を小さくして流入速度を大きくし
たり、あるいは、内径を小さくするほど、より小さい粉
塵等を分離・処理できる。つまり、サイクロンにおける
前記各部の寸法などを適宜設定することにより、粉塵等
の分離・処理能力を変えることができる。
【００１２】したがって、例えば図１に示すように、ガ
ス採取部２の後段に接続されるガス分析装置４へのサン
プルガス供給路３に、二つのサイクロン（前段サイクロ
ン６と後段サイクロン７）を直列に設け、後段サイクロ
ン７がより細かい粉塵や煤塵を分離できるようにすると
ともに、後段サイクロン７にフィルタ装置１５を設ける
ようにした場合、ガス採取部２でサンプルガスＳとして
採取された燃焼排ガスＧから、前段サイクロン６によっ
て、比較的大きな、例えば、粒径が１０μｍ以上の粉塵
等が除去され、その後、後段サイクロン７によって、よ
り小さい、例えば粒径が１０μｍ未満の粉塵等が除去さ
れる。このように２段階処理することにより除去効率が
向上し、９８％以上の粉塵等を除去することができる。
なお、このようにして除去された粉塵等は、各サイクロ
ン６，７にそれぞれ設けられた集塵室６ｂ，７ｂに一旦
保管された後、適宜排出される。
ス採取部２の後段に接続されるガス分析装置４へのサン
プルガス供給路３に、二つのサイクロン（前段サイクロ
ン６と後段サイクロン７）を直列に設け、後段サイクロ
ン７がより細かい粉塵や煤塵を分離できるようにすると
ともに、後段サイクロン７にフィルタ装置１５を設ける
ようにした場合、ガス採取部２でサンプルガスＳとして
採取された燃焼排ガスＧから、前段サイクロン６によっ
て、比較的大きな、例えば、粒径が１０μｍ以上の粉塵
等が除去され、その後、後段サイクロン７によって、よ
り小さい、例えば粒径が１０μｍ未満の粉塵等が除去さ
れる。このように２段階処理することにより除去効率が
向上し、９８％以上の粉塵等を除去することができる。
なお、このようにして除去された粉塵等は、各サイクロ
ン６，７にそれぞれ設けられた集塵室６ｂ，７ｂに一旦
保管された後、適宜排出される。
【００１３】そして、前記サイクロン６，７によっても
分離・処理できない１μｍ未満の小さい粉塵等は、前記
フィルタ装置１５によって捕捉される。
分離・処理できない１μｍ未満の小さい粉塵等は、前記
フィルタ装置１５によって捕捉される。
【００１４】また、前段サイクロン６と後段サイクロン
７との間に絞り弁１３を設けた場合、この絞り弁１３に
よる開度を適宜設定することにより、各サイクロン６，
７における流量特性を変えることができ、したがって、
サンプルガスＳ中の粉塵等の分布状態に対応した粉塵等
の分離除去を効果的に行うことができる。
７との間に絞り弁１３を設けた場合、この絞り弁１３に
よる開度を適宜設定することにより、各サイクロン６，
７における流量特性を変えることができ、したがって、
サンプルガスＳ中の粉塵等の分布状態に対応した粉塵等
の分離除去を効果的に行うことができる。
【００１５】
【実施例】図１は、この発明の第１実施例に係るガスサ
ンプリング装置を概略的に示すもので、この図におい
て、１は煙道で、矢印で示すように燃焼排ガスＧが流れ
ている。２はこの煙道１に挿入配置されるガス採取部と
してのプローブで、このプローブ２によって、燃焼排ガ
スＧの一部がサンプルガスＳとして採取される。そし
て、このプローブ２は、サンプルガス供給路３を介して
ガス分析装置４に接続されている。このガス分析装置４
は、ガス分析計４ａ、制御・データ処理などを行うＣＰ
Ｕ４ｂ、表示部４ｃなどのほかに吸引ポンプ（図示して
ない）を備えており、サンプルガス供給路３を経て供給
されるサンプルガスＳ中のＳＯ2 、ＮＯX、ＣＯ2 、Ｃ
Ｏなどの成分のうちの一つまたは複数を連続的かつ高速
応答で分析できるように構成されている。
ンプリング装置を概略的に示すもので、この図におい
て、１は煙道で、矢印で示すように燃焼排ガスＧが流れ
ている。２はこの煙道１に挿入配置されるガス採取部と
してのプローブで、このプローブ２によって、燃焼排ガ
スＧの一部がサンプルガスＳとして採取される。そし
て、このプローブ２は、サンプルガス供給路３を介して
ガス分析装置４に接続されている。このガス分析装置４
は、ガス分析計４ａ、制御・データ処理などを行うＣＰ
Ｕ４ｂ、表示部４ｃなどのほかに吸引ポンプ（図示して
ない）を備えており、サンプルガス供給路３を経て供給
されるサンプルガスＳ中のＳＯ2 、ＮＯX、ＣＯ2 、Ｃ
Ｏなどの成分のうちの一つまたは複数を連続的かつ高速
応答で分析できるように構成されている。
【００１６】前記サンプルガス供給路３は、次のように
構成されている。すなわち、５はプローブ２に連なる冷
却管で、サンプルガスＳとして採取された燃焼排ガスＧ
（以下、サンプルガスＳという）を空冷または水冷方式
で所定の温度に冷却するものである。
構成されている。すなわち、５はプローブ２に連なる冷
却管で、サンプルガスＳとして採取された燃焼排ガスＧ
（以下、サンプルガスＳという）を空冷または水冷方式
で所定の温度に冷却するものである。
【００１７】６，７は冷却管５の下流側に流路８を介し
て互いに直列な関係に設けられるサイクロン（遠心力集
塵装置）で、各サイクロン６，７（以下、前段サイクロ
ン６、後段サイクロン７という）は、サンプルガスＳか
ら粉塵等を遠心分離する遠心分離部６ａ，７ａとその下
方の集塵室６ｂ，７ｂとからなる。前段サイクロン６
は、比較的大きな例えば粒径が１０μｍ以上の粉塵等を
除去できるように各部の寸法が設定されている。また、
後段サイクロン７は、より小さい例えば粒径が１０μｍ
未満の粉塵等を除去できるように各部の寸法が設定され
ている。
て互いに直列な関係に設けられるサイクロン（遠心力集
塵装置）で、各サイクロン６，７（以下、前段サイクロ
ン６、後段サイクロン７という）は、サンプルガスＳか
ら粉塵等を遠心分離する遠心分離部６ａ，７ａとその下
方の集塵室６ｂ，７ｂとからなる。前段サイクロン６
は、比較的大きな例えば粒径が１０μｍ以上の粉塵等を
除去できるように各部の寸法が設定されている。また、
後段サイクロン７は、より小さい例えば粒径が１０μｍ
未満の粉塵等を除去できるように各部の寸法が設定され
ている。
【００１８】そして、前記集塵室６ｂ，７ｂの出口側
は、それぞれ粉塵等排出用のモータバルブ９，１０を介
して粉塵等排出管１１に接続され、この粉塵等排出管１
１の端部は、吸引ポンプを備えた粉塵等収容部１２が接
続されている。また、１３は前記接続流路８に設けられ
る絞り弁で、例えば、バタフライ弁よりなる。さらに、
前記後段のサイクロン７の下流側に接続される流路１４
には、より具体的には、後段サイクロン７の下流側の出
口部に、フィルタ装置１５が設けられている。このフィ
ルタ装置１５は、前記サイクロン６，７を経たサンプル
ガスＳ中になお残留する粉塵等を捕捉するもので、その
フィルタ本体１５ａは、１μｍ未満の粉塵等を捕捉でき
るように構成されている。
は、それぞれ粉塵等排出用のモータバルブ９，１０を介
して粉塵等排出管１１に接続され、この粉塵等排出管１
１の端部は、吸引ポンプを備えた粉塵等収容部１２が接
続されている。また、１３は前記接続流路８に設けられ
る絞り弁で、例えば、バタフライ弁よりなる。さらに、
前記後段のサイクロン７の下流側に接続される流路１４
には、より具体的には、後段サイクロン７の下流側の出
口部に、フィルタ装置１５が設けられている。このフィ
ルタ装置１５は、前記サイクロン６，７を経たサンプル
ガスＳ中になお残留する粉塵等を捕捉するもので、その
フィルタ本体１５ａは、１μｍ未満の粉塵等を捕捉でき
るように構成されている。
【００１９】また、１６はブローバック用計装エアーＡ
の供給路で、図示してない計装エアー源に接続されてい
る。１７は例えばニードル弁などの仕切弁である。な
お、前記流路１４のフィルタ装置１５とガス分析装置４
との間の部分１４ａは例えば２０ｍもあり、したがっ
て、サンプルガスＳを加熱できる加熱導入管に構成され
ている。
の供給路で、図示してない計装エアー源に接続されてい
る。１７は例えばニードル弁などの仕切弁である。な
お、前記流路１４のフィルタ装置１５とガス分析装置４
との間の部分１４ａは例えば２０ｍもあり、したがっ
て、サンプルガスＳを加熱できる加熱導入管に構成され
ている。
【００２０】上述のように構成されたガスサンプリング
装置の動作について説明する。ガス分析を行う場合に
は、ガス分析装置４のポンプを動作させることにより、
プローブ２を介して煙道１を流れる燃焼排ガスＧの一部
がサンプルガス供給路３の冷却管５に導入され、サンプ
ルガスＳとなる。このサンプルガスＳは、冷却管５によ
って適宜の温度に冷却され、前段サイクロン６に導入さ
れる。この前段サイクロン６に導入されたサンプルガス
Ｓは、遠心分離部６ａにおいて遠心分離によって、それ
に含まれる粒径が１０μｍ以上の粉塵等が分離・除去さ
れ、この分離・除去された粉塵等は集塵室６ｂに落下し
収容される。
装置の動作について説明する。ガス分析を行う場合に
は、ガス分析装置４のポンプを動作させることにより、
プローブ２を介して煙道１を流れる燃焼排ガスＧの一部
がサンプルガス供給路３の冷却管５に導入され、サンプ
ルガスＳとなる。このサンプルガスＳは、冷却管５によ
って適宜の温度に冷却され、前段サイクロン６に導入さ
れる。この前段サイクロン６に導入されたサンプルガス
Ｓは、遠心分離部６ａにおいて遠心分離によって、それ
に含まれる粒径が１０μｍ以上の粉塵等が分離・除去さ
れ、この分離・除去された粉塵等は集塵室６ｂに落下し
収容される。
【００２１】前記前段サイクロン６においてある程度除
塵されたサンプルガスＳは、流路８を経て後段サイクロ
ン７に導入される。この後段サイクロン７に導入された
サンプルガスＳは、遠心分離部７ａにおいて遠心分離に
よって、粒径が１０μｍ未満のより小さい粉塵等が分離
・除去され、この分離・除去された粉塵等は、集塵室７
ｂに落下し収容される。
塵されたサンプルガスＳは、流路８を経て後段サイクロ
ン７に導入される。この後段サイクロン７に導入された
サンプルガスＳは、遠心分離部７ａにおいて遠心分離に
よって、粒径が１０μｍ未満のより小さい粉塵等が分離
・除去され、この分離・除去された粉塵等は、集塵室７
ｂに落下し収容される。
【００２２】このように、上記実施例においては、サン
プルガスＳ中の粉塵等を分離・除去処理する能力が異な
る（分離・除去処理しうる粒径の範囲が異なる）前段サ
イクロン６と後段サイクロン７とを直列に配置して、サ
ンプルガスＳ中の粉塵等の分離・除去を２段階に分けて
行うようにしているので、非常に合理的に処理を行うこ
とができ、サンプルガスＳ中に含まれる粉塵等の９８％
以上を除去することができる。
プルガスＳ中の粉塵等を分離・除去処理する能力が異な
る（分離・除去処理しうる粒径の範囲が異なる）前段サ
イクロン６と後段サイクロン７とを直列に配置して、サ
ンプルガスＳ中の粉塵等の分離・除去を２段階に分けて
行うようにしているので、非常に合理的に処理を行うこ
とができ、サンプルガスＳ中に含まれる粉塵等の９８％
以上を除去することができる。
【００２３】そして、前記集塵室６ｂ，７ｂに粉塵等が
ある程度溜まると、モータバルブ９，１０を開くことに
より、粉塵等を集塵室６ｂ，７ｂから排出することがで
き、これらの粉塵等は粉塵等収容部１２に収容される。
この場合、サンプルガスＳのサンプリングを停止する必
要がなく、したがって、ガス分析を連続的に行うことが
できる。
ある程度溜まると、モータバルブ９，１０を開くことに
より、粉塵等を集塵室６ｂ，７ｂから排出することがで
き、これらの粉塵等は粉塵等収容部１２に収容される。
この場合、サンプルガスＳのサンプリングを停止する必
要がなく、したがって、ガス分析を連続的に行うことが
できる。
【００２４】また、前段サイクロン６および後段サイク
ロン７を経たサンプルガスＳ中になおも含まれる粉塵等
は、後段サイクロン７の後段に設けられたフィルタ装置
１５によって捕捉される。そして、上述したように、フ
ィルタ装置１５の前段に設けられる前段サイクロン６お
よび後段サイクロン７によってサンプルガスＳ中の粉塵
等がほとんど除去されているので、フィルタ本体１５ａ
に付着する粉塵等はきわめて少なくなる。したがって、
ニードル弁１７を閉じてブローバック用エアー供給路１
６を介して計装エアーＡをフィルタ本体１５ａに供給し
て行うブローバックはほとんど必要がなく、ブローバッ
ク周期を大幅に延長できる。つまり、サンプリングが停
止され、ガス分析が行えなくなるといったことが大幅に
低減される。
ロン７を経たサンプルガスＳ中になおも含まれる粉塵等
は、後段サイクロン７の後段に設けられたフィルタ装置
１５によって捕捉される。そして、上述したように、フ
ィルタ装置１５の前段に設けられる前段サイクロン６お
よび後段サイクロン７によってサンプルガスＳ中の粉塵
等がほとんど除去されているので、フィルタ本体１５ａ
に付着する粉塵等はきわめて少なくなる。したがって、
ニードル弁１７を閉じてブローバック用エアー供給路１
６を介して計装エアーＡをフィルタ本体１５ａに供給し
て行うブローバックはほとんど必要がなく、ブローバッ
ク周期を大幅に延長できる。つまり、サンプリングが停
止され、ガス分析が行えなくなるといったことが大幅に
低減される。
【００２５】そして、前段サイクロン６と後段サイクロ
ン７との間にバタフライ弁１３を設けた場合、このバタ
フライ弁１３による開度を適宜設定することにより、両
サイクロン６，７における流量特性を変えることがで
き、したがって、サンプルガスＳ中の粉塵等の分布状態
に対応した粉塵等の分離・除去を効果的に行うことがで
きる。
ン７との間にバタフライ弁１３を設けた場合、このバタ
フライ弁１３による開度を適宜設定することにより、両
サイクロン６，７における流量特性を変えることがで
き、したがって、サンプルガスＳ中の粉塵等の分布状態
に対応した粉塵等の分離・除去を効果的に行うことがで
きる。
【００２６】図２は、この発明の第２実施例に係るガス
サンプリング装置の構成を概略的に示すもので、この実
施例では、サンプルガス供給路３に３以上のサイクロン
を設けた場合を示している。すなわち、この実施例で
は、前段サイクロン１８、中段サイクロン１９、後段サ
イクロン２０といった３つのサイクロンを互いに直列な
関係に設け、後段のサイクロンほどより細かい粉塵等を
分離できるように構成してある。例えば図５に示すよう
に、前段サイクロン１８が直径１０μｍ以上の粉塵等
を、中段サイクロン１９が直径５〜１０μｍ程度の粉塵
等を、後段サイクロン２０が５μｍ以下の粉塵等をそれ
ぞれ分離・除去できるように設定されている。そして、
この実施例においても、後段のサイクロン２０にフィル
タ装置１５を設けている。
サンプリング装置の構成を概略的に示すもので、この実
施例では、サンプルガス供給路３に３以上のサイクロン
を設けた場合を示している。すなわち、この実施例で
は、前段サイクロン１８、中段サイクロン１９、後段サ
イクロン２０といった３つのサイクロンを互いに直列な
関係に設け、後段のサイクロンほどより細かい粉塵等を
分離できるように構成してある。例えば図５に示すよう
に、前段サイクロン１８が直径１０μｍ以上の粉塵等
を、中段サイクロン１９が直径５〜１０μｍ程度の粉塵
等を、後段サイクロン２０が５μｍ以下の粉塵等をそれ
ぞれ分離・除去できるように設定されている。そして、
この実施例においても、後段のサイクロン２０にフィル
タ装置１５を設けている。
【００２７】このように構成したガスサンプリング装置
の動作および効果は、上述の図１に示したガスサンプリ
ング装置と同様であるので、その詳細な説明は省略す
る。
の動作および効果は、上述の図１に示したガスサンプリ
ング装置と同様であるので、その詳細な説明は省略す
る。
【００２８】図３は、この発明の第３の実施例に係るガ
スサンプリング装置の構成を概略的に示すもので、この
図において、２１，２２は前段サイクロン６および後段
サイクロン７のそれぞれ下方に設けられるエジェクタ装
置である。各エジェクタ装置２１，２２には計装エアー
Ｂが供給されるように管路２３，２４が接続されるとと
もに、これらの管路２３，２４の各エジェクタ装置２
１，２２よりも下流側には、加熱ヒータ２５，２６が設
けられ、さらにその下流側には、粉塵等収容部２７が設
けられている。
スサンプリング装置の構成を概略的に示すもので、この
図において、２１，２２は前段サイクロン６および後段
サイクロン７のそれぞれ下方に設けられるエジェクタ装
置である。各エジェクタ装置２１，２２には計装エアー
Ｂが供給されるように管路２３，２４が接続されるとと
もに、これらの管路２３，２４の各エジェクタ装置２
１，２２よりも下流側には、加熱ヒータ２５，２６が設
けられ、さらにその下流側には、粉塵等収容部２７が設
けられている。
【００２９】この実施例においても、上記図１に示した
実施例と同様に、サンプルガスＳ中の粉塵等を効果的に
分離・除去できる。さらにこれに加えて、前段サイクロ
ン６および後段サイクロン７の下方には、エジェクタ装
置２１，２２が設けてあるので、各サイクロン６，７に
よって分離・除去された粉塵等を計装エアーＢにより連
続的に排出することができ、粉塵等を粉塵等収容部２７
に回収することができる。
実施例と同様に、サンプルガスＳ中の粉塵等を効果的に
分離・除去できる。さらにこれに加えて、前段サイクロ
ン６および後段サイクロン７の下方には、エジェクタ装
置２１，２２が設けてあるので、各サイクロン６，７に
よって分離・除去された粉塵等を計装エアーＢにより連
続的に排出することができ、粉塵等を粉塵等収容部２７
に回収することができる。
【００３０】また、この実施例において、エジェクタ装
置２１，２２による粉塵等の排出後、水分などが発生す
るようなサンプルガスＳについては、加熱ヒータ２５，
２６によって管路２３，２４を温めることにより、結露
を防止することができ、詰まりを生じたりすることが防
止される。
置２１，２２による粉塵等の排出後、水分などが発生す
るようなサンプルガスＳについては、加熱ヒータ２５，
２６によって管路２３，２４を温めることにより、結露
を防止することができ、詰まりを生じたりすることが防
止される。
【００３１】なお、この実施例においても、サイクロン
の数を３以上とし、そのそれぞれにエジェクタ装置を設
けるようにしてもよいことは言うまでもない。
の数を３以上とし、そのそれぞれにエジェクタ装置を設
けるようにしてもよいことは言うまでもない。
【００３２】上記いずれの実施例においても、サイクロ
ン６、７、１８，１９，２０によって分離・除去した粉
塵等を粉塵等収容部１２，２７に収容するようにしてい
たが、これに代えて、前記粉塵等を煙道１に戻すように
してもよい。
ン６、７、１８，１９，２０によって分離・除去した粉
塵等を粉塵等収容部１２，２７に収容するようにしてい
たが、これに代えて、前記粉塵等を煙道１に戻すように
してもよい。
【００３３】また、この発明は、ボイラーの燃焼排ガス
のみならず、排ガス中に多量に粉塵等を含むガス（高ダ
ストガス）のサンプリングに広く適用できることは言う
までもない。
のみならず、排ガス中に多量に粉塵等を含むガス（高ダ
ストガス）のサンプリングに広く適用できることは言う
までもない。
【００３４】
【発明の効果】以上説明したように、この発明によれ
ば、従来のように、サンプルガス中の粉塵等を分離・除
去するのにフィルタを用い、かつ、このフィルタをブロ
ーバックするといった手法によるのではなく、サンプル
ガスとしての燃焼排ガス中に含まれる粉塵や煤塵を分離
・除去処理しうる粒径の範囲が大小それぞれ異なる複数
個のサイクロンを、より大きい粒径の範囲に適用するも
のほど前段に、逆により小さい粒径の範囲に適用するも
のほど後段にして直列に接続し、サンプルガス中の粉塵
等の分離・除去を粒径の範囲の大きいものから小さいも
のへと順に複数段階に分けて行うようにしているので、
たとえ最終段のサイクロンの後段にフィルタ装置が設け
てあっても、サンプリング並びにガス分析になんら影響
を及ぼすことなく、つまり、サンプリング等を中断した
り停止することなく、粉塵等を連続的に分離・処理する
ことができ、したがって、高速応答のガス分析装置に対
しても連続的にサンプルガスを供給することができる。
ば、従来のように、サンプルガス中の粉塵等を分離・除
去するのにフィルタを用い、かつ、このフィルタをブロ
ーバックするといった手法によるのではなく、サンプル
ガスとしての燃焼排ガス中に含まれる粉塵や煤塵を分離
・除去処理しうる粒径の範囲が大小それぞれ異なる複数
個のサイクロンを、より大きい粒径の範囲に適用するも
のほど前段に、逆により小さい粒径の範囲に適用するも
のほど後段にして直列に接続し、サンプルガス中の粉塵
等の分離・除去を粒径の範囲の大きいものから小さいも
のへと順に複数段階に分けて行うようにしているので、
たとえ最終段のサイクロンの後段にフィルタ装置が設け
てあっても、サンプリング並びにガス分析になんら影響
を及ぼすことなく、つまり、サンプリング等を中断した
り停止することなく、粉塵等を連続的に分離・処理する
ことができ、したがって、高速応答のガス分析装置に対
しても連続的にサンプルガスを供給することができる。
【００３５】そして、サイクロンとサイクロンとの間に
バタフライ弁などの絞り弁を設けた場合、この絞り弁に
よる開度を適宜設定することにより、複数のサイクロン
における流量特性を変えることができ、したがって、サ
ンプルガス中の粉塵等の分布状態に対応した粉塵等の分
離・除去を効果的に行うことができる。
バタフライ弁などの絞り弁を設けた場合、この絞り弁に
よる開度を適宜設定することにより、複数のサイクロン
における流量特性を変えることができ、したがって、サ
ンプルガス中の粉塵等の分布状態に対応した粉塵等の分
離・除去を効果的に行うことができる。
【図１】この発明の第１実施例に係るガスサンプリング
装置を概略的に示す図である。
装置を概略的に示す図である。
【図２】この発明の第２実施例に係るガスサンプリング
装置を概略的に示す図である。
装置を概略的に示す図である。
【図３】この発明の第３実施例に係るガスサンプリング
装置を概略的に示す図である。
装置を概略的に示す図である。
【図４】フライアッシュの粒度分布およびこの発明の第
１実施例の動作を説明するための図である。
１実施例の動作を説明するための図である。
【図５】フライアッシュの粒度分布およびこの発明の第
２実施例の動作を説明するための図である。
２実施例の動作を説明するための図である。
【図６】従来技術を説明するための図である。
２…ガス採取部、３…サンプルガス供給路、４…ガス分
析装置、６，７，１８，１９，２０…サイクロン、１３
…絞り弁、１５…フィルタ装置、Ｓ…サンプルガス、Ｇ
…燃焼排ガス。
析装置、６，７，１８，１９，２０…サイクロン、１３
…絞り弁、１５…フィルタ装置、Ｓ…サンプルガス、Ｇ
…燃焼排ガス。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 古賀 富士夫 京都府京都市南区吉祥院宮の東町２番地 株式会社堀場製作所内 (72)発明者 嘉田 教夫 京都府京都市南区吉祥院宮の東町２番地 株式会社堀場製作所内 (72)発明者 山田 毅 京都府京都市南区吉祥院宮の東町２番地 株式会社堀場製作所内 (56)参考文献 特開 昭61−71823（ＪＰ，Ａ) 実開 平２−95835（ＪＰ，Ｕ) 実開 昭59−82561（ＪＰ，Ｕ) 実開 昭59−175157（ＪＰ，Ｕ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G01N 1/22 G01N 1/02
Claims (2)
- 【請求項１】 ガス採取部とガス分析装置とを結ぶサン
プルガス供給路に、ガス採取部によって採取されたサン
プルガスとしての燃焼排ガス中に含まれる粉塵や煤塵を
分離・除去処理しうる粒径の範囲が大小それぞれ異なる
複数個のサイクロンを、より大きい粒径の範囲に適用す
るものほど前段に、逆により小さい粒径の範囲に適用す
るものほど後段にして直列に設けるとともに、最終段の
サイクロンの後段にフィルタ装置を設けたことを特徴と
するガスサンプリング装置。 - 【請求項２】 サイクロンとサイクロンとの間に絞り弁
を設けてなる請求項１に記載のガスサンプリング装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7084782A JP3007811B2 (ja) | 1995-03-15 | 1995-03-15 | ガスサンプリング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7084782A JP3007811B2 (ja) | 1995-03-15 | 1995-03-15 | ガスサンプリング装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08254486A JPH08254486A (ja) | 1996-10-01 |
| JP3007811B2 true JP3007811B2 (ja) | 2000-02-07 |
Family
ID=13840273
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7084782A Expired - Lifetime JP3007811B2 (ja) | 1995-03-15 | 1995-03-15 | ガスサンプリング装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3007811B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102680285A (zh) * | 2012-06-01 | 2012-09-19 | 上海化工研究院 | 间歇式循环制气工艺的气体在线采样预处理方法和设备 |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4613461B2 (ja) * | 2001-07-30 | 2011-01-19 | 株式会社Ｉｈｉ | 排ガスサンプリング装置 |
| JP6124696B2 (ja) * | 2013-06-12 | 2017-05-10 | 新日鉄住金エンジニアリング株式会社 | ガス分析装置及びガス分析方法 |
| CN104062153B (zh) * | 2014-06-17 | 2016-08-31 | 中国船舶重工集团公司第七一八研究所 | 用于气体杂质含量分析的吹扫取样系统和吹扫取样方法 |
| CN112683604B (zh) * | 2020-12-07 | 2021-11-09 | 南京波瑞自动化科技有限公司 | 一种压力测量法的等速取样装置 |
-
1995
- 1995-03-15 JP JP7084782A patent/JP3007811B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102680285A (zh) * | 2012-06-01 | 2012-09-19 | 上海化工研究院 | 间歇式循环制气工艺的气体在线采样预处理方法和设备 |
| CN102680285B (zh) * | 2012-06-01 | 2014-06-04 | 上海化工研究院 | 间歇式循环制气工艺的气体在线采样预处理方法和设备 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH08254486A (ja) | 1996-10-01 |
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