JP2987970B2 - Conductive urethane elastomer forming composition - Google Patents

Conductive urethane elastomer forming composition

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JP2987970B2
JP2987970B2 JP3053635A JP5363591A JP2987970B2 JP 2987970 B2 JP2987970 B2 JP 2987970B2 JP 3053635 A JP3053635 A JP 3053635A JP 5363591 A JP5363591 A JP 5363591A JP 2987970 B2 JP2987970 B2 JP 2987970B2
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urethane elastomer
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直史 安田
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は導電性ウレタンエラスト
マー形成組成物に関し、更に詳しくは、形成される導電
性ウレタンエラストマーがコネクター素子、基板検査用
素子などのコネクターシートとして優れた耐久性を発現
する導電性ウレタンエラストマー形成組成物に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a composition for forming a conductive urethane elastomer, and more particularly, a conductive urethane elastomer formed exhibits excellent durability as a connector sheet for a connector element, a board inspection element and the like. The present invention relates to a conductive urethane elastomer-forming composition.

【0002】[0002]

【従来の技術】導電性シートは、電気的な接続を達成す
るための部材として種々の用途に有効に用いられてい
る。従来、導電性シートとして、 絶縁性高分子弾性体中に金属粒子が均一に分散された
構造のもの(特開昭51−93393 号公報参照)、 絶縁性高分子弾性体中に導電性磁性体粒子が不均一な
密度で分散されている構造のもの(特開昭53−147772号
公報、特開昭54−146873号公報参照)が知られており、
絶縁性高分子弾性体としては、各種のシリコーンゴムが
用いられている。
2. Description of the Related Art A conductive sheet is effectively used for various purposes as a member for achieving electrical connection. Conventionally, a conductive sheet having a structure in which metal particles are uniformly dispersed in an insulating polymer elastic body (see JP-A-51-93393), a conductive magnetic material in the insulating polymer elastic body, Known are those having a structure in which particles are dispersed at an uneven density (see JP-A-53-147772 and JP-A-54-146873).
Various silicone rubbers are used as the insulating polymer elastic body.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
絶縁性高分子弾性体を用いてなる導電性シートは、使用
回数と共に、電気抵抗が増加し得られる導電状態が不安
定なものとなり、コネクター素子、基板検査用素子など
のコネクターシートとしての耐久性が低い、という問題
を有している。
However, a conventional conductive sheet using an insulating polymer elastic body increases the electrical resistance with the number of times of use, and the conductive state becomes unstable, so that the connector element is not used. In addition, there is a problem that the durability as a connector sheet for a board inspection element or the like is low.

【0004】本発明の目的は、コネクター素子、基板検
査用素子などのコネクターシートとして優れた耐久性を
有する導電性ウレタンエラストマーを形成することので
きる導電性ウレタンエラストマー形成組成物を提供する
ことにある。
An object of the present invention is to provide a conductive urethane elastomer-forming composition capable of forming a conductive urethane elastomer having excellent durability as a connector sheet for a connector element, a board inspection element, and the like. .

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明の導電性ウレタン
エラストマー形成組成物は、(a)50重量%以上がポリ
カーボネートジオールであるポリオール化合物とポリイ
ソシアネート化合物とを含有してなり、ウレタン化反応
によりウレタンエラストマーを形成するウレタンエラス
トマー形成成分 100重量部に、(b)導電性粒子30〜10
00重量部が分散されていることを特徴とする。
The conductive urethane elastomer-forming composition of the present invention comprises (a) a polyol compound in which at least 50% by weight is a polycarbonate diol and a polyisocyanate compound, and a urethane-forming reaction. 100 parts by weight of a urethane elastomer-forming component forming a urethane elastomer, (b) conductive particles 30 to 10
It is characterized in that 00 parts by weight are dispersed.

【0006】以下、本発明について具体的に説明する。
本発明の組成物は、(a)50重量%以上がポリカーボネ
ートジオールであるポリオール化合物とポリイソシアネ
ート化合物とを含有してなるウレタンエラストマー形成
成分(以下「(a)成分」ともいう)と、この(a)成
分中に分散された(b)導電性粒子とを必須の成分とす
る。
Hereinafter, the present invention will be described specifically.
The composition of the present invention comprises (a) a urethane elastomer-forming component (hereinafter also referred to as “component (a)”) containing a polyol compound in which at least 50% by weight is a polycarbonate diol and a polyisocyanate compound, and The essential component is (a) the conductive particles dispersed in the component (b).

【0007】(a)成分 (a)成分は、ポリオール化合物とポリイソシアネート
化合物とからなるウレタンエラストマー形成成分であ
る。(a)成分は、室温乃至80℃以下の温度条件下にお
いて液状を示し、後述する導電性粒子を均一に混合する
ことができるものである。
[0007] Component (a) The component (a) is a urethane elastomer-forming component comprising a polyol compound and a polyisocyanate compound. The component (a) is liquid under a temperature condition of room temperature to 80 ° C. or lower, and can uniformly mix conductive particles described later.

【0008】(a)成分に使用されるポリオール化合物
は、その50重量%以上がポリカーボネートジオールであ
り、その他のポリオール化合物としては、ポリエステル
系ポリオール、ポリエーテル系ポリオール、ポリブタジ
エン系ポリオール、ヒマシ油系ポリオール、シリコーン
系ポリオールなどを挙げることができる。ポリカーボネ
ートジオールは、アルカンジオールとカーボネート化合
物とを反応させて得られる両末端にOH基を有する直鎖
状ポリオール化合物〔構造式:HO−[R−O−CO−
O]n −R−OH(R:アルキレン基)である。アルカ
ンジオールとしては、プロピレングリコール、ジプロピ
レングリコール、エチレングリコール、ジエチレングリ
コール、1,4 −ブタンジオール、1,5 −ヘプタンジオー
ル、1,6 −ヘキサンジオールなど、好ましくは1,6 −ヘ
キサンジオールが使用される。カーボネート化合物とし
ては、エチレンカーボネート、ジエチルカーボネート、
ジフェニルカーボネートなど、好ましくはエチレンカー
ボネートが使用される。ポリカーボネートジオールの分
子量は、通常、1000〜4000であり、好ましくは2000〜40
00である。ポリエステル系ポリオールとしては、ポリカ
ーボネートジオール以外のポリカーボネートポリオー
ル、ポリメチルペンタンジオールアジペート系ポリオー
ル、ポリメチルバレロラクトン系ポリオール、ポリカプ
ロラクトン系ポリオール、ポリブタンジオールアジペー
ト系ポリオールなどを挙げることができる。ポリエーテ
ル系ポリオールとしては、ポリプロピレングリコール、
ポリテトラメチレングリコールおよびこれらの変性体を
挙げることができる。ポリブタジエン系ポリオールとし
ては、ポリブタジエンジオール、水添ポリブタジエンジ
オールなどを挙げることができる。シリコーン系ポリオ
ールとしては、シリコーンジオール、シリコーントリオ
ールなどが挙げられる。更に、ポリオール化合物とし
て、1,4−ブタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、
1,5−ペンタンジオール、トリメチロールプロパン、ネ
オペンチルグリコールなどの多価アルコールも使用する
ことができる。これらの中でその他のポリオール化合物
としては、ポリエステル系ポリオールでは、ポリメチル
ペンタンジオールアジペート系ポリオールおよびポリメ
チルバレロラクトン系ポリオールが、ポリエーテル系ポ
リオールでは、ポリテトラメチレングリコールおよびポ
リテトラメチレングリコールのメチルテトラメチレング
リコールによる変性体が、又多価アルコールではトリメ
チロールプロパンが好ましい。これらの化合物は、その
1種のみでなく2種以上を本発明に係るポリオール化合
物として用いることもできる。(a)成分は、その50重
量%以上がポリカーボネートジオールである。50重量%
未満では、耐久性の良好な導電性ウレタンエラストマー
が得られない。また、使用するポリオール化合物は、2
官能ポリオール化合物のみでなく、トリメチロールプロ
パン、トリメチロールエタン、ヘキサントリオール、ペ
ンタエリスリトールなどの3官能以上のポリオール化合
物を含有するものであることが好ましい。3官能以上の
ポリオール化合物は、2官能ポリオール化合物に対して
モル比で 0.5/0.5 〜 0.9/0.1 であることが好まし
く、さらに好ましくは0.7/0.3 〜 0.9/0.1 である。
The polyol compound used as the component (a) is at least 50% by weight of a polycarbonate diol. Other polyol compounds include polyester polyols, polyether polyols, polybutadiene polyols, and castor oil polyols. And silicone-based polyols. The polycarbonate diol is a linear polyol compound having an OH group at both ends obtained by reacting an alkanediol and a carbonate compound [structural formula: HO- [RO-CO-
O] n -R-OH (R: alkylene group). As the alkanediol, propylene glycol, dipropylene glycol, ethylene glycol, diethylene glycol, 1,4-butanediol, 1,5-heptanediol, 1,6-hexanediol and the like, preferably 1,6-hexanediol is used. You. As the carbonate compound, ethylene carbonate, diethyl carbonate,
Preferably ethylene carbonate, such as diphenyl carbonate, is used. The molecular weight of the polycarbonate diol is usually from 1,000 to 4,000, preferably from 2,000 to 40.
00. Examples of the polyester-based polyol include polycarbonate polyols other than the polycarbonate diol, polymethylpentanediol adipate-based polyol, polymethylvalerolactone-based polyol, polycaprolactone-based polyol, and polybutanediol-adipate-based polyol. Polyether polyols include polypropylene glycol,
Examples thereof include polytetramethylene glycol and modified products thereof. Examples of the polybutadiene-based polyol include polybutadiene diol and hydrogenated polybutadiene diol. Examples of the silicone polyol include silicone diol and silicone triol. Further, as a polyol compound, 1,4-butanediol, 1,6-hexanediol,
Polyhydric alcohols such as 1,5-pentanediol, trimethylolpropane and neopentyl glycol can also be used. Among these, as other polyol compounds, polyester-based polyols include polymethylpentanediol adipate-based polyols and polymethylvalerolactone-based polyols, and polyether-based polyols include polytetramethylene glycol and polytetramethylene glycol. A modified product with methylene glycol is preferable, and trimethylolpropane is preferable as a polyhydric alcohol. These compounds can use not only one kind but two or more kinds as the polyol compound according to the present invention. The component (a) is at least 50% by weight of a polycarbonate diol. 50% by weight
If it is less than 1, a conductive urethane elastomer having good durability cannot be obtained. The polyol compound used is 2
It is preferable to contain not only a functional polyol compound but also a trifunctional or higher functional polyol compound such as trimethylolpropane, trimethylolethane, hexanetriol, and pentaerythritol. The molar ratio of the trifunctional or higher functional polyol compound to the bifunctional polyol compound is preferably 0.5 / 0.5 to 0.9 / 0.1, and more preferably 0.7 / 0.3 to 0.9 / 0.1.

【0009】本発明において使用されるポリイソシアネ
ート化合物としては、トリレンジイソシアネート、ジフ
ェニルメタンジイソシアネート、ポリメリックジフェニ
ルメタンジイソシアネート、ジアニシジンイソシアネー
ト、ジフェニルエーテルジイソシアネート、ビトリレン
ジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネート、トリ
フェニルメタントリイソシアネート、ヘキサメチレンジ
イソシアネート、イソホロンジイソシアネート、メタキ
シリレンジイソシアネートおよびこれら変性体などを挙
げることができる。これらのうち、トリレンジイソシア
ネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、ポリメリ
ックジフェニルメタンジイソシアネート、イソホロンジ
イソシアネートおよびこれらの変性体を好ましく用いる
ことができる。また、使用するポリイソシアネート化合
物は、2官能ポリイソシアネート化合物のみでなく、ポ
リメリックジフェニルメタンジイソシアネート、トリフ
ェニルメタントリイソシアネート、トリイソシアネート
フェニルチオフォスフェート、トリレンジイソシアネー
トトリメチロールプロパンアダクト、トリレンジイソシ
アネートイソシアヌレート体、ヘキサメチレンジイソシ
アネート−ビューレット体などの3官能以上のポリイソ
シアネート化合物を含有するものであることが好まし
く、この場合には、硬化後に良好なウレタンエラストマ
ーを形成することができる。3官能以上のポリイソシア
ネート化合物は、2官能ポリイソシアネート化合物に対
してモル比で 0.5/0.5 〜 0.9/0.1 であることが好ま
しく、さらに好ましくは 0.7/0.3 〜 0.9/0.1 であ
る。
The polyisocyanate compound used in the present invention includes tolylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, polymeric diphenylmethane diisocyanate, dianisidine isocyanate, diphenyl ether diisocyanate, vitriylene diisocyanate, naphthalene diisocyanate, triphenylmethane triisocyanate, hexamethylene diisocyanate. , Isophorone diisocyanate, meta-xylylene diisocyanate, and modified products thereof. Of these, tolylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, polymeric diphenylmethane diisocyanate, isophorone diisocyanate, and modified products thereof can be preferably used. The polyisocyanate compound used is not only a bifunctional polyisocyanate compound, but also polymeric diphenylmethane diisocyanate, triphenylmethane triisocyanate, triisocyanate phenyl thiophosphate, tolylene diisocyanate trimethylol propane adduct, tolylene diisocyanate isocyanurate, It preferably contains a tri- or higher functional polyisocyanate compound such as a methylene diisocyanate-buret compound, in which case a good urethane elastomer can be formed after curing. The molar ratio of the trifunctional or higher polyisocyanate compound to the bifunctional polyisocyanate compound is preferably 0.5 / 0.5 to 0.9 / 0.1, and more preferably 0.7 / 0.3 to 0.9 / 0.1.

【0010】ポリオール化合物とポリイソシアネート化
合物は、これらをそのまま混合して(a)成分を構成さ
せてもよい。また、ポリオール化合物の一部と、このポ
リオール化合物の一部の水酸基に対して当量以上のイソ
シアネート基を含むポリイソシアネート化合物とを反応
させてウレタンプレポリマーを合成し、このウレタンプ
レポリマーに更に残りのポリオール化合物を混合して
(a)成分を構成してもよい。後者の場合には引張り強
度などの高分子物性の優れたウレタンエラストマーが形
成される点で好ましい。全体のポリオール化合物とポリ
イソシアネート化合物は、ポリオール化合物の水酸基と
ポリイソシアネート化合物のイソシアネート基とを当量
比で、通常、1/1.0 〜1/1.3 となるように含有す
る。
[0010] The polyol compound and the polyisocyanate compound may be mixed as they are to form the component (a). Further, a part of the polyol compound and a polyisocyanate compound containing an isocyanate group in an equivalent amount or more with respect to a part of the hydroxyl groups of the polyol compound are reacted to synthesize a urethane prepolymer. The component (a) may be constituted by mixing a polyol compound. The latter case is preferred in that a urethane elastomer having excellent polymer properties such as tensile strength is formed. The entire polyol compound and polyisocyanate compound contain the hydroxyl group of the polyol compound and the isocyanate group of the polyisocyanate compound in an equivalent ratio, usually from 1 / 1.0 to 1 / 1.3.

【0011】(a)成分には、必要に応じて、ジブチル
チンラウレート、トリエチルアミン、トリエチレンジア
ミンなどの触媒、メチレンビス(2−クロルアニリ
ン)、ポリテトラメチレンオキシドジpアミノベンゾエ
ートなどのアミン系硬化剤、シリカ、疎水性シリカなど
の充填剤、ヒマシ油誘導体、塩基性カルシウムスルホネ
ートなどのチキソ性調整剤、リン化合物などの難燃助剤
などが含有されていてもよい。
The component (a) includes, if necessary, a catalyst such as dibutyltin laurate, triethylamine and triethylenediamine, and an amine curing agent such as methylene bis (2-chloroaniline) and polytetramethylene oxide di-p-aminobenzoate. , A filler such as silica and hydrophobic silica, a castor oil derivative, a thixotropic regulator such as basic calcium sulfonate, and a flame retardant auxiliary such as a phosphorus compound.

【0012】(a)成分の温度 25 ℃における粘度は、
10-1 sec-1の歪速度において104 〜107 センチポイズの
範囲にあることが好ましい。粘度が過小の場合には、導
電性粒子の沈降が生じやすくなる。一方粘度が過大であ
る場合には導電性粒子が分散しにくく、また組成物の脱
泡処理が困難になる傾向がある。 粘度の調整は、充填
剤やチキソ性調整剤の添加により行うことができ、また
トルエン、キシレンなどの溶剤により希釈する手段を利
用することも可能である。
The viscosity of the component (a) at a temperature of 25 ° C. is as follows:
Preferably, the strain rate is in the range of 10 4 to 10 7 centipoise at a strain rate of 10 -1 sec -1 . If the viscosity is too low, sedimentation of the conductive particles tends to occur. On the other hand, when the viscosity is excessive, the conductive particles are difficult to disperse, and the defoaming treatment of the composition tends to be difficult. The viscosity can be adjusted by adding a filler or a thixotropic agent, and it is also possible to use means for diluting with a solvent such as toluene or xylene.

【0013】(a)成分はウレタン化反応によりウレタ
ンエラストマーを形成するものであり、形成されるウレ
タンエラストマーの JISA型硬度計による硬度は15〜70
であることが好ましく、20〜60であることがさらに好ま
しい。この硬度が15未満である場合には、使用時に安定
した導電性を示すことができない場合があり、一方70を
超える場合には、使用時の電気抵抗が過大となって導電
性シートとして適用することが困難となる場合がある。
The component (a) forms a urethane elastomer by a urethane-forming reaction, and the hardness of the formed urethane elastomer measured by a JISA type hardness tester is 15 to 70.
Is preferably, and more preferably 20 to 60. If the hardness is less than 15, there may be cases where stable conductivity cannot be exhibited during use, while if it exceeds 70, the electrical resistance during use becomes excessive, so that the sheet is applied as a conductive sheet. This can be difficult.

【0014】導電性粒子 導電性粒子は、例えばニッケル、鉄、コバルトなどの磁
性を示す金属の粒子、これらの金属の合金の粒子、磁性
を示す金属または合金の粒子の表面に金、銀、パラジウ
ム、ロジウムなどのメッキを施したもの、非磁性金属粒
子、ガラスビーズなどの無機質粒子またはポリマー粒子
に、ニッケル、コバルトなどの導電性磁性体のメッキを
施したものなどを挙げることができる。これらのうち、
製造コストの低減化を図る観点からは、特に、ニッケ
ル、鉄もしくはこれらの合金よりなる導電性粒子が好ま
しく、さらに金メッキが施された導電性粒子は、接触抵
抗が小さいなど電気的特性の点で好ましい。
Conductive Particles Conductive particles include, for example, particles of magnetic metals such as nickel, iron, and cobalt, particles of alloys of these metals, gold, silver, and palladium on the surfaces of particles of magnetic metals or alloys. And those obtained by plating non-magnetic metal particles, glass beads, or other inorganic particles or polymer particles with a conductive magnetic material such as nickel or cobalt. Of these,
From the viewpoint of reducing the manufacturing cost, in particular, conductive particles composed of nickel, iron or an alloy thereof are preferable, and the conductive particles further subjected to gold plating are small in terms of electrical characteristics such as low contact resistance. preferable.

【0015】導電性粒子の粒径は、3〜200 μmである
ことが好ましく、特に好ましくは10〜100 μmである。
このような範囲の粒径を有する導電性粒子を用いること
により、最終的に得られる導電性ウレタンエラストマー
において、使用時に導電性粒子間に十分な電気的接触が
達成され、かつ導電部の微細化に対応することができ
る。
The particle size of the conductive particles is preferably from 3 to 200 μm, particularly preferably from 10 to 100 μm.
By using the conductive particles having a particle diameter in such a range, in the finally obtained conductive urethane elastomer, sufficient electric contact between the conductive particles is achieved at the time of use, and the conductive portion is miniaturized. Can be handled.

【0016】導電性粒子の使用量は、(a)成分 100重
量部に対して30〜1000重量部である。この使用量が30重
量部未満の場合には、最終的に得られる導電性ウレタン
エラストマーは、使用時にも十分な導電路が形成され
ず、電気抵抗値が高過ぎて良好なスイッチ機能を有しな
いものとなり、一方、使用量が1000重量部を超える場合
には、得られる導電性ウレタンエラストマーが脆弱なも
のとなり、使用することが困難となる。
The amount of the conductive particles used is 30 to 1,000 parts by weight based on 100 parts by weight of the component (a). If the amount used is less than 30 parts by weight, the conductive urethane elastomer finally obtained does not have a sufficient conductive path even at the time of use, and does not have a good switching function due to an excessively high electric resistance value. On the other hand, if the used amount exceeds 1000 parts by weight, the obtained conductive urethane elastomer becomes fragile, and it becomes difficult to use.

【0017】製造方法 本発明の導電性ウレタンエラストマー形成組成物は、
(a)成分と導電性粒子とを混合し、攪拌することによ
って製造することができる。
Production Method The conductive urethane elastomer-forming composition of the present invention comprises:
It can be produced by mixing the component (a) and the conductive particles and stirring the mixture.

【0018】成形方法 本発明の導電性ウレタンエラストマー形成組成物は、ウ
レタン化反応により硬化して、ゴム状弾性を有する導電
性ウレタンエラストマーとなる。実際には、本発明の組
成物に脱泡処理を施した後、成形加工を行えばよい。導
電性ウレタンエラストマーのシートを製造する方法とし
ては、磁極板を有してなる金型内に本発明の組成物を注
入し、磁場処理を行って導電性粒子を厚さ方向に配列さ
せた上で組成物を熱硬化させることにより、シート状の
導電性ウレタンエラストマーを形成する方法、リード電
極部を有する基板上に、本発明の組成物をスクリーン印
刷法などにより印刷した後、磁場処理を行って導電性粒
子を厚さ方向に配列させた上で組成物を熱硬化させて、
前記基板上に一体的に成形された導電部を形成する方法
などを挙げることができる。
Molding Method The conductive urethane elastomer-forming composition of the present invention is cured by a urethanization reaction to form a conductive urethane elastomer having rubbery elasticity. Actually, after the composition of the present invention is subjected to a defoaming treatment, a molding process may be performed. As a method for producing a sheet of conductive urethane elastomer, the composition of the present invention is injected into a mold having a magnetic pole plate, and a magnetic field treatment is performed to arrange the conductive particles in the thickness direction. A method of forming a sheet-shaped conductive urethane elastomer by heat-curing the composition in, the composition of the present invention is printed on a substrate having a lead electrode portion by a screen printing method or the like, and then subjected to a magnetic field treatment. After arranging the conductive particles in the thickness direction and thermally curing the composition,
A method of forming a conductive portion integrally formed on the substrate may be used.

【0019】なお、磁場処理をする際には、磁場強度の
異なる部分を有する磁極板を用いることによって、硬化
後のウレタンエラストマーシート中に導電性粒子の粗密
を生じさせ、導電部と絶縁部が存在する異方導電性ウレ
タンエラストマーシートを形成することもできる。ここ
で、導電部は厚さ方向に加圧されることにより、抵抗値
が減少して導電部が形成される加圧導電性であってもよ
い。
When the magnetic field treatment is performed, the use of a magnetic pole plate having portions having different magnetic field strengths causes unevenness of conductive particles in the cured urethane elastomer sheet, so that the conductive portion and the insulating portion are separated from each other. Existing anisotropically conductive urethane elastomer sheets can also be formed. Here, the conductive portion may be pressurized conductive in which the conductive portion is formed by reducing the resistance value by being pressed in the thickness direction.

【0020】[0020]

【実施例】以下本発明の実施例について説明するが、本
発明がこれらの実施例に限定されるものではない。
EXAMPLES Examples of the present invention will be described below, but the present invention is not limited to these examples.

【0021】実施例1 <主剤の合成>表1に示すように、ポリカーボネートジ
オール「DN−986」(日本ポリウレタン工業社製)35
g、変性ポリテトラメチレングリコール「PTGL−40
00」(保土谷化学工業社製)20g、ポリメリックジフェ
ニルメタンジイソシアネート「ミリオネートMR−200
」(日本ポリウレタン工業社製)13.5gおよび変性ジ
フェニルメタンジイソシアネート「スミジュールPF」
(住友バイエルウレタン社製)31.5gを、窒素気流下80
℃で5時間加熱攪拌することにより反応させて粘稠な液
状のプレポリマーを合成した。これを「主剤P−1」と
する。
Example 1 <Synthesis of Main Agent> As shown in Table 1, polycarbonate diol "DN-986" (manufactured by Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd.) 35
g, modified polytetramethylene glycol “PTGL-40”
00 "(manufactured by Hodogaya Chemical Co., Ltd.), 20 g of polymeric diphenylmethane diisocyanate" Millionate MR-200 "
13.5 g (manufactured by Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd.) and modified diphenylmethane diisocyanate "Sumidur PF"
(Sumitomo Bayer Urethane Co., Ltd.)
The mixture was reacted by heating and stirring at 5 ° C. for 5 hours to synthesize a viscous liquid prepolymer. This is designated as “base agent P-1”.

【0022】<硬化剤の調製>表1に示すように、ポリ
カーボネートジオール「ニッポラン 982R」(日本ポリ
ウレタン工業社製)85gと、ポリエステルトリオール
「クラポールP−3000」(クラレ社製)15gとを混合し
てポリオール化合物の混合物を調製した。これを「硬化
剤H−1」とする。
<Preparation of Curing Agent> As shown in Table 1, 85 g of polycarbonate diol "Nipporan 982R" (manufactured by Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd.) and 15 g of polyester triol "Kurapol P-3000" (manufactured by Kuraray) were mixed. Thus, a mixture of polyol compounds was prepared. This is designated as "curing agent H-1".

【0023】<(a)成分の調製>表1に示すように、
主剤P−1と硬化剤H−1とを、重量比で 1.0/2.0
〔OH基/NCO基=1.0 /1.05(当量)〕となる割合
で混合し、(a)成分を調製した。これを「成分A−
1」とする。
<Preparation of Component (a)> As shown in Table 1,
The main agent P-1 and the curing agent H-1 were added in a weight ratio of 1.0 / 2.0.
[OH group / NCO group = 1.0 / 1.05 (equivalent)] was mixed to prepare the component (a). This is referred to as “Component A-
1 ".

【0024】<組成物の調製>表2に示すように、成分
A−1の 100重量部と、平均粒径40μmのニッケルより
なる導電性粒子(以下「成分B−1」という)の 400重
量部とを混合して、本発明の組成物を調製した。これを
「組成物C−1」とする。
<Preparation of Composition> As shown in Table 2, 100 parts by weight of component A-1 and 400 parts by weight of conductive particles made of nickel having an average particle diameter of 40 μm (hereinafter referred to as “component B-1”). And the components were mixed to prepare a composition of the present invention. This is designated as “composition C-1”.

【0025】<コネクター層の形成>各々の幅が0.15m
m、電極ピッチが0.25mmの銅に金メッキを施してなるリ
ード電極を合計 240本有する回路基板のリード電極領域
に、下記のようにして、外面が全体に平坦なコネクター
層を形成して回路基板装置を製造した。組成物C−1に
減圧脱泡処理を行った後、この組成物C−1をリード電
極上にスクリーン印刷法で塗布してコネクター層の導電
部を形成し、その後、成分A−1のキシレン希釈液を、
リード電極領域以外の領域にスピンコーティングにより
塗布してコネクター層の絶縁部を形成した。図1に示す
ように、強磁性体部分Mと非強磁性体部分Nとよりな
り、下面が平坦である磁極板30を用い、その下面を導電
部21と絶縁部22とからなるコネクター層20の表面に対接
させた状態で上型31および下型32により、平行磁場を作
用させたまま 100℃で4時間放置して硬化させ、回路基
板10と一体化した厚さ 0.3mmのコネクター層を形成し
た。なお、使用した磁極板30における強磁性体部分Mの
幅および隣接するものとの中心間距離(ピッチ)は、回
路基板10のリード電極層13の幅および電極ピッチと一致
したものであり、この条件は以下の実施例および比較例
においても同様である。
<Formation of connector layer> Each width is 0.15 m
m, a connector layer having a flat outer surface as a whole is formed on the lead electrode area of the circuit board having a total of 240 lead electrodes formed by applying gold plating to copper having an electrode pitch of 0.25 mm as follows. The device was manufactured. After subjecting the composition C-1 to a defoaming treatment under reduced pressure, the composition C-1 is applied on a lead electrode by a screen printing method to form a conductive portion of a connector layer. Diluent
It was applied by spin coating to a region other than the lead electrode region to form an insulating portion of the connector layer. As shown in FIG. 1, a magnetic pole plate 30 composed of a ferromagnetic material portion M and a non-ferromagnetic material portion N and having a flat lower surface is used. 0.3 mm thick connector layer integrated with the circuit board 10 by allowing it to stand at 100 ° C for 4 hours while applying a parallel magnetic field with the upper mold 31 and the lower mold 32 in contact with the surface of Was formed. The width of the ferromagnetic portion M in the magnetic pole plate 30 used and the center-to-center distance (pitch) between adjacent ones are the same as the width and the electrode pitch of the lead electrode layer 13 of the circuit board 10. The conditions are the same in the following examples and comparative examples.

【0026】実施例2 <(a)成分の調製>表1に示す処方により、実施例1
と同様の操作を行って主剤P−2を合成し、硬化剤H−
2を調製し、更に表1に示す重量比で混合して成分A−
2を調製した。
Example 2 <Preparation of component (a)>
The main agent P-2 is synthesized by performing the same operation as described above, and the curing agent H-
2 was prepared and further mixed at the weight ratio shown in Table 1 to obtain component A-
2 was prepared.

【0027】<組成物の調製>表2に示す処方により、
成分A−2に実施例1と同様にして成分B−1を混合
し、本発明の組成物C−2を調製した。
<Preparation of Composition> According to the formulation shown in Table 2,
The component B-1 was mixed with the component A-2 in the same manner as in Example 1 to prepare a composition C-2 of the present invention.

【0028】<コネクター層の形成>組成物C−1に代
えて組成物C−2を用いてコネクター層の導電部を形成
し、成分A−1に代えて成分A−2を用いてコネクター
層の絶縁部を形成したこと以外は実施例1と同様の操作
を行って回路基板と一体化した厚さ 0.3mmのコネクター
層を形成した。
<Formation of Connector Layer> A conductive portion of a connector layer is formed by using composition C-2 instead of composition C-1, and a connector layer is formed by using component A-2 instead of component A-1. A connector layer having a thickness of 0.3 mm integrated with the circuit board was formed in the same manner as in Example 1 except that the insulating portion was formed.

【0029】実施例3 <組成物の調製>表2に示すように、成分B−1に代え
て、金メッキ(ニッケル1kgに対して40gの金) が施さ
れた平均粒径40μmのニッケルよりなる導電性粒子(以
下「成分B−2」という)を用いたこと以外は実施例1
と同様の操作を行って本発明の組成物C−3を調製し
た。
Example 3 <Preparation of composition> As shown in Table 2, instead of the component B-1, nickel-plated nickel (40 g of gold per 1 kg of nickel) having an average particle size of 40 μm was used. Example 1 except that conductive particles (hereinafter referred to as “component B-2”) were used.
The composition C-3 of the present invention was prepared in the same manner as in the above.

【0030】<コネクター層の形成>組成物C−1に代
えて組成物C−3を用いてコネクター層の導電部を形成
したこと以外は実施例1と同様にして回路基板と一体化
した厚さ 0.3mmのコネクター層を形成した。
<Formation of Connector Layer> A thickness integrated with a circuit board in the same manner as in Example 1 except that the conductive portion of the connector layer was formed using composition C-3 instead of composition C-1. A connector layer having a thickness of 0.3 mm was formed.

【0031】比較例1 <組成物の調製>室温硬化型シリコーンゴムコンパウン
ド「KE−1600」(信越シリコーン社製)100 gに、硬
化剤「CAT1600」(信越シリコーン社製)10gを加え
て混合した。この混合物を「成分a−1」とする。表3
に示すように、成分a−1に実施例1と同様にして成分
B−1を混合し、組成物c−1を調製した。
Comparative Example 1 <Preparation of Composition> 10 g of a curing agent "CAT1600" (manufactured by Shin-Etsu Silicone) was added to 100 g of room temperature-curable silicone rubber compound "KE-1600" (manufactured by Shin-Etsu Silicone) and mixed. . This mixture is referred to as “component a-1”. Table 3
As shown in the above, component B-1 was mixed with component a-1 in the same manner as in Example 1 to prepare composition c-1.

【0032】<コネクター層の形成>組成物c−1を減
圧脱泡処理した後、この組成物c−1をリード電極上に
スクリーン印刷法で塗布してコネクター層の導電部を形
成し、その後、成分a−1の「RTVシンナー」(信越
シリコーン社製)希釈液を、リード電極領域以外の領域
にスピンコーティングにより塗布してコネクター層の絶
縁部を形成した。 その後、実施例1と同様の操作を行
って回路基板と一体化した厚さ 0.3mmのコネクター層を
形成した。
<Formation of Connector Layer> After subjecting composition c-1 to defoaming under reduced pressure, this composition c-1 is applied on a lead electrode by a screen printing method to form a conductive portion of the connector layer. A diluted solution of the component a-1 "RTV Thinner" (manufactured by Shin-Etsu Silicone Co., Ltd.) was applied to regions other than the lead electrode region by spin coating to form insulating portions of the connector layer. Thereafter, the same operation as in Example 1 was performed to form a connector layer having a thickness of 0.3 mm integrated with the circuit board.

【0033】比較例2および3 <(a)成分の調製>表1に示す処方により、実施例1
と同様の操作を行って主剤p−2およびp−3を合成
し、硬化剤h−2およびh−3を調製した。それぞれ表
1に示す重量比で混合して成分a−2およびa−3を調
製した。
Comparative Examples 2 and 3 <Preparation of Component (a)>
By performing the same operation as described above, the main agents p-2 and p-3 were synthesized, and curing agents h-2 and h-3 were prepared. Components a-2 and a-3 were prepared by mixing at the respective weight ratios shown in Table 1.

【0034】<組成物の調製>表3に示す処方により、
成分a−2およびa−3のそれぞれに実施例1と同様に
して成分B−1を混合して組成物c−2およびc−3を
調製した。
<Preparation of Composition> According to the formulation shown in Table 3,
Components c-2 and c-3 were prepared by mixing component B-1 with each of components a-2 and a-3 in the same manner as in Example 1.

【0035】<コネクター層の形成>組成物C−1に代
えて組成物c−2およびc−3のそれぞれを用いてコネ
クター層の導電部を形成し、成分A−1に代えて成分a
−2およびa−3のそれぞれを用いてコネクター層の絶
縁部を形成したこと以外は実施例1と同様の操作を行っ
て回路基板と一体化した厚さ 0.3mmのコネクター層を形
成した。
<Formation of Connector Layer> A conductive portion of the connector layer is formed by using each of the compositions c-2 and c-3 instead of the composition C-1, and a component a is used instead of the component A-1.
The same operation as in Example 1 was performed except that an insulating portion of the connector layer was formed using each of -2 and a-3 to form a connector layer having a thickness of 0.3 mm integrated with the circuit board.

【0036】比較例4および5 <組成物の調製>B−2成分の使用量を、表3に示す処
方に従って変更したこと以外は実施例3と同様の操作を
行って組成物c−4およびc−5を調製した。
Comparative Examples 4 and 5 <Preparation of Composition> Composition c-4 and composition c-4 were prepared in the same manner as in Example 3 except that the amount of component B-2 was changed according to the formulation shown in Table 3. c-5 was prepared.

【0037】<コネクター層の形成>組成物C−1に代
えて組成物c−4およびc−5のそれぞれを用いてコネ
クター層の導電部を形成したこと以外は実施例1と同様
にして回路基板と一体化した厚さ 0.3mmのコネクター層
を形成した。
<Formation of Connector Layer> A circuit was formed in the same manner as in Example 1 except that the conductive portion of the connector layer was formed using each of compositions c-4 and c-5 instead of composition C-1. A connector layer having a thickness of 0.3 mm integrated with the substrate was formed.

【0038】実施例4〜5 <組成物の調製>表4に示す処方により、B−1成分の
使用量を 150重量部に変更したこと以外は実施例1乃至
2のそれぞれと同様の操作を行って本発明の組成物C−
4乃至C−5を調製した。
Examples 4 to 5 <Preparation of Composition> The same operations as in Examples 1 and 2 were carried out except that the amount of component B-1 was changed to 150 parts by weight according to the formulation shown in Table 4. The composition of the invention C-
4 to C-5 were prepared.

【0039】<導電性シートの製造>組成物C−4乃至
C−5のそれぞれに減圧脱泡処理を行った後、この組成
物C−4乃至C−5のそれぞれを、図2に示すような強
磁性体部分Mと非強磁性体部分Nよりなり、非強磁性体
部分Nが強磁性体部分Mより0.03mm突出してなる磁極板
35の間に注入し、この状態で図3に示すように、上型31
および下型32により、磁極板35に平行磁場を作用させた
まま 100℃で4時間放置して硬化させ、導電性粒子Eが
厚さ方向に配列された厚さ 0.3mmの導電部23と、導電性
粒子Eの存在確率が小さい厚さ0.24mmの絶縁部24とより
なる異方導電性シートを製造した。
<Manufacture of Conductive Sheet> After subjecting each of the compositions C-4 to C-5 to a defoaming treatment under reduced pressure, each of the compositions C-4 to C-5 was treated as shown in FIG. A pole plate comprising a ferromagnetic portion M and a non-ferromagnetic portion N, wherein the non-ferromagnetic portion N protrudes 0.03 mm from the ferromagnetic portion M.
35, and in this state, as shown in FIG.
And the lower mold 32 is left for 4 hours at 100 ° C. while applying a parallel magnetic field to the magnetic pole plate 35 to be cured, and the conductive part 23 having a thickness of 0.3 mm in which the conductive particles E are arranged in the thickness direction; An anisotropic conductive sheet comprising an insulating portion 24 having a thickness of 0.24 mm and having a small probability of existence of the conductive particles E was produced.

【0040】実施例6 <組成物の調製>表4に示す処方により、B−2成分の
使用量を 150重量部に変更したこと以外は実施例3と同
様の操作を行って本発明の組成物C−6を調製した。
Example 6 <Preparation of composition> The composition of the present invention was prepared in the same manner as in Example 3 except that the amount of component B-2 was changed to 150 parts by weight according to the formulation shown in Table 4. Compound C-6 was prepared.

【0041】<導電性シートの製造>組成物C−4に代
えて組成物C−6を用いたこと以外は実施例4と同様に
して導電部の厚さ 0.3mm、絶縁部の厚さ0.24mmの異方導
電性シートを製造した。
<Production of Conductive Sheet> The thickness of the conductive portion was 0.3 mm and the thickness of the insulating portion was 0.24 in the same manner as in Example 4 except that the composition C-6 was used instead of the composition C-4. mm of an anisotropic conductive sheet was manufactured.

【0042】比較例6〜8 <組成物の調製>表5に示す処方により、B−1成分の
使用量を 150重量部に変更したこと以外は比較例1乃至
3のそれぞれと同様にして組成物c−6乃至c−8を調
製した。
Comparative Examples 6 to 8 <Preparation of Composition> The compositions were prepared in the same manner as in Comparative Examples 1 to 3 except that the amount of the component B-1 was changed to 150 parts by weight according to the formulation shown in Table 5. Compounds c-6 to c-8 were prepared.

【0043】<導電性シートの製造>組成物C−4に代
えて組成物c−6乃至c−8のそれぞれを用いたこと以
外は実施例4と同様にして導電部の厚さ 0.3mm、絶縁部
の厚さ0.24mmの異方導電性シートを製造した。
<Production of Conductive Sheet> A conductive part having a thickness of 0.3 mm was prepared in the same manner as in Example 4 except that each of the compositions c-6 to c-8 was used instead of the composition C-4. An anisotropic conductive sheet having a thickness of 0.24 mm of the insulating portion was manufactured.

【0044】比較例9〜10 表5に示す処方により、組成物C−4に代えて組成物c
−4およびc−5のそれぞれを用いたこと以外は実施例
4と同様にして導電部の厚さ 0.3mm、絶縁部の厚さ0.24
mmの異方導電性シートを製造した。
Comparative Examples 9 to 10 According to the formulation shown in Table 5, composition c was used in place of composition C-4.
The thickness of the conductive part was 0.3 mm and the thickness of the insulating part was 0.24 in the same manner as in Example 4 except that each of -4 and c-5 was used.
mm of an anisotropic conductive sheet was manufactured.

【0045】<コネクター層および導電性シートの評価
>実施例1乃至5および比較例1乃至5により得られた
回路基板と一体化したコネクター層を有してなる回路基
板装置について、次のようにして耐久性の評価を行っ
た。コネクター層に25%の歪が生ずるように加圧したと
きの電気抵抗(初期値)を測定し、同様の加圧操作を 3
0000回繰り返し、電気抵抗の変化を測定した。また、実
施例4乃至6および比較例6乃至10により得られた導電
性シートと回路基板との位置合わせを行った後、上記と
同様にして導電性シートの耐久性の評価を行った。表2
乃至表5に初期の抵抗値の平均値および 30000回の加圧
履歴後の抵抗値の平均値を示す。なお、表1に示された
ウレタンエラストマーシートの硬度は下記の方法により
得た。 <硬化後のウレタンエラストマーの硬度の測定>硬度の
測定は、主剤成分と硬化剤成分を混合、減圧脱泡後、熱
硬化させ厚さ13〜15mmのウレタンエラストマーシートを
作製し、JIS K 6301の試験法により、スプリング式かた
さ試験機A形を用いて行った。
<Evaluation of Connector Layer and Conductive Sheet> A circuit board device having a connector layer integrated with the circuit boards obtained in Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 5 is as follows. And the durability was evaluated. Measure the electrical resistance (initial value) when the connector layer is pressurized so that a 25% strain is generated.
Repeated 0000 times, the change in electric resistance was measured. In addition, after the conductive sheets obtained in Examples 4 to 6 and Comparative Examples 6 to 10 were aligned with the circuit board, the durability of the conductive sheets was evaluated in the same manner as described above. Table 2
Table 5 shows the average value of the initial resistance values and the average value of the resistance values after 30,000 pressurization histories. The hardness of the urethane elastomer sheet shown in Table 1 was obtained by the following method. <Measurement of hardness of urethane elastomer after curing> The hardness was measured by mixing a main component and a curing agent, defoaming under reduced pressure, and heat-curing to prepare a urethane elastomer sheet having a thickness of 13 to 15 mm. According to the test method, the test was performed using a spring type hardness tester A type.

【0046】[0046]

【表1】 [Table 1]

【0047】表1において、主剤成分を構成するポリオ
ール化合物およびポリイソシアネート化合物並びに硬化
剤成分を構成するポリオール化合物は以下のものを用い
た。また、ウレタン化反応触媒としてはジブチルチンラ
ウレートを用い、充填剤としてはシリカ微粉末「アエロ
ジル」(日本アエロジル社製)を用いた。 〔ポリオール化合物〕 PO−1:ポリカーボネートジオール「DN−986 」
(日本ポリウレタン社製) PO−2:変性ポリテトラメチレングリコール「PTG
L−4000」(保土谷化学工業社製) PO−3:シリコーンジオール「KF6003」(信越シリ
コーン社製) PO−4:ポリカーボネートジオール「ニッポラン 982
R」(日本ポリウレタン社製) PO−5:ポリエステルトリオール「クラポールP−30
00」(クラレ社製) PO−6:トリメチロールプロパン(三菱ガス化学社
製) PO−7:「DK−08−779 」(ダウコーニング社製) PO−8:ポリエステルジオール「クラポールP1010」
(クラレ社製)〔ポリイソシアネート化合物〕 PI−1:トリレンジイソシアネート(三井東圧化学社
製) PI−2:ポリメリックジフェニルメタンジイソシアネ
ート「ミリオネートMR−200 」(日本ポリウレタン社
製) PI−3:変性ジフェニルメタンジイソシアネート「ス
ミジュールPF」(住友バイエルウレタン社製)
In Table 1, the following polyol compounds and polyisocyanate compounds constituting the main component and the following polyol compounds constituting the curing agent component were used. Further, dibutyltin laurate was used as a urethanization reaction catalyst, and silica fine powder "Aerosil" (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.) was used as a filler. [Polyol compound] PO-1: polycarbonate diol "DN-986"
PO-2: Modified polytetramethylene glycol "PTG"
L-4000 "(Hodogaya Chemical Industry Co., Ltd.) PO-3: Silicone diol" KF6003 "(Shin-Etsu Silicone Co., Ltd.) PO-4: Polycarbonate diol" Nipporan 982 "
R "(manufactured by Nippon Polyurethane Co., Ltd.) PO-5: Polyester triol" Kurapol P-30 "
00 "(Kuraray) PO-6: Trimethylolpropane (Mitsubishi Gas Chemical) PO-7:" DK-08-779 "(Dow Corning) PO-8: Polyester diol" Kurapol P1010 "
(Kuraray) [Polyisocyanate compound] PI-1: Tolylene diisocyanate (Mitsui Toatsu Chemicals) PI-2: Polymeric diphenylmethane diisocyanate "Millionate MR-200" (Nippon Polyurethane) PI-3: Modified diphenylmethane Diisocyanate "Sumidur PF" (Sumitomo Bayer Urethane Co., Ltd.)

【0048】[0048]

【表2】 [Table 2]

【0049】[0049]

【表3】 [Table 3]

【0050】[0050]

【表4】 [Table 4]

【0051】[0051]

【表5】 [Table 5]

【0052】表3および表5中、*1は途中でコネクタ
ー層が回路基板から剥離し、コネクター層と回路基板と
の位置ズレが発生したことを示し、*2は途中でコネク
ター層の導電部が破損したことを示す。
In Tables 3 and 5, * 1 indicates that the connector layer was peeled off from the circuit board in the middle and a positional shift between the connector layer and the circuit board occurred, and * 2 was a conductive portion of the connector layer in the middle. Indicates that it was damaged.

【0053】実施例1乃至3および比較例1乃至5は、
回路基板と一体化したコネクター層を形成した例であ
る。これらの実施例の組成物によれば、エポキシ基板と
の密着性が良好であり、耐久テスト中も安定した導電性
を示すことが理解される。
Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 5
This is an example in which a connector layer integrated with a circuit board is formed. It is understood that the compositions of these examples have good adhesion to the epoxy substrate and exhibit stable conductivity even during the durability test.

【0054】一方、従来のシリコーンゴム組成物a−1
を使用した比較例1では、コネクター層の回路基板に対
する密着性が乏しくて試験の途中でコネクター層が回路
基板より剥離し、両者の位置ズレを生じた。比較例2で
は、導電性粒子の接触が不十分となって、耐久テストに
おいても高い抵抗値を示し、比較例3では、安定的な導
電性を維持することができなかった。比較例4では、導
電性粒子の使用量が過少であるので、導電路の形成が不
十分であり耐久テストにおいても高い抵抗値を示し、一
方比較例5では、導電性粒子の使用量が過多であるの
で、コネクター層の強度が不十分であり耐久テストに耐
えることができず、いずれもコネクター層として好適に
機能しないものである。
On the other hand, a conventional silicone rubber composition a-1
In Comparative Example 1, the connector layer was poor in adhesion to the circuit board, and the connector layer was peeled off from the circuit board during the test, resulting in displacement between the two. In Comparative Example 2, the contact of the conductive particles was insufficient, and a high resistance value was exhibited in the durability test. In Comparative Example 3, stable conductivity could not be maintained. In Comparative Example 4, since the amount of the conductive particles used was too small, the formation of the conductive path was insufficient and the resistance value was high even in the durability test, whereas in Comparative Example 5, the amount of the conductive particles used was excessive. Therefore, the strength of the connector layer is insufficient, so that it cannot withstand a durability test, and none of them functions suitably as a connector layer.

【0055】実施例4乃至6および比較例6乃至10は、
導電性シートを製造した例である。比較例6乃至10で
は、導電性シートと回路基板が一体化していないため、
耐久テスト毎に生じる両者の位置ズレにより抵抗値の経
時的増加が認められ、いずれもコネクター層として好適
に機能しないものである。これに対して、本実施例の組
成物を使用した実施例4乃至6では、なお安定した耐久
性を示していることが理解される。
Examples 4 to 6 and Comparative Examples 6 to 10
This is an example of manufacturing a conductive sheet. In Comparative Examples 6 to 10, since the conductive sheet and the circuit board were not integrated,
A time-dependent increase in the resistance value was observed due to the positional deviation between the two, which occurred each time the durability test was performed, and none of them suitably functioned as the connector layer. On the other hand, it is understood that Examples 4 to 6 using the composition of this Example still show stable durability.

【0056】[0056]

【発明の効果】本発明によれば、(a)成分の組成、形
成されるウレタンエラストマーの硬度および(b)導電
性粒子の使用量を特定の範囲とすることにより、耐久性
のある導電性ウレタンエラストマーを得ることができ
る。また、ウレタンエラストマーは被着物への接着性が
高いものであるため、回路基板上に一体化した導電層が
形成され、電気的接続に関してより信頼性の高い素子を
得ることができる。従って、本発明の導電性ウレタンエ
ラストマー形成組成物は、耐久性が要求される基板検査
用素子あるいは挿入、脱着回数の多いコネクター素子な
どの製造に好適に用いることができ、IC検査用の素子
の製造にも好適である。
According to the present invention, by setting the composition of the component (a), the hardness of the urethane elastomer to be formed, and the amount of the conductive particles (b) in a specific range, it is possible to obtain a durable conductive material. A urethane elastomer can be obtained. Further, since the urethane elastomer has high adhesiveness to an adherend, an integrated conductive layer is formed on the circuit board, and an element having higher reliability in electrical connection can be obtained. Therefore, the conductive urethane elastomer-forming composition of the present invention can be suitably used for the production of a board inspection element requiring durability, or a connector element having a large number of insertions / removals, and the like. It is also suitable for manufacturing.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】回路基板上に直接コネクター層を形成し、平行
磁場を作用させたときの状態を示す説明用断面図であ
る。
FIG. 1 is an explanatory cross-sectional view showing a state where a connector layer is directly formed on a circuit board and a parallel magnetic field is applied.

【図2】導電性の組成物を磁極板の間に注入したときの
状態を示す説明用断面図である。
FIG. 2 is an explanatory sectional view showing a state when a conductive composition is injected between magnetic pole plates.

【図3】導電性の組成物を磁極板の間に注入した後平行
磁場を作用させ、コネクター層の導電部および絶縁部を
構成したことを示す説明用断面図である。
FIG. 3 is an explanatory sectional view showing that a conductive composition and an insulating portion of a connector layer are formed by applying a parallel magnetic field after injecting a conductive composition between pole plates.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 回路基板 13 リード電極層 20 コネクター層 21 導電部 22 絶縁部 23 導電部 24 絶縁部 30 磁極板 31 上型 32 下型 35 磁極板 M 強磁性体部分 N 非磁性体部分 E 導電性粒子 10 Circuit board 13 Lead electrode layer 20 Connector layer 21 Conducting part 22 Insulating part 23 Conducting part 24 Insulating part 30 Magnetic pole plate 31 Upper die 32 Lower die 35 Magnetic pole plate M Ferromagnetic material part N Non-magnetic material part E Conductive particles

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭59−6255(JP,A) 特開 昭62−95342(JP,A) 特開 昭62−179541(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) C08G 18/44 C08K 3/08 C08L 75/04 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of the front page (56) References JP-A-59-6255 (JP, A) JP-A-62-95342 (JP, A) JP-A-62-179541 (JP, A) (58) Field (Int.Cl. 6 , DB name) C08G 18/44 C08K 3/08 C08L 75/04

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 (a)50重量%以上がポリカーボネート
ジオールであるポリオール化合物とポリイソシアネート
化合物とを含有してなり、ウレタン化反応によりウレタ
ンエラストマーを形成するウレタンエラストマー形成成
分 100重量部に、(b)導電性粒子30〜1000重量部が分
散されていることを特徴とする導電性ウレタンエラスト
マー形成組成物。
(1) 100 parts by weight of a urethane elastomer-forming component which contains a polyol compound in which 50% by weight or more is a polycarbonate diol and a polyisocyanate compound, and forms a urethane elastomer by a urethanization reaction; (3) A conductive urethane elastomer-forming composition, wherein 30 to 1000 parts by weight of conductive particles are dispersed.
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