JP2955648B2 - Removal method of trivalent arsenic ion - Google Patents

Removal method of trivalent arsenic ion

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JP2955648B2 JP31290796A JP31290796A JP2955648B2 JP 2955648 B2 JP2955648 B2 JP 2955648B2 JP 31290796 A JP31290796 A JP 31290796A JP 31290796 A JP31290796 A JP 31290796A JP 2955648 B2 JP2955648 B2 JP 2955648B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、ヒ素を三価ヒ素イ
オンとして特に低濃度で含有する水溶液中から、該イオ
ンを除去する方法に関するものであり、さらに詳しく
は、本発明は、三価ヒ素イオン含有水溶液を特定の構造
を有する化合物を含む有機溶媒又は該化合物を担持した
多孔質樹脂と接触させて、従来、回収困難とされていた
希薄な濃度の三価ヒ素イオンを該イオン含有水溶液から
効率よく分離し、回収する方法に関するものである。本
発明の方法は、例えば、工業排水や電子基板のエッチン
グ液中等に微量に含有される三価ヒ素イオンを簡単な操
作で分離、除去する方法として有用である。
The present invention relates to a method for removing arsenic from an aqueous solution containing trivalent arsenic ions at particularly low concentrations, and more particularly to a method for removing arsenic ions from an aqueous solution. By contacting the ion-containing aqueous solution with an organic solvent containing a compound having a specific structure or a porous resin carrying the compound, a dilute arsenic ion having a dilute concentration, which has conventionally been considered difficult to recover, is removed from the ion-containing aqueous solution. The present invention relates to a method for efficiently separating and recovering. The method of the present invention is useful, for example, as a method of separating and removing trivalent arsenic ions contained in a trace amount in industrial wastewater or an etching solution for electronic substrates by a simple operation.

【0002】[0002]

【従来の技術】ヒ素は合金や半導体の原料として広く使
用されている元素であるが、従来よりその有毒性が指摘
されており、工業排水や電子基板のエッチング液中に微
量に含有されるヒ素の除去が重要な課題として存在して
きた。通常の排水処理過程では三価鉄イオンによる沈澱
分離が一般的に行われて来たが、五価ヒ素イオンに対し
ては有効であるこの手法も、三価ヒ素イオンに関しては
特に低濃度領域で沈澱を生成しにくいという欠点を有し
ていた。
2. Description of the Related Art Arsenic is an element widely used as a raw material for alloys and semiconductors, but its toxic nature has been pointed out, and arsenic is contained in trace amounts in industrial wastewater and etching solutions for electronic substrates. Removal has been an important issue. In the ordinary wastewater treatment process, precipitation separation with ferric ion has been generally performed.However, this method, which is effective for pentavalent arsenic ion, is also effective for trivalent arsenic ion, especially in the low concentration region. It had the disadvantage that it was difficult to form a precipitate.

【0003】他方、有機試薬を用いた溶媒抽出の手法に
於いては、ジエチルジチオカルバメートあるいはピロリ
ジンジチオカルバメートといった化合物が知られている
が、これらはケロシン等の非極性溶媒への溶解性が低
く、また水相中に脱離しやすいという欠点を有してい
た。
On the other hand, in the solvent extraction method using an organic reagent, compounds such as diethyldithiocarbamate and pyrrolidinedithiocarbamate are known, but these compounds have low solubility in non-polar solvents such as kerosene. Further, it has a disadvantage that it is easily desorbed into the aqueous phase.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、特に三価ヒ
素イオンの希薄水溶液からヒ素を簡単な操作で分離・除
去することを目的としてなされたものである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to separate and remove arsenic from a dilute aqueous solution of trivalent arsenic ion by a simple operation.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、水溶液中
から三価ヒ素イオンを分離・回収するについて鋭意研究
を重ねた結果、特定の構造を有する化合物が三価ヒ素イ
オンに対して良好な反応性を有し、しかも溶媒抽出法や
樹脂担持法に応用が可能であることを見いだし、本発明
をなすに至った。
Means for Solving the Problems The inventors of the present invention have conducted intensive studies on the separation and recovery of trivalent arsenic ions from an aqueous solution, and as a result, it has been found that a compound having a specific structure is favorable for trivalent arsenic ions. The present invention has been found to have excellent reactivity and can be applied to a solvent extraction method and a resin-supporting method, and has accomplished the present invention.

【0006】すなわち、本発明は三価ヒ素イオン含有水
溶液から三価ヒ素イオンを除去するに当たり、前記水溶
液を化学式(1)で示される化合物を含む有機溶媒又は
化学式(1)で示される化合物を担持した多孔質樹脂と
接触させて、三価ヒ素イオンを水溶液より有機溶媒相又
は多孔質樹脂中に移行・除去する方法を提供するもので
ある。
That is, according to the present invention, when removing trivalent arsenic ions from an aqueous solution containing trivalent arsenic ions, the aqueous solution is loaded with an organic solvent containing a compound represented by the chemical formula (1) or a compound represented by the chemical formula (1). The present invention provides a method for transferring and removing trivalent arsenic ions from an aqueous solution into an organic solvent phase or into a porous resin by contact with the porous resin.

【0007】上記課題を解決するための本発明は、三価
ヒ素イオン含有水溶液から三価ヒ素イオンを除去するに
当たり、該水溶液を化学式(1)に示される化合物を含
む有機溶媒と接触させて三価ヒ素イオンを水相から有機
相に移行させることを特徴とする三価ヒ素イオンの除去
方法、である。また、本発明の他の態様は、三価ヒ素イ
オン含有水溶液から三価ヒ素イオンを除去するに当た
り、該水溶液を化学式(1)に示される化合物を担持し
た多孔質樹脂と接触させて三価ヒ素イオンを水相から樹
脂中に移行させることを特徴とする三価ヒ素イオンの除
去方法、である。また、本発明の他の態様は、前記の方
法により三価ヒ素イオンを担持した樹脂を、pH10以
上のアルカリ性水溶液と接触させることにより三価ヒ素
イオンを樹脂中から水相に移行させることを特徴とする
三価ヒ素イオンの回収方法、である。さらに、本発明
は、三価ヒ素イオンを含有する水溶液のpHが0〜7の
範囲であることを特徴とする前記の三価ヒ素イオンの除
去方法、三価ヒ素イオン並びに五価ヒ素イオンを共に含
有する水溶液から三価ヒ素イオンのみを除去することを
特徴とする前記の三価ヒ素イオンの除去方法、化学式
(1)に示される化合物を担持した多孔質樹脂を筒状の
カラムとして使用することを特徴とする前記の三価ヒ素
イオンの除去方法、を望ましい実施の態様とするもので
ある。
According to the present invention for solving the above-mentioned problems, in removing trivalent arsenic ions from an aqueous solution containing trivalent arsenic ions, the aqueous solution is brought into contact with an organic solvent containing a compound represented by the chemical formula (1). A method for removing trivalent arsenic ions, which comprises transferring valent arsenic ions from an aqueous phase to an organic phase. In another embodiment of the present invention, in removing trivalent arsenic ions from an aqueous solution containing trivalent arsenic ions, the aqueous solution is brought into contact with a porous resin supporting a compound represented by the chemical formula (1) to form a trivalent arsenic ion. A method for removing trivalent arsenic ions, characterized in that ions are transferred from an aqueous phase into a resin. Further, another aspect of the present invention is characterized in that the trivalent arsenic ion is transferred from the resin to the aqueous phase by contacting the resin supporting the trivalent arsenic ion by the above method with an alkaline aqueous solution having a pH of 10 or more. A method for recovering trivalent arsenic ions. Further, the present invention provides the method for removing trivalent arsenic ions, wherein the pH of the aqueous solution containing trivalent arsenic ions is in the range of 0 to 7, and the method for removing trivalent arsenic ions and pentavalent arsenic ions together. The method for removing trivalent arsenic ions described above, wherein only the trivalent arsenic ions are removed from the contained aqueous solution, wherein the porous resin supporting the compound represented by the chemical formula (1) is used as a cylindrical column. The above-described method for removing trivalent arsenic ions, which is characterized by the following, is a preferred embodiment.

【0008】[0008]

【発明の実施の形態】次に、本発明についてさらに詳述
する。本発明では、下記の化学式(1)で表される化合
物が用いられる。ここで、R1 、及びR2 としては、具
体的には、例えば、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、デ
シル、ドデシル、イソオクチル、フェニル、2−エチル
ヘキシル、トシル、ナフチル、シクロヘキシル、などが
例示され、すなわち化合物例としては、ビス(2−エチ
ルヘキシル)アンモニウム ビス(2−エチルヘキシ
ル)ジチオカルバメート、ジヘキシルアンモニウム ジ
ヘキシルジチオカルバメート、ジオクチルアンモニウム
ジオクチルジチオカルバメート等があげられる。
Next, the present invention will be described in more detail. In the present invention, a compound represented by the following chemical formula (1) is used. Here, specific examples of R 1 and R 2 include, for example, hexyl, heptyl, octyl, decyl, dodecyl, isooctyl, phenyl, 2-ethylhexyl, tosyl, naphthyl, cyclohexyl, and the like. Examples include bis (2-ethylhexyl) ammonium bis (2-ethylhexyl) dithiocarbamate, dihexylammonium dihexyldithiocarbamate, dioctylammonium dioctyldithiocarbamate, and the like.

【0009】[0009]

【化2】 Embedded image

【0010】本発明において用いられる化学式(1)で
表される化合物は、対応するジアルキルアミン(R1
NH−R2 )をその2分の1等量の二硫化炭素(C
2 )と室温で混合することにより合成できる。アミン
が固体である場合には適当な有機溶媒に溶解して反応を
行わせることが可能であるが、その際には収率が低下す
る可能性があるので注意が必要である。
The compound represented by the formula (1) used in the present invention is a compound represented by the corresponding dialkylamine (R 1-
NH-R 2 ) to one-half equivalent of carbon disulfide (C
It can be synthesized by mixing with S 2 ) at room temperature. When the amine is a solid, the reaction can be carried out by dissolving the amine in an appropriate organic solvent, but care must be taken in that case, since the yield may be reduced.

【0011】化学式(1)で表される化合物の内でも、
1 =R2 =2−エチルヘキシルであるところのビス
(2−エチルヘキシル)アンモニウム ビス(2−エチ
ルヘキシル)ジチオカルバメートは室温でも液状を示し
有機溶媒への溶解度も高く、溶媒抽出や多孔質樹脂担持
で良好に用いることができる。
[0011] Among the compounds represented by the chemical formula (1),
Bis (2-ethylhexyl) ammonium bis (2-ethylhexyl) dithiocarbamate where R 1 = R 2 = 2-ethylhexyl is liquid even at room temperature and has high solubility in organic solvents. Can be used well.

【0012】本発明においては、化学式(1)で示され
る化合物を有機溶媒に溶解し、あるいは多孔質樹脂に担
持させて、三価ヒ素イオン溶液と接触させることが必要
である。
In the present invention, it is necessary that the compound represented by the chemical formula (1) is dissolved in an organic solvent or supported on a porous resin and brought into contact with a trivalent arsenic ion solution.

【0013】この際に用いられる有機溶媒は、上記の化
合物を溶解することができ、水と混和しないものであれ
ばよく、特に制限はないが、容易に入手することがで
き、取り扱いという点でヘキサン、ヘプタン、オクタ
ン、ベンゼン、トルエン、キシレン、ケロシンのような
炭化水素類や、クロロホルム、四塩化炭素、トリクロロ
エタンのようなハロゲン化炭化水素類が好ましい。
The organic solvent used at this time is not particularly limited as long as it can dissolve the above-mentioned compound and is not miscible with water, and is not particularly limited, but can be easily obtained and handled. Hydrocarbons such as hexane, heptane, octane, benzene, toluene, xylene and kerosene, and halogenated hydrocarbons such as chloroform, carbon tetrachloride and trichloroethane are preferred.

【0014】一方、上記の化合物を担持させる多孔質樹
脂としては、水や、試薬の担持過程に使用される有機溶
媒に不溶なものが用いられる。このような樹脂の例とし
ては、発泡ポリエチレン、発泡ポリプロピレン、発泡ポ
リスチレン、発泡ポリ塩化ビニル、発泡ポリウレタン、
フェノール樹脂発泡体あるいはこれらの架橋化合物等を
挙げることができるが、特に架橋ポリアクリル酸エステ
ル及び架橋ポリメタクリル酸エステルの発泡体が好適で
ある。これらの多孔質樹脂は、比表面積50〜800m
2 /g、平均細孔径5〜40nm、粒度20〜200メ
ッシュの粒状体として用いるのが有利である。樹脂は洗
浄によって不純物を除去し、十分に乾燥させて担持され
ている水分を除いてから使用することが望ましい。
On the other hand, as the porous resin for supporting the above compound, a resin insoluble in water or an organic solvent used in the process of supporting the reagent is used. Examples of such resins include expanded polyethylene, expanded polypropylene, expanded polystyrene, expanded polyvinyl chloride, expanded polyurethane,
Phenolic resin foams or cross-linked compounds thereof can be mentioned, and cross-linked polyacrylic acid ester and cross-linked polymethacrylic acid ester foams are particularly preferable. These porous resins have a specific surface area of 50 to 800 m.
It is advantageously used as granules having a mass of 2 / g, an average pore diameter of 5 to 40 nm and a particle size of 20 to 200 mesh. It is desirable to use the resin after removing impurities by washing and drying it sufficiently to remove the water content.

【0015】化学式(1)で示される化合物を多孔質樹
脂に担持させるには、例えばこの化合物をアセトンやヘ
キサンなどの低沸点有機溶媒に溶解し、この中に多孔質
樹脂を加えて、数時間かくはんした後、溶媒を減圧下で
留去させればよい。このようにして、通常、多孔質樹脂
100重量部当たり1〜100重量部、好ましくは10
〜70重量部の該化合物を担持させて使用される。
In order to carry the compound represented by the chemical formula (1) on a porous resin, for example, the compound is dissolved in a low-boiling organic solvent such as acetone or hexane, and the porous resin is added thereto, followed by several hours. After stirring, the solvent may be distilled off under reduced pressure. In this manner, usually 1 to 100 parts by weight, preferably 10 to 100 parts by weight,
It is used by supporting up to 70 parts by weight of the compound.

【0016】本発明における三価ヒ素イオン含有水溶液
はヒ素を遊離亜ヒ酸(H3 AsO3)の形で含有するこ
とを前提とするものであり、アルカリ金属イオンやハロ
ゲン化物イオン、硝酸イオン、硫酸イオンなどが共存し
ていてもよい。しかし鉄、銅、亜鉛、カドミウム、鉛、
コバルト、貴金属等のイオンの共存によりヒ素の抽出が
阻害される可能性があり、とりわけそれらのイオンを高
濃度に含む場合には注意が必要である。
The trivalent arsenic ion-containing aqueous solution in the present invention is based on the premise that arsenic is contained in the form of free arsenite (H 3 AsO 3 ), and includes alkali metal ions, halide ions, nitrate ions, Sulfate ions and the like may coexist. But iron, copper, zinc, cadmium, lead,
The extraction of arsenic may be hindered by the coexistence of ions such as cobalt and precious metals, and care must be taken especially when these ions are contained in high concentrations.

【0017】また溶媒抽出の際に、この三価ヒ素イオン
含有水溶液のpHが大きいと有機溶媒との接触の際に発
泡を生じ相分離がしにくくなる場合があるので、適当な
酸を加えてpH11以下に調整することが好ましい。該
試薬を樹脂内に担持させた場合には発泡の問題はない。
In addition, when the pH of the aqueous solution containing trivalent arsenic ions is large at the time of solvent extraction, foaming may occur upon contact with an organic solvent, making phase separation difficult. It is preferable to adjust the pH to 11 or less. When the reagent is carried in the resin, there is no problem of foaming.

【0018】本発明方法において、有機溶媒を用いる場
合は、高濃度の三価ヒ素イオンを含有する水溶液に直接
適用することもできるが、多孔質樹脂を用いる場合は、
樹脂の容量や反応速度の点で不利であるので、希薄溶液
に対して用いるのに適している。
In the method of the present invention, when an organic solvent is used, it can be directly applied to an aqueous solution containing a high concentration of trivalent arsenic ion.
Since it is disadvantageous in terms of resin volume and reaction rate, it is suitable for use with dilute solutions.

【0019】また、有機溶媒中の試薬量が除去しようと
する三価ヒ素イオンの量に比して十分でない場合には抽
出率の低下が起こるので注意を要する。少なくともヒ素
に対して3倍等量以上の試薬が必要である。一方、試薬
の量を過剰に増加させた場合には、一定の値に到達した
抽出率は頭打ちになる傾向を示す。
It should be noted that if the amount of the reagent in the organic solvent is not sufficient compared to the amount of the trivalent arsenic ion to be removed, the extraction rate will decrease, so care must be taken. At least three times the amount of reagent to arsenic is required. On the other hand, when the amount of the reagent is excessively increased, the extraction rate reaching a certain value tends to reach a plateau.

【0020】本発明において使用される試薬は、多くの
種類の金属イオンに対して反応・抽出能力を有してい
る。例えば鉄、マンガン、ニッケル、カドミウム、銅、
鉛、水銀、スズ、亜鉛、貴金属等のイオンが三価ヒ素イ
オンに共存する場合、これらのイオンを良好に抽出する
能力を有している。従って、これらのイオンの抽出によ
って有機溶媒中もしくは多孔質樹脂中の試薬が消費され
ることによるヒ素抽出能力の低下が起こる可能性には注
意を要する。
The reagent used in the present invention has the ability to react and extract many types of metal ions. For example, iron, manganese, nickel, cadmium, copper,
When ions of lead, mercury, tin, zinc, noble metal, etc. coexist with trivalent arsenic ions, they have the ability to extract these ions well. Therefore, it is necessary to pay attention to the possibility that the extraction of these ions consumes the reagent in the organic solvent or the porous resin, thereby lowering the arsenic extraction ability.

【0021】本発明において使用される試薬は、五価ヒ
素イオンに対してほとんどの条件下で抽出能力を有しな
い。即ち、三価及び五価のヒ素イオンが共存する場合に
三価ヒ素イオンのみを抽出分離することが可能となる。
The reagents used in the present invention do not have the ability to extract pentavalent arsenic ions under most conditions. That is, when trivalent and pentavalent arsenic ions coexist, only trivalent arsenic ions can be extracted and separated.

【0022】本発明方法を特に好適に実施するには、化
学式(1)で示される化合物を担持した多孔質樹脂をカ
ラムに充填した装置に三価ヒ素イオン溶液を通液して、
該イオンを吸着させる。このようにすれば、三価ヒ素イ
オンを含有する多量の水溶液を連続的に処理することが
できる。但し、三価ヒ素イオンと該樹脂の反応には一定
の時間が必要であるので、樹脂カラム中での溶液の滞留
時間を30分程度以上に設定することが好ましい。
In order to carry out the method of the present invention particularly preferably, a trivalent arsenic ion solution is passed through an apparatus in which a porous resin carrying the compound represented by the chemical formula (1) is packed in a column.
The ions are adsorbed. In this way, a large amount of an aqueous solution containing trivalent arsenic ions can be continuously treated. However, since a certain time is required for the reaction between the trivalent arsenic ion and the resin, the residence time of the solution in the resin column is preferably set to about 30 minutes or more.

【0023】本発明に於いて、三価ヒ素イオンを吸着し
た多孔質樹脂からこの三価ヒ素イオンを再び水相中に逆
抽出するには、アルカリ性水溶液を用いることが有効で
ある。例えば水酸化ナトリウム水溶液を0.01モル/
リットル以上含有する水溶液が好適に用いられる。
In the present invention, it is effective to use an alkaline aqueous solution to back-extract the trivalent arsenic ion from the porous resin to which the trivalent arsenic ion has been adsorbed into the aqueous phase again. For example, 0.01 mol /
An aqueous solution containing at least liter is preferably used.

【0024】次に、樹脂カラムを用いて三価ヒ素イオン
の捕捉、溶出について試験した例を示す。 試験例1 ビス(2−エチルヘキシル)アンモニウム ビス(2−
エチルヘキシル)ジチオカルバメート8gを多孔質ポリ
アクリル酸エステル樹脂20gに担持し、含浸樹脂を調
製した。該樹脂9gを内径1.5cm、長さ27cmの
円筒状カラムに充填し、その上部から三価ヒ素イオン1
-5モル/リットルを含む水溶液(pH6.8、緩衝剤
0.001モル/リットル及び塩化ナトリウム0.1モ
ル/リットル含有)を24ml/時の速度で通液した。
カラムからの流出液を経時的に分取し、ヒ素の濃度を測
定した。その結果を、横軸を溶離液の体積、縦軸をヒ素
濃度として表したグラフとして図1に示す。約2500
mlの溶出液は10-6モル/リットル以下のヒ素濃度を
示し、良好にヒ素が除去された事を示している。但しそ
の後は捕捉が不十分となり、ヒ素の濃度の上昇が観測さ
れた。
Next, an example in which the resin column is used to test the capture and elution of trivalent arsenic ions will be described. Test Example 1 Bis (2-ethylhexyl) ammonium
8 g of (ethylhexyl) dithiocarbamate was supported on 20 g of a porous polyacrylate resin to prepare an impregnated resin. 9 g of the resin was packed in a cylindrical column having an inner diameter of 1.5 cm and a length of 27 cm, and trivalent arsenic ion
0 -5 mol / liter aqueous solution containing (pH 6.8, buffer 0.001 mole / l and sodium chloride 0.1 mol / l containing) were were passed through the column at 24 ml / time of speed.
The effluent from the column was collected over time and the arsenic concentration was measured. The results are shown in FIG. 1 as a graph in which the horizontal axis represents the volume of the eluent and the vertical axis represents the arsenic concentration. About 2500
The ml eluate showed an arsenic concentration of 10 −6 mol / l or less, indicating that arsenic was successfully removed. However, after that, trapping became insufficient, and an increase in the concentration of arsenic was observed.

【0025】試験例2 試験例1に於いて三価ヒ素イオンを担持したカラムの上
部から0.1モル/リットル水酸化ナトリウム水溶液を
24ml/時の速度で通液した。カラムからの流出液を
経時的に分取し、ヒ素の濃度を測定した。その結果を、
横軸を溶離液の体積、縦軸をヒ素濃度で表したグラフと
して図2に示す。ヒ素は迅速にカラムから溶出し、樹脂
中のヒ素の回収は容易に行い得ることが示された。また
担持したヒ素は定量的に、かつ濃縮された溶液として溶
出しており、ヒ素の後処理もしくは再利用に有効であ
る。
Test Example 2 In Test Example 1, a 0.1 mol / L sodium hydroxide aqueous solution was passed through the column supporting trivalent arsenic ion at a rate of 24 ml / hour. The effluent from the column was collected over time and the arsenic concentration was measured. The result is
FIG. 2 is a graph showing the volume of the eluent on the horizontal axis and the arsenic concentration on the vertical axis. Arsenic eluted quickly from the column, indicating that arsenic in the resin could be easily recovered. The arsenic carried is eluted quantitatively and as a concentrated solution, which is effective for arsenic post-treatment or reuse.

【0026】樹脂上に担持された三価ヒ素イオンは定量
的に溶出し、溶出液中に回収された。
The trivalent arsenic ion carried on the resin eluted quantitatively and was recovered in the eluate.

【0027】[0027]

【実施例】次に、実施例に基づいて本発明をさらに具体
的に説明するが、本発明は該実施例によって何ら限定さ
れるものではない。 実施例1 有機試薬ビス(2−エチルヘキシル)アンモニウム ビ
ス(2−エチルヘキシル)ジチオカルバメートは以下の
手順により合成されることを確認した。ビス(2−エチ
ルヘキシル)アミン48.3gをフラスコ中に入れ、二
硫化炭素7.61gを室温でかくはんしながら滴下し
た。混合物が発熱を始めたらフラスコを室温の水浴に浸
し、一晩かくはんをすることで目的の化合物を得た。
EXAMPLES Next, the present invention will be described more specifically based on examples, but the present invention is not limited to the examples. Example 1 It was confirmed that the organic reagent bis (2-ethylhexyl) ammonium bis (2-ethylhexyl) dithiocarbamate was synthesized by the following procedure. 48.3 g of bis (2-ethylhexyl) amine was placed in a flask, and 7.61 g of carbon disulfide was added dropwise with stirring at room temperature. When the mixture began to exotherm, the flask was immersed in a water bath at room temperature and stirred overnight to obtain the desired compound.

【0028】実施例2 三価ヒ素イオンを10-4モル/リットルの濃度で含有す
るpH5.8の水溶液(緩衝剤0.001モル/リット
ル、塩化ナトリウム0.1モル/リットル共存)10m
lに、ビス(2−エチルヘキシル)アンモニウム ビス
(2−エチルヘキシル)ジチオカルバメートを0.01
モル/リットル含有するヘプタン10mlを加え、15
分から16時間振とうし、水溶液中に残存するヒ素をI
CP発光分光分析法で測定した。その結果、1時間の振
とう後にヒ素の濃度は2×10-6モル/リットルまで減
少し、16時間の振とう後までその濃度は維持された。
Example 2 10 m aqueous solution of pH 5.8 containing trivalent arsenic ion at a concentration of 10 -4 mol / l (buffer 0.001 mol / l, sodium chloride 0.1 mol / l)
to 0.01 l of bis (2-ethylhexyl) ammonium bis (2-ethylhexyl) dithiocarbamate
10 ml of heptane containing mol / l are added and 15
For 16 minutes to remove arsenic remaining in the aqueous solution.
It was measured by CP emission spectroscopy. As a result, the arsenic concentration was reduced to 2 × 10 −6 mol / l after 1 hour of shaking, and was maintained until after 16 hours of shaking.

【0029】実施例3 ビス(2−エチルヘキシル)アンモニウム ビス(2−
エチルヘキシル)ジチオカルバメート8gを多孔質ポリ
アクリル酸エステル樹脂20gに担持し、粒状体の含浸
樹脂を調製した。三価ヒ素イオンを10-4モル/リット
ルの濃度で含有するpH2.5の水溶液(塩酸0.01
M、塩化ナトリウム0.09モル/リットル共存)10
mlに、該含浸樹脂0.1gを加え、15分から20時
間振とうし、水溶液中に残存するヒ素をICP発光分光
分析法で測定した。その結果、1時間の振とう後に濃度
は9×10-7モル/リットルまで減少し、20時間後ま
でその濃度は維持された。
Example 3 Bis (2-ethylhexyl) ammonium bis (2-ethylhexyl) ammonium
8 g of (ethylhexyl) dithiocarbamate was supported on 20 g of a porous polyacrylate resin to prepare a granular impregnated resin. Aqueous solution of pH2.5 containing trivalent arsenic ions at a concentration of 10 -4 mol / l (hydrochloride 0.01
M, coexistence of sodium chloride 0.09 mol / l) 10
0.1 g of the impregnated resin was added to each ml, and the mixture was shaken for 15 minutes to 20 hours, and arsenic remaining in the aqueous solution was measured by ICP emission spectroscopy. As a result, the concentration decreased to 9 × 10 −7 mol / liter after shaking for 1 hour, and the concentration was maintained until 20 hours after shaking.

【0030】実施例4 三価ヒ素イオンを10-4モル/リットルの濃度で含有す
る、pH0〜11の水溶液(緩衝剤0.001モル/リ
ットル、塩化ナトリウム0.1モル/リットル共存)1
0mlに、ビス(2−エチルヘキシル)アンモニウム
ビス(2−エチルヘキシル)ジチオカルバメートを0.
01モル/リットル含むヘプタン溶液を3mlを加え、
6時間振り混ぜたのち、水相中に残留するヒ素濃度を測
定し、有機相と水相の間のヒ素の分配比を求めた。この
結果を横軸を水相のpH、縦軸を分配比の対数としたグ
ラフとし、図3に示す。ヒ素は酸性〜中性(pH0〜
7)の広い範囲から有機相に抽出され、広い酸濃度範囲
の水相に適用可能であることを示している。中性〜アル
カリ性になるにつれて徐々に分配比は低下するので、ヒ
素の除去は酸性側で実行されることが好ましい。
Example 4 Aqueous solution of pH 0 to 11 containing trivalent arsenic ion at a concentration of 10 -4 mol / l (buffer 0.001 mol / l, sodium chloride 0.1 mol / l) 1
0 ml of bis (2-ethylhexyl) ammonium
Bis (2-ethylhexyl) dithiocarbamate was added to 0.1.
3 ml of a heptane solution containing 01 mol / l was added,
After shaking for 6 hours, the concentration of arsenic remaining in the aqueous phase was measured, and the distribution ratio of arsenic between the organic phase and the aqueous phase was determined. The results are shown in a graph in which the horizontal axis is the pH of the aqueous phase and the vertical axis is the logarithm of the distribution ratio, and is shown in FIG. Arsenic is acidic to neutral (pH 0
7) Extracted into the organic phase from the wide range, indicating that it is applicable to the aqueous phase in a wide acid concentration range. The removal of arsenic is preferably carried out on the acidic side, as the distribution ratio gradually decreases as it becomes neutral to alkaline.

【0031】実施例5 三価ヒ素イオンを10-4モル/リットルの濃度で含有す
る、pH2.3及び6.3の水溶液(共に塩化ナトリウ
ム0.1モル/リットル共存。pH2.3の溶液には
0.01モル/リットルの塩酸、pH6.3の溶液には
緩衝剤0.001モル/リットルが共存)10mlに、
ビス(2−エチルヘキシル)アンモニウムビス(2−エ
チルヘキシル)ジチオカルバメートを10-4〜10-2
ル/リットル含むヘプタン溶液3mlを加え、6時間振
り混ぜたのち、水相中に残留するヒ素濃度を測定し、有
機相と水相の間のヒ素の分配比を求めた。この結果を横
軸を試薬濃度の対数、縦軸をヒ素の分配比の対数とした
グラフとし、図4に示す。試薬濃度が高い領域でヒ素の
分配比は横ばいとなり、ヒ素の抽出が試薬濃度に関して
は依存しないことを示している。一方、試薬が希薄な領
域では分配の低下が観測されたが、これは試薬の量がヒ
素を抽出するに十分ではないことに起因するものと考え
られる。試薬の量(モル数)が、ヒ素の量の3倍を下回
る範囲では分配の低下に注意を要する。
Example 5 Aqueous solutions of pH 2.3 and 6.3 containing trivalent arsenic ions at a concentration of 10 -4 mol / l (both 0.1 mol / l of sodium chloride and coexistence with a solution of pH 2.3) Is 0.01 mol / l hydrochloric acid, pH 6.3 solution contains 0.001 mol / l buffer) 10 ml
Bis (2-ethylhexyl) ammonium bis (2-ethylhexyl) dithiocarbamate is added with 3 ml of a heptane solution containing 10 -4 to 10 -2 mol / l, shaken for 6 hours, and the concentration of arsenic remaining in the aqueous phase is measured. Then, the distribution ratio of arsenic between the organic phase and the aqueous phase was determined. The results are shown in a graph in which the horizontal axis represents the logarithm of the reagent concentration and the vertical axis represents the logarithm of the arsenic distribution ratio. In the region where the reagent concentration is high, the distribution ratio of arsenic levels off, indicating that arsenic extraction is independent of the reagent concentration. On the other hand, a decrease in partition was observed in the region where the reagent was diluted, which is considered to be due to the fact that the amount of the reagent was not sufficient to extract arsenic. If the amount of the reagent (the number of moles) is less than three times the amount of arsenic, attention must be paid to the decrease in distribution.

【0032】実施例6 五価ヒ素イオンを10-4モル/リットルの濃度で含有す
る、pH0〜8の水溶液(緩衝剤0.001モル/リッ
トル及び塩化ナトリウム0.1モル/リットル含有)1
0mlにビス(2−エチルヘキシル)アンモニウム ビ
ス(2−エチルヘキシル)ジチオカルバメートを0.0
1モル/リットル含むヘプタン溶液3mlを加え、6時
間振り混ぜたのち、水相中に残留するヒ素濃度を測定し
た結果、該pH領域に於いてヒ素の抽出は観測されなか
った。
Example 6 An aqueous solution of pH 0 to 8 containing pentavalent arsenic ion at a concentration of 10 -4 mol / l (containing 0.001 mol / l of a buffer and 0.1 mol / l of sodium chloride) 1
0.0 ml of bis (2-ethylhexyl) ammonium bis (2-ethylhexyl) dithiocarbamate is added to 0 ml.
After adding 3 ml of a heptane solution containing 1 mol / l and shaking for 6 hours, the concentration of arsenic remaining in the aqueous phase was measured. As a result, no arsenic extraction was observed in the pH range.

【0033】実施例7 三価ヒ素イオンを10-4モル/リットルと共に、二価亜
鉛イオン、二価マンガンイオン、二価ニッケルイオン、
二価銅イオン、三価鉄イオン、二価カドミウムイオンも
しくは二価鉛イオンのうちの1種類を10-4モル/リッ
トル含有する水溶液(塩酸0.01モル/リットル及び
塩化ナトリウム0.1モル/リットル含有)10ml
に、ビス(2−エチルヘキシル)アンモニウム ビス
(2−エチルヘキシル)ジチオカルバメートを0.01
モル/リットル含むヘプタン溶液3mlを加えて6時間
振り混ぜたのち、水相に残留するヒ素濃度及び共存金属
濃度を測定した。この結果として得られたヒ素及び各金
属の抽出率を表1に示す。三価鉄イオン、二価銅イオン
で特に抽出率の低下が大きく、これらの金属の存在には
注意を要する。一方、共存金属の抽出率では、二価マン
ガンイオン及び二価ニッケルイオンで分配が低い以外は
いずれも高い抽出率を示し、これらの金属イオンはヒ素
と同時に除去し得ることが示された。
Example 7 Divalent zinc ion, divalent manganese ion, divalent nickel ion, and trivalent arsenic ion were added together with 10 -4 mol / l.
An aqueous solution containing 10 -4 mol / L of one of divalent copper ions, ferric iron ions, divalent cadmium ions and divalent lead ions (0.01 mol / L of hydrochloric acid and 0.1 mol / L of sodium chloride) 10ml
And bis (2-ethylhexyl) ammonium bis (2-ethylhexyl) dithiocarbamate
After adding 3 ml of a heptane solution containing mol / liter and shaking for 6 hours, the concentration of arsenic remaining in the aqueous phase and the concentration of coexisting metals were measured. The resulting arsenic and metal extraction rates are shown in Table 1. Trivalent iron ions and divalent copper ions have a particularly large decrease in extraction rate, and the presence of these metals requires attention. On the other hand, the extraction rates of the coexisting metals showed high extraction rates except for the divalent manganese ion and the divalent nickel ion, except that the distribution was low, indicating that these metal ions can be removed simultaneously with arsenic.

【0034】[0034]

【表1】 [Table 1]

【0035】実施例8 三価ヒ素イオンを10-4モル/リットルと共に、二価亜
鉛イオン、二価銅イオンもしくは三価鉄イオンを10-5
〜10-2モル/リットル共存する水溶液(塩酸0.01
モル/リットル及び塩化ナトリウム0.1モル/リット
ル含有)10mlに、ビス(2−エチルヘキシル)アン
モニウム ビス(2−エチルヘキシル)ジチオカルバメ
ートを0.01モル/リットル含むヘプタン3mlを加
えて6時間振り混ぜたのち、水相に残留するヒ素濃度を
測定し、有機相と水相の間のヒ素の分配比を求めた。そ
の結果を、横軸を共存金属イオンの初濃度、縦軸をヒ素
の分配比の対数で表したグラフとして図5に示す。二価
亜鉛イオンでは濃度の増加に対して大きな分配比の低下
は観測されなかったが、二価銅イオン及び三価鉄イオン
では明かな低下が観測された。この結果は、ヒ素の分配
比がこれらの金属イオンの共存濃度に依存することを示
しており、とりわけ高濃度に存在する場合には注意を要
することを示している。
[0035] Example 8 trivalent arsenic ions with 10 -4 mol / liter divalent zinc ion, 10-5 divalent copper ions or trivalent iron ions
Aqueous solution coexisting with 10 to 10 -2 mol / liter (hydrochloric acid 0.01
3 ml of heptane containing 0.01 mol / l of bis (2-ethylhexyl) ammonium bis (2-ethylhexyl) dithiocarbamate was added to 10 ml of mol / l and containing 0.1 mol / l of sodium chloride, and the mixture was shaken for 6 hours. Thereafter, the concentration of arsenic remaining in the aqueous phase was measured, and the distribution ratio of arsenic between the organic phase and the aqueous phase was determined. The results are shown in FIG. 5 as a graph in which the horizontal axis represents the initial concentration of coexisting metal ions and the vertical axis represents the logarithm of the arsenic distribution ratio. No significant decrease in the distribution ratio was observed with increasing concentration of divalent zinc ions, but a clear decrease was observed with divalent copper ions and ferric iron ions. This result indicates that the distribution ratio of arsenic depends on the coexisting concentration of these metal ions, and that attention must be paid especially when the arsenic is present at a high concentration.

【0036】実施例9 実施例3で用いたものと同じ粒状体0.1gに三価ヒ素
イオンを10-4モル/リットルの濃度で含有する、pH
0〜14の水溶液(緩衝剤0.001モル/リットル、
塩化ナトリウム0.1モル/リットル共存)10mlを
加え、3時間振り混ぜたのち、水相中に残留するヒ素濃
度を測定し、樹脂と水相の間の三価ヒ素の分配比を求め
た。この結果を横軸をpH、縦軸を分配比の対数とした
グラフとし、図6に示す。ヒ素の分配比は酸性〜中性
(pH0〜7)の広い酸性度で高い値を示し、当樹脂が
この領域で有効にヒ素を抽出し得ることを示している。
一方、pH8以上の領域では分配比の低下が観測され
た。よって、アルカリ性の溶液を使用することで、樹脂
中に担持されたヒ素を回収することが可能になるものと
考えられた。
Example 9 0.1 g of the same granular material used in Example 3 contains trivalent arsenic ion at a concentration of 10 -4 mol / L, pH
0-14 aqueous solution (buffer 0.001 mol / l,
10 ml of sodium chloride (coexisting with 0.1 mol / liter of sodium chloride) was added, and the mixture was shaken for 3 hours. After that, the concentration of arsenic remaining in the aqueous phase was measured, and the distribution ratio of trivalent arsenic between the resin and the aqueous phase was determined. The results are shown in a graph in which the horizontal axis represents pH and the vertical axis represents the logarithm of the distribution ratio, and is shown in FIG. The distribution ratio of arsenic shows a high value in a wide range of acidity from neutral to neutral (pH 0 to 7), indicating that the resin can effectively extract arsenic in this region.
On the other hand, a decrease in the distribution ratio was observed in the pH range of 8 or more. Therefore, it was considered that arsenic supported in the resin could be recovered by using an alkaline solution.

【0037】実施例10 実施例3で用いたものと同じ粒状体0.1gに、三価ヒ
素イオンを10-4モル/リットルと共に二価亜鉛イオ
ン、二価マンガンイオン、二価ニッケルイオン、二価銅
イオン、三価鉄イオン、二価カドミウムイオンもしくは
二価鉛イオンのうち1種類を10-4モル/リットル含有
する水溶液(塩酸0.01モル/リットル及び塩化ナト
リウム0.1モル/リットル含有)10mlを加えて3
時間振り混ぜたのち、水相に残留するヒ素濃度及び共存
金属濃度を測定した。この結果として得られたヒ素及び
各金属の抽出率を表2に示す。溶媒抽出系同様、二価銅
イオン及び三価鉄イオンで比較的大きな妨害が観測され
た。また共存イオンの抽出が何れの金属に於いても観測
され、二価マンガンイオンを除いては97%以上の高い
値を示した。よって、これらの金属イオンはヒ素の抽出
の妨害、あるいは試薬の消費という観点からもその濃度
には注意を要すると考えられる。
Example 10 Trivalent arsenic ion was added to 0.1 g of the same granular material as used in Example 3 together with 10-4 mol / l of trivalent arsenic ion, divalent manganese ion, divalent nickel ion, Aqueous solution containing 10 -4 mol / L of one of valence copper ion, ferric iron ion, divalent cadmium ion and divalent lead ion (0.01 mol / L of hydrochloric acid and 0.1 mol / L of sodium chloride ) Add 10ml and add 3
After shaking for a time, the concentration of arsenic remaining in the aqueous phase and the concentration of coexisting metals were measured. Table 2 shows the extraction rates of the arsenic and each metal obtained as a result. As with the solvent extraction system, relatively large interference was observed with divalent copper ions and ferric iron ions. Extraction of coexisting ions was observed in any of the metals, and showed a high value of 97% or more except for divalent manganese ions. Therefore, it is considered that the concentration of these metal ions requires attention from the viewpoint of hindering the extraction of arsenic or consuming reagents.

【0038】[0038]

【表2】 [Table 2]

【0039】[0039]

【発明の効果】本発明によれば三価ヒ素イオンとして水
溶液中に存在するヒ素、特に従来回収困難とされていた
希薄な濃度の三価ヒ素イオン含有水溶液から効率よくヒ
素を分離、除去することができる。本発明の方法は、例
えば、工業排水や電子基板のエッチング液中等に微量に
含有される三価ヒ素イオンを簡単な操作で分離、除去す
る方法として有用である。
According to the present invention, arsenic present in an aqueous solution as trivalent arsenic ions, particularly, arsenic can be efficiently separated and removed from a dilute arsenic ion-containing aqueous solution having a dilute concentration which has been conventionally difficult to recover. Can be. The method of the present invention is useful, for example, as a method of separating and removing trivalent arsenic ions contained in a trace amount in industrial wastewater or an etching solution for electronic substrates by a simple operation.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明において樹脂カラムを用いた三価ヒ素イ
オンの捕捉を行った場合の、溶離液体積と溶出液中のヒ
素濃度の関係を示すグラフ。
FIG. 1 is a graph showing a relationship between an eluent volume and an arsenic concentration in an eluate when trivalent arsenic ions are captured using a resin column in the present invention.

【図2】本発明において三価ヒ素イオンを担持したカラ
ムからヒ素の溶出を行った場合の、溶離液体積と溶出液
中のヒ素濃度の関係を示すグラフ。
FIG. 2 is a graph showing a relationship between an eluent volume and an arsenic concentration in an eluate when arsenic is eluted from a column supporting trivalent arsenic ions in the present invention.

【図3】本発明における、三価ヒ素イオン含有水溶液の
pHと、溶媒抽出におけるヒ素の分配比の関係を示すグ
ラフ。
FIG. 3 is a graph showing the relationship between the pH of an aqueous solution containing trivalent arsenic ions and the distribution ratio of arsenic in solvent extraction in the present invention.

【図4】本発明における、有機相中のビス(2−エチル
ヘキシル)アンモニウム ビス(2−エチルヘキシル)
ジチオカルバメート濃度と、溶媒抽出におけるヒ素の分
配比の関係を示すグラフ。
FIG. 4 shows bis (2-ethylhexyl) ammonium bis (2-ethylhexyl) in an organic phase according to the present invention.
4 is a graph showing the relationship between the concentration of dithiocarbamate and the distribution ratio of arsenic in solvent extraction.

【図5】本発明におて三価ヒ素イオンに他の金属イオン
が共存した場合における、共存金属イオン濃度とヒ素の
有機相と水相の間の分配比の関係を示すグラフ。
FIG. 5 is a graph showing the relationship between the coexisting metal ion concentration and the distribution ratio of arsenic between an organic phase and an aqueous phase when another metal ion coexists with trivalent arsenic ion in the present invention.

【図6】本発明において試薬を担持した樹脂への三価ヒ
素イオンの吸着を行った場合の、水相のpHとヒ素の分
配比の関係を示すグラフ。
FIG. 6 is a graph showing the relationship between the pH of an aqueous phase and the distribution ratio of arsenic when trivalent arsenic ions are adsorbed to a resin supporting a reagent in the present invention.

Claims (6)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 三価ヒ素イオン含有水溶液から三価ヒ素
イオンを除去するに当たり、該水溶液を化学式(1) 【化1】 に示される化合物を含む有機溶媒と接触させて三価ヒ素
イオンを水相から有機相に移行させることを特徴とする
三価ヒ素イオンの除去方法。
When removing trivalent arsenic ions from an aqueous solution containing trivalent arsenic ions, the aqueous solution is converted to a chemical formula (1). A trivalent arsenic ion is transferred from an aqueous phase to an organic phase by bringing the organic solvent into contact with an organic solvent containing the compound described in (1).
【請求項2】 三価ヒ素イオン含有水溶液から三価ヒ素
イオンを除去するに当たり、該水溶液を化学式(1)に
示される化合物を担持した多孔質樹脂と接触させて三価
ヒ素イオンを水相から樹脂中に移行させることを特徴と
する三価ヒ素イオンの除去方法。
2. In removing trivalent arsenic ions from an aqueous solution containing trivalent arsenic ions, the aqueous solution is brought into contact with a porous resin supporting a compound represented by the chemical formula (1) to convert trivalent arsenic ions from the aqueous phase. A method for removing trivalent arsenic ions, characterized in that the ions are transferred into a resin.
【請求項3】 三価ヒ素イオンを含有する水溶液のpH
が0〜7の範囲であることを特徴とする請求項1又は2
に記載の三価ヒ素イオンの除去方法。
3. The pH of an aqueous solution containing trivalent arsenic ions.
Is in the range of 0 to 7.
3. The method for removing trivalent arsenic ions according to item 1.
【請求項4】 三価ヒ素イオン並びに五価ヒ素イオンを
共に含有する水溶液から三価ヒ素イオンのみを除去する
ことを特徴とする請求項1又は2記載の三価ヒ素イオン
の除去方法。
4. The method for removing trivalent arsenic ions according to claim 1, wherein only trivalent arsenic ions are removed from an aqueous solution containing both trivalent arsenic ions and pentavalent arsenic ions.
【請求項5】 請求項2に示される方法により三価ヒ素
イオンを担持した樹脂を、pH10以上のアルカリ性水
溶液と接触させることにより三価ヒ素イオンを樹脂中か
ら水相に移行させることを特徴とする三価ヒ素イオンの
回収方法。
5. The method according to claim 2, wherein the trivalent arsenic ion-supported resin is brought into contact with an aqueous alkaline solution having a pH of 10 or more to transfer the trivalent arsenic ion from the resin to an aqueous phase. To recover trivalent arsenic ions.
【請求項6】 化学式(1)に示される化合物を担持し
た多孔質樹脂を筒状のカラムとして使用することを特徴
とする請求項2又は5に記載の三価ヒ素イオンの除去方
法。
6. The method for removing trivalent arsenic ions according to claim 2, wherein the porous resin supporting the compound represented by the chemical formula (1) is used as a cylindrical column.
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