JP2967291B2 - Scratch inspection method - Google Patents

Scratch inspection method

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JP2967291B2
JP2967291B2 JP18298090A JP18298090A JP2967291B2 JP 2967291 B2 JP2967291 B2 JP 2967291B2 JP 18298090 A JP18298090 A JP 18298090A JP 18298090 A JP18298090 A JP 18298090A JP 2967291 B2 JP2967291 B2 JP 2967291B2
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Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、主として電子写真複写機の感光体ドラムの
ようなドラムや金属板等の表面欠陥検査装置の検査方法
に係る。
Description: BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention mainly relates to a method for inspecting a surface defect inspection apparatus for a drum such as a photosensitive drum of an electrophotographic copying machine or a metal plate.

(従来の技術) 円筒体ドラム等の表面に存在する傷などの欠陥を光学
的手段を用いて検出する装置が開発され、広く用いられ
ている。この検査装置は、スリット光を被検査物体に投
光して、その散乱光をラインセンサを用いて受光するよ
うになっている。若しくは、ビーム光を回転走査鏡で走
査して、その散乱光を光電子増倍管で受光する。受光さ
れて、光電変換された検出信号は第5図のように、信号
処理回路によりあらかじめ設定された閾値51と比較し、
2値化され、傷判定を行う。
(Prior Art) Devices for detecting defects such as scratches on the surface of a cylindrical drum or the like using optical means have been developed and widely used. This inspection apparatus emits slit light to an object to be inspected and receives the scattered light using a line sensor. Alternatively, the light beam is scanned by a rotary scanning mirror, and the scattered light is received by a photomultiplier tube. The detection signal received and photoelectrically converted is compared with a threshold value 51 preset by a signal processing circuit as shown in FIG.
It is binarized and the scratch is determined.

ラインセンサによる受光には、レンズによって集光す
る縮小光学系を用いるため、受光光量の分布が円筒体ド
ラムの中心部分と周辺部分では、円筒体ドラムからの反
射光量が2倍程度異なる、いわゆる光量むらが発生す
る。このため、ラインセンサの画素D0、D1、D2、……Dn
に対して、第5図に示すように一定の閾値51を用いず
に、第6図に示すように反射光量に対応した閾値61を用
いていた。
Since the light received by the line sensor uses a reduction optical system that condenses light by a lens, the distribution of the amount of received light differs between the central part and the peripheral part of the cylindrical drum by about twice as much as the amount of light reflected from the cylindrical drum. Unevenness occurs. Therefore, the pixels D 0 , D 1 , D 2 ,.
On the other hand, instead of using a fixed threshold value 51 as shown in FIG. 5, a threshold value 61 corresponding to the amount of reflected light is used as shown in FIG.

この装置の感光体ドラムの検査を対象とした設置環境
においては、 1)設置場所の温度変動が1年間において10℃程度発生
する 2)光源装置の劣化によりスリット光の光量の減少があ
る 3)検査対象となる感光体ドラムは、製造上のばらつき
が製造ロット毎にあり、これにより表面の反射率の違い
が10%程度ある 等の変動要素などにより、ラインセンサの信号出力が変
動する。
In the installation environment for inspecting the photosensitive drum of this apparatus, 1) the temperature fluctuation of the installation place occurs about 10 ° C. in one year 2) The amount of slit light decreases due to the deterioration of the light source apparatus 3) The photosensitive drum to be inspected has manufacturing variations among manufacturing lots, and the signal output of the line sensor fluctuates due to a variable factor such as a difference in surface reflectance of about 10%.

すなわち温度変動に対しては、ラインセンサの信号出
力が変動する。また、スリット光の光量の変動に対して
は、スリット光が被検査物体によって反射し、ラインセ
ンサが受光する光量が変化することになり、ラインセン
サの信号出力が変動する。
That is, the signal output of the line sensor fluctuates with respect to the temperature fluctuation. Further, with respect to the fluctuation of the light amount of the slit light, the slit light is reflected by the inspection object, and the light amount received by the line sensor changes, and the signal output of the line sensor changes.

また、被検査物体の反射率のばらつきに対しては、ラ
インセンサが受光する光量が変化することになり、ライ
ンセンサの信号出力が変動する。このような第7図に示
すようなラインセンサの信号出力の変動72に対して、従
来の技術では、ラインセンサから得られる検出信号のS/
N比(S:傷による信号の大きさ、N:傷のない部分の信号
の大きさ)が大きく得られる被検査物体であったため、
若干の閾値変動に対しても、正しく傷判定が可能であ
り、信号処理回路の閾値71は初期設定した後は変更しな
いことが多かった。
Also, with respect to variations in the reflectance of the inspected object, the amount of light received by the line sensor changes, and the signal output of the line sensor changes. In contrast to such a fluctuation 72 of the signal output of the line sensor as shown in FIG.
Since the object to be inspected was able to obtain a large N ratio (S: signal intensity due to flaws, N: signal intensity at unflawed parts),
It was possible to correctly determine the flaw even with a slight change in the threshold value, and the threshold value 71 of the signal processing circuit was often not changed after the initial setting.

(発明が解決しようとする課題) しかしながら、感光体ドラムにおいては、画質上欠陥
となる傷信号と、画質上問題とならない傷の信号との信
号出力レベルの差が小さい。また、画質上の欠陥とは、
主に面積で決まる。このため、出荷の基準として画質上
で0.01インチ直径以上のスポット状黒点はあってはなら
ない、等の基準が設けられている。このことから、傷判
定を行う面積値を決めている。従来の閾値を固定して傷
判定を行う方法では、上述の変動要素により、傷による
信号レベルが変動し(第8図82に対して第9図92)、閾
値(81と91)により切り出される傷の面積は、大きく変
動(第8図83に対して第9図93)するため、傷判定が正
確に行えなくなる。
(Problems to be Solved by the Invention) However, in the photosensitive drum, a difference in signal output level between a flaw signal causing a defect in image quality and a flaw signal not causing a problem in image quality is small. Also, image quality defects are:
It is mainly determined by the area. For this reason, a standard such as that there must be no spot-like black spots having a diameter of 0.01 inch or more in image quality as a standard for shipment. From this, the area value for performing the flaw determination is determined. In the conventional method of performing a flaw determination with a fixed threshold, the signal level caused by the flaw fluctuates due to the above-described variable element (FIG. 82 versus FIG. 92) and is cut out by the thresholds (81 and 91). Since the area of the flaw greatly varies (FIG. 9 vs. FIG. 93), the flaw determination cannot be performed accurately.

そこで本発明は、検査装置の設置されている場所の温
度変化や、スリット光量の変動や、検査物体の反射率の
変動等によらず、感光体ドラムのような高い閾値の精度
が要求されるものに対して、正しく傷判定を行う方法を
提供することを目的とする。
Therefore, in the present invention, high accuracy of a threshold such as a photosensitive drum is required regardless of a temperature change in a place where an inspection apparatus is installed, a change in a slit light amount, a change in the reflectance of an inspection object, and the like. It is an object of the present invention to provide a method for correctly determining a scratch on an object.

(課題を解決するための手段) 本発明は、被検査物体に光を照射し、被検査物体の表
面に存在する欠陥による散乱光を受光手段により光電変
換して検出信号を得て、閾値と比較することで表面傷検
査を行う方法において、該受光手段の暗時出力V1と、欠
陥のない正常な表面の被検査物体の信号出力V2を測定
し、 Th=(V2−V1)×p+V1 (pは被検査物体に固有の定数) で決まる閾値Thによって、傷判定を行う傷検査方法に係
るものである。
(Means for Solving the Problems) The present invention irradiates an object to be inspected with light, photoelectrically converts scattered light due to a defect present on the surface of the object to be inspected by a light receiving means to obtain a detection signal, a method of performing a surface flaw inspection by comparison, the output V 1 when dark light receiving means measures the signal output V 2 of the object to be inspected of a normal defect-free surface, Th = (V 2 -V 1 ) × p + V 1 (p is a constant peculiar to the object to be inspected), and relates to a flaw inspection method for performing flaw determination using a threshold Th determined by:

本発明の検査方法は、ラインセンサの温度ドリフト成
分を表す暗時出力、すなわちセンサを遮光状態にした場
合のラインセンサの信号出力を、欠陥が存在しない基準
被検査物体の反射光によるラインセンサ信号出力をライ
ンセンサの各画素D0、D1、D2、……Dn毎に測定された値
を引いて、これに係数を乗じて閾値を算出し、この閾値
により傷の判定を行うものである。
The inspection method of the present invention provides a dark output representing a temperature drift component of a line sensor, that is, a signal output of a line sensor when the sensor is in a light-shielded state, and a line sensor signal based on reflected light of a reference inspection object having no defect. The output is subtracted from the value measured for each pixel D 0 , D 1 , D 2 ,..., Dn of the line sensor, multiplied by a coefficient, and a threshold is calculated. is there.

ここで、係数としては、欠陥の種類により異なる比例
定数のうち、検出しようとする傷の中でもっとも低いも
のを用いる。
Here, as the coefficient, among the proportional constants that differ depending on the type of defect, the lowest one among the scratches to be detected is used.

さらに閾値の算出は、温度変動や光量変動、被検査物
体の反射率変動等に対応して行い、閾値の変更の時期と
しては、実験により、上記変動を求めて、1日毎や数時
間毎の閾値変更を行えばよい。若しくは、被検査対象を
測定する毎に閾値変更を行ってもよい。
Further, the calculation of the threshold value is performed in response to a temperature change, a light amount change, a reflectance change of the inspected object, and the like. The threshold value may be changed. Alternatively, the threshold value may be changed every time the inspection target is measured.

(作用) 本発明の検査方法において、ラインセンサの暗時出力
V1と基準となる被検査物体の反射光によるラインセンサ
の信号出力V2は、ともに装置の設置されている場所の温
度によって信号出力が変動する。このため、V2からV1
引くことにより、温度により変動しない信号成分V3を得
ている。
(Operation) In the inspection method of the present invention, the dark output of the line sensor
Signal output V 2 of the line sensor by the reflected light of the inspected object to be V 1 and the reference, the signal output varies depending on the temperature of the location where the installation of both devices. Therefore, by subtracting V 1 from V 2, to obtain a signal component V 3 which it does not vary with temperature.

また、1つの欠陥a(図示せず)による散乱光のライ
ンセンサの信号出力V4は、欠陥の存在しない基準被検査
物体の信号出力に比例することから、温度により変動し
ない信号成分V3に比例定数nを乗じることで、欠陥によ
る信号出力値V4が得られる(第10図)。nは実験的に求
められる。被検査物体の問題となる欠陥の種類が4種類
a、b、c、dであれば、それぞれ比例定数na、nb、n
c、ndを求める。これら4種類の欠陥を全て検出するた
めに、比例定数のもっとも低いものをpとして選択して
閾値を計算することにより、検査すべき傷の種類に応じ
た適切な閾値を設定し、正しく傷判定を行うことができ
る。
The signal output V 4 of the line sensor of the light scattered by one defect a (not shown) is proportional to the signal output of the non-existing reference object to be inspected for defects, the signal component V 3 which does not vary with temperature by multiplying the proportional constant n, the signal output value V 4 is obtained by the defect (Figure 10). n is determined experimentally. If there are four types of defects a, b, c, and d that cause a problem with the object to be inspected, the proportional constants na, nb, and n respectively.
Find c and nd. In order to detect all of these four types of defects, by selecting the lowest proportional constant as p and calculating the threshold value, an appropriate threshold value is set according to the type of flaw to be inspected, and correct flaw determination is performed. It can be performed.

(実施例1) 以下、本発明の一実施例を説明する。Example 1 Hereinafter, an example of the present invention will be described.

第1図(A)、(B)は、実施例の表面検査方法に用
いる欠陥検査装置の構成図である。この検査装置は、例
えば複写機感光体のような円筒体ドラムの表面に存在す
る欠陥を検出する目的に用いられる。円筒体ドラムを支
持する支持部1と円筒体ドラムの軸線を中心として、円
筒体ドラムを一定の速度で回転させる回転部2と、回転
している円筒体ドラムに対してスリット光を投光する投
光器3と、円筒体ドラム上に存在する欠陥による散乱光
を受光する、例えばD0、D1、D2、……Dnなる画素からな
るリニアセンサ4と、リニアセンサに散乱光を集光する
縮小光学系5と、リニアセンサ信号を閾値メモリ7に記
憶された閾値と比較して、2値化された信号により傷判
定を行う信号処理回路6からなっている。信号処理回路
6にはメモリとして、閾値メモリ7以外に暗時出力メモ
リ8と基準光量メモリ9がある。
FIGS. 1A and 1B are configuration diagrams of a defect inspection apparatus used in the surface inspection method of the embodiment. This inspection apparatus is used for the purpose of detecting a defect existing on the surface of a cylindrical drum such as a photoconductor of a copying machine. A support section 1 for supporting the cylindrical drum, a rotating section 2 for rotating the cylindrical drum at a constant speed about the axis of the cylindrical drum, and a slit beam projected on the rotating cylindrical drum. Floodlight 3, linear sensor 4 for receiving scattered light due to defects existing on the cylindrical drum, for example, pixels D 0 , D 1 , D 2 ,..., Dn, and scattered light condensed on the linear sensor It comprises a reduction optical system 5 and a signal processing circuit 6 which compares a linear sensor signal with a threshold value stored in a threshold value memory 7 to determine a flaw based on a binarized signal. The signal processing circuit 6 includes a dark output memory 8 and a reference light amount memory 9 in addition to the threshold memory 7 as memories.

次に、上記構成の検査装置の作動について述べる。ま
ず、投光器3から発せられるスリット光は、例えば5秒
で1回回転している円筒体ドラム面上に、例えば1mmの
幅のスリット光を照射する。複写機感光体のように鏡面
仕上げになっている円筒体ドラムでは、欠陥が存在しな
い場合はスリット光は正反射方向に反射され、欠陥が存
在すると散乱光が発生する。リニアセンサ4は、スリッ
ト光の正反射方向を避けて、散乱光を受光する位置に配
置されている。
Next, the operation of the inspection device having the above configuration will be described. First, the slit light emitted from the light projector 3 irradiates, for example, a slit light having a width of, for example, 1 mm onto the surface of the cylindrical drum that rotates once in 5 seconds, for example. In a cylindrical drum having a mirror-finished surface like a photoconductor of a copying machine, slit light is reflected in the regular reflection direction when no defect exists, and scattered light is generated when a defect exists. The linear sensor 4 is arranged at a position for receiving the scattered light while avoiding the regular reflection direction of the slit light.

第2図は、リニアセンサ信号出力を示した波形図であ
る。欠陥の存在しない円筒体ドラム表面では散乱光が少
ないため、リニアセンサ信号出力21は低く、欠陥のある
円筒体ドラム表面部分では強く散乱光を受光するので、
リニアセンサ信号出力22は高くなる。受光器4は、円筒
体ドラムの軸線方向の長さ、例えば300mmを受光するた
めに縮小光学系5が用いられているため、リニアセンサ
中心部分23と周辺部分24では、信号出力が例えば2倍程
度異なる、いわゆる光量むらが発生している。このため
閾値としては、リニアセンサの各画素D0、D1、D2、……
Dnに対応して、信号処理回路内部にあるT1、T2、T3、…
…Tnなる閾値メモリに設定することで、光量むらを補正
している。リニアセンサ信号出力は、例えば256階調にA
/D変換され、デジタル値で格納された閾値と比較され、
得られる2値化信号により傷判定を行う。上記のような
検査装置の閾値を設定する方法を第3図に示すフローチ
ャートで説明する。
FIG. 2 is a waveform diagram showing a linear sensor signal output. Since there is little scattered light on the surface of the cylindrical drum where no defects exist, the linear sensor signal output 21 is low, and the scattered light is strongly received on the surface of the defective cylindrical drum.
The linear sensor signal output 22 goes high. Since the light receiving device 4 uses the reduction optical system 5 to receive the axial length of the cylindrical drum, for example, 300 mm, the signal output is doubled at the linear sensor central portion 23 and the peripheral portion 24, for example. So-called unevenness in the amount of light occurs to some extent. For this reason, as the threshold value, each pixel D 0 , D 1 , D 2 ,.
Corresponding to Dn, T 1 , T 2 , T 3 , ... inside the signal processing circuit
... The light amount unevenness is corrected by setting a threshold value memory Tn. The linear sensor signal output is A
/ D converted, compared with the threshold value stored as a digital value,
A flaw determination is performed based on the obtained binary signal. A method of setting the threshold value of the inspection apparatus as described above will be described with reference to a flowchart shown in FIG.

ステップ1(暗時出力の測定) まず、リニアセンサ4を縮小光学系5にキャップをす
るなどして遮光状態に設定する。この状態でリニアセン
サ信号をA/D変換して、K0、K1、K2、……Knなる暗時出
力メモリ8に取り込む。
Step 1 (Measurement of Dark Output) First, the linear sensor 4 is set in a light-shielded state by capping the reduction optical system 5 or the like. In this state, the linear sensor signal is A / D-converted and taken into the dark output memory 8 of K 0 , K 1 , K 2 ,..., Kn.

ステップ2(基準光量の読み込み) 次に、リニアセンサを入光状態とし、基準となる円筒
体ドラム(以下マスタードラムと略する)を回転させて
測定する。測定はリニアセンサ4の各画素D0、D1、D2
……Dnの信号出力を、M0、M1、M2、……Mnなる基準光量
メモリ9に格納することによる。例えば本実施例では、
測定を100回繰り返して信号出力の平均を算出すること
でマスタードラムに付着した塵や埃による信号出力の異
常値の影響を軽減している。
Step 2 (Reading of Reference Light Amount) Next, the linear sensor is turned on, and measurement is performed by rotating a reference cylindrical drum (hereinafter abbreviated as a master drum). The measurement is performed for each pixel D 0 , D 1 , D 2 ,
... By storing the Dn signal output in the reference light amount memory 9 of M 0 , M 1 , M 2 ,. For example, in this embodiment,
By repeating the measurement 100 times and calculating the average of the signal output, the effects of abnormal values of the signal output due to dust and dirt attached to the master drum are reduced.

ステップ3(閾値の算出) 次に、式(1)により閾値を算出する。暗時出力メモ
リ8の内容V1をk0、k1、k2、……knとし、基準光量メモ
リ9の内容V2をm1、m2、m3、……mnとした時に、求める
閾値Thをリニアセンサの各画素D0、D1、D2、……Dnに対
応して、t0、t1、t2、……tnとする。
Step 3 (Calculation of Threshold) Next, the threshold is calculated by the equation (1). The contents V 1 of the dark signal memory 8 k 0, k 1, k 2, and ...... kn, the contents V 2 of the reference light quantity memory 9 m 1, m 2, m 3, when the ...... mn, determined The threshold value Th is defined as t 0 , t 1 , t 2 ,..., Tn corresponding to the pixels D 0 , D 1 , D 2 ,.

tq=(mq−kq)×p+kq ……(1) (0≦q≦n、pはドラム感材により異なる定数) ステップ4(閾値の決定) (1)式で算出された値をリニアセンサの各画素D0
D1、D2、……Dnに対応した閾値t0、t1、t2、……tnとし
て、T1、T2、T3、……Tnなる閾値メモリ7に設定する。
tq = (mq−kq) × p + kq (1) (0 ≦ q ≦ n, p is a constant that varies depending on the photosensitive material of the drum) Step 4 (determination of threshold) The value calculated by the equation (1) is used for the linear sensor. Each pixel D 0 ,
The threshold values t 0 , t 1 , t 2 ,... Tn corresponding to D 1 , D 2 ,..., Dn are set in the threshold value memory 7 of T 1 , T 2 , T 3 ,.

ステップ5(閾値の書換え) 装置による傷検査を実施し、マスタードラムのリニア
センサ出力の変動に応じて、例えば本実施例では1日に
3回、上記ステップ1からステップ4までの閾値算出と
設定を実施する。
Step 5 (rewriting of threshold value) A flaw inspection is performed by the device, and in accordance with the fluctuation of the linear sensor output of the master drum, for example, in the present embodiment, the threshold value calculation and setting of the above-described step 1 to step 4 are performed three times a day. Is carried out.

次に、上記のように設定した閾値により正しく傷判定
のできることを示す。
Next, it will be described that a flaw can be correctly determined by the threshold value set as described above.

(1)式に対応して、リニアセンサの暗時出力のデジ
タル値をkq、マスタードラムによるリニアセンサ信号出
力をmq、欠陥の種類aによる信号出力をrqとする。
According to the equation (1), the digital value of the dark output of the linear sensor is kq, the linear sensor signal output by the master drum is mq, and the signal output by the defect type a is rq.

まず温度の変動に対しては、リニアセンサの暗時出力
のデジタル値kqとマスタードラムによるリニアセンサ信
号出力のデジタル値mqは温度により変動するが、実験の
結果、mqからkqを引くことで得られる信号成分Sq(以
下、光信号出力と略する)は、ほぼ温度に影響されない
信号成分となることが判った。例えば本実施例において
は、kqは1〜5、mqは30程度となる。次に実験の結果、
欠陥aによるリニアセンサ信号出力のデジタル値rqは、
マスタードラムによる散乱光の光信号出力値Sqに比例す
ることがわかった。例えば、マスタードラムの反射率が
10%低くなれば、光信号出力Sqは10%低くなる。そし
て、マスタードラムと同一の反射率である円筒体ドラム
に存在する欠陥による信号出力rqも10%低くなる。同様
に、光源の劣化などによりスリット光の光量が10%低く
なれば、マスタードラムの光信号出力Sqは10%低くな
る。そして、円筒体ドラムに存在する欠陥による信号出
力rqも10%低くなることを検証した。このように、欠陥
の種類aによる信号出力rqは、マスタードラムによる光
信号出力Sqに比例するので、比例定数nを求める事がで
きる。nは実験的に求められる。例えば本実施例では、
傷の種類として4種類(打痕、擦り傷、付着、塗布む
ら)があり、それぞれna、nb、nc、nd等と求められる。
naからndのなかで最も値の低いものを選択して、(1)
式におけるpとすれば良い。実験の結果では、pは2.0
から3.0の値をとる。このように、欠陥による信号出力
はマスタードラムによる光信号出力に比例するから、閾
値はマスタードラムの光信号出力に比例して設定すれば
よい。これにより温度変動や光量変動、反射率の変動の
ようなマスタードラムの信号出力に変動値が得られる変
動要素の影響を避けることができる。
First, for temperature fluctuations, the digital value kq of the dark output of the linear sensor and the digital value mq of the linear sensor signal output by the master drum fluctuate depending on the temperature, but as a result of the experiment, it was obtained by subtracting kq from mq. It has been found that the signal component Sq (hereinafter, abbreviated as an optical signal output) is a signal component that is not substantially affected by temperature. For example, in this embodiment, kq is 1 to 5 and mq is about 30. Next, as a result of the experiment,
The digital value rq of the linear sensor signal output due to the defect a is
It was found that it was proportional to the optical signal output value Sq of the scattered light by the master drum. For example, if the reflectivity of the master drum is
If the power is reduced by 10%, the optical signal output Sq is reduced by 10%. Then, the signal output rq due to a defect existing in the cylindrical drum having the same reflectance as that of the master drum is also reduced by 10%. Similarly, if the light amount of the slit light decreases by 10% due to deterioration of the light source or the like, the optical signal output Sq of the master drum decreases by 10%. Then, it was verified that the signal output rq due to the defect existing in the cylindrical drum was also reduced by 10%. As described above, since the signal output rq based on the defect type a is proportional to the optical signal output Sq from the master drum, the proportional constant n can be obtained. n is determined experimentally. For example, in this embodiment,
There are four types of flaws (dents, abrasions, adhesion, uneven coating), each of which is required to be na, nb, nc, nd, and the like.
Select the lowest value from na to nd, (1)
What is necessary is just to be p in a formula. The experimental results show that p is 2.0
To a value of 3.0. As described above, since the signal output due to the defect is proportional to the optical signal output from the master drum, the threshold may be set in proportion to the optical signal output from the master drum. As a result, it is possible to avoid the influence of a variable element that obtains a variable value on the signal output of the master drum, such as a temperature variation, a light quantity variation, and a reflectance variation.

変動要素である温度変動は、本実施例では1日に最大
で5℃程度発生する。5℃を越えると、同じ閾値は正し
い傷判定ができなるなる。また、光量変動としては光源
装置の劣化する三ヵ月ごとに、反射率変動は1日の検査
作業時間においては数回程度変動する。このことから、
1日あたり数回閾値をマスタードラムによって変更する
ことで正しい閾値を得る事ができる。従って、正しい傷
判定が行えるようになり、特に感光体ドラムのような画
質に影響する傷を分別するために、精度の高い閾値が要
求される被検査物体については、正しく傷判定を行う効
果が大きい。
In this embodiment, the temperature fluctuation, which is a fluctuation factor, occurs at a maximum of about 5 ° C. per day. If the temperature exceeds 5 ° C., the same threshold value makes it impossible to judge correct flaws. Further, as the light quantity fluctuation, every three months when the light source device is deteriorated, the reflectance fluctuation fluctuates about several times during the inspection work day. From this,
By changing the threshold several times a day using the master drum, a correct threshold can be obtained. Therefore, correct scratch determination can be performed, and the effect of correctly performing scratch determination is particularly effective for an inspected object that requires a high-precision threshold value in order to distinguish scratches that affect image quality, such as a photosensitive drum. large.

(実施例2) 実施例1のステップ5(閾値の書換え)においては、
変動要素が変動したことを第4図(A)に示すように確
認していく必要がある。これに対して、図4(B)に示
すように被検査体ドラムの検査動作を行う前に、ドラム
1本毎に閾値を更新していく方法によれば、閾値更新の
管理が必要なくなる。上記方法によれば、ドラム製造ロ
ット毎の反射率、光量変動によるラインセンサ信号出力
の変動にドラム1本毎に対応できるので、変動要素の変
動を確認する必要がない。
(Embodiment 2) In step 5 (rewriting of the threshold value) of the embodiment 1,
It is necessary to confirm that the variable element has changed as shown in FIG. 4 (A). On the other hand, according to the method of updating the threshold value for each drum before performing the inspection operation on the inspection object drum as shown in FIG. 4B, it is not necessary to manage the update of the threshold value. According to the above method, it is possible to cope with fluctuations of the line sensor signal output due to fluctuations in reflectance and light quantity for each drum manufacturing lot for each drum, so that it is not necessary to confirm fluctuations in the fluctuation factors.

さらに、図4(B)ステップ3における基準光量の読
み込みにおいて、基準値を設けて閾値の基準値が大きく
異なる場合は、感材種類違い、光源劣化の警告表示を行
ってもよい。これにより、検査装置の保守点検を自動化
することが可能となる。
Furthermore, in the reading of the reference light amount in step 3 of FIG. 4B, if a reference value is provided and the reference value of the threshold value is significantly different, a warning display of a difference in photosensitive material type and light source deterioration may be performed. This makes it possible to automate maintenance and inspection of the inspection device.

以上、本発明を実施例に基づき説明したが、上記実施
例に限られるものでなく、実施例では、例えば投光器に
スリット光装置と受光器にラインセンサを用いる組合せ
であるが、レーザスポット光を光学回転鏡で走査し、光
電子増倍管で受光する方式にも適用可能である。また、
複写機の感光体ドラムにおける実施例を示したが、これ
に限定されるものでなく、例えばアルミパイプ等の金属
円筒体や、鋼板、アルミ板等にも適用可能となる。
As described above, the present invention has been described based on the embodiments. However, the present invention is not limited to the above-described embodiments. In the embodiments, for example, a combination using a slit light device as a light emitter and a line sensor as a light receiver is used. The present invention is also applicable to a method of scanning with an optical rotating mirror and receiving light with a photomultiplier tube. Also,
Although the embodiment of the photosensitive drum of the copying machine has been described, the present invention is not limited to this, and can be applied to, for example, a metal cylinder such as an aluminum pipe, a steel plate, an aluminum plate, and the like.

(発明の効果) 以上のように、本発明においては、被検査物体の表面
に存在する欠陥による散乱光を受光手段により光電変換
して検出信号を得て、被検査物体に固有の閾値と比較す
ることで表面傷検査を行う際に、温度変動、光量変動等
に応じた閾値を設定するため、これらの変動に影響され
ることなく、常に正しい傷判定を行うことができるとい
う効果を有する。
(Effects of the Invention) As described above, in the present invention, a detection signal is obtained by photoelectrically converting scattered light caused by a defect existing on the surface of an object to be inspected by a light receiving unit, and the detected signal is compared with a threshold value unique to the object to be inspected. By doing so, when performing a surface flaw inspection, thresholds are set according to temperature fluctuations, light quantity fluctuations, and the like, so that there is an effect that correct flaw determination can always be performed without being affected by these fluctuations.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

第1図は、実施例の表面検査方法に用いる欠陥検査装置
の構成図である。第2図は、第1図における欠陥検査装
置におけるラインセンサの信号出力の例を示す図であ
る。第3図は、実施例の検査方法における閾値設定の手
順を示すフローチャートである。第4図は、実施例2の
閾値設定方法を説明するフローチャートである。第5図
は、従来の技術の説明に供する図で閾値が画素の位置に
よらず一定の値となるものを示す。第6図は、従来の技
術の説明に供する図で閾値が画素の位置により光量むら
に対応した値となるものを示す。第7図は、従来の技術
の説明に供する図で、ラインセンサの信号出力の変動に
係わらず、閾値が第6図と変わらないため正しい傷判定
が行えないことを示す。第8図、第9図は、従来技術の
説明に供する図である。第10図は、実施例の検査方法に
おけるラインセンサの信号出力の説明に供する図であ
る。 1……支持部、2……回転部、3……投光器、4……リ
ニアセンサ、5……縮小光学系、6……信号処理回路、
7……閾値メモリ、8……暗時出力メモリ、9……基準
光量メモリ、21、22、23、24、52、62、72、82、92……
リニアセンサ出力信号、51、61、71、81、91……閾値。
FIG. 1 is a configuration diagram of a defect inspection apparatus used in the surface inspection method of the embodiment. FIG. 2 is a diagram showing an example of a signal output of a line sensor in the defect inspection apparatus in FIG. FIG. 3 is a flowchart illustrating a procedure for setting a threshold value in the inspection method according to the embodiment. FIG. 4 is a flowchart illustrating a threshold setting method according to the second embodiment. FIG. 5 is a diagram provided for explanation of a conventional technique, in which a threshold value is constant regardless of the position of a pixel. FIG. 6 is a diagram provided for explanation of a conventional technique, and shows a case where a threshold value is a value corresponding to uneven light amount depending on the position of a pixel. FIG. 7 is a diagram provided for explanation of the prior art, and shows that correct flaw determination cannot be performed because the threshold value is not different from that in FIG. 6 regardless of the fluctuation of the signal output of the line sensor. FIG. 8 and FIG. 9 are diagrams for explanation of the prior art. FIG. 10 is a diagram for explaining signal output of a line sensor in the inspection method according to the embodiment. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Support part, 2 ... Rotating part, 3 ... Projector, 4 ... Linear sensor, 5 ... Reduction optical system, 6 ... Signal processing circuit,
7: threshold memory, 8: dark output memory, 9: reference light amount memory, 21, 22, 23, 24, 52, 62, 72, 82, 92 ...
Linear sensor output signal, 51, 61, 71, 81, 91 ... threshold.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) G01N 21/88 G01B 11/30 G03G 5/10 G03G 21/00 510 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (58) Field surveyed (Int.Cl. 6 , DB name) G01N 21/88 G01B 11/30 G03G 5/10 G03G 21/00 510

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】被検査物体に光を照射し、被検査物体の表
面に存在する欠陥による散乱光を受光手段により光電変
換して検出信号を得て、閾値と比較することで表面傷検
査を行う方法において、該受光手段の暗時出力V1と、欠
陥のない正常な表面の被検査物体の信号出力V2を測定
し、 Th=(V2−V1)×p+V1 (pは被検査物体に固有の定数) で決まる閾値Thによって、傷判定を行う傷検査方法。
An object to be inspected is irradiated with light, scattered light due to a defect present on the surface of the object to be inspected is photoelectrically converted by a light receiving means, a detection signal is obtained, and the detection signal is compared with a threshold value to perform a surface flaw inspection. in the method of performing an output V 1 when dark light receiving means, a signal output V 2 of the inspected object without defects normal surface measurement, Th = (V 2 -V 1 ) × p + V 1 (p is the A flaw inspection method in which flaw determination is performed based on a threshold value Th determined by a constant (inherent peculiar to the inspection object).
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