JP3006177B2 - Work cleaning device - Google Patents
Work cleaning deviceInfo
- Publication number
- JP3006177B2 JP3006177B2 JP3172223A JP17222391A JP3006177B2 JP 3006177 B2 JP3006177 B2 JP 3006177B2 JP 3172223 A JP3172223 A JP 3172223A JP 17222391 A JP17222391 A JP 17222391A JP 3006177 B2 JP3006177 B2 JP 3006177B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pure water
- work
- cleaning
- tank
- cleaning liquid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明はプリント基板、液晶パネ
ル、半導体ウエハ等のワークを洗浄するための洗浄装置
に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a cleaning apparatus for cleaning a work such as a printed circuit board, a liquid crystal panel, and a semiconductor wafer.
【0002】[0002]
【従来の技術】プリント基板、液晶パネル、半導体ウエ
ハ等のワークの洗浄に広く使用されている塩素系洗浄
剤、フッ素系洗浄剤等のハロゲン系洗浄剤に対しては、
環境破壊の問題から、早急な代替え手段が求められてい
る。そこで、代替え洗浄剤として、各種の洗浄剤が検討
されているが、いずれの洗浄剤も、洗浄能力、材料価
格、排水処理等、洗浄剤としての総合的な特性としては
ハロゲン系洗浄剤に比較して劣るため、これらの欠点は
洗浄装置の面から補う必要がある。例えば、洗浄剤の洗
浄力を高める洗浄方法として、従来から知られているも
のは、吊り下げたワークに対して洗浄液を吹きつけるこ
とにより、ワーク表面の付着物を除去する方法である。
この方法により洗浄されたワークは純水を使用して、リ
ンスされ、その排水は排水処理装置によって処理され
る。しかし、この方法では、ワーク表面に対してむら無
く洗浄液を吹きつけるためには、ワークに対する洗浄液
吹きつけ方向を変更するなどの機構が必要である。ま
た、ノズルから噴射された洗浄液はワーク以外の部分に
も飛散するので、洗浄液の使用量の割りには洗浄効率が
低い。さらには、飛散した洗浄液が引火性のものであっ
たり、臭気の強いものである場合には、飛散した洗浄液
を回収するための機構が必要となる。そして、洗浄済の
ワークから洗浄剤を除去するためには、大量の水を使用
するので、排水処理には、大規模な施設を必要とすると
共に、高いランニングコストを伴う。2. Description of the Related Art Halogen-based cleaning agents such as chlorine-based cleaning agents and fluorine-based cleaning agents that are widely used for cleaning works such as printed circuit boards, liquid crystal panels, and semiconductor wafers.
The problem of environmental destruction calls for a quick alternative. Therefore, various types of cleaning agents are being studied as alternative cleaning agents, but all of these cleaning agents are compared with halogen-based cleaning agents in terms of overall cleaning properties, such as cleaning performance, material price, and wastewater treatment. Therefore, these disadvantages need to be compensated for in terms of the cleaning apparatus. For example, a conventionally known cleaning method for increasing the cleaning power of a cleaning agent is a method of removing attached matter on the surface of a suspended workpiece by spraying a cleaning liquid on the suspended workpiece.
The work cleaned by this method is rinsed using pure water, and the wastewater is treated by a wastewater treatment device. However, in this method, in order to spray the cleaning liquid evenly on the surface of the work, a mechanism for changing the direction of spraying the cleaning liquid on the work is required. Further, since the cleaning liquid sprayed from the nozzle is scattered to parts other than the work, the cleaning efficiency is low in proportion to the usage amount of the cleaning liquid. Furthermore, when the scattered cleaning liquid is flammable or has a strong odor, a mechanism for collecting the scattered cleaning liquid is required. Since a large amount of water is used to remove the detergent from the cleaned work, the wastewater treatment requires a large-scale facility and involves high running costs.
【0003】このような点に鑑みて、本件出願人は、ワ
ーク洗浄装置として、洗浄液を貯留した洗浄液槽中にワ
ークを浸漬し、浸漬状態にあるワークに対して、洗浄液
の噴流を吹きつける装置を提案している。この洗浄装置
によれば、貯留された洗浄液中において洗浄液の噴流が
形成されるので、洗浄液が外部に飛散することがなく、
洗浄液の回収効率が良い。また、噴流によって貯留され
た洗浄液内に渦流が形成され、かかる渦流が、噴流が直
接には当たらないワーク表面の部分に当たるので、洗浄
効率が高まるといった利点がある。さらに、洗浄装置
に、特に、ワークに付着している洗浄剤を除去する予備
リンス部において、純水を循環して使用し、排水量を最
小限に抑えることを提案している。In view of such a point, the applicant of the present application has disclosed a work cleaning apparatus in which a work is immersed in a cleaning liquid tank storing a cleaning liquid and a jet of the cleaning liquid is blown against the immersed work. Has been proposed. According to this cleaning device, since the jet of the cleaning liquid is formed in the stored cleaning liquid, the cleaning liquid does not scatter to the outside,
Good collection efficiency of cleaning liquid. In addition, a vortex is formed in the cleaning liquid stored by the jet, and the vortex hits a portion of the work surface to which the jet does not directly hit, so that there is an advantage that the cleaning efficiency is improved. Furthermore, it has been proposed to circulate and use pure water to minimize the amount of drainage in a cleaning device, particularly in a preliminary rinsing section for removing a cleaning agent attached to a workpiece.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、この
新規なワーク洗浄方法を利用してワーク洗浄を効率良く
行うと共に、純水を再生すると共に、循環して使用する
ことにより、排水量を増加させることなく、洗浄後のワ
ークに付着した洗浄液を効率良く洗い落とすことの可能
なワーク洗浄装置を実現することにある。SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to efficiently clean a work by using this novel work cleaning method, and to regenerate pure water and use it in a circulating manner to reduce the amount of wastewater. An object of the present invention is to realize a work cleaning apparatus capable of efficiently washing off a cleaning liquid attached to a work after cleaning without increasing the work.
【0005】[0005]
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
めに、本発明のワーク洗浄装置は、ワーク洗浄部と、予
備リンス部と、例えば、第1のリンス部および第2のリ
ンス部により構成されるリンス部を有している。ワーク
洗浄部は、ワーク洗浄液を貯留した洗浄槽と、洗浄槽に
ワークを出し入れするための第1のワーク搬送手段と、
洗浄槽内に浸漬されたワークに対して洗浄液を噴射する
ノズルなどの第1の噴流形成手段とを備えた構成となっ
ており、予備リンス部は、純水を貯留した純水槽と、純
水に対してワークを出し入れするための第2のワーク搬
送手段とを備えた構成となっている。第1のリンス部も
ワーク洗浄部と同様な構成であり、純水を貯留した第1
の純水槽と、第1の純水槽にワークを出し入れするため
の第3のワーク搬送手段と、第1の純水槽内に浸漬され
たワークに対して純水を噴射するノルズなどの第2の噴
流形成手段とを備えた構成となっている。一方、第2の
リンス部は、純水を貯留した第2の純水槽と、純水に対
してワークを出し入れするための第4のワーク搬送手段
とを備えた構成となっている。第2の噴流形成手段は、
ポンプと、このポンプから圧送される純水をワークに向
けて吹き出すノズルから構成することができる。 In order to solve the above-mentioned problems, a work cleaning apparatus according to the present invention comprises a work cleaning section, a preliminary rinsing section, and, for example, a first rinsing section and a second rinsing section. It has a configured rinsing part. A work cleaning unit configured to store a work cleaning liquid, a first work transfer unit for moving the work into and out of the work tank;
A first jet forming means such as a nozzle for jetting a cleaning liquid to a work immersed in the cleaning tank is provided. The preliminary rinsing section includes a pure water tank storing pure water, and a pure water tank. And a second work transport means for taking in and out of the work. The first rinsing unit has the same configuration as the work cleaning unit, and the first rinsing unit stores pure water .
Of the deionized water tank, and a third workpiece conveying means for loading and unloading the workpiece into the first pure water tank, a second such Noruzu for injecting pure water against dipped work within the first deionized water tank And a jet forming means. On the other hand, the second rinsing unit has a configuration including a second pure water tank storing pure water and a fourth work transport means for taking in and out the work with respect to the pure water. The second jet forming means,
Pump and pure water pumped from this pump
It can be composed of nozzles that blow out.
【0006】また、上記の第1のリンス部および第2の
リンス部において、それぞれの純水槽から溢れ出た純水
を回収する共用の回収槽を配置し、第2の噴流形成手段
および第2の純水槽で使用される純粋を再生して循環さ
せる純水槽循環手段と純水槽再生手段を有している。そ
して、上記ポンプの吐出側から第1の純水槽に連通する
バイパス通路が設けられており、当該第1の純水槽にワ
ークが浸漬中のときは閉路状態となり、ワークが搬送中
のときは開路状態となる。 In the first rinsing section and the second rinsing section, a common collecting tank for collecting pure water overflowing from each of the pure water tanks is provided, and the second jet forming means and the second jet forming means are provided. A pure water tank circulating means for regenerating and circulating pure water used in the pure water tank and a pure water tank regenerating means. So
Then, the discharge side of the pump communicates with the first pure water tank.
A bypass passage is provided, and a water passage is provided in the first pure water tank.
When the workpiece is immersed, it is closed and the workpiece is being transported.
In the case of, the circuit is open.
【0007】ここで、上記の純水再生手段としては、例
えば、活性汚泥処理手段、または活性炭、限外濾過膜、
逆浸透膜を利用した濾過手段が利用される。Here, as the pure water regenerating means, for example, activated sludge treatment means, activated carbon, ultrafiltration membrane,
Filtration means using a reverse osmosis membrane is used.
【0008】また、ワーク洗浄部において洗浄槽から引
き上げられるワークに付着している洗浄液を払い落とす
ために、ワークに対して空気などの気体を吹きつける液
切り手段を有していることが好ましい。同様に、第2の
リンス部においても、純水槽から引上げられるワークに
付着している純水を払い落とすために、ワークに対して
空気などを吹きつける水切り手段を有することが好まし
い。Further, it is preferable that the work cleaning section has a liquid removing means for blowing a gas such as air to the work in order to remove a cleaning liquid attached to the work pulled up from the cleaning tank. Similarly, in the second rinsing section, it is preferable to have a draining means for blowing air or the like to the work in order to remove pure water attached to the work pulled up from the pure water tank.
【0009】上記のワーク洗浄部における第1の噴流形
成手段は、例えば、ポンプと、このポンプから圧送され
る洗浄液をワークに向けて吹き出すノズルから構成する
ことができる。同様に、上記の洗浄液除去手段および水
切り手段は、ポンプと、このポンプから圧送される空気
をワークに向けて吹き出すノズルから構成することがで
きる。 The first jet forming means in the above-mentioned work cleaning section can be constituted by, for example, a pump and a nozzle which blows out the cleaning liquid fed from the pump toward the work. Similarly, the above-mentioned cleaning liquid removing means and draining means can be constituted by a pump and a nozzle which blows air pumped from the pump toward the work.
【0010】上記のワーク搬送手段は、ワークを昇降さ
せるワーク昇降機構と、ワークを次段側に向けて搬送す
る横搬送機構から構成することができる。この代わり
に、例えば、搬送ベルトを用いて搬送手段を構成するこ
とができる。この場合には、搬送ベルトによるワーク搬
送経路が洗浄液槽内および純水槽内を通過するように、
その搬送経路を設定すればよい。The above-mentioned work transfer means can be constituted by a work lifting mechanism for lifting and lowering the work, and a horizontal transfer mechanism for transferring the work toward the next stage. Instead of this, for example, a transport unit can be configured using a transport belt. In this case, the work transfer path by the transfer belt passes through the cleaning liquid tank and the pure water tank,
What is necessary is just to set the conveyance path.
【0011】一方、本発明の装置により洗浄されるワー
クとしては、プリント基板、液晶パネルなどの板状ワー
クが代表的なものである。このようなワークを洗浄する
場合には、多数枚のワークを整列状態に保持するキャリ
アを用いて、所謂バッチ式にワークの洗浄を行うように
することができる。On the other hand, a work to be cleaned by the apparatus of the present invention is typically a plate-like work such as a printed circuit board or a liquid crystal panel. In the case of cleaning such a work, the work can be cleaned in a so-called batch system using a carrier that holds a large number of works in an aligned state.
【0012】本発明の装置に使用する洗浄液として、例
えば、ポリエチレングリコールモノアルキルエーテルを
洗浄剤として含むポリエチレングリコールエーテル系洗
浄液を使用して、回路基板表面に付着しているはんだフ
ラックス残滓を除去するための洗浄装置とすることがで
きる。この場合に、洗浄液を希釈して使用し、各リンス
部における純水の汚れ度合いを抑えると共に、洗浄液の
引火点を高め、安全性を確保するために、少なくとも5
wt%の濃度の水を混合し、さらに、水の配合によっ
て、金属イオンの水酸化物または塩がワークに付着する
ことを防止するために、金属封鎖剤を配合することが好
ましい。As a cleaning liquid used in the apparatus of the present invention, for example, a polyethylene glycol ether-based cleaning liquid containing polyethylene glycol monoalkyl ether as a cleaning agent is used to remove solder flux residue adhering to the circuit board surface. Cleaning device. In this case, the cleaning solution is diluted and used to suppress the degree of contamination of the pure water in each rinsing part, to increase the flash point of the cleaning solution and to ensure safety.
It is preferable to mix water at a concentration of wt% and further mix a metal sequestering agent in order to prevent the hydroxide or salt of metal ions from adhering to the work by mixing the water.
【0013】[0013]
【作用】本発明においては、洗浄工程あるいはワーク洗
浄部において、洗浄液中においてワークに対して洗浄液
の噴流が吹きつけられる。洗浄液の噴流が洗浄液中に形
成されると、この噴流により、洗浄液中に各方向に向か
う渦流が形成される。この結果、洗浄液の噴流が直接当
たるワークの部分は、洗浄液の化学的作用およびその吹
きつけ力により、付着物が効率良く除去される。また、
洗浄液噴流が直接に当たらないワークの部分には、洗浄
液の渦流が当たり、やはり同様に、洗浄液の化学的作用
およびその物理的作用により、付着物が効率良く除去さ
れる。また、洗浄液中において洗浄液噴流が形成される
ので、大気中において洗浄液をワークに対して吹きつけ
る場合のように吹きつけた洗浄液が大気中に飛散すると
いうことがない。In the present invention, a jet of the cleaning liquid is blown onto the work in the cleaning liquid in the cleaning step or the work cleaning section. When a jet of the cleaning liquid is formed in the cleaning liquid, the jet forms a vortex in the cleaning liquid in each direction. As a result, the adhering matter is efficiently removed from the portion of the work directly hit by the jet of the cleaning liquid due to the chemical action of the cleaning liquid and its blowing force. Also,
A swirl of the cleaning liquid is applied to a part of the work to which the cleaning liquid jet does not directly hit, and similarly, the attached matter is efficiently removed by the chemical action and the physical action of the cleaning liquid. Further, since the cleaning liquid jet is formed in the cleaning liquid, the sprayed cleaning liquid does not scatter into the atmosphere unlike the case where the cleaning liquid is sprayed on the workpiece in the atmosphere.
【0014】このようにして、洗浄液中において付着物
が除去されたワークは、次に、予備リンス部で洗浄液が
洗い落とされた後、例えば、第1のリンス部において、
純水中に浸漬され、この状態で純水噴流が吹きつけられ
る。この場合にも、上記の洗浄液噴流を吹きつける場合
と同様に、ワークに対して純水噴流が吹きつけられると
共に、純水噴流が直接には当たらないワークの部分に
は、純水噴流により形成された渦流が当たる。この結
果、ワークに付着した洗浄液が確実に洗い落とされる。
この後は、第2のリンス工程あるいは第2のリンス部に
おいて、ワークは再び純水中に浸漬され、あるいは純水
が吹きつけられる。この結果、ワークに付着している洗
浄液が完全に洗い落とされる。[0014] The work from which the deposits have been removed in the cleaning liquid is then washed away in the preliminary rinsing section, and then, for example, in the first rinsing section.
It is immersed in pure water, and a jet of pure water is blown in this state. Also in this case, similarly to the case where the cleaning liquid jet is sprayed, the pure water jet is sprayed on the work, and the pure water jet is formed on the part of the work not directly hit by the pure water jet. The eddy current hits. As a result, the cleaning liquid adhering to the work is reliably washed off.
Thereafter, in the second rinsing step or the second rinsing section, the work is immersed again in pure water or sprayed with pure water. As a result, the cleaning liquid adhering to the workpiece is completely washed away.
【0015】ここで、最も純水が汚れ易い予備リンス槽
に純水再生手段を配置しているので、純水中の洗浄剤濃
度を低く保持できると共に、後段の第1及び第2のリン
ス部の純水の汚れを防止できるので、さらに、ワークに
付着した洗浄液がより確実に洗い落とされると共に、純
水を循環させて使用しているので、純水の供給量及び排
水量を低減することができる。特に本発明では、第1の
リンス部において噴流を形成するためのポンプの吐出側
から第1の純水槽に連通し、当該第1の純水槽にワーク
が浸漬中のときは閉路状態となり、ワークが搬送中のと
きは開路状態となるバイパス通路を備えて成る。このた
め、ワークを第1の純水槽に沈めたり引き上げたりする
際には噴流が止んでいるので、ワークの一部に噴流が当
たってワークに損傷等の生じることがなく、ワークの昇
降動を安定的に行うことができる。また、第1の純水槽
から引き上げたワークに対し噴流により自然発生する発
散霧滴等が再付着するのを抑制でき、第1の純水槽の純
水が第2の純水槽へ輸送されて汚れが増すのを防止でき
る。更に、ワーク搬送中は第1の純水槽の純水の循環が
止まっているのではなく、引続き、バイパス通路を介し
て循環している。即ち、第1の純水槽から溢れ出た純水
は回収槽,純水槽循環手段を介して純水槽再生手段で再
生され、その再生された純水が第2の純水槽へ供給され
てその純水槽を優先的に純水化しながら、溢れ出た純水
により回収槽を次に純水化すると共に、そして回収槽の
純水がバイパス通路を介して第1の純水槽に供給される
ことにより、最後に第1の純水槽も純水化される。ワー
ク浸漬期間以外の空き時間においても、第1の純水槽も
純水化できるため、リンス部全体の純水の汚れを極力防
止でき、純水の入替え作業が低減し、総じて純水の使用
量を大幅に低減できる。 Here, since the pure water regenerating means is disposed in the preliminary rinsing tank in which the pure water is most likely to be contaminated, the concentration of the detergent in the pure water can be kept low, and the first and second rinsing sections in the subsequent stages can be maintained. Of pure water can be prevented, so that the cleaning liquid attached to the work is more reliably washed off and the pure water is circulated for use. it can. In particular, in the present invention, the first
The discharge side of the pump for forming a jet in the rinsing section
From the first pure water tank to the first pure water tank
Is closed when the workpiece is being immersed.
And a bypass passage that is in an open state. others
The workpiece in the first pure water tank
Sometimes the jet stops, so the jet may hit a part of the workpiece.
As a result, the workpiece is not damaged,
The descent can be performed stably. Also, the first pure water tank
Spontaneously generated by the jet flow for the workpiece lifted from
Spray droplets can be prevented from re-adhering, and the pure water in the first
Water can be prevented from being transported to the second pure water tank and becoming dirty.
You. Further, during the transfer of the work, the circulation of the pure water in the first pure water tank is performed.
Instead of stopping, continue through the bypass passage
Circulating. That is, the pure water overflowing from the first pure water tank
Is recycled by the pure water tank regeneration means through the recovery tank and the pure water tank circulation means.
And the regenerated pure water is supplied to a second pure water tank.
The pure water that overflows while purifying the pure water tank with priority
And then purify the recovery tank, and
Pure water is supplied to the first pure water tank via the bypass passage
Thereby, the first pure water tank is finally purified. Wah
The first pure water tank can be used even in idle time
Pure water can be used, preventing contamination of the entire rinse area with pure water.
Can be stopped, the replacement work of pure water is reduced, and the use of pure water as a whole
The amount can be greatly reduced.
【0016】[0016]
【実施例】以下に、図面を参照して本発明の実施例を説
明する。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
【0017】(全体構成)図1には、本例のワーク洗浄
装置の全体構成を模式的に示してある。本例の装置は電
子回路用のプリント基板を洗浄するために適したもので
あり、キャリヤ2を用いてワーク(はんだフラック残滓
が付着したプリント基板)Wを複数枚ずつ洗浄する構成
となっている。この図1に示すように、本例の装置1
は、ワーク搬送経路の上流側から順に、洗浄部3、第1
の予備リンス部4、第2の予備リンス部5、第1のリン
ス部6、第2のリンス部7および乾燥部8が配列された
構成となっている。洗浄部3においては、プリント基板
用洗浄剤を含む洗浄液、本例においては、洗浄剤として
のポリエチレングリコールモノアルキルエーテルを混合
したポリエチレングリコールエーテル系洗浄液を、液中
でワークに対して噴射することにより、ワークの洗浄を
行う。第1および第2の予備リンス部4、5において
は、洗浄剤などの不純物を含まない水、すなわち純水の
中にワークを浸漬して上下に揺動させることにより、ワ
ークに付着している洗浄液等を洗い落とす。(Overall Configuration) FIG. 1 schematically shows the overall configuration of a work cleaning apparatus according to this embodiment. The apparatus of this example is suitable for cleaning a printed circuit board for an electronic circuit, and has a configuration in which a plurality of works (printed circuit boards to which solder flack residue is attached) W are washed by using the carrier 2. . As shown in FIG.
Are the cleaning unit 3 and the first
, A second preliminary rinsing unit 5, a first rinsing unit 6, a second rinsing unit 7, and a drying unit 8 are arranged. In the cleaning section 3, a cleaning liquid containing a cleaning agent for printed circuit boards, in this example, a polyethylene glycol ether-based cleaning liquid mixed with polyethylene glycol monoalkyl ether as the cleaning agent is sprayed on the work in the liquid. Wash the work. In the first and second preliminary rinsing units 4 and 5, the work is immersed in water containing no impurities such as a cleaning agent, that is, pure water, and is swayed up and down, so that the work is attached to the work. Wash off the cleaning solution.
【0018】ここで、第1の予備リンス部4の純水は、
限外濾過ユニット(濾過手段/純水再生手段)413に
よって、再生されながら循環され、第2の予備リンス部
5の純水は、活性炭を使用した濾過ユニット(濾過手段
/純水再生手段)513によって、再生されながら循環
される。第1のリンス部6においては、純水中において
ワークに対して純水を噴射することによりワークから洗
浄水等を洗い落とす。第2のリンス部7においては、上
記の第1あるいは第2の予備リンス部と同様に、純水中
にワークを浸漬して上下に揺動させることにより、ワー
クに付着している洗浄水等を洗い落とす。ここで、第1
及び第2のリンス部7の純水は、純水再生器(濾過手段
/純水再生手段)627によって、再生されながら循環
される。最後に、乾燥部8においては、ワークを高温雰
囲気中に晒して、そこに残っている純水を除去する。一
方、本例の装置においては、洗浄部3、第1の予備リン
ス部4および第2のリンス部7において、それぞれ洗浄
液中あるいは純水中から引上げられたワークに対して空
気を噴射することによりワークから洗浄液あるいは純水
を吹き落とすための空気吹きつけ部9が配置されてい
る。Here, the pure water in the first preliminary rinsing section 4 is as follows:
The ultrafiltration unit (filtration means / pure water regeneration means) 413 circulates while being regenerated, and the pure water of the second preliminary rinsing section 5 is filtered using activated carbon (filtration means / pure water regeneration means) 513. Is circulated while being reproduced. In the first rinsing section 6, cleaning water or the like is washed off the work by injecting pure water into the work in pure water. In the second rinsing section 7, as in the case of the first or second preliminary rinsing section described above, the work is immersed in pure water and swung up and down so that the cleaning water or the like adhering to the work is removed. Wash off. Here, the first
The pure water in the second rinsing section 7 is circulated while being regenerated by a pure water regenerator (filtering means / pure water regenerating means) 627. Finally, in the drying section 8, the work is exposed to a high-temperature atmosphere to remove pure water remaining there. On the other hand, in the apparatus of the present embodiment, the cleaning unit 3, the first preliminary rinsing unit 4 and the second rinsing unit 7 inject air into the cleaning liquid or the work pulled up from pure water, respectively. An air blowing unit 9 for blowing down the cleaning liquid or pure water from the work is arranged.
【0019】次に、本例の装置で使用するワークWを担
持するキャリア2の構造を説明する。図5に示すよう
に、キャリア2は、両端に配置した矩形枠21、22
を、底面を規定する4本のワーク支持棒23、24、2
5、26とワーク取付け用の切り欠きが形成された2本
の切り欠き付き棒27、28とによって連結した構造と
なっている。切り欠き付き棒27、28の内側面には、
その材軸方向に沿って等間隔で切り欠き271、281
が形成されており、対応する切り欠き271、281の
間に、一枚ずつのワークWが上側から差し込み可能とな
っている。また、これらの切り欠き付き棒27、28
は、その間隔を変更可能となっており、これにより幅の
異なるワークWを担持可能となっている。さらには、矩
形枠21、22の上面側には取っ手29、29(図にお
いて一方のみを示してある。)が取付けられており、キ
ャリヤの取扱いが容易となっている。Next, the structure of the carrier 2 for carrying the work W used in the apparatus of this embodiment will be described. As shown in FIG. 5, the carrier 2 includes rectangular frames 21 and 22 disposed at both ends.
To four work support rods 23, 24, 2
5, 26 and two notched rods 27, 28 formed with notches for attaching the work are connected. On the inner surface of the notched bars 27, 28,
Notches 271 and 281 at regular intervals along the material axis direction
Are formed, and between the corresponding notches 271 and 281, one work W can be inserted from above. In addition, these notched bars 27, 28
Can change the interval, and can carry works W having different widths. Further, handles 29, 29 (only one is shown in the figure) are attached to the upper surfaces of the rectangular frames 21, 22, so that handling of the carrier is easy.
【0020】(各部の構造)キャリア搬送系 図2ないし図5を参照して、本例の装置1の構造をキャ
リア搬送系を中心に説明する。[0020] With reference to the carrier transport system FIGS. 2 to 5 (Structure of each part), the structure of the device 1 of this embodiment mainly in carrier transport system.
【0021】本例の装置1は、図2および図3に示すよ
うに、その本体部12におけるワークWの搬送方向の上
流側にローダ11が接続され、ワーク搬送方向の下流側
にアンローダ13が接続された構成となっている。本体
部12には、上述した洗浄部、第1および第2の予備リ
ンス部、第1および第2のリンス部が配置されている。
本体部12のケース121における前面側には開閉蓋1
22が形成されている。図4に想像線で示すように開閉
蓋122を開けることにより、ケース内部にアクセスす
ることが可能である。ケース内部には、ワーク搬送方向
の上流側から順に、洗浄部の洗浄液槽31、第1の予備
リンス部の純水槽41、第2の予備リンス部の純水槽5
1、第1のリンス部の純水槽61、第2のリンス部の純
水槽71が一列に配置されている。As shown in FIGS. 2 and 3, the apparatus 1 of this embodiment has a loader 11 connected to an upstream side of the main body 12 in the direction of transporting the work W, and an unloader 13 at a downstream side of the workpiece transport direction. It has a connected configuration. The cleaning unit, the first and second preliminary rinsing units, and the first and second rinsing units described above are arranged in the main body unit 12.
An opening / closing lid 1 is provided on the front side of the case 121 of the main body 12.
22 are formed. By opening the opening / closing lid 122 as shown by the imaginary line in FIG. 4, it is possible to access the inside of the case. Inside the case, the cleaning liquid tank 31 of the cleaning section, the pure water tank 41 of the first preliminary rinsing section, and the pure water tank 5 of the second preliminary rinsing section 5 are arranged in this order from the upstream side in the work transfer direction.
1. A pure water tank 61 of a first rinsing section and a pure water tank 71 of a second rinsing section are arranged in a line.
【0022】これらの各槽の上方位置には、隣接する各
槽に跨がる状態に、ローラスライダ32、42、52、
62が一定の間隔をもって一列に配置されている。ロー
ラスライダ32の上流側、ローラスライダ62の下流
側、および各ローラスライダの間には、同じくローラス
ライダからなるワーク支持部33、43、53、63、
73が配置されている。これらのワーク支持部は、ケー
ス内において各槽の裏面側に配置した昇降機構34、4
4、54、64、74によって昇降可能となっている。The roller sliders 32, 42, 52, and 52 are positioned above the tanks so as to straddle the adjacent tanks.
62 are arranged in a line at a fixed interval. Between the upstream side of the roller slider 32, the downstream side of the roller slider 62, and between the roller sliders, the work supporting portions 33, 43, 53, 63, each of which is also a roller slider,
73 are arranged. These work support parts are lift mechanisms 34, 4 arranged on the back side of each tank in the case.
4, 54, 64, 74 can be moved up and down.
【0023】図4に示すように、洗浄部の昇降機構34
は、洗浄液槽31の裏面側において垂直となるようにケ
ースに取りつけた昇降案内ロッド341と、このロッド
341の外周に摺動可能に取りつけた摺動部342と、
この摺動部342を昇降させるためのチェーン343と
駆動モーター344と、摺動部に取りつけたL型アーム
345とから構成され、このアームの先端に上記のワー
ク支持部33が支持されている。この構成の昇降機構3
4によって、ワーク支持部33は、少なくとも、ローラ
スライダ32、42、52、62と同一高さの上限位置
(図2参照)から、ワーク支持部によって支持されてい
るワークWが完全に洗浄液槽31内に浸漬した状態とな
る高さの下限位置(図4参照)まで昇降可能となってい
る。その他の昇降機構44、54、64、74の構成
も、この昇降機構34と同様であるので、その説明は省
略する。As shown in FIG. 4, the elevating mechanism 34 of the cleaning section
A lifting guide rod 341 attached to the case so as to be vertical on the back side of the cleaning liquid tank 31, a sliding portion 342 slidably attached to the outer periphery of the rod 341;
It is composed of a chain 343 for raising and lowering the sliding portion 342, a drive motor 344, and an L-shaped arm 345 attached to the sliding portion. The above-mentioned work supporting portion 33 is supported at the tip of this arm. Elevating mechanism 3 of this configuration
4, the work W supported by the work supporting portion is completely removed from the cleaning liquid tank 31 at least from the upper limit position (see FIG. 2) at the same height as the roller sliders 32, 42, 52, 62. It can be moved up and down to the lower limit position (see FIG. 4) of the height at which it is immersed inside. The other structures of the elevating mechanisms 44, 54, 64, and 74 are the same as those of the elevating mechanism 34, and a description thereof will be omitted.
【0024】次に、本体ケース121の搬送方向上流側
の端面には、キャリア導入口123が形成されており、
ここを貫通した状態に、ローダ11を構成する搬送ベル
ト111が、内部のローラスライダと同一高さ位置に一
列となるように配置されている。この搬送ベルト111
は、支持脚112によって電装ボックス202上に支持
されている。また、この搬送ベルト111は不図示の駆
動機構によって駆動可能である。本例においては、搬送
ベルト111を構成するチェーンに、一定のピッチでキ
ャリア係合用の爪(図示せず)が取付けられ、駆動機構
によりこの一定のピッチずつ駆動されるようになってい
る。本例における搬送ベルト111は、一定のピッチで
3個のキャリア2を同時に搭載可能であり、そのうちの
先頭のキャリア2を搭載した部分が、図2から分かるよ
うに、本体ケース内に位置するように配置されている。Next, a carrier introduction port 123 is formed on the end face of the main body case 121 on the upstream side in the transport direction.
The transport belts 111 constituting the loader 11 are arranged so as to extend in a row at the same height position as the internal roller slider. This transport belt 111
Are supported on the electrical box 202 by the support legs 112. The transport belt 111 can be driven by a drive mechanism (not shown). In this example, a carrier engaging claw (not shown) is attached to the chain forming the transport belt 111 at a constant pitch, and the carrier is driven at a constant pitch by a driving mechanism. The transport belt 111 in the present example can simultaneously mount three carriers 2 at a constant pitch, and the portion on which the leading carrier 2 is mounted is located in the main body case as can be seen from FIG. Are located in
【0025】本体ケース121の下流側端面には、キャ
リア搬出口124が形成され、ここを貫通した状態に、
アンローダ13を構成するローラスライダ131が、内
部のローラスライダと同一高さ位置に一列となるように
配置されている。このスライダも支持脚132によって
床F上に支持されている。本例においては、このアンロ
ーダ13に3個のキャリア2を搭載可能となっている。
そして、ここの3個のキャリアが集積された場合には、
その旨が自動的に表示可能となっている。かかる表示機
構は簡単に構成することができるので、ここではこれ以
上の説明は省略する。A carrier outlet 124 is formed at the downstream end face of the main body case 121, and is penetrated therethrough.
The roller sliders 131 constituting the unloader 13 are arranged in a line at the same height position as the internal roller sliders. This slider is also supported on the floor F by the support legs 132. In this example, three carriers 2 can be mounted on the unloader 13.
And when these three carriers are integrated,
That fact can be automatically displayed. Since such a display mechanism can be easily configured, further description is omitted here.
【0026】一方、各処理部3〜7において、キャリア
支持部33、43、53、63、73の上方における上
流側の位置には、キャリア横搬送経路に直交する状態
に、プッシャー35、45、55、65、75が配置さ
れている。また、キャリア搬入口124の内側にもプッ
シャー115が配置されている。これらのプッシャー
は、各槽の前面側においてキャリア横搬送経路と平行に
配置したプッシャー駆動機構36によって支持されてい
る。この駆動機構36により、各プッシャーは、図2に
示す初期動作位置から、下流側の隣接するプッシャの位
置までの間を往復移動可能となっている。さらに、この
プッシャー駆動機構36は、各プッシャーを、図4に示
すように、実線で示す位置から想像線で示す退避位置ま
で旋回可能に支持している。後述するように、これらの
プッシャーにより、キャリア2は順次に次段側の処理部
に向けて横搬送される。On the other hand, in each of the processing units 3 to 7, the pushers 35, 45, 45, 45, 55, 65 and 75 are arranged. A pusher 115 is also arranged inside the carrier entrance 124. These pushers are supported by a pusher drive mechanism 36 arranged on the front side of each tank in parallel with the carrier horizontal transport path. The drive mechanism 36 allows each pusher to reciprocate from the initial operation position shown in FIG. 2 to the position of the adjacent pusher on the downstream side. Further, this pusher drive mechanism 36 supports each pusher so as to be pivotable from a position shown by a solid line to a retracted position shown by an imaginary line, as shown in FIG. As will be described later, the carriers 2 are sequentially conveyed laterally toward the next processing unit by these pushers.
【0027】洗浄液および純水の供 給系 次に、図6に示す本例の装置の配管系を主に参照して、
各処理部3、4、5、6、7の構造を説明する。The supply system of the cleaning solution and pure water Next, referring mainly to the piping system of the apparatus of the present embodiment shown in FIG. 6,
The structure of each of the processing units 3, 4, 5, 6, 7 will be described.
【0028】洗浄部3の洗浄液槽31は、上方が開放し
たほぼ立方体形状の洗浄液本体槽311と、この外周を
囲む状態に形成したオーバーフロー槽312とから構成
されている。本体槽311内には、ポリエチレングリコ
ールモノアルキルエーテルを含むワーク洗浄液313が
貯留されている。The cleaning liquid tank 31 of the cleaning section 3 comprises a substantially cubic cleaning liquid main tank 311 having an open upper part, and an overflow tank 312 formed so as to surround the outer periphery thereof. A work cleaning liquid 313 containing polyethylene glycol monoalkyl ether is stored in the main body tank 311.
【0029】ここで、ポリエチレングリコールモノアル
キルエーテルは、はんだフラックス残渣に対し高い洗浄
力を有する。また、ワーク洗浄液313には、約5wt
%以上の水と共に、金属イオン、例えばSnイオンに対
する金属封鎖剤が配合されている。これにより、洗浄液
の引火点を約100℃以上に高めると共に、洗浄液の洗
浄剤を希釈して、後段の純水の汚れを防止し、排水処理
の負荷の低減も実現しているが、ワークに金属水酸化物
等が付着しないようにしている。Here, polyethylene glycol monoalkyl ether has a high detergency against solder flux residues. The work cleaning liquid 313 contains about 5 wt.
A sequestering agent for a metal ion, for example, a Sn ion, is blended together with at least% of water. As a result, the flash point of the cleaning liquid is raised to about 100 ° C. or higher, and the cleaning agent of the cleaning liquid is diluted to prevent contamination of the subsequent pure water and reduce the load of drainage treatment. Prevents metal hydroxide and the like from adhering.
【0030】本体槽311内に貯留されている洗浄液3
13は、槽内に配置した棒状ヒーター315により一定
の温度、例えば60°Cに保持されるようになってい
る。本体槽311内には、洗浄液を噴射可能な複数のノ
ズルが配置されている。本例においては、図6および図
7に示すように、一方の側において水平に2列のノズル
群316a、316bが配置され、他方の側において
は、これらのノズル群とは異なる高さ位置において水平
に2列のノズル群316c、316dが配置されてい
る。これらのノズルとしては、噴角60度の充円錐タイ
プものを使用することができる。これらのノズル群は、
洗浄液循環経路317を介して、オーバーフロー槽31
2の底面に連通している。The cleaning liquid 3 stored in the main body tank 311
13 is maintained at a constant temperature, for example, 60 ° C. by a bar-shaped heater 315 disposed in the tank. A plurality of nozzles capable of injecting the cleaning liquid are arranged in the main body tank 311. In this example, as shown in FIG. 6 and FIG. 7, two rows of nozzle groups 316a and 316b are arranged horizontally on one side, and at a different height position from these nozzle groups on the other side. Two rows of nozzle groups 316c and 316d are arranged horizontally. As these nozzles, full-cone type nozzles having a jet angle of 60 degrees can be used. These nozzle groups are
Through the cleaning liquid circulation path 317, the overflow tank 31
2 communicates with the bottom surface.
【0031】この循環経路317には、ポンプ318が
配置され、このポンプとオーバーフロー槽との間にはス
トレーナ319が配置されている。ストレーナ319よ
りも上流側の循環経路には自動開閉弁321を介して洗
浄液補充タンク322が接続されている。自動開閉弁3
21は、オーバーフロー槽312に取りつけた三本足液
面計323により開閉制御され、これによって、自動的
に洗浄液が循環経路内に補給される。ノズル群と洗浄液
循環経路317とは、自動開閉弁324、325を介し
て接続されており、これらの開閉弁はキャリア2が検出
されると自動的に開き、それ以外の場合は閉じている。
これらの自動開閉弁が閉じている状態では、ポンプ31
8から吐出される洗浄液は、上記の自動開閉弁とは逆の
開閉動作を行う自動開閉弁326が介挿されたバイバス
通路327を介して、洗浄液本体槽311内に還流され
る。また、ポンプ吐出側には開閉弁328が介挿されて
おり、汚れた洗浄液は産業廃液としてこの開閉弁328
を介して所定の処理部に向けて排出される。A pump 318 is disposed in the circulation path 317, and a strainer 319 is disposed between the pump and the overflow tank. A cleaning liquid replenishing tank 322 is connected to a circulation path upstream of the strainer 319 via an automatic opening / closing valve 321. Automatic on-off valve 3
21 is controlled to be opened and closed by a three-foot liquid level gauge 323 attached to the overflow tank 312, whereby the cleaning liquid is automatically supplied into the circulation path. The nozzle group and the cleaning liquid circulation path 317 are connected via automatic open / close valves 324 and 325. These open / close valves are automatically opened when the carrier 2 is detected, and are closed otherwise.
When these automatic on-off valves are closed, the pump 31
The cleaning liquid discharged from 8 is returned to the cleaning liquid main tank 311 via a bypass passage 327 in which an automatic opening / closing valve 326 performing an opening / closing operation reverse to the above-mentioned automatic opening / closing valve is inserted. An on-off valve 328 is interposed on the pump discharge side, and dirty cleaning liquid is turned into an industrial waste liquid.
And is discharged toward a predetermined processing unit via the.
【0032】この洗浄液本体槽311は、開閉弁を介し
て、純水供給系330および純水回収系329に接続さ
れている。純水供給系330には、イオン交換器および
フィルタを備えた純水器331が介挿されている。The cleaning liquid main tank 311 is connected to a pure water supply system 330 and a pure water recovery system 329 via an on-off valve. In the pure water supply system 330, a pure water device 331 including an ion exchanger and a filter is inserted.
【0033】次に、第1および第2の予備リンス部4、
5は、純水を貯留した純水槽41、51を備えており、
これらに貯留された純水は、循環経路411、511を
介して循環される。これらの循環経路411、511に
は、純水を還流させるためのポンプ412,512、純
水濾過手段としての限外濾過ユニット413,活性炭を
使用した濾過ユニット513が介挿され、純水槽41,
51の純水は、再生されながら循環するようになってい
る。Next, the first and second preliminary rinsing sections 4,
5 is provided with pure water tanks 41 and 51 storing pure water,
The pure water stored in these is circulated through circulation paths 411 and 511. Pumps 412 and 512 for refluxing pure water, an ultrafiltration unit 413 as a pure water filtration unit, and a filtration unit 513 using activated carbon are interposed in these circulation paths 411 and 511.
The 51 pure water is circulated while being regenerated.
【0034】ここで、ポンプ412,512と、限外濾
過ユニット413,活性炭を使用した濾過ユニット51
3の間には、開閉弁414,514が介挿されており、
第1の予備リンス部の開閉弁414を開くと、ここを介
して、純水槽41の純水は単独排水として排出可能にな
っている。これに対して、第2の予備リンス部の開閉弁
を開くと、この第2の予備リンス部の側の循環水が第1
の予備リンス部の純水槽41内に供給される。ここに、
第2の予備リンス部の純水槽51内には棒状ヒーター5
15が配置されており、このヒーターにより純水槽4
1、51内の純水の温度を所定の温度、例えば60°C
に保持するようになっている。一方、これら第1および
第2の予備リンス部における純水槽41、51は、自動
開閉弁416、516を介して、純水供給系330に接
続されている。これらの自動開閉弁416、516の開
閉は、純水槽41、51に取りつけたフロートスイッチ
417、517により制御されるようになっている。ま
た、純水槽41、51は、開閉弁を介して純水回収系3
29にも接続され、この純水回収系329は、排水処理
設備(図示せず)に接続されている。Here, the pumps 412 and 512, the ultrafiltration unit 413, and the filtration unit 51 using activated carbon
Between 3, the on-off valves 414, 514 are interposed,
When the opening / closing valve 414 of the first preliminary rinsing section is opened, the pure water in the pure water tank 41 can be discharged as a single drain through this. On the other hand, when the on-off valve of the second preliminary rinsing section is opened, the circulating water on the side of the second preliminary rinsing section becomes the first rinsing water.
Is supplied into the pure water tank 41 of the preliminary rinsing section. here,
A rod-shaped heater 5 is provided in the pure water tank 51 of the second preliminary rinsing section.
15 are arranged, and the pure water tank 4 is
The temperature of the pure water in the first and the 51 is set to a predetermined temperature, for example, 60 ° C.
To be held. On the other hand, the pure water tanks 41 and 51 in the first and second preliminary rinsing sections are connected to a pure water supply system 330 via automatic open / close valves 416 and 516. Opening / closing of these automatic opening / closing valves 416, 516 is controlled by float switches 417, 517 attached to the pure water tanks 41, 51. The pure water tanks 41 and 51 are connected to the pure water recovery system 3 via an on-off valve.
29, and the pure water recovery system 329 is connected to a wastewater treatment facility (not shown).
【0035】次に、第1および第2のリンス部6、7の
構造を説明する。これらのリンス部の純水槽61、71
は、上方が開いた直方体形状の共通ケース611内を仕
切ることにより区画形成されている。すなわち、図8に
示すように、共通ケース611内を仕切り板612によ
って完全に二分割し、狭い方の側の区画室613を第2
のリンス部の純水槽71としてある。これに対して、広
い方の側の区画室614内に、一回り小さな角形円筒形
状の仕切り板615を配置することにより、第1のリン
ス部の純水槽61と、これを取り囲む純水回収槽616
を形成してある。ここに、純水槽61と純水槽71の間
に位置する純水回収槽616の部分616aには、更に
別個の仕切り板617が配置され、この仕切り板617
により、この部分616aの上半部分が第1のリンス部
の側と第2のリンス部の側に分けられ、下半部分は連通
状態のままとされている。この純水回収槽616には、
棒状ヒーター618が配置されており、純水槽61、7
1内の温度を所定の温度、例えば60°Cに保持するよ
うになっている。Next, the structure of the first and second rinsing portions 6 and 7 will be described. The pure water tanks 61 and 71 of these rinse parts
Are formed by partitioning the inside of a common case 611 having a rectangular parallelepiped shape with an open top. That is, as shown in FIG. 8, the inside of the common case 611 is completely divided into two by the partition plate 612, and the compartment 613 on the narrower side is made into the second
As a pure water tank 71 in the rinsing section. On the other hand, by disposing a slightly smaller rectangular cylindrical partition plate 615 in the compartment 614 on the wider side, the pure water tank 61 of the first rinsing part and the pure water recovery tank surrounding it are provided. 616
Is formed. Here, a separate partition plate 617 is further disposed in a portion 616 a of the pure water recovery tank 616 located between the pure water tank 61 and the pure water tank 71.
As a result, the upper half portion of the portion 616a is divided into the first rinse portion side and the second rinse portion side, and the lower half portion remains in communication. In this pure water recovery tank 616,
A rod-shaped heater 618 is provided, and the pure water tanks 61 and 7 are provided.
1 is maintained at a predetermined temperature, for example, 60 ° C.
【0036】第1のリンス部6の純水槽61内には、複
数のノズルが配置されている。本例においては、一方の
側において水平に2列に配列したノズル群621a、6
21bと、これらと対峙する側において水平に2列に配
列したノズル群621c、621dとを有している。ノ
ズルの配置形状は前述した洗浄部3の洗浄液槽における
ものと同様である。これらの双方の側のノズル群は、そ
れぞれ自動開閉弁622、623を介してポンプ624
の吐出側に接続され、ポンプの吸込み側はストレーナ6
25を介して純水回収槽616に接続されている。自動
開閉弁622、623は、キャリア2が検知されると自
動的に開き、それ以外の場合には閉じた状態に保持され
る。これらが閉じた状態にある場合には、ポンプから吐
き出される純水は、上記の自動開閉弁とは逆の開閉動作
を行う自動開閉弁626が介挿されたバイパス通路62
7を介して純水槽61内に還流される。In the pure water tank 61 of the first rinsing section 6, a plurality of nozzles are arranged. In this example, the nozzle groups 621a, 6
21b and nozzle groups 621c and 621d horizontally arranged in two rows on the side facing these. The arrangement shape of the nozzles is the same as that in the cleaning liquid tank of the cleaning unit 3 described above. The nozzle groups on both these sides are connected to the pump 624 via the automatic on-off valves 622 and 623, respectively.
The suction side of the pump is connected to the strainer 6
25 is connected to the pure water recovery tank 616. The automatic opening / closing valves 622 and 623 are automatically opened when the carrier 2 is detected, and are otherwise kept closed. When these are in a closed state, the pure water discharged from the pump is supplied to the bypass passage 62 in which the automatic opening / closing valve 626 for performing the opening / closing operation opposite to the above automatic opening / closing valve is inserted.
The water is returned to the pure water tank 61 through 7.
【0037】ここに、純水回収槽616は、純水再生器
627を介して、第2のリンス部7の純水槽71に連通
している。純水再生器627は、純水回収槽に吸い込み
側が接続されたポンプ627aと、ポンプの吐出側に順
に接続された活性炭による濾過器627b、イオン交換
器627c、イオン交換器627dおよびフィルタ62
7eとから構成されており、この純水再生器により再生
された純水が純水槽71に戻されるようになっている。Here, the pure water recovery tank 616 communicates with the pure water tank 71 of the second rinsing section 7 via a pure water regenerator 627. The pure water regenerator 627 includes a pump 627a having a suction side connected to a pure water recovery tank, and a filter 627b, an ion exchanger 627c, an ion exchanger 627d, and a filter 62 using activated carbon sequentially connected to a discharge side of the pump.
7e, and the pure water regenerated by the pure water regenerator is returned to the pure water tank 71.
【0038】一方、第2のリンス部の純水槽71は、自
動開閉弁711を介して純水供給系330に接続されて
いる。この自動開閉弁711は、純水回収槽に取りつけ
たフロートスイッチ628により開閉動作が制御され
る。一方、双方の純水槽61、71はそれぞれ開閉弁を
介して、純水回収系329に接続されている。On the other hand, the pure water tank 71 of the second rinsing section is connected to a pure water supply system 330 via an automatic opening / closing valve 711. The opening / closing operation of the automatic opening / closing valve 711 is controlled by a float switch 628 attached to a pure water recovery tank. On the other hand, both of the pure water tanks 61 and 71 are connected to a pure water recovery system 329 via on-off valves.
【0039】空気吹きつけ部 次に、図1および図9を主に参照して、空気吹きつけ部
9の構造を説明する。The air blown unit Next, referring mainly to FIGS. 1 and 9, the structure of the air blowing unit 9.
【0040】空気吹きつけ部9は、圧縮空気供給源91
を有し、ここから供給される圧縮空気は、フィルタおよ
びレギュレータ部92を介して、洗浄部3、第1の予備
リンス部4および第2のリンス部7にそれぞれ配置した
空気吹き出し部93、94、95に供給される。洗浄部
3の空気吹き出し部93は、洗浄液本体槽311におけ
る一対の対向側面の上方位置において、平行に配置した
2本の空気吹き出し部から形成されている。第2のリン
ス部7における空気吹き出し部95も同様の構成であ
る。これに対して、第1の予備リンス部4における空気
吹き出し部94は一本の空気吹き出し部からなってい
る。各空気吹き出し部93、94、95は、それぞれ手
動開閉弁931、941、951および自動開閉弁93
2、942、952を介して圧縮空気供給源91の側に
接続されている。各自動開閉弁は、キャリアが槽内から
引上げられるときに開かれるようになっている。手動開
閉弁は流量調整のために使用される。The air blowing section 9 includes a compressed air supply source 91.
The compressed air supplied from the air blowers 93 and 94 is disposed via the filter and the regulator 92 in the cleaning section 3, the first preliminary rinsing section 4 and the second rinsing section 7, respectively. , 95. The air blowing section 93 of the cleaning section 3 is formed of two air blowing sections arranged in parallel at a position above a pair of opposing side surfaces in the cleaning liquid main body tank 311. The air blowing section 95 in the second rinsing section 7 has the same configuration. On the other hand, the air blowing section 94 in the first preliminary rinsing section 4 is composed of a single air blowing section. Each of the air blowing portions 93, 94, and 95 includes a manual on-off valve 931, 941, and 951 and an automatic on-off valve 93, respectively.
2, 942, 952 are connected to the compressed air supply source 91 side. Each automatic open / close valve is opened when the carrier is pulled out of the tank. A manual on-off valve is used for flow control.
【0041】制御系 図10には、本例の装置における制御系の主要部を示し
てある。この図において、201は装置1の全体を制御
するためのコントーラであり、ローダ近傍に配置した電
装ボックス202内に装着されている。203はコンソ
ールパネルであり、このパネル上には、各種の入力スイ
ッチ群からなる入力部203aと、各部の作動状態等を
表示するための表示部203bが配置されている。コン
トローラ201の入力側には、プッシャー駆動用の隙間
検知用センサ204が接続され、昇降機構駆動用の上限
センサ205、上限接近検知用センサ206、下限セン
サ207、下限接近検知用センサ208が接続されてい
る。また、洗浄部3における洗浄液の噴射時期および空
気噴射時期を制御するために使用するキャリア検知用セ
ンサ209、第1の予備リンス部4における空気噴射時
期を制御するための使用するキャリア検知用センサ21
1、第1のリンス部6における純水の噴射時期を制御す
るために使用するキャリア検知用センサ212、および
第2のリンス部7における空気噴射時期を制御するため
に使用するキャリア検知用センサ213などが接続され
ている。[0041] Control system Figure 10 shows the principal part of a control system in the apparatus of the present embodiment. In this figure, reference numeral 201 denotes a controller for controlling the entire apparatus 1, which is mounted in an electrical box 202 arranged near the loader. Reference numeral 203 denotes a console panel, on which an input unit 203a composed of various input switches and a display unit 203b for displaying an operation state of each unit are arranged. On the input side of the controller 201, a gap detection sensor 204 for driving the pusher is connected, and an upper limit sensor 205, an upper limit approach detection sensor 206, a lower limit sensor 207, and a lower limit approach detection sensor 208 for driving the lifting mechanism are connected. ing. Further, a carrier detection sensor 209 used to control the cleaning liquid injection timing and the air injection timing in the cleaning unit 3, and a carrier detection sensor 21 used to control the air injection timing in the first preliminary rinsing unit 4.
1. Carrier detection sensor 212 used to control the injection timing of pure water in first rinse section 6 and carrier detection sensor 213 used to control the air injection timing in second rinse section 7 Etc. are connected.
【0042】コントローラ201の出力側は、キャリア
搬送系を構成する各駆動部分に接続されている。すなわ
ち、プッシャー駆動部36、昇降機構34、44、5
4、64、74、ローダ駆動機構113、キャリアがキ
ャリア支持部からオーバーランするのを防止するストッ
パー37、47、57、67、77に接続されている。The output side of the controller 201 is connected to each drive section constituting the carrier transport system. That is, the pusher driving unit 36, the elevating mechanisms 34, 44, 5
4, 64, 74, the loader drive mechanism 113, and the stoppers 37, 47, 57, 67, 77 for preventing the carrier from overrunning from the carrier support.
【0043】また、コントローラ出力側は、洗浄槽にお
ける洗浄液噴射を制御する自動開閉弁324、325、
326第1のリンス部における純水噴射を制御する自動
開閉弁622、623、626に接続されている。さら
には、洗浄部3、第1の予備リンス部4、第2のリンス
部7における空気噴射を制御する自動開閉弁932、9
42、952に接続されている。The controller output side includes automatic opening / closing valves 324 and 325 for controlling the injection of the cleaning liquid in the cleaning tank.
326 Connected to automatic open / close valves 622, 623, 626 for controlling the pure water injection in the first rinse section. Further, automatic opening / closing valves 932 and 9 for controlling air injection in the cleaning unit 3, the first preliminary rinsing unit 4, and the second rinsing unit 7.
42,952.
【0044】洗浄動作 次に、コントローラの制御の下に行われる本例の洗浄装
置における洗浄動作を説明する。 Cleaning Operation Next, the cleaning operation of the cleaning apparatus of this embodiment, which is performed under the control of the controller, will be described.
【0045】図11には1サイクルの洗浄動作のタイミ
ングチャートを示してあり、図12〜図16には各洗浄
動作時における状態を順次に示してある。駆動に先立っ
て、ローダ11の搬送ベルト111の上に、ワークであ
るプリント基板Wを多数枚設置したキャリア2を乗せ
る。いま、図2に示す状態から洗浄サイクルが開始する
ものとする。この状態では、ローダ11に3個のキャリ
ア2(n)、2(n+1)、2(n+2)が搭載されて
おり、各昇降機構にもそれぞれキャリアが搭載されてい
る。FIG. 11 is a timing chart of a one-cycle cleaning operation, and FIGS. 12 to 16 sequentially show states during each cleaning operation. Prior to driving, the carrier 2 on which a large number of printed circuit boards W, which are works, is placed on the transport belt 111 of the loader 11. Now, it is assumed that the cleaning cycle starts from the state shown in FIG. In this state, three carriers 2 (n), 2 (n + 1), and 2 (n + 2) are mounted on the loader 11, and the carriers are also mounted on the respective lifting mechanisms.
【0046】まず、この状態から搬送動作が開始される
(図11の時刻T1)。すなわち、プッシャー115、
35、45、55、65、75がそれらの搬送機構36
によって一定の距離だけ横移動し、これら横移動するプ
ッシャーによって各キャリアは、ローラスライダ32、
42、52、62の上を移動して、次段側の昇降機構の
キャリア支持部33、43、53、63、73の上に乗
った状態となるまで前進する(図11の時刻T1−T
2)。図12にはこのようにして、ローダ11上のキャ
リア2(n)が洗浄部3のキャリア支持部33上まで横
搬送された後の状態を示してある。キャリア2が所定の
位置まで前進すると、各処理部に取りつけたキャリア検
知用センサ209〜213によってキャリアが検知され
る。この後は、各昇降機構34、44、54、64、7
4が駆動し、キャリア2が槽内に向けて降下する。降下
するキャリアが下限近傍位置に到ると、これが下限接近
検知用センサ208により検知される(図11の時刻T
3)。この後は、低速でキャリアが降下する。キャリア
が下限位置に到ると、このことが下限センサ207によ
り検知され、昇降機構によるキャリアの降下が停止する
(図11の時刻T4)。First, the transport operation is started from this state (time T1 in FIG. 11). That is, the pusher 115,
35, 45, 55, 65, and 75 are those transport mechanisms 36.
The carrier moves laterally by a predetermined distance, and each carrier moves the roller slider 32,
42, 52, and 62, and moves forward until it is placed on the carrier support portions 33, 43, 53, 63, and 73 of the next-stage lifting mechanism (time T1-T in FIG. 11).
2). FIG. 12 shows a state after the carrier 2 (n) on the loader 11 is laterally conveyed onto the carrier support 33 of the cleaning unit 3 in this manner. When the carrier 2 moves forward to a predetermined position, the carrier is detected by the carrier detection sensors 209 to 213 attached to each processing unit. Thereafter, each of the lifting mechanisms 34, 44, 54, 64, 7
4 is driven, and the carrier 2 descends into the tank. When the descending carrier reaches a position near the lower limit, this is detected by the lower limit approach detection sensor 208 (at time T in FIG. 11).
3). Thereafter, the carrier descends at a low speed. When the carrier reaches the lower limit position, this is detected by the lower limit sensor 207, and the lowering of the carrier by the lifting mechanism stops (time T4 in FIG. 11).
【0047】ここで、上記のキャリア横搬送動作中にお
いては、キャリア2が各昇降機構の支持部33、43、
53、63、73をオーバランしないように、各ローラ
スライダ入口に設置されているストッパー37、47、
57、67、77をオンさせる。また、キャリア2の昇
降時及び槽内での浸漬時、キャリアがキャリア支持部か
ら動かないよう各槽内にキャリアガイド38(図12に
のみ図示)を設けている。また、搬送動作の間は、洗浄
部3および第1のリンス部6における洗浄液および純水
のバイパス通路326、626が開状態に保持される。Here, during the above-described carrier lateral transport operation, the carrier 2 is supported by the support portions 33, 43,
In order not to overrun 53, 63, 73, stoppers 37, 47,
57, 67 and 77 are turned on. In addition, a carrier guide 38 (shown only in FIG. 12) is provided in each tank so that the carrier does not move from the carrier support portion when the carrier 2 is moved up and down and dipped in the tank. During the transport operation, the bypass passages 326 and 626 of the cleaning liquid and the pure water in the cleaning unit 3 and the first rinsing unit 6 are kept open.
【0048】搬送動作の終了後、ストッパー37、4
7、57、67、77がオフにされる。また、洗浄部3
および第1のリンス部6においては、キャリア検知用セ
ンサ209、212がオン状態にあり、下限センサ20
7がオンしたとき(図11の時刻T4)には、バイパス
通路326、626が閉じて、自動開閉弁324、32
5および622、623が開き、洗浄液の噴射および純
水の噴射動作が開始する。図13には洗浄部3において
洗浄液がキャリア2(n)に噴射されている状態を示し
てある。本例においては、一方の側のノズル群316
a、316bと他方の側のノズル群316c、316d
から交互に洗浄液が噴射される。After the transfer operation is completed, the stoppers 37, 4
7, 57, 67, 77 are turned off. Also, the cleaning unit 3
In the first rinsing section 6, the carrier detection sensors 209 and 212 are in the ON state, and the lower limit sensor 20
7 is turned on (time T4 in FIG. 11), the bypass passages 326 and 626 are closed, and the automatic on-off valves 324 and 32 are closed.
5 and 622 and 623 are opened, and the jetting operation of the cleaning liquid and the pure water are started. FIG. 13 shows a state in which the cleaning liquid is being sprayed onto the carrier 2 (n) in the cleaning section 3. In this example, the nozzle group 316 on one side
a, 316b and the other nozzle group 316c, 316d
The cleaning liquid is alternately sprayed from.
【0049】図13に示すように、洗浄液中において、
キャリア2(n)に搭載されているプリント基板Wに対
して洗浄液が噴射される。よって、洗浄液が大気中に飛
散することがない。また、洗浄液を噴射することにより
洗浄液中には渦流が形成される。従って、洗浄液の噴流
が直接に当たらないプリント基板の部分も、形成された
渦流によって洗われる。よって、この洗浄部3において
プリント基板の洗浄が効率良く行われる。また、第1の
リンス部6においても、同様にして純水がプリント基板
Wに対して噴射されて、効率良く、プリント基板が純水
中で洗浄される。一方、第1および第2の予備リンス部
4、5、並びに第2のリンス部7においては、単に純水
槽内にキャリア2が浸漬された状態に保持される。As shown in FIG. 13, in the cleaning solution,
The cleaning liquid is sprayed on the printed circuit board W mounted on the carrier 2 (n). Therefore, the cleaning liquid does not fly into the atmosphere. Further, a vortex is formed in the cleaning liquid by injecting the cleaning liquid. Therefore, the portion of the printed circuit board not directly hit by the jet of the cleaning liquid is also washed by the formed vortex. Therefore, the printed circuit board is efficiently cleaned in the cleaning unit 3. Also in the first rinsing section 6, pure water is similarly sprayed onto the printed circuit board W, and the printed circuit board is efficiently washed in pure water. On the other hand, in the first and second preliminary rinsing sections 4, 5 and the second rinsing section 7, the carrier 2 is simply kept immersed in the pure water tank.
【0050】洗浄動作が開始するのに同期して、プッシ
ャー115、35、45、55、65、75は上方に向
けて旋回し(図11の時刻T4−T5)、しかる後に、
元の位置まで横移動して初期の退避位置に戻る(図11
の時刻T5−T6)。図14にはこの状態を示してあ
る。この後は、ローダ11が駆動して、そこに乗せられ
ているキャリア2(n+1)、2(n+2)は1ピッチ
分だけ前進する(図11の時刻T6−T7)。図15に
はこのようにして前進した後の状態を示してある。ロー
ダ上のキャリアが前進した後は、隙間検知用センサ20
4によって、ローダ上の先頭のキャリア2(n+1)と
その次のキャリア2(n+2)との間に所定の隙間が存
在することが確認されると、各プッシャが下方に向けて
旋回し、それらが初期の動作位置に復帰する(図11の
時刻T7−T8)。図15にはプッシャー115が初期
の動作位置まで復帰した状態を示してある。 プッシャ
ーが元の位置に戻った後は、各昇降機構34、44、5
4、64、74が駆動して、各槽内のキャリア2は一定
期間にわたって上下に揺動する(図11の時刻T8−T
9)。この揺動運動により、各槽内において、キャリア
に搭載されているプリント基板Wの洗浄が効率良く行わ
れる。In synchronization with the start of the cleaning operation, the pushers 115, 35, 45, 55, 65 and 75 pivot upward (time T4 to T5 in FIG. 11).
It moves laterally to the original position and returns to the initial evacuation position (FIG. 11).
At time T5-T6). FIG. 14 shows this state. Thereafter, the loader 11 is driven, and the carriers 2 (n + 1) and 2 (n + 2) mounted thereon advance by one pitch (time T6-T7 in FIG. 11). FIG. 15 shows a state after the vehicle has advanced in this manner. After the carrier on the loader advances, the gap detecting sensor 20
4, when it is confirmed that a predetermined gap exists between the first carrier 2 (n + 1) on the loader and the next carrier 2 (n + 2), each pusher pivots downward, and Returns to the initial operating position (time T7-T8 in FIG. 11). FIG. 15 shows a state where the pusher 115 has returned to the initial operation position. After the pusher returns to the original position, the lifting mechanisms 34, 44, 5
4, 64 and 74 are driven, and the carrier 2 in each tank swings up and down for a certain period (time T8-T in FIG. 11).
9). Due to this swinging motion, the printed circuit board W mounted on the carrier is efficiently cleaned in each tank.
【0051】昇降機構の揺動運動は一定時間経過後に停
止する。そして、洗浄部3および第1のリンス部6にお
けるバイパス通路327、627が開き、自動開閉弁3
24、325、622、623が閉じて、洗浄液および
純水の噴射が停止する(図11の時刻T9)。次に、各
昇降機構が駆動して、キャリア2は各槽内から上昇す
る。上限接近検知用センサ206により、キャリアが上
限位置に接近したことが検知された後は、上昇速度が低
下し(図11の時刻T10)、キャリアが上限位置に到
ると、それが上限センサ205により検知されて、各昇
降機構の駆動が停止する。The swinging motion of the elevating mechanism stops after a certain time has elapsed. Then, the bypass passages 327 and 627 in the cleaning unit 3 and the first rinsing unit 6 are opened, and the automatic on-off valve 3 is opened.
24, 325, 622, and 623 are closed, and the injection of the cleaning liquid and the pure water is stopped (time T9 in FIG. 11). Next, each elevating mechanism is driven, and the carrier 2 is lifted from each tank. After the upper-limit approach detection sensor 206 detects that the carrier has approached the upper limit position, the ascending speed decreases (time T10 in FIG. 11). And the drive of each lifting mechanism stops.
【0052】ここに、かかるキャリアの昇降に同期し
て、空気吹きつけ部9の自動開閉弁932、942、9
52(図9参照)が開く。この結果、圧縮空気が、洗浄
槽3の空気吹き出し部93、第1の予備リンス部4の空
気吹き出し部94および第1のリンス部6の空気吹き出
し部95に供給され、これらから吹き出される。従っ
て、これらの各部3、4、6において槽内から引き出さ
れるキャリア2に対して空気が吹きつけられる。かかる
空気吹きつけ動作により、キャリアに搭載されているプ
リント基板Wに付着している洗浄液あるいは純水が効率
良く吹き落とされる。The automatic opening / closing valves 932, 942, 9 of the air blowing section 9 are synchronized with the elevation of the carrier.
52 (see FIG. 9) opens. As a result, the compressed air is supplied to the air blowing section 93 of the cleaning tank 3, the air blowing section 94 of the first preliminary rinsing section 4, and the air blowing section 95 of the first rinsing section 6, and is blown out therefrom. Therefore, air is blown to the carrier 2 drawn out of the tank in each of the parts 3, 4, and 6. By this air blowing operation, the cleaning liquid or pure water adhering to the printed circuit board W mounted on the carrier is efficiently blown off.
【0053】すなわち、引上げられたキャリアおよびプ
リント基板に付着している洗浄液あるいは水を自然落下
させる場合には、これらの各部分の凹凸部分に溜まって
いる液あるいは水が落ちにくい。かかる部分に液あるい
は水が残ったまま、次段側に送られると、各槽内に貯留
されている純水の汚れる度合いが早くなり、純水の交換
頻度を高める必要がある。また、多くの水が付着したま
ま乾燥部8に搬入された場合には、乾燥に時間がかかる
ので好ましくない。しかし、本例においては、空気を吹
きつけることにより、キャリア、プリント基板などの凹
凸部分に溜まっている液あるいは水が吹き飛ばされて、
これらから除去される。従って、純水の汚れ度合いが少
なくなり、水の交換頻度を下げることができる。また、
乾燥部における乾燥を短時間にすることができる。図1
6には、空気を吹きつけられながら引上げられた状態の
キャリアを示してある。That is, when the cleaning liquid or water adhering to the pulled-up carrier and the printed circuit board is allowed to fall naturally, the liquid or water remaining in the uneven portion of each of these parts is difficult to drop. If the liquid or water remains in such a portion and is sent to the next stage, the degree of contamination of the pure water stored in each tank is increased, and it is necessary to increase the frequency of pure water exchange. In addition, when a large amount of water adheres to the drying unit 8, the drying takes a long time, which is not preferable. However, in this example, by blowing air, the carrier or liquid or water accumulated in the uneven portion of the printed circuit board or the like is blown off,
Removed from these. Therefore, the degree of contamination of pure water is reduced, and the frequency of water replacement can be reduced. Also,
Drying in the drying section can be shortened. FIG.
FIG. 6 shows the carrier in a state where it is pulled up while blowing air.
【0054】以後、上記の動作が繰り返されて、各キャ
リア2は、洗浄部3から第2のリンス部7を経て、アン
ローダ13に搬出される。このアンローダ上に搬出され
た洗浄済みのキャリアは、ロボットハンドあるいは人手
により、次段の乾燥部8に搬送され、ここにおいて付着
している純水が乾燥除去される。Thereafter, the above operation is repeated, and each carrier 2 is carried out from the cleaning section 3 to the unloader 13 via the second rinsing section 7. The washed carrier carried out onto the unloader is conveyed to the next drying section 8 by a robot hand or manually, where pure water adhering thereto is dried and removed.
【0055】(別の実施形態)上記の例は本発明の一実
施例を示すものであり、上記の構成に本発明を限定する
ことを意図したものではない。(Another Embodiment) The above example shows one embodiment of the present invention, and is not intended to limit the present invention to the above configuration.
【0056】例えば、図17および図18には、本発明
を適用した別のワーク洗浄装置を示してある。本例の装
置300は、洗浄部301と予備リンス部302と第1
のリンス部303と第2のリンス部304と乾燥部30
5を有し、予備リンス部302の循環系には、逆浸透濾
過ユニット302aとポンプ302bとが介挿され、第
1のリンス部303から第2のリンス部304のノズル
群304aへの循環系には純水再生器304bが介挿さ
れている。洗浄部301は、上記の例における洗浄部3
と同じく、ワーク洗浄剤を含む洗浄液中において、ノズ
ル301aから洗浄液をワークに対して噴射することに
より、ワークの洗浄を行うものである。For example, FIGS. 17 and 18 show another work cleaning apparatus to which the present invention is applied. The apparatus 300 of this example includes a cleaning unit 301, a preliminary rinsing unit 302, and a first
Rinsing unit 303, second rinsing unit 304 and drying unit 30
The reverse osmosis filtration unit 302a and the pump 302b are interposed in the circulation system of the preliminary rinsing unit 302, and the circulation system from the first rinsing unit 303 to the nozzle group 304a of the second rinsing unit 304 is provided. Is provided with a pure water regenerator 304b. The cleaning unit 301 is the cleaning unit 3 in the above example.
Similarly to the above, in the cleaning liquid containing the workpiece cleaning agent, the cleaning liquid is sprayed onto the workpiece from the nozzle 301a to clean the workpiece.
【0057】予備リンス部302は上記の例における第
1の予備リンス部4と同一の構成である。第1のリンス
部304は、上記の例における第1のリンス部6と同じ
く、純水中においてワークに対して純水を噴射すること
により、ワークの洗浄を行うものである。第2のリンス
部304は、大気中においてワークに対してノズル群3
04aから純水を噴射することにより、ワークの洗浄を
行うものである。一方、乾燥部305は上記の例におけ
る乾燥部8と同一の構成となっている。The preliminary rinsing section 302 has the same configuration as the first preliminary rinsing section 4 in the above example. The first rinsing section 304 is for cleaning the work by injecting pure water into the work in pure water, similarly to the first rinse section 6 in the above example. The second rinsing unit 304 is provided for the nozzle group 3 with respect to the workpiece in the atmosphere.
The workpiece is cleaned by injecting pure water from the nozzle 04a. On the other hand, the drying unit 305 has the same configuration as the drying unit 8 in the above example.
【0058】本例のワーク洗浄装置300を利用する場
合には、例えば、図18に示すように、取っ手401の
付いた筒状の網かご402をワークのキャリアとして用
いることができる。網かご402の搬送機構403とし
ては、網かご402の取っ手を吊り下げるフック部40
4と、このフック部404を支持した腕部405と、こ
の腕部405を水平方向および垂直方向に移動させる移
動部406から構成したものを用いることができる。こ
の網かご402内に入れて洗浄可能なワークとしては、
各種のプラスチック製品、金属製品を挙げることができ
る。When using the work cleaning apparatus 300 of this embodiment, for example, as shown in FIG. 18, a cylindrical net basket 402 with a handle 401 can be used as a work carrier. As the transport mechanism 403 of the net basket 402, the hook part 40 for hanging the handle of the net basket 402 is used.
4, an arm 405 that supports the hook 404, and a moving unit 406 that moves the arm 405 in the horizontal and vertical directions. As a work that can be washed in the net basket 402,
Various plastic products and metal products can be mentioned.
【0059】次に、図19には、搬送ベルトを用いて、
ワークの搬送系を構成した例を示してある。この図にお
いて図17の各部と対応する部分には対応する番号を付
してある。本例の装置は、板状のワークWを連続して搬
送しながらそれを洗浄できるように構成されている。Next, in FIG. 19, using a transport belt,
An example in which a work transfer system is configured is shown. In this figure, parts corresponding to the respective parts in FIG. 17 are given the corresponding numbers. The apparatus of this example is configured to be able to wash a plate-shaped workpiece W while continuously transporting the same.
【0060】以上のとおり、いずれの実施例において
も、予備リンス部の純水槽には、濾過機能を利用した純
水再生手段が設けられており、各純水槽内の純水は、一
定レベル以上には、洗浄剤濃度が高くならないようにな
っている。As described above, in any of the embodiments, the pure water tank of the preliminary rinsing section is provided with pure water regenerating means utilizing a filtering function, and the pure water in each of the pure water tanks is equal to or higher than a certain level. In this case, the concentration of the detergent is not increased.
【0061】例えば、洗浄剤の濃度が約90wt%の洗
浄液を使用し、各洗浄装置において、稼働日数と各純水
槽の洗浄剤濃度を測定すると、予備リンス部の純水中の
洗浄剤濃度は低い濃度(40wt%以下)で一定とな
る。一方、第1および第2のリンス部には、大部分の洗
浄剤が洗い落とされた状態でワーク搬入され、また、純
水再生器が設置されているので、これらのリンス部の純
水槽の純水はほとんど洗浄剤を含まない状態に保持され
る。従って、予備リンス部の純水槽およびリンス部の純
水槽からは、通常時には、無駄な排水、給水をする必要
がなく、純水を循環して使用することができる。よっ
て、装置からの排水を処理するための処理設備および装
置に純水を供給するための純水採取装置は、小形のもの
で十分であり、そのランニングコストも低い。For example, when a cleaning solution having a cleaning agent concentration of about 90 wt% is used and the number of operating days and the cleaning agent concentration in each pure water tank are measured in each cleaning apparatus, the cleaning agent concentration in the pure water in the preliminary rinsing section is as follows. It becomes constant at a low concentration (40 wt% or less). On the other hand, the first and second rinsing sections carry in the work in a state in which most of the cleaning agent has been washed off, and a pure water regenerator is installed. Pure water is kept almost free of detergent. Therefore, from the pure water tank of the preliminary rinsing part and the pure water tank of the rinsing part, it is not necessary to wastefully drain and supply water, and pure water can be circulated and used. Therefore, a small-sized pure water sampling device for supplying pure water to a treatment facility and a device for treating wastewater from the device is sufficient, and its running cost is low.
【0062】なお、純水再生手段としては、活性炭、限
外濾過膜、逆浸透膜を利用した濾過手段の他、生物を利
用した活性汚泥処理を利用してもよく、さらに、イオン
交換膜を併用してもよい。As the pure water regeneration means, activated sludge treatment using living organisms may be used in addition to filtration means using activated carbon, an ultrafiltration membrane, or a reverse osmosis membrane. You may use together.
【0063】[0063]
【発明の効果】以上説明したように、本発明のワーク洗
浄装置は、洗浄剤を含む洗浄液中においてワークに対し
て洗浄液を噴射して洗浄を行い、次に、予備リンス部で
純水中においてワークに対して洗浄剤を洗い落とし、し
かる後に、リンス部でリンスを行う。リンス部は、純水
を貯留した第1の純水槽、予備リンス部から純水による
洗浄済みワークを受け取り、純水槽に対してこのワーク
を出し入れする第3のワーク搬送手段、および、第3の
ワーク搬送手段によって第1の純水槽内に入れられた状
態にあるワークに対して純水の噴流を吹きつける第2の
噴流形成手段を備えた第1のリンス部と、純水を貯留し
た第2の純水槽、および、第1のリンス部から純水によ
る洗浄済みのワークを受け取り、第2の純水槽に対して
このワークを出し入れする第4のワーク搬送手段を備え
た第2のリンス部とを有している。第1の純水槽および
第2の純水槽のそれぞれから溢れ出た純水を回収する純
水回収槽を有している。第2の噴流形成手段は、ワーク
に向けて配列された少なくとも一個の純水噴射ノズル
と、純水回収槽に回収された純水をノズルのそれぞれに
向けて圧送するポンプとを備えている。第2のリンス部
は、純水回収槽を介して純水を第2の純水槽に循環させ
る純水循環手段と、この手段により形成される第2の純
水槽への純水循環経路に配置され、循環する純水に含ま
れている不純物を除去する純水再生手段を有している。As described above, the work cleaning apparatus of the present invention performs the cleaning by spraying the cleaning liquid onto the work in the cleaning liquid containing the cleaning agent, and then in the preliminary rinsing section in pure water. The cleaning agent is washed off the work, and thereafter, the rinse is performed in the rinsing section. Rinse part is pure water
Pure water from the first pure water tank, which has stored
Receive the cleaned work and place it in the pure water tank.
A third work transport means for taking in and out the
The state of being placed in the first pure water tank by the work transfer means
Of a pure water jet against the workpiece
A first rinsing section provided with a jet forming means, and a pure water storing section;
Water from the second pure water tank and the first rinsing section.
Received the cleaned work, and the second pure water tank
A fourth work transport means for taking in and out the work is provided.
A second rinsing portion. A first pure water tank and
A pure water collecting pure water overflowing from each of the second pure water tanks
It has a water recovery tank. The second jet forming means is a work
At least one pure water injection nozzle arranged toward
And the pure water collected in the pure water recovery tank to each of the nozzles
And a pump for pumping the water. Second rinsing part
Circulates pure water to a second pure water tank through a pure water recovery tank.
Pure water circulation means, and a second pure water circulation means formed by the means.
Located in the pure water circulation path to the water tank and included in the circulating pure water
It has a pure water regenerating means for removing impurities contained therein .
【0064】そして、特に本発明では、第1のリンス部
において噴流を形成するためのポンプの吐出側から第1
の純水槽に連通し、当該第1の純水槽にワークが浸漬中
のときは閉路状態となり、ワークが搬送中のときは開路
状態となるバイパス通路を備えて成るため、ワークを第
1の純水槽に沈めたり引き上げたりする際には噴流が止
んでいるので、ワークの一部に噴流が当たってワークに
損傷等の生じることがなく、ワークの昇降動を安定的に
行うことができる。また、第1の純水槽から引き上げた
ワークに対し噴流により自然発生する発散霧滴等が再付
着するのを抑制でき、第1の純水槽の純水が第2の純水
槽へ輸送されて汚れが増すのを防止できる。更に、ワー
ク搬送中は第1の純水槽の純水の循環が止まっているの
ではなく、引続き、バイパス通路を介して循環してい
る。即ち、第1の純水槽から溢れ出た純水は回収槽,純
水槽循環手段を介して純水槽再生手段で再生され、その
再生された純水が第2の純水槽へ供給されてその純水槽
を優先的に純水化しながら、溢れ出た純水により回収槽
を次に純水化すると共に、そして回収槽の純水がバイパ
ス通路を介して第1の純水槽に供給されることにより、
最後に第1の純水槽も純水化される。ワーク浸漬期間以
外の空き時間においても、第1の純水槽も純水化できる
ため、リンス部全体の純水の汚れを極力防止でき、純水
の入替え作業が低減し、総じて純水の使用量を大幅に低
減できる。 In particular, in the present invention, the first rinsing portion
From the discharge side of the pump for forming a jet at the first
Is immersed in the first pure water tank
When the workpiece is being transported, it is closed.
The workpiece has a bypass passage that
The jet stops when sinking or lifting in the pure water tank
So that the jets hit a part of the work
Stable lifting and lowering of the workpiece without damage
It can be carried out. In addition, we raised from the first pure water tank
Divergent mist droplets naturally generated by the jet flow are reattached to the work
Can be suppressed, and the pure water in the first pure water tank is replaced with the second pure water.
It is possible to prevent the dirt from being transported to the tank and increasing. In addition,
The circulation of pure water in the first pure water tank is stopped during transport
Instead, they continue to circulate through the bypass
You. That is, the pure water overflowing from the first pure water tank is collected by the recovery tank,
Regenerated by pure water tank regeneration means via water tank circulation means,
The regenerated pure water is supplied to the second pure water tank and the pure water tank
Tank with the overflowing pure water
Then, the pure water in the recovery tank is
Is supplied to the first pure water tank through the water passage,
Finally, the first pure water tank is also purified. After the work immersion period
The first pure water tank can be deionized even when it's outside idle time.
Therefore, the pure water contamination of the entire rinsing section can be prevented as much as possible.
Replacement work has been reduced, and overall consumption of pure water has been significantly reduced.
Can be reduced.
【図1】本発明の一実施例にかかるワーク洗浄装置の全
体構成を模式的に示す概略構成図である。FIG. 1 is a schematic configuration diagram schematically showing an overall configuration of a work cleaning apparatus according to one embodiment of the present invention.
【図2】図1に示す装置の具体的な構成を示す概略立面
図である。FIG. 2 is a schematic elevation view showing a specific configuration of the apparatus shown in FIG.
【図3】図1に示す装置の具体的な構成を示す概略平面
図である。FIG. 3 is a schematic plan view showing a specific configuration of the device shown in FIG.
【図4】図2のIV−IV線で切断した部分を示す概略断面
図である。FIG. 4 is a schematic sectional view showing a portion cut along a line IV-IV in FIG. 2;
【図5】図1のキャリアを示す斜視図である。FIG. 5 is a perspective view showing the carrier of FIG. 1;
【図6】図1に示す装置における洗浄液および純水の配
管系を示す配管図である。FIG. 6 is a piping diagram showing a piping system of a cleaning liquid and pure water in the apparatus shown in FIG.
【図7】図1に示す洗浄液槽を上方から見た状態を示す
平面図である。FIG. 7 is a plan view showing a state in which the cleaning liquid tank shown in FIG. 1 is viewed from above.
【図8】図1に示す第1および第2のリンス部における
純水槽を上から見た状態を示す平面図である。FIG. 8 is a plan view showing the pure water tank in the first and second rinsing units shown in FIG. 1 as viewed from above.
【図9】図1に示す空気吹きつけ部の構成を示す構成図
である。FIG. 9 is a configuration diagram illustrating a configuration of an air blowing unit illustrated in FIG. 1;
【図10】図1の装置の制御系の主要部分を示す概略ブ
ロック図である。FIG. 10 is a schematic block diagram showing a main part of a control system of the apparatus shown in FIG. 1;
【図11】図1の装置の洗浄動作を示すタイミングチャ
ートである。FIG. 11 is a timing chart showing a cleaning operation of the apparatus of FIG. 1;
【図12】図1の装置の動作を示す説明図である。FIG. 12 is an explanatory diagram showing the operation of the device of FIG. 1;
【図13】図1の装置の動作を示す説明図である。FIG. 13 is an explanatory diagram showing the operation of the device of FIG. 1;
【図14】図1の装置の動作を示す説明図である。FIG. 14 is an explanatory diagram showing the operation of the device of FIG. 1;
【図15】図1の装置の動作を示す説明図である。FIG. 15 is an explanatory diagram showing the operation of the device of FIG. 1;
【図16】図1の装置の動作を示す説明図である。FIG. 16 is an explanatory diagram showing the operation of the device in FIG. 1;
【図17】本発明の別の実施例を示す全体構成図であ
る。FIG. 17 is an overall configuration diagram showing another embodiment of the present invention.
【図18】図17に示す例において使用するワークキャ
リアおよびその搬送系を示す概略図である。18 is a schematic diagram showing a work carrier used in the example shown in FIG. 17 and a transport system thereof.
【図19】図17に示す実施例の変形例であり、搬送ベ
ルトを用いてワークの搬送系を構成した例を示す全体構
成図である。FIG. 19 is a modification of the embodiment shown in FIG. 17, and is an overall configuration diagram showing an example in which a work transfer system is formed using a transfer belt.
1 ワーク洗浄装置 2 キャリア 3 洗浄部 4 第1の予備リンス部 5 第2の予備リンス部 6 第1のリンス部 7 第2のリンス部 8 乾燥部 9 空気吹きつけ部 302a 逆浸透濾過ユニット(純水濾過手
段/純水再生手段) 304b 純水再生器(純水濾過手段/純水
再生手段) 413 限外濾過ユニット(純水濾過手段
/純水再生手段) 513 濾過ユニット(純水濾過手段/純
水再生手段) 627 純水再生器(純水濾過手段/純水
再生手段) W ワークREFERENCE SIGNS LIST 1 work cleaning device 2 carrier 3 cleaning unit 4 first preliminary rinsing unit 5 second preliminary rinsing unit 6 first rinsing unit 7 second rinsing unit 8 drying unit 9 air blowing unit 302a reverse osmosis filtration unit (pure Water filtration means / pure water regeneration means) 304b Pure water regenerator (pure water filtration means / pure water regeneration means) 413 Ultrafiltration unit (pure water filtration means / pure water regeneration means) 513 Filtration unit (pure water filtration means / Pure water regeneration means) 627 Pure water regenerator (pure water filtration means / pure water regeneration means) W Work
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭63−315182(JP,A) 特開 昭63−133534(JP,A) 特開 昭62−282689(JP,A) 特開 昭49−119782(JP,A) 特開 昭53−60380(JP,A) 特開 昭53−130865(JP,A) 特開 平1−120828(JP,A) 特開 昭49−14324(JP,A) 実開 昭62−152439(JP,U) 実開 昭63−174439(JP,U) 特公 昭62−31993(JP,B2) 実公 昭59−28714(JP,Y2) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) B08B 3/00 - 3/14 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of the front page (56) References JP-A-63-315182 (JP, A) JP-A-63-133534 (JP, A) JP-A-62-282689 (JP, A) JP-A-49-49 119782 (JP, A) JP-A-53-60380 (JP, A) JP-A-53-130865 (JP, A) JP-A-1-120828 (JP, A) JP-A-49-14324 (JP, A) Japanese Utility Model Showa 62-152439 (JP, U) Japanese Utility Model Showa 63-174439 (JP, U) Japanese Patent Publication 62-31993 (JP, B2) Japanese Utility Model Showa 59-28714 (JP, Y2) (58) (Int.Cl. 7 , DB name) B08B 3/00-3/14
Claims (16)
浄液槽、この洗浄液槽に対してワークを出し入れする第
1のワーク搬送手段、および、この第1のワーク搬送手
段によって前記洗浄液槽内に入れられた状態にあるワー
クに対して洗浄液の噴流を吹きつける第1の噴流形成手
段を備えたワーク洗浄部と、純水を貯留した純水槽、お
よび前記ワーク洗浄部から洗浄済みワークを受け取り、
前記純水槽に対してこのワークを出し入れする第2のワ
ーク搬送手段を備えた少なくとも一つの予備リンス部
と、リンス部と、を有し、前記リンス部は、純水を貯留した第1の純水槽、前記予
備リンス部から純水による洗浄済みワークを受け取り、
前記純水槽に対してこのワークを出し入れする第3のワ
ーク搬送手段、および、前記第3のワーク搬送手段によ
って前記第1の純水槽内に入れられた状態にあるワーク
に対して純水の噴流を吹きつける第2の噴流形成手段を
備えた第1のリンス部と、純水を貯留した第2の純水
槽、および、前記第1のリンス部から純水による洗浄済
みのワークを受け取り、前記第2の純水槽に対してこの
ワークを出し入れする第4のワーク搬送手段を備えた第
2のリンス部とを有し 、前記第1の純水槽および前記第2の純水槽のそれぞれか
ら溢れ出た純水を回収する純水回収槽を有し、 前記第2の噴流形成手段は、ワークに向けて配列された
少なくとも一個の純水噴射ノズルと、前記純水回収槽に
回収された純水を前記ノズルのそれぞれに向けて圧送す
るポンプとを備え、 前記第2のリンス部は、前記純水回収槽を介して純水を
前記第2の純水槽に循環させる純水循環手段と、この手
段により形成される前記第2の純水槽への純水循環経路
に配置され、循環する純水に含まれている不純物を除去
する純水再生手段を有しており、 前記ポンプの吐出側から前記第1の純水槽に連通し、当
該第1の純水槽に前記ワークが浸漬中のときは閉路状態
となり、前記ワークが搬送中のときは開路状態となるバ
イパス通路を備えて成る ことを特徴とするワーク洗浄装
置。1. A cleaning liquid tank storing a cleaning liquid containing a work cleaning agent, and a cleaning liquid tank for putting a work into and out of the cleaning liquid tank .
A work cleaning unit comprising: a first work transfer means; and a first jet forming means for blowing a jet of a cleaning liquid onto the work in the cleaning liquid tank by the first work transfer means. Receiving a cleaned work from a pure water tank storing pure water, and the work cleaning unit,
At least one preliminary rinsing unit provided with a second work transfer unit for taking the work in and out of the pure water tank, and a rinsing unit, wherein the rinsing unit supplies pure water. The stored first pure water tank,
Receive the cleaned work with pure water from the rinsing unit,
A third work for taking the work in and out of the pure water tank.
Work transfer means and the third work transfer means.
Work in the first pure water tank
Second jet forming means for blowing a jet of pure water against
A first rinsing unit provided and a second pure water storing pure water
The tank and the first rinsing section have been washed with pure water
Receive the work, and put it in the second pure water tank.
A fourth workpiece transfer means for loading and unloading the workpiece;
2 rinse parts, and each of the first pure water tank and the second pure water tank
A pure water recovery tank for recovering the pure water overflowing, and the second jet forming means is arranged toward the workpiece.
At least one pure water injection nozzle and the pure water recovery tank
Pump the recovered pure water towards each of the nozzles
Pump, and the second rinsing section supplies pure water through the pure water recovery tank.
Means for circulating pure water to the second pure water tank,
Pure water circulation path to the second pure water tank formed by steps
To remove impurities contained in circulating pure water
Pure water regenerating means that communicates with the first pure water tank from the discharge side of the pump.
Closed state when the work is immersed in the first pure water tank
When the workpiece is being transported, the
A work cleaning device comprising an ipass passage .
生物化学的酸化作用を利用した活性汚泥処理手段を備え
ていることを特徴とするワーク洗浄装置。2. The method according to claim 1, wherein said pure water regenerating means comprises:
A work cleaning apparatus comprising activated sludge treatment means utilizing biochemical oxidation.
純水を濾過して不純物を分離する濾過手段を備えている
ことを特徴とするワーク洗浄装置。3. The method according to claim 1, wherein the pure water regenerating means comprises:
A work cleaning apparatus comprising a filtration means for filtering pure water to separate impurities.
炭の吸着作用を利用するものであることを特徴とするワ
ーク洗浄装置。4. A work cleaning apparatus according to claim 3 , wherein said filtering means utilizes an action of adsorbing activated carbon.
濾過膜を利用するものであることを特徴とするワーク洗
浄装置。5. The apparatus according to claim 4 , wherein said filtration means utilizes an ultrafiltration membrane.
透膜を利用するものであることを特徴とするワーク洗浄
装置。6. The apparatus according to claim 5 , wherein said filtering means uses a reverse osmosis membrane.
おいて、前記リンス部の前記純水槽から引上げられるワ
ークに対して気体を吹きつけて、このワークに付着して
いる純水を払い落とす水切り手段を有していることを特
徴とするワーク洗浄装置。7. The one of claims 1 to claim 6, by blowing gas to the workpiece is pulled up from the pure water tank of the rinse section, pay deionized water adhering to the workpiece A work cleaning apparatus comprising a draining means for dropping.
って水切りが行われたワークに付着している純水を乾燥
除去する乾燥手段を有していることを特徴とするワーク
洗浄装置。8. The apparatus for cleaning a workpiece according to claim 7 , further comprising a drying unit for drying and removing pure water adhering to the workpiece that has been drained by the draining unit.
おいて、前記洗浄部の前記洗浄槽から引き上げられるワ
ークに対して気体を吹きつけて、このワークに付着して
いる洗浄液を払い落とす液切り手段を有していることを
特徴とするワーク洗浄装置。In any of the sections 9. claims 1 to 8, by blowing gas against the workpiece to be pulled up from the cleaning tank of the cleaning unit, shake off cleaning liquid attached to the work A work cleaning apparatus comprising a liquid drainer.
において、前記洗浄部における前記液切り手段および前
記リンス部における前記水切り手段は、洗浄槽に貯留し
た洗浄液の液面あるいは純水槽に貯留した純水の水面の
上方位置に配置された少なくとも一個の空気噴射ノズル
と、この空気噴射ノズルに対して圧縮空気を供給する空
気ポンプとを備えていることを特徴とするワーク洗浄装
置。10. A any one of claims 7 through claim 9, wherein the draining means in the liquid cutting means and the rinsing section of the cleaning unit, the liquid level of the cleaning liquid stored in the cleaning tank or the deionized water tank A work cleaning apparatus, comprising: at least one air injection nozzle disposed above a surface of stored pure water; and an air pump for supplying compressed air to the air injection nozzle.
項において、前記洗浄部、予備リンス部、リンス部にお
ける各ワーク搬送手段は、ワークを次段側に向けて横方
向に搬送するワーク横搬送機構と、このワーク横搬送機
構から受け取ったワークを、洗浄液槽あるいは純水槽に
対して出し入れするワーク昇降機構とを備えていること
を特徴とするワーク洗浄装置。In any of the sections 11. The method of claim 1 to claim 10, wherein the cleaning unit, pre-rinse unit, the workpiece conveying means in the rinsing section, the work for transporting laterally toward the workpiece to the next stage side A work cleaning apparatus comprising: a horizontal transfer mechanism; and a work elevating mechanism for moving a work received from the work horizontal transfer mechanism into and out of a cleaning liquid tank or a pure water tank.
ークを複数枚保持可能なワークキャリアを有し、このワ
ークキャリアは、複数枚のワークを所定の間隔で立った
状態に整列保持可能となっており、このワークキャリア
が前記の各ワーク搬送手段によって搬送されるようにな
っていることを特徴とするワーク洗浄装置。12. A work carrier according to claim 11 , further comprising a work carrier capable of holding a plurality of plate-shaped works, said work carrier being capable of aligning and holding a plurality of works in a state of standing at predetermined intervals. A work cleaning apparatus, wherein the work carrier is carried by each of the work carrying means.
搬送手段におけるワーク昇降機構は、ワークキャリアを
一定のストロークで上下に揺動可能となっていることを
特徴とするワーク洗浄装置。13. The work cleaning apparatus according to claim 12 , wherein the work lifting mechanism in each of the work transfer means is capable of swinging the work carrier up and down with a constant stroke.
搬送手段は、搬送経路が部分的に前記洗浄槽および純水
槽内に浸漬している搬送ベルト手段によって構成されて
いることを特徴とするワーク洗浄装置。14. The work according to claim 13 , wherein each of the work transfer means is constituted by a transfer belt means whose transfer path is partially immersed in the cleaning tank and the pure water tank. Cleaning equipment.
項に規定するワーク洗浄装置に使用される洗浄液は、ポ
リエチレングリコールモノアルキルエーテルを洗浄剤と
して含むポリエチレングリコールエーテル系洗浄液であ
ることを特徴とするワーク洗浄装置。15. A cleaning liquid used in the workpiece cleaning apparatus according to any one of claims 1 to 14 , wherein the cleaning liquid is a polyethylene glycol ether-based cleaning liquid containing polyethylene glycol monoalkyl ether as a cleaning agent. And work cleaning equipment.
ングリコールエーテル系洗浄液には、少なくとも約5w
t%の濃度の水と、金属封鎖剤とが、混合されているこ
とを特徴とするワーク洗浄装置。16. The polyethylene glycol ether-based cleaning liquid as defined in claim 15 , wherein at least about 5 w
A work cleaning apparatus, wherein water having a concentration of t% and a sequestering agent are mixed.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3172223A JP3006177B2 (en) | 1991-07-12 | 1991-07-12 | Work cleaning device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3172223A JP3006177B2 (en) | 1991-07-12 | 1991-07-12 | Work cleaning device |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0515858A JPH0515858A (en) | 1993-01-26 |
JP3006177B2 true JP3006177B2 (en) | 2000-02-07 |
Family
ID=15937882
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3172223A Expired - Fee Related JP3006177B2 (en) | 1991-07-12 | 1991-07-12 | Work cleaning device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3006177B2 (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2008153080A1 (en) | 2007-06-12 | 2008-12-18 | Asahi Kasei Fibers Corporation | Polyurethane elastic fiber |
Families Citing this family (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0841659A (en) * | 1994-07-27 | 1996-02-13 | Kengo Hiruta | Etching apparatus |
JPH08148457A (en) * | 1994-11-15 | 1996-06-07 | Tadahiro Omi | Wet station, wet cleaning method using the same and device thereof |
JP3473662B2 (en) * | 1996-10-09 | 2003-12-08 | 三菱住友シリコン株式会社 | Wet cleaning equipment |
US20080173335A1 (en) * | 2005-04-11 | 2008-07-24 | Doosan Mecatec Co., Ltd | Semiconductor Wafer Cleaning System |
TWI424055B (en) * | 2006-03-17 | 2014-01-21 | Arakawa Chem Ind | Lead-free solder flux removal detergent composition, lead-free solder flux removal rinse and lead-free solder flux removal method |
US8372792B2 (en) | 2007-08-08 | 2013-02-12 | Arakawa Chemical Industries, Ltd. | Cleaner composition for removing lead-free soldering flux, and method for removing lead-free soldering flux |
US20130019904A1 (en) * | 2011-07-20 | 2013-01-24 | Illinois Tool Works Inc. | Batch cleaning apparatus and method for batch cleaning printed circuit boards |
KR101904027B1 (en) * | 2011-11-28 | 2018-10-04 | 세메스 주식회사 | Apparatus for processing a substrate |
KR101589724B1 (en) * | 2014-05-21 | 2016-01-28 | 재단법인 한국화학융합시험연구원 | PCB cleaning apparatus |
CN106513400A (en) * | 2016-12-21 | 2017-03-22 | 重庆科本科技有限公司 | Cylinder body cleaning machine and cleaning method thereof |
CN109065473B (en) * | 2018-07-06 | 2024-03-22 | 天长市百盛半导体科技有限公司 | Automatic material loading's mobile solar cell crystalline silicon cleaning equipment |
CN109468650A (en) * | 2018-11-22 | 2019-03-15 | 天津泰义特金属包装有限公司 | It is a kind of that guide locating device provided zinc-plated bucket descaling bath is installed |
-
1991
- 1991-07-12 JP JP3172223A patent/JP3006177B2/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2008153080A1 (en) | 2007-06-12 | 2008-12-18 | Asahi Kasei Fibers Corporation | Polyurethane elastic fiber |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0515858A (en) | 1993-01-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3006177B2 (en) | Work cleaning device | |
KR0175072B1 (en) | Washing apparatus and washing method | |
CN203252618U (en) | Washing machine for industrial tableware | |
KR100929809B1 (en) | Substrate Processing Equipment | |
JP3029107B1 (en) | Filter cleaning method and cleaning device | |
JP5404196B2 (en) | Cleaning device | |
JPH06502514A (en) | Semiconductor processing method and device | |
JP4589216B2 (en) | Machine cleaning equipment for machine parts | |
CN115458449A (en) | Wafer groove type cleaning machine with mechanical swing arm and groove body in compact fit | |
JP5019337B2 (en) | Membrane module cleaning apparatus and cleaning method | |
JP2012030203A (en) | Ultrasonic cleaning device | |
JPH07313947A (en) | Method and apparatus for cleaning work | |
US3699983A (en) | Wet processing installation | |
JPH07299428A (en) | Work washing method and washing device | |
JPH07299427A (en) | Work washing method and washing device | |
JP2002285364A (en) | Cleaning and rust-preventing device | |
JPH04215879A (en) | Method and apparatus for washing work | |
KR101194697B1 (en) | Decive for cleaning buffer zone in wet station | |
JPS6362599B2 (en) | ||
JPH07290011A (en) | Work washing method and washing device | |
CA3012208C (en) | Mat washing system | |
JPH10117988A (en) | Dish washer | |
CA3055943A1 (en) | Mat washing system | |
CN220619117U (en) | Rust removal soaking device | |
JPS6362600B2 (en) |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20071126 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081126 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091126 Year of fee payment: 10 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |