JP2989157B2 - ガス圧力調整式温度制御方法 - Google Patents
ガス圧力調整式温度制御方法Info
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- JP2989157B2 JP2989157B2 JP9165097A JP16509797A JP2989157B2 JP 2989157 B2 JP2989157 B2 JP 2989157B2 JP 9165097 A JP9165097 A JP 9165097A JP 16509797 A JP16509797 A JP 16509797A JP 2989157 B2 JP2989157 B2 JP 2989157B2
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- bellows
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E30/00—Energy generation of nuclear origin
- Y02E30/30—Nuclear fission reactors
Landscapes
- Monitoring And Testing Of Nuclear Reactors (AREA)
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ガスの熱伝導率の
変化を利用して炉内の発熱体の温度制御を行う方法に関
し、更に詳しく述べると、金属ベローズによってキャプ
セル封入ガスとベローズ伸縮のための駆動ガスを仕切
り、該金属ベローズを伸縮させキャプセル封入ガスの圧
力を調整することで温度制御を行う方法に関するもので
ある。この技術は、例えば原子炉内に設置した照射試験
用試料の温度制御等に有用である。
変化を利用して炉内の発熱体の温度制御を行う方法に関
し、更に詳しく述べると、金属ベローズによってキャプ
セル封入ガスとベローズ伸縮のための駆動ガスを仕切
り、該金属ベローズを伸縮させキャプセル封入ガスの圧
力を調整することで温度制御を行う方法に関するもので
ある。この技術は、例えば原子炉内に設置した照射試験
用試料の温度制御等に有用である。
【０００２】
【従来の技術】ガスの熱伝導率の変化を利用して温度制
御を行う方法は従来公知である。例えば、原子炉内に装
荷したキャプセル内に供給するガスを置換あるいは加減
圧することでガスの熱伝導率を変え、照射試験用試料の
温度を制御する方法が実際に行われている。その具体的
方法としては、混合ガス方式と圧力調整方式がある。
御を行う方法は従来公知である。例えば、原子炉内に装
荷したキャプセル内に供給するガスを置換あるいは加減
圧することでガスの熱伝導率を変え、照射試験用試料の
温度を制御する方法が実際に行われている。その具体的
方法としては、混合ガス方式と圧力調整方式がある。
【０００３】混合ガス方式は、熱伝導率が大きく異なる
２種類のガスの混合比を変えてキャプセル内に供給し、
それによって熱伝導率が変化することで温度を制御する
方法である。これは、例えば原子炉の出力変動等の影響
で照射試験用試料が予め設定した温度を逸脱しそうにな
った時に、キャプセル内を、所定の混合比に調整した混
合ガスで置換することで設定温度を超えないように制御
する。
２種類のガスの混合比を変えてキャプセル内に供給し、
それによって熱伝導率が変化することで温度を制御する
方法である。これは、例えば原子炉の出力変動等の影響
で照射試験用試料が予め設定した温度を逸脱しそうにな
った時に、キャプセル内を、所定の混合比に調整した混
合ガスで置換することで設定温度を超えないように制御
する。
【０００４】圧力調整方式は、ガスの熱伝導率が真空側
で変化割合が大きいのに着目した温度制御方法である。
炉内に装荷したキャプセル内のガスを直接排気して圧力
調整を行い、それによるガス熱伝導率の変化を利用して
該キャプセル内の発熱体の温度制御を行っている。
で変化割合が大きいのに着目した温度制御方法である。
炉内に装荷したキャプセル内のガスを直接排気して圧力
調整を行い、それによるガス熱伝導率の変化を利用して
該キャプセル内の発熱体の温度制御を行っている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】照射試験用試料をキャ
プセル内に収容し、原子炉内に設置して照射試験を行わ
せるような場合には、キャプセル封入ガスが原子炉から
の放射線で放射化する。そのため、温度を制御するに
は、その放射化したガスの排気が必要であり、温度制御
のために、照射試験を行っている期間中、多量の放射性
ガスを処分し続けなければならない。
プセル内に収容し、原子炉内に設置して照射試験を行わ
せるような場合には、キャプセル封入ガスが原子炉から
の放射線で放射化する。そのため、温度を制御するに
は、その放射化したガスの排気が必要であり、温度制御
のために、照射試験を行っている期間中、多量の放射性
ガスを処分し続けなければならない。
【０００６】本発明の目的は、原子炉内での温度制御に
使用する場合でも、温度制御中に放射化した温度制御ガ
スの排気を行う必要が無く、放射性ガスの処分を最少限
度に抑えることのできるガス圧力調整式温度制御方法を
提供することである。
使用する場合でも、温度制御中に放射化した温度制御ガ
スの排気を行う必要が無く、放射性ガスの処分を最少限
度に抑えることのできるガス圧力調整式温度制御方法を
提供することである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、内部に発熱体
を収容したキャプセルを炉内に設置し、炉外には内部に
金属ベローズを収容するベローズ収納容器を設け、前記
キャプセル内と金属ベローズ内との間をガス配管で接続
してガスを封入し、ベローズ収納容器内の金属ベローズ
外側の空間に炉外ガス圧力調整系を接続し、炉外ガス圧
力を加減することで金属ベローズを伸縮させてキャプセ
ル封入ガスの圧力を制御し、それによるガス熱伝導率の
変化を利用して発熱体の温度制御を行うようにしたガス
圧力調整式温度制御方法である。
を収容したキャプセルを炉内に設置し、炉外には内部に
金属ベローズを収容するベローズ収納容器を設け、前記
キャプセル内と金属ベローズ内との間をガス配管で接続
してガスを封入し、ベローズ収納容器内の金属ベローズ
外側の空間に炉外ガス圧力調整系を接続し、炉外ガス圧
力を加減することで金属ベローズを伸縮させてキャプセ
ル封入ガスの圧力を制御し、それによるガス熱伝導率の
変化を利用して発熱体の温度制御を行うようにしたガス
圧力調整式温度制御方法である。
【０００８】
【発明の実施の形態】本発明は、例えば原子炉中での燃
料あるいは材料の照射試験などにおける温度制御に有用
である。その場合、好ましくはキャプセルを２重構造と
し、該キャプセルの内部中央に発熱体である照射試験用
試料（燃料あるいは材料など）を収容する。そして２重
構造のキャプセルの中間部をガスギャップとして、その
中間部にヘリウムガスをキャプセル封入ガスとして封入
する。
料あるいは材料の照射試験などにおける温度制御に有用
である。その場合、好ましくはキャプセルを２重構造と
し、該キャプセルの内部中央に発熱体である照射試験用
試料（燃料あるいは材料など）を収容する。そして２重
構造のキャプセルの中間部をガスギャップとして、その
中間部にヘリウムガスをキャプセル封入ガスとして封入
する。
【０００９】本発明による温度制御は、温度を一定に制
御する場合にも、あるいは予め決めた昇温・降温プログ
ラムに従って変化させるように制御する場合にも、適用
できる。しかし、この種の温度制御は、従来、一定温度
に保つように制御する場合に使用するケースの方が多
い。
御する場合にも、あるいは予め決めた昇温・降温プログ
ラムに従って変化させるように制御する場合にも、適用
できる。しかし、この種の温度制御は、従来、一定温度
に保つように制御する場合に使用するケースの方が多
い。
【００１０】
【実施例】図１は本発明に係るガス圧力調整式温度制御
方法を実施するための装置構成の一例を示しており、原
子炉内で材料や燃料の照射試験を行う場合の例である。
原子炉１０の炉心１２の冷却材通路１４にキャプセル２
０を挿入する。原子炉１０の外部には、キャプセル内ガ
ス置換系２２、ガス仕切り部２４、ベローズ加減圧系２
６、及び計測制御系２８を設ける。
方法を実施するための装置構成の一例を示しており、原
子炉内で材料や燃料の照射試験を行う場合の例である。
原子炉１０の炉心１２の冷却材通路１４にキャプセル２
０を挿入する。原子炉１０の外部には、キャプセル内ガ
ス置換系２２、ガス仕切り部２４、ベローズ加減圧系２
６、及び計測制御系２８を設ける。
【００１１】キャプセル２０は、ここでは底部を除いて
二重構造となっており、その内部中央に照射試験用試料
３０が収容され、中間部はガスギャップ３２となる。照
射試験用試料３０が収容される内部中央には、温度測定
のための熱電対３４を挿入する。ガス仕切り部２４は、
ベローズ収納容器３６と、その中に収納されて伸縮自在
の金属ベローズ３８とからなる。そして、該金属ベロー
ズ３８の内部と前記キャプセル２０のガスギャップ３２
との間は１本の細いガス配管４０によって連通してい
る。
二重構造となっており、その内部中央に照射試験用試料
３０が収容され、中間部はガスギャップ３２となる。照
射試験用試料３０が収容される内部中央には、温度測定
のための熱電対３４を挿入する。ガス仕切り部２４は、
ベローズ収納容器３６と、その中に収納されて伸縮自在
の金属ベローズ３８とからなる。そして、該金属ベロー
ズ３８の内部と前記キャプセル２０のガスギャップ３２
との間は１本の細いガス配管４０によって連通してい
る。
【００１２】キャプセル内ガス置換系２２は、第１の手
動弁４２を介して前記ガス配管４０に接続されるヘリウ
ムガスボンベ４４と、第２の手動弁４６を介して前記ヘ
リウムガスボンベ４４と第１の手動弁４２との間に接続
される第１の真空ポンプ４８からなる。第１の真空ポン
プ４８は、照射前にキャプセル２０内をヘリウムガスで
置換するために、該キャプセル２０内を真空排気するの
に用いる。
動弁４２を介して前記ガス配管４０に接続されるヘリウ
ムガスボンベ４４と、第２の手動弁４６を介して前記ヘ
リウムガスボンベ４４と第１の手動弁４２との間に接続
される第１の真空ポンプ４８からなる。第１の真空ポン
プ４８は、照射前にキャプセル２０内をヘリウムガスで
置換するために、該キャプセル２０内を真空排気するの
に用いる。
【００１３】ベローズ加減圧系２６は、空気コンプレッ
サ５０、アキュムレータ５２、第１の電動弁５４、加圧
側電動流量調節弁５６からなる加圧側と、減圧側電動流
量調節弁５８、一般排気系につながる第２の電動弁６
０、第３の電動弁６２を有し一般排気系につながる第２
の真空ポンプ６４からなる減圧側と、圧力計６６などか
らなり、ベローズ収納容器３６内の金属ベローズ３８外
側の空間に接続される。アキュムレータ５２は、空気コ
ンプレッサ５０で加圧した空気を蓄えておく容器であ
る。また第２の真空ポンプ６４は、系内を排気して金属
ベローズ３８を伸長させるために用いる。
サ５０、アキュムレータ５２、第１の電動弁５４、加圧
側電動流量調節弁５６からなる加圧側と、減圧側電動流
量調節弁５８、一般排気系につながる第２の電動弁６
０、第３の電動弁６２を有し一般排気系につながる第２
の真空ポンプ６４からなる減圧側と、圧力計６６などか
らなり、ベローズ収納容器３６内の金属ベローズ３８外
側の空間に接続される。アキュムレータ５２は、空気コ
ンプレッサ５０で加圧した空気を蓄えておく容器であ
る。また第２の真空ポンプ６４は、系内を排気して金属
ベローズ３８を伸長させるために用いる。
【００１４】計測制御系２８は、ベローズ加減圧系２６
に設けた圧力計６６からの圧力信号でベローズ収納容器
３６内の圧力を計測し、キャプセル２０の内部中央に挿
入した熱電対３４からの温度信号を受けて、ベローズ加
減圧系２６に設けた加圧側電動流量調節弁５６及び減圧
側電動流量調節弁５８の開閉度合いを制御する。
に設けた圧力計６６からの圧力信号でベローズ収納容器
３６内の圧力を計測し、キャプセル２０の内部中央に挿
入した熱電対３４からの温度信号を受けて、ベローズ加
減圧系２６に設けた加圧側電動流量調節弁５６及び減圧
側電動流量調節弁５８の開閉度合いを制御する。
【００１５】本発明において温度制御は、ベローズ収納
容器３６内のガス圧を調整し、金属ベローズ３８を伸縮
させて該金属ベローズ３８の体積を変化させ、キャプセ
ル２０内の照射試験用試料３０の外側のガスギャップ３
２のガス圧力を変化させて、それによる熱伝導率を制御
することで行われる。
容器３６内のガス圧を調整し、金属ベローズ３８を伸縮
させて該金属ベローズ３８の体積を変化させ、キャプセ
ル２０内の照射試験用試料３０の外側のガスギャップ３
２のガス圧力を変化させて、それによる熱伝導率を制御
することで行われる。
【００１６】金属ベローズを圧縮する昇圧動作によっ
て、キャプセル２０のガスギャップ３２での圧力が高く
なって熱抵抗が小さくなり、照射試験用試料（発熱体）
３０の温度は低下する。そのためには減圧側電動流量制
御弁５８、第２の電動弁６０及び第３の電動弁６２を閉
じ、第１の電動弁５４を開き、加圧側電動流量制御弁５
６の開度を制御する。すると空気コンプレッサ５０で圧
縮されたアキュムレータ５２内の空気がベローズ収納容
器３６内に導入され、金属ベローズ３８は押し縮めら
れ、ガスギャップ３２のガスは加圧される。
て、キャプセル２０のガスギャップ３２での圧力が高く
なって熱抵抗が小さくなり、照射試験用試料（発熱体）
３０の温度は低下する。そのためには減圧側電動流量制
御弁５８、第２の電動弁６０及び第３の電動弁６２を閉
じ、第１の電動弁５４を開き、加圧側電動流量制御弁５
６の開度を制御する。すると空気コンプレッサ５０で圧
縮されたアキュムレータ５２内の空気がベローズ収納容
器３６内に導入され、金属ベローズ３８は押し縮めら
れ、ガスギャップ３２のガスは加圧される。
【００１７】金属ベローズを伸長する降圧動作では、キ
ャプセル２０のガスギャップ３２での圧力が低下して熱
抵抗が大きくなり、照射試験用試料３０の温度は上昇す
る。そのためには、第１の電動弁５４及び加圧側電動流
量制御弁５６、第２の電動弁６０を閉じ、第３の電動弁
６２を開き、減圧側電動流量制御弁５８の開度を制御
し、第２の真空ポンプ６４でベローズ収納容器３６内を
減圧する。すると金属ベローズ３８は伸長し、ガスギャ
ップ３２は減圧される。なお、系内圧力が大気圧以上の
場合には第２の電動弁６０を使用して排気する。その
際、第３の電動弁６２は第２の真空ポンプ６４を保護す
るために閉じられる。
ャプセル２０のガスギャップ３２での圧力が低下して熱
抵抗が大きくなり、照射試験用試料３０の温度は上昇す
る。そのためには、第１の電動弁５４及び加圧側電動流
量制御弁５６、第２の電動弁６０を閉じ、第３の電動弁
６２を開き、減圧側電動流量制御弁５８の開度を制御
し、第２の真空ポンプ６４でベローズ収納容器３６内を
減圧する。すると金属ベローズ３８は伸長し、ガスギャ
ップ３２は減圧される。なお、系内圧力が大気圧以上の
場合には第２の電動弁６０を使用して排気する。その
際、第３の電動弁６２は第２の真空ポンプ６４を保護す
るために閉じられる。
【００１８】温度制御に先立って、まず第１及び第２の
手動弁４２，４６を使用してキャプセル２０内をヘリウ
ムガスで置換する。第１の手動弁４２と第２の手動弁４
６を開いて第１の真空ポンプ４８で系内のガスを排気す
る。そのガスは放射化されているため、放射性ガス排気
系で処理する。排気後、第２の手動弁４６を閉じる。ヘ
リウムガスボンベ４４からヘリウムガスを供給し、所定
のガス圧となるようにして、その状態で第１の手動弁４
２も閉じる。このように第１及び第２の手動弁４２，４
６は、キャプセル２０内をヘリウムガスに置換するため
に使用するもので、温度制御中は使用しない。
手動弁４２，４６を使用してキャプセル２０内をヘリウ
ムガスで置換する。第１の手動弁４２と第２の手動弁４
６を開いて第１の真空ポンプ４８で系内のガスを排気す
る。そのガスは放射化されているため、放射性ガス排気
系で処理する。排気後、第２の手動弁４６を閉じる。ヘ
リウムガスボンベ４４からヘリウムガスを供給し、所定
のガス圧となるようにして、その状態で第１の手動弁４
２も閉じる。このように第１及び第２の手動弁４２，４
６は、キャプセル２０内をヘリウムガスに置換するため
に使用するもので、温度制御中は使用しない。
【００１９】例えば、キャプセル２０の照射試験用試料
３０の温度を一定に保つように制御する場合には、次の
ようにする。熱電対３４からの信号を受けて計測制御系
２８で加圧側電動流量調節弁５６又は減圧側電動流量調
節弁５８の開閉度合いを制御する。試料温度が上昇した
場合には、加圧側電動流量調節弁５６を開いて金属ベロ
ーズ３８を短縮させ、ヘリウムガス圧力を高める。する
とガスギャップ３２での熱抵抗が小さくなり、温度が下
がる。逆に、試料温度が降下した場合には、減圧側電動
流量調節弁５８を開いて金属ベローズ３８を伸長し、ヘ
リウムガス圧力を下げる。するとガスギャップ３２での
熱抵抗が大きくなり試料温度が上がる。このようにし
て、キャプセル２０内に収容されている照射試験用試料
３０の温度を一定に保つように制御することができる。
３０の温度を一定に保つように制御する場合には、次の
ようにする。熱電対３４からの信号を受けて計測制御系
２８で加圧側電動流量調節弁５６又は減圧側電動流量調
節弁５８の開閉度合いを制御する。試料温度が上昇した
場合には、加圧側電動流量調節弁５６を開いて金属ベロ
ーズ３８を短縮させ、ヘリウムガス圧力を高める。する
とガスギャップ３２での熱抵抗が小さくなり、温度が下
がる。逆に、試料温度が降下した場合には、減圧側電動
流量調節弁５８を開いて金属ベローズ３８を伸長し、ヘ
リウムガス圧力を下げる。するとガスギャップ３２での
熱抵抗が大きくなり試料温度が上がる。このようにし
て、キャプセル２０内に収容されている照射試験用試料
３０の温度を一定に保つように制御することができる。
【００２０】炉外側と炉内側の配管抵抗が大きく異なる
と、高圧側から低圧側の圧力変化を急激に実施した場合
には、大きな圧力差を生じることになる。しかし、温度
制御に必要な圧力範囲は０〜２kg／cm2 （絶対圧力）程
度と考えられ、両者の圧力は常にほぼ一致する。ここ
で、「ほぼ一致」と述べた理由は、金属ベローズの自重
等で厳密には圧力が異なるからであるが、この差は温度
制御に影響するような差異ではない。
と、高圧側から低圧側の圧力変化を急激に実施した場合
には、大きな圧力差を生じることになる。しかし、温度
制御に必要な圧力範囲は０〜２kg／cm2 （絶対圧力）程
度と考えられ、両者の圧力は常にほぼ一致する。ここ
で、「ほぼ一致」と述べた理由は、金属ベローズの自重
等で厳密には圧力が異なるからであるが、この差は温度
制御に影響するような差異ではない。
【００２１】ヘリウムガス圧力と熱伝導率との関係は、
「薄いガス層の真空の熱抵抗とその利用」（日本機械学
会誌、第７３巻、第６１８号、Ｐ２１〜２９）に記載さ
れているように既知であり、本発明ではそれを利用でき
る。
「薄いガス層の真空の熱抵抗とその利用」（日本機械学
会誌、第７３巻、第６１８号、Ｐ２１〜２９）に記載さ
れているように既知であり、本発明ではそれを利用でき
る。
【００２２】温度制御可能範囲は、照射試験用試料の発
熱量と到達真空度によって決まる。発熱量が小さいと、
いくら真空度を上げても温度は上昇しないのに対して、
発熱量が大きいと、僅かに真空度を上げるだけで温度が
上昇するからである。制御可能な温度精度は、従来のガ
ス圧力調整方式では±５℃程度であり、本発明方法で
も、この程度の制御精度が見込まれる。
熱量と到達真空度によって決まる。発熱量が小さいと、
いくら真空度を上げても温度は上昇しないのに対して、
発熱量が大きいと、僅かに真空度を上げるだけで温度が
上昇するからである。制御可能な温度精度は、従来のガ
ス圧力調整方式では±５℃程度であり、本発明方法で
も、この程度の制御精度が見込まれる。
【００２３】照射試験用試料は、大別すると「燃料」
（核分裂性物質：中性子によって核分裂し発熱するも
の）と「材料」である。燃料の形状は大部分が柱状であ
る。材料は、機械試験に応じて様々な形状であり、材質
はステンレス鋼などである。また照射期間は、例えば約
３００日間といった期間にわたり、この間、温度制御を
行うことになる。
（核分裂性物質：中性子によって核分裂し発熱するも
の）と「材料」である。燃料の形状は大部分が柱状であ
る。材料は、機械試験に応じて様々な形状であり、材質
はステンレス鋼などである。また照射期間は、例えば約
３００日間といった期間にわたり、この間、温度制御を
行うことになる。
【００２４】上記の実施例は、本発明を原子炉内におけ
る照射試験用試料の温度制御に適用した例であるが、そ
れに限らず、内部発熱する物体の温度制御に利用でき
る。
る照射試験用試料の温度制御に適用した例であるが、そ
れに限らず、内部発熱する物体の温度制御に利用でき
る。
【００２５】
【発明の効果】本発明は上記のように、キャプセル封入
ガスの圧力調整が金属ベローズを介して行われるため、
該キャプセル封入ガスを外部に放出することなく昇圧あ
るいは減圧して温度制御を行うことができる。このた
め、特に原子炉内で照射試験を行うような場合に、試験
期間中は放射性ガスを処分する必要がないので、放射性
ガスの処分を最少限度に抑えることができ、処理設備の
負担が軽くなるし、経済的にも有利である。
ガスの圧力調整が金属ベローズを介して行われるため、
該キャプセル封入ガスを外部に放出することなく昇圧あ
るいは減圧して温度制御を行うことができる。このた
め、特に原子炉内で照射試験を行うような場合に、試験
期間中は放射性ガスを処分する必要がないので、放射性
ガスの処分を最少限度に抑えることができ、処理設備の
負担が軽くなるし、経済的にも有利である。
【図１】本発明に係るガス圧力調整式温度制御装置の一
実施例を示す全体構成図。
実施例を示す全体構成図。
１０ 原子炉 ２０ キャプセル ２２ キャプセル内ガス置換系 ２４ ガス仕切り部 ２６ ベローズ加減圧系 ２８ 計測制御系 ３０ 照射試験用試料 ３２ ガスギャップ ３４ 熱電対 ３６ ベローズ収納容器 ３８ 金属ベローズ
Claims (2)
- 【請求項１】 内部に発熱体を収容したキャプセルを炉
内に設置し、炉外には内部に金属ベローズを収容するベ
ローズ収納容器を設け、前記キャプセル内と金属ベロー
ズ内との間をガス配管で接続してガスを封入し、ベロー
ズ収納容器内の金属ベローズ外側の空間に炉外ガス圧力
調整系を接続し、炉外ガス圧力を加減することで金属ベ
ローズを伸縮させてキャプセル封入ガスの圧力を制御
し、それによるガス熱伝導率の変化を利用して発熱体の
温度制御を行うことを特徴とするガス圧力調整式温度制
御方法。 - 【請求項２】 炉が原子炉であって、キャプセルは２重
構造をなし、該キャプセルの内部中央に発熱体である照
射試験用試料が収容され、中間部はガスギャップであっ
てヘリウムガスをキャプセル封入ガスとして封入する請
求項１記載のガス圧力調整式温度制御方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9165097A JP2989157B2 (ja) | 1997-06-06 | 1997-06-06 | ガス圧力調整式温度制御方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9165097A JP2989157B2 (ja) | 1997-06-06 | 1997-06-06 | ガス圧力調整式温度制御方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10339792A JPH10339792A (ja) | 1998-12-22 |
| JP2989157B2 true JP2989157B2 (ja) | 1999-12-13 |
Family
ID=15805841
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9165097A Expired - Fee Related JP2989157B2 (ja) | 1997-06-06 | 1997-06-06 | ガス圧力調整式温度制御方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2989157B2 (ja) |
-
1997
- 1997-06-06 JP JP9165097A patent/JP2989157B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH10339792A (ja) | 1998-12-22 |
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