JP2987799B2 - Single crystal pulling device - Google Patents

Single crystal pulling device

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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、棒状単結晶の製造
に使用されるCZ法による単結晶引上げ装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a CZ single crystal pulling apparatus used for producing a rod-shaped single crystal.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体ディバイスの製造に使用されるシ
リコンウェーハは棒状のシリコン単結晶より採取され、
その単結晶の製造にはCZ法による引上げが多用されて
いる。CZ法によるシリコン単結晶の引上げでは、周知
の通り、坩堝内の原料融液にワイヤの下端に装着された
種結晶を浸漬し、この状態から種結晶をワイヤにより回
転させながら上昇させることにより、原料融液から単結
晶を引上げる。
2. Description of the Related Art A silicon wafer used for manufacturing a semiconductor device is collected from a rod-shaped silicon single crystal.
For the production of the single crystal, pulling by the CZ method is frequently used. In pulling a silicon single crystal by the CZ method, as is well known, a seed crystal mounted on a lower end of a wire is immersed in a raw material melt in a crucible, and from this state, the seed crystal is raised by rotating the seed crystal with the wire. A single crystal is pulled from the raw material melt.

【0003】また単結晶を引上げる前には、図3(A)
に示すように、坩堝4内に原料として粒塊状の多結晶シ
リコンをチャージし、その固形原料16を坩堝4の周囲
に配置されたヒータ7により加熱溶解することにより、
坩堝4内に原料融液17を生成する。坩堝4としては、
内側の石英坩堝4aとこれを支持するための外側の黒鉛
坩堝4bとを組み合わせた二重構造のものが通常使用さ
れる。
Prior to pulling a single crystal, FIG.
As shown in the figure, polycrystalline silicon in a granular form is charged into the crucible 4 as a raw material, and the solid raw material 16 is heated and melted by the heater 7 disposed around the crucible 4,
A raw material melt 17 is generated in the crucible 4. As the crucible 4,
A double structure having a combination of an inner quartz crucible 4a and an outer graphite crucible 4b for supporting the quartz crucible is usually used.

【0004】このようなCZ法による単結晶の引上げ、
特に引上げ開始前の原料溶解プロセスにおいては、坩堝
内にチャージされた固形原料をできるだけ短時間で溶解
することの他に、その固形原料を均一に溶解することが
必要である。なぜなら、坩堝内の原料が坩堝周囲のヒー
タにより加熱される関係から、中心部の原料の加熱状態
が本質的に悪く、その原料の溶解が遅れることにより、
図3(B)に示すような逆三角錐状の溶け残りを溶解後
期に生じるからである。
[0004] Such pulling of a single crystal by the CZ method,
In particular, in the raw material dissolving process before the start of pulling, it is necessary not only to dissolve the solid raw material charged in the crucible in as short a time as possible, but also to dissolve the solid raw material uniformly. Because the raw material in the crucible is heated by the heater around the crucible, the heating state of the raw material in the center is essentially bad, and the melting of the raw material is delayed,
This is because an inverted triangular pyramid-shaped undissolved residue as shown in FIG.

【0005】この溶け残りは、幾何学的にも非常に不安
定であり、横倒しになるなどして内側の石英坩堝を破損
させる原因になる。石英坩堝の破損が著しいと、石英坩
堝内の溶融原料が外側の黒鉛坩堝の外に流れ出し、他の
カーボン部材や金属チャンバーまで破損させるおそれが
ある。特に、水冷された金属チャンバーの破損は水蒸気
爆発につながり危険である。
[0005] The unmelted residue is very unstable geometrically, and may cause damage to the inner quartz crucible by overturning. If the quartz crucible is severely damaged, the molten raw material in the quartz crucible may flow out of the outer graphite crucible and damage other carbon members or metal chambers. In particular, breakage of a water-cooled metal chamber can lead to a steam explosion, which is dangerous.

【0006】このような固形原料の不均一な溶解を避け
るために、これまでは溶解時間を長くとっていた。ま
た、固形原料の均一な溶解による溶解時間の短縮を目的
として、坩堝の下方にヒータを追加配置する技術が、特
開平2−22184号公報により提案されている。
Until now, in order to avoid such non-uniform dissolution of the solid raw material, the dissolution time has been long. Further, a technique of additionally disposing a heater below the crucible for the purpose of shortening the melting time by uniform melting of the solid raw material is proposed in Japanese Patent Laid-Open No. 22184/1990.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、溶解時
間の延長は操業効率の低下を招く。一方、坩堝下方への
ヒータの追加配置は、確かに溶解時間の短縮に有効であ
る。しかし、ここにおける溶解時間の短縮は、主に熱量
の純粋な増加によって達成され、逆三角錐状の溶け残り
の解消によるものではない。
However, prolonging the dissolution time causes a decrease in operating efficiency. On the other hand, the additional arrangement of the heater below the crucible is certainly effective in shortening the melting time. However, the shortening of the melting time here is achieved mainly by a pure increase in the amount of heat, not by eliminating the inverted triangular pyramid-shaped unmelted residue.

【0008】すなわち、坩堝の周囲に配置されているヒ
ータの出力を高めると、図3(A)に破線で示されてい
るように、内側の石英坩堝が変形し、この変形が極端な
場合は単結晶の引上げが困難になるが、坩堝の下方にヒ
ータを追加配置すると、坩堝の周囲のヒータの出力を高
めなくても投入熱量の増加が可能となる。しかし、溶解
後期に生じる逆三角錐状の溶け残りに関して言えば、坩
堝下方へのヒータの追加配置は主に下部の原料の溶解を
促進し、しかも坩堝を支持する軸体が邪魔になって坩堝
の底の中心部を直接加熱できない。このために、逆三角
錐状の不安定な溶け残りの解消には直接つながらず、場
合によってはその溶け残りを増長することにもなりかね
ない。
That is, when the output of the heater disposed around the crucible is increased, the inner quartz crucible is deformed as shown by a broken line in FIG. Although it is difficult to pull up a single crystal, if a heater is additionally arranged below the crucible, the amount of heat input can be increased without increasing the output of the heater around the crucible. However, regarding the inverted triangular pyramid-shaped undissolved residue that occurs in the later stage of melting, the additional arrangement of the heater below the crucible mainly promotes melting of the lower raw material, and the shaft supporting the crucible obstructs the crucible. Can not directly heat the center of the bottom. For this reason, it does not directly lead to the elimination of the unstable dissolution residue in the inverted triangular pyramid shape, and in some cases, may increase the melting residue.

【0009】このように、坩堝下方へのヒータの追加配
置は、固形原料の不均一加熱による不安定な溶け残りの
解消に対しては必ずしも有効でなく、この点において本
来の機能を十分に発揮しているとは言えない。
As described above, the additional arrangement of the heater below the crucible is not necessarily effective in eliminating unstable unmelted residue due to uneven heating of the solid raw material, and in this respect, the original function is sufficiently exhibited. I can't say that.

【0010】本発明の目的は、坩堝内の固形原料の不安
定な溶け残りの解消に有効な単結晶引上げ装置を提供す
ることにある。
An object of the present invention is to provide a single crystal pulling apparatus which is effective for eliminating unstable undissolved residual solid material in a crucible.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】本発明の単結晶引上げ装
置は、CZ法により坩堝内の原料融液から単結晶を引上
げる単結晶引上げ装置において、坩堝の周囲に配置され
た環状のサイドヒータと、引上げ前に坩堝内で固形原料
を溶解する際に坩堝内の原料を上方から加熱するサブヒ
ータを具備しており、該サブヒータは、坩堝真上の加
熱位置で円板状に組み合わされて坩堝内の固形原料に上
方から対向すると共に、前記加熱位置とその上方の退避
位置の間を往復移動し、上方の退避位置では両側に離反
して単結晶の引上げに支障を生じない状態となる、半円
形状をした一対のトップヒータであることを特徴とす
る。
A single crystal pulling apparatus of the present invention, in order to solve the problems], in a single crystal pulling apparatus for pulling a single crystal from a raw material melt in the crucible by the CZ method, are arranged around the crucible
And an annular side heaters, and includes a sub-heater for heating the raw material in the crucible at the time of dissolving the solid material in the crucible before pulling from above, the sub-heater, the crucible just above the pressure
Combined in a disc shape at the hot position and placed on the solid material in the crucible
And the evacuation above the heating position
Reciprocate between the two positions, and move away from each other at the upper retreat position
Half-circle that does not hinder pulling of the single crystal
It is a pair of top heaters having a shape .

【0012】サブヒータ(トップヒータ)としては、カ
ーボンヒータ・セラミックヒータ等の輻射ヒータ、又は
水冷銅による高周波加熱等を用いることができる。
As the sub-heater (top heater) , a radiant heater such as a carbon heater or a ceramic heater, or a high-frequency heating using water-cooled copper can be used.

【0013】サブヒータ(トップヒータ)は又、その種
類を問わず、坩堝の下方に配置されるボトムヒータと組
み合わせるのが、その機能を引出し、溶解時間の短縮を
図る上で特に有効である。
[0013] sub heater (top heater) also regardless of the kind, that combined with the bottom heater arranged below the crucible, drawers that feature is particularly effective in shortening the dissolution time.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】以下に本発明の望ましい実施の形
態を図面に基づいて説明する。図1は本発明を実施した
引上げ装置の1例についてその主要部の構造を示す縦断
面図、図2は図1のA−A線矢視図である。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Preferred embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a longitudinal sectional view showing the structure of a main part of an example of a pulling device embodying the present invention, and FIG. 2 is a view taken along the line AA of FIG.

【0015】本引上げ装置は、CZ法によりチャンバー
内でシリコン単結晶を製造するものであり、そのチャン
バーとしてメインチャンバー1、メインチャンバー1の
上面開口部を塞ぐ鍔状のトップチャンバー2、及びトッ
プチャンバー2の内縁部上に設置されるプルチャンバー
3などを具備する。
This pulling apparatus is for producing a silicon single crystal in a chamber by the CZ method. The chamber includes a main chamber 1, a flange-shaped top chamber 2 for closing an upper opening of the main chamber 1, and a top chamber. 2 is provided with a pull chamber 3 installed on the inner edge portion.

【0016】メインチャンバー1内には坩堝4が配置さ
れている。坩堝4は内側の石英坩堝4aと外側の黒鉛坩
堝4bとからなり、昇降および回転が可能な支持軸6の
上に設置されている。坩堝4の周囲には環状のサイドヒ
ータ7が配置されている。一方、坩堝4の下方には半円
形状をした一対のボトムヒータ8,8が支持軸6を挟ん
で配置されている。また、坩堝4の上方には半円形状を
した一対のトップヒータ9,9が設けられている。
In the main chamber 1, a crucible 4 is arranged. The crucible 4 includes an inner quartz crucible 4a and an outer graphite crucible 4b, and is set on a support shaft 6 that can be moved up and down and rotated. An annular side heater 7 is arranged around the crucible 4. On the other hand, below the crucible 4, a pair of semicircular bottom heaters 8, 8 are arranged with the support shaft 6 interposed therebetween. Above the crucible 4, a pair of semi-circular top heaters 9, 9 are provided.

【0017】一対のトップヒータ9,9は、上方に向か
って外側へ対称的に傾斜した各2本の電極棒10,10
の下端に水平に取り付けられている。各トップヒータ9
を支持する2本の電極棒10,10は、トップチャンバ
ー2に取り付けた傾斜ガイド11により軸方向に移動自
在に支持されている。従って、一対のトップヒータ9,
9は、下方の加熱位置と上方の退避位置との間を往復移
動し、下方の加熱位置では坩堝4の真上において僅かの
隙間をあけて円板状に組み合わされる。また、上方の退
避位置では両側に離反して単結晶の引上げに支障を生じ
ない状態となる。なお、18は気密保持のために傾斜ガ
イド11に取り付けたベローズである。
A pair of top heaters 9, 9 are respectively provided with two electrode rods 10, 10 which are symmetrically inclined outward and upward.
Horizontally attached to the lower end of the Each top heater 9
Are supported by the inclined guide 11 attached to the top chamber 2 so as to be movable in the axial direction. Therefore, a pair of top heaters 9,
Numeral 9 reciprocates between a lower heating position and an upper evacuation position, and is assembled into a disk shape with a slight gap right above the crucible 4 at the lower heating position. Further, at the upper retreat position, it is separated from both sides, and there is no problem in pulling the single crystal. Reference numeral 18 denotes a bellows attached to the inclined guide 11 for maintaining airtightness.

【0018】各トップヒータ9は又、図2に示されるよ
うに、中心部に半円形の切り欠きを有する半円形のカー
ボンヒータであり、内周縁から外周側へ延びる第1の半
径方向のスリット13と外周縁から内周側へ延びる第2
の半径方向のスリット14とを周方向に交互に設けて形
成した蛇行状の通電路を持つ。各トップヒータ9を支持
する2本の電極棒10,10はこの通電路の両端部に電
気的に接続されている。坩堝4の下方に配置されるボト
ムヒータ8,8も基本的にトップヒータ9,9と同じ構
造である。
As shown in FIG. 2, each top heater 9 is a semicircular carbon heater having a semicircular notch at the center, and has a first radial slit extending from the inner peripheral edge to the outer peripheral side. 13 and a second extending from the outer peripheral edge to the inner peripheral side
And radial slits 14 are alternately provided in the circumferential direction. Two electrode rods 10 supporting each top heater 9 are electrically connected to both ends of the current path. The bottom heaters 8, 8 disposed below the crucible 4 have basically the same structure as the top heaters 9, 9.

【0019】一対のトップヒータ9,9を組み合わせて
形成される円板の外径は、坩堝4の内径の0.5〜1.0倍
が望ましい。これが小さいと均熱効果が弱くなり、必要
以上に大きくしても、効果は強くならない。
The outer diameter of the disk formed by combining the pair of top heaters 9, 9 is desirably 0.5 to 1.0 times the inner diameter of the crucible 4. If this is small, the soaking effect is weakened, and if it is larger than necessary, the effect is not strong.

【0020】加熱位置でのトップヒータ9,9の高さ
は、坩堝4までの距離で表わして20〜50mmが望ま
しい。これが小さいと原料の膨張により接触、放電の恐
れがあり、大きいと均熱効果が弱くなる。
The height of the top heaters 9 at the heating position is desirably 20 to 50 mm in terms of the distance to the crucible 4. If this is small, there is a risk of contact and discharge due to expansion of the raw material, and if it is large, the soaking effect is weakened.

【0021】次に、本引上げ装置における原料溶解操作
について説明する。
Next, the raw material melting operation in the pulling apparatus will be described.

【0022】トップヒータ9,9を上方の退避位置に固
定した状態で引上げ装置を組み立てる。このとき、坩堝
4に固形原料16をチャージする。チャンバー内を真空
引きした後、トップヒータ9,9を下方の加熱位置まで
下降させる。これによりトップヒータ9,9は円板状に
組み合わされて坩堝4内の固形原料16に上方から対向
する。サイドヒータ7、ボトムヒータ8,8およびトッ
プヒータ9,9に通電を行う。各トップヒータ9に対す
る通電は、2本の電極棒10,10を通して行われる。
The pulling device is assembled with the top heaters 9, 9 fixed at the upper retracted position. At this time, the crucible 4 is charged with the solid raw material 16. After the inside of the chamber is evacuated, the top heaters 9, 9 are lowered to the lower heating position. As a result, the top heaters 9, 9 are combined in a disk shape and face the solid raw material 16 in the crucible 4 from above. Power is supplied to the side heater 7, the bottom heaters 8, 8, and the top heaters 9, 9. Energization of each top heater 9 is performed through two electrode rods 10, 10.

【0023】これらの通電により、坩堝4内の固形原料
16がサイドヒータ7により坩堝4の周壁部を介して外
周側から加熱される。またボトムヒータ8,8により坩
堝4の底部を介して下方から加熱される。更にトップヒ
ータ9,9により上方から直接加熱される。これらの加
熱の結果、坩堝4内の固形原料16は逆三角錐状の不安
定な溶け残りを生じることなく、また内側の石英坩堝4
aの変形を生じることなく、短時間で安定に溶解され得
る。
By the energization, the solid material 16 in the crucible 4 is heated by the side heater 7 from the outer peripheral side through the peripheral wall of the crucible 4. Further, the crucible 4 is heated from below by the bottom heaters 8, 8. Furthermore, it is directly heated from above by the top heaters 9 and 9. As a result of these heatings, the solid raw material 16 in the crucible 4 does not cause unstable unmelted residue in the shape of an inverted triangular pyramid, and
a can be stably dissolved in a short time without causing deformation of a.

【0024】ヒータの出力については、サイドヒータ7
の出力を100として、ボトムヒータ8,8は20〜4
0、トップヒータ9,9は15〜30が望ましい。ボト
ムヒータ8,8の出力が不足すると、下部の溶け残りや
石英坩堝の変形をまねき、過大になると逆三角錐状の溶
け残りを生ずる。トップヒータ9,9の出力が不足する
と、逆三角錐状の溶け残りを生じさせ、過大になると下
部の溶け残りや石英坩堝の変形をまねく。
Regarding the output of the heater, the side heater 7
Is 100, the bottom heaters 8 and 8 are 20 to 4
0, and the top heaters 9, 9 are preferably 15 to 30. If the outputs of the bottom heaters 8 and 8 are insufficient, the lower melting residue and the deformation of the quartz crucible may be caused, and if the output becomes excessive, an inverted triangular pyramid-shaped melting residue may occur. When the output of the top heaters 9 and 9 is insufficient, an inverted triangular pyramid-shaped melting residue is generated. When the output is excessive, the lower melting residue and the quartz crucible are deformed.

【0025】トップヒータによる効果を表1に示す。不
安定な溶け残りの発生頻度比は溶け残りの転倒による微
小な損傷まで含めた坩堝損傷の発生頻度を、サイドヒー
タのみの場合を100として示したものである。トップ
ヒータを使用することにより、不安定な溶け残りが解消
され、且つ溶解時間が短縮される。この短縮にはヒータ
の増設による単なる熱量の増大だけでなく、トップヒー
タによる不安定な溶け残りの解消により、ヒータの全体
的な出力を坩堝の変形限界近くまで増大できたことによ
る。そして、トップヒータとボトムヒータの組み合わせ
が特に有効なことは表1からも明らかである。
Table 1 shows the effect of the top heater. The ratio of the frequency of occurrence of unstable residual melting indicates the frequency of occurrence of crucible damage including small damage due to falling of the residual melting, with the case of only a side heater being 100. By using the top heater, unstable unmelted residue is eliminated, and the melting time is shortened. This shortening is due not only to an increase in the amount of heat due to the addition of the heater, but also to an increase in the overall output of the heater to near the deformation limit of the crucible due to the elimination of unstable melting residue by the top heater. It is clear from Table 1 that the combination of the top heater and the bottom heater is particularly effective.

【0026】[0026]

【表1】 [Table 1]

【0027】[0027]

【発明の効果】以上に説明した通り、本発明の単結晶引
上げ装置は、引上げ前に坩堝内で固形原料を溶解する際
に坩堝真上の加熱位置で円板状に組み合わされて坩堝内
の固形原料に上方から対向する半円形状をした一対のサ
ブヒータ(トップヒータ)により、その固形原料を加熱
するので、坩堝内の固形原料の不安定な溶け残りを解消
することができ、これにより溶解時間の短縮を図ること
ができる。
As described above, the single crystal pulling apparatus of the present invention can be used for melting a solid raw material in a crucible before pulling.
At the heating position directly above the crucible and assembled in a disc shape inside the crucible
A pair of semicircular sacrifices facing the solid material from above
Since the solid raw material is heated by the bheater (top heater), unstable undissolved remaining of the solid raw material in the crucible can be eliminated, thereby shortening the melting time.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明を実施した引上げ装置の1例についてそ
の主要部の構造を示す縦断面図である。
FIG. 1 is a longitudinal sectional view showing a structure of a main part of an example of a pulling device embodying the present invention.

【図2】図1のA−A線矢視図である。FIG. 2 is a view taken along the line AA of FIG. 1;

【図3】CZ法での原料溶解プロセスを示す模式図であ
る。
FIG. 3 is a schematic view showing a raw material melting process in the CZ method.

【符号の説明】 4 坩堝 7 サイドヒータ 8 ボトムヒータ 9 トップヒータ(サブヒータ) 10 電極棒 11 ガイド 16 固形原料[Description of Signs] 4 crucible 7 side heater 8 bottom heater 9 top heater (sub heater) 10 electrode rod 11 guide 16 solid raw material

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 CZ法により坩堝内の原料融液から単結
晶を引上げる単結晶引上げ装置において、坩堝の周囲に
配置された環状のサイドヒータと、引上げ前に坩堝内で
固形原料を溶解する際に坩堝内の原料を上方から加熱す
るサブヒータを具備しており、該サブヒータは、坩堝
真上の加熱位置で円板状に組み合わされて坩堝内の固形
原料に上方から対向すると共に、前記加熱位置とその上
方の退避位置の間を往復移動し、上方の退避位置では両
側に離反して単結晶の引上げに支障を生じない状態とな
る、半円形状をした一対のトップヒータであることを特
徴とする単結晶引上げ装置。
1. A single crystal pulling apparatus for pulling a single crystal from a raw material melt in the crucible by the CZ method, the periphery of the crucible
And arranged annular side heaters, and includes a sub-heater for heating the raw material in the crucible from above when dissolving solid material in the crucible before pulling, the sub-heater, a crucible
Combined in a disk shape at the heating position directly above the solid in the crucible
While facing the raw material from above, the heating position and above
Reciprocate between the two evacuation positions.
Side so that it does not hinder the pulling of the single crystal.
A single crystal pulling device comprising a pair of semi-circular top heaters .
【請求項2】 前記サブヒータは、坩堝の下方に配置さ2. The sub-heater is disposed below a crucible.
れるボトムヒータと組み合わされていることを特徴とすCharacterized by being combined with a bottom heater
る請求項1に記載の単結晶引上げ装置。The single crystal pulling apparatus according to claim 1.
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