JP2954388B2 - Method for manufacturing two-layer TAB tape - Google Patents

Method for manufacturing two-layer TAB tape

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JP2954388B2
JP2954388B2 JP3130787A JP13078791A JP2954388B2 JP 2954388 B2 JP2954388 B2 JP 2954388B2 JP 3130787 A JP3130787 A JP 3130787A JP 13078791 A JP13078791 A JP 13078791A JP 2954388 B2 JP2954388 B2 JP 2954388B2
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dianhydride
layer
film
polyimide film
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俊夫 中尾
真一 三上
卓哉 栃本
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、半導体素子実装用のT
AB(Tape Automated Bondin
g)テープの製造方法に関し、より詳細には2層TAB
テープの製造方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a T
AB (Tape Automated Bondin)
g) Regarding a method of manufacturing a tape, more specifically, a two-layer TAB
The present invention relates to a tape manufacturing method.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年の半導体実装技術の進歩は著しい
が、中でもTABは、極めて高密度に導体パターンが形
成できるために、多ピン化に容易に対応でき、またボン
ディングの際にはワイヤーを用いる事なく、リード全体
を一度に半導体素子と配線接続することが可能であるた
め、高密度実装技術が必要とされている現在、活発に開
発が進められている。
2. Description of the Related Art In recent years, there has been a remarkable progress in semiconductor mounting technology. Among them, TAB can easily cope with an increase in the number of pins because a conductor pattern can be formed at an extremely high density, and a wire is used for bonding. Since the entire lead can be connected to the semiconductor element at a time without any trouble, the development is being actively promoted at the present time when high-density mounting technology is required.

【0003】TABテープとしては、2層構造と3層構
造との2種類あるが、3層構造(以下、3層TABと略
す)は一般的に銅箔等の導体箔と耐熱性の樹脂フィルム
を接着剤で張り合わせたものであり、フィルムとして耐
熱性及び耐薬品性等の優れた特性を持つポリイミドを用
いても耐熱性に劣る接着剤層を持つため、その特性を充
分に生かすことが出来なかった。
There are two types of TAB tapes, a two-layer structure and a three-layer structure. A three-layer structure (hereinafter abbreviated as three-layer TAB) is generally a conductor foil such as a copper foil and a heat-resistant resin film. It is possible to make full use of its properties because it has an adhesive layer with inferior heat resistance even if a polyimide film with excellent properties such as heat resistance and chemical resistance is used as a film. Did not.

【0004】一方、一般に2層構造TAB(以下、2層
TABと略す)は、ベースフィルムに接着剤層を持たな
いためにTABとしての耐熱性に優れるが、その製造法
の困難さ故に実用に供されることが少なかった。すなわ
ち2層TABの製造法としてはポリイミド等の耐熱フィ
ルム上に、スパッタリング、蒸着、メッキ等の薄膜形成
技術を用いて導体層を設けた後、ベースフィルム及び導
体層にエッチング処理を施しデバイスホールやスプロケ
ッ卜ホールといつた所定の開孔部、及び導体パターンを
形成する方法と銅箔等の導体箔上にポリイミド等耐熱樹
脂のワニスを直接塗布、乾燥させ2層基板を形成した
後、樹脂層及び導体箔にエッチング処理を施して所定の
開孔部や導体パターンを形成する方法の2種類の方法で
製造されているが、前者では、屈曲性の優れた圧延箔や
強度の優れたFe−Ni合金箔等を使用できないといっ
た問題点や、ベースフィルム開孔部の形成にエッチング
法を用いて開孔部を設けなくてはならないために、3層
TABの打ち抜き法と比較して生産性が著しく低下して
しまう。一方、後者においても、カールやシワの発生を
防ぐために、用いる樹脂の線膨張係数を導体層である銅
箔と一致させる必要があるが、この様な樹脂は、一般に
剛直で耐溶剤性に優れるためアルカリエッチングが困難
なものが多く、フィルム層に開孔部を設けるためにエキ
シマレーザー等のドライエッチングを行わなくてはなら
ず、生産性やコストが不利であるといった問題点を有し
ている。
On the other hand, a two-layered TAB (hereinafter, abbreviated as a two-layered TAB) generally has excellent heat resistance as a TAB because it does not have an adhesive layer on a base film. It was rarely offered. That is, as a method of manufacturing the two-layer TAB, a conductor layer is provided on a heat-resistant film such as polyimide by using a thin film forming technique such as sputtering, vapor deposition, plating, and the like. A method of forming a predetermined opening portion, which is a sprocket hole, and a conductor pattern, and directly applying a varnish of a heat-resistant resin such as a polyimide on a conductor foil such as a copper foil and drying to form a two-layer substrate, and then forming a resin layer And a method of forming a predetermined opening portion and a conductor pattern by performing an etching treatment on a conductor foil, and in the former, a rolled foil having excellent flexibility and a Fe- The problem of not being able to use Ni alloy foil and the like, and the fact that the opening must be provided by using an etching method to form the base film opening, the three-layer Productivity as compared to come method significantly decreases. On the other hand, also in the latter, in order to prevent the occurrence of curls and wrinkles, it is necessary to match the linear expansion coefficient of the resin used with the copper foil as the conductor layer, but such resins are generally rigid and have excellent solvent resistance. For this reason, alkali etching is often difficult, and dry etching such as excimer laser must be performed in order to provide openings in the film layer, which has a problem that productivity and cost are disadvantageous. .

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的とすると
ころは、接着剤層のない2層TABの本来持っている耐
熱性、耐アルカリ性、耐溶剤性、電気特性を低下させる
ことなく、生産性に優れ、カールの無い、銅箔とフィル
ムとの密着性の良好な2層TABテープの製造法を提供
するものである。
An object of the present invention is to produce a two-layer TAB without an adhesive layer without deteriorating the inherent heat resistance, alkali resistance, solvent resistance, and electrical characteristics. An object of the present invention is to provide a method for producing a two-layer TAB tape having excellent adhesiveness, no curl, and excellent adhesion between a copper foil and a film.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明は、3,3’,
4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物(以下
BPDAと略す)と3,3’,4,4’−ベンゾフェノ
ンテトラカルボン酸二無水物(以下BTDAと略す)及
び/又はピロメリット酸二無水物(以下PMDAと略
す)とのモル比(BPDA:BTDA及び/又はPMD
A)が100:0〜30:70である芳香族テトラカル
ボン酸二無水物成分と、2,2−ビス[4−(4−アミ
ノフェノキシ)フェニル]プロパン(以下BAPPと略
す)、1,3−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン
(以下APBと略す)、P−フェニレンジアミン(以下
PPDと略す)の3種の芳香族ジアミンのうち、BAP
P及び/又はAPB:PPDのモル比が100:0〜5
0:50である芳香族ジアミン成分とから得られるポリ
アミック酸のワニスを用い通常の方法でポリイミドフィ
ルムを作製し、このフィルムに所定の開孔部を設けた
後、導体箔にポリイミドフィルムを重ね合わせて圧着
し、導体箔に所要のパターンを形成することを特徴とす
る2層TABテープの製造方法である。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention provides a method for producing a 3,3 ',
4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride (hereinafter abbreviated as BPDA), 3,3 ', 4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride (hereinafter abbreviated as BTDA) and / or pyromellitic dianhydride Ratio (BPDA: BTDA and / or PMD)
A) an aromatic tetracarboxylic dianhydride component having a ratio of 100: 0 to 30:70, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane (hereinafter abbreviated as BAPP), 1,3 Among three aromatic diamines of -bis (3-aminophenoxy) benzene (hereinafter abbreviated as APB) and P-phenylenediamine (hereinafter abbreviated as PPD), BAP
The molar ratio of P and / or APB: PPD is 100: 0 to 5
A polyimide film is prepared by a usual method using a varnish of a polyamic acid obtained from an aromatic diamine component of 0:50, a predetermined opening is provided in the film, and the polyimide film is laminated on a conductor foil. And press-bonding to form a required pattern on the conductor foil.

【0007】ポリイミドフィルムに、開孔部を設ける方
法としては打ち抜き、切断、アルカリエッチング、レー
ザー加工等を用いることが出来るが、生産性、コストの
面からは打ち抜き加工が好ましい。導体箔上に所定のレ
ジストパターンを形成し、エッチング処理を施す際には
開孔部に所要の穴埋め材を充填して開孔部からのエッチ
ングを防止しておく必要がある。導体パターンを形成し
た後、導体箔上に残留するレジスト及び穴埋め材を除去
し、打ち抜き加工によりスプロケットホールを形成す
る。
[0007] As a method of forming an opening in the polyimide film, punching, cutting, alkali etching, laser processing, or the like can be used, but punching is preferable in terms of productivity and cost. When a predetermined resist pattern is formed on a conductive foil and an etching process is performed, it is necessary to fill a required hole filling material in the opening to prevent etching from the opening. After forming the conductor pattern, the resist and the filling material remaining on the conductor foil are removed, and a sprocket hole is formed by punching.

【0008】本発明において、ポリイミドフィルムと導
体箔とを加熱・圧着する条件としては、プレス形式の場
合は300〜500℃、5〜100kg/cm、5〜
30分、ロール式ラミネータの場合は300〜500
℃、1〜50kg/cm、0.1〜10m/分の条件が
適当であり、特に温度としてはポリイミドフィルムの乾
燥温度より50〜100℃高い温度で実施することが望
ましい。
In the present invention, the conditions for heating and pressing the polyimide film and the conductor foil are 300 to 500 ° C., 5 to 100 kg / cm 2 ,
30 minutes, 300-500 in case of roll type laminator
C., 1 to 50 kg / cm and 0.1 to 10 m / min are appropriate, and it is particularly desirable to carry out the process at a temperature 50 to 100.degree. C. higher than the drying temperature of the polyimide film.

【0009】本発明で用いるポリアミック酸溶液は、フ
ィルム形成能があり、金属箔との密着性が優れ、熱可塑
性があればよいが、次に示すようなポリアミック酸が最
も目的にかなっている。即ち、テトラカルボン酸二無水
物成分とジアミン成分とを反応させるに当たり、3,
3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物
(BPDA)と3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテ
トラカルボン酸二無水物(BTDA)及び/又はピロメ
リット酸二無水物(PMDA)とのモル比(BPDA:
BTDA及び/又はPMDA)が100:0〜30:7
0である芳香族テトラカルボン酸二無水物成分と、2,
2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プ
ロパン(BAPP)、1,3−ビス(3−アミノフェノ
キシ)ベンゼン(APB)、P−フェニレンジアミン
(PPD)の3種の芳香族ジアミンのうち、BAPP及
び/又はAPB:PPDのモル比が100:0〜50:
50である芳香族ジアミン成分とから得られるポリアミ
ック酸である。
The polyamic acid solution used in the present invention may have a film-forming ability, an excellent adhesion to a metal foil, and a thermoplastic property, but the following polyamic acid is most suitable. That is, upon reacting the tetracarboxylic dianhydride component with the diamine component,
3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride (BPDA), 3,3 ′, 4,4′-benzophenonetetracarboxylic dianhydride (BTDA) and / or pyromellitic dianhydride (PMDA) ) And the molar ratio (BPDA:
BTDA and / or PMDA) from 100: 0 to 30: 7
An aromatic tetracarboxylic dianhydride component which is 0;
2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane (BAPP), 1,3-bis (3-aminophenoxy) benzene (APB) and P-phenylenediamine (PPD) Among them, the molar ratio of BAPP and / or APB: PPD is 100: 0 to 50:
And a polyamic acid obtained from an aromatic diamine component of 50.

【0010】本発明で用いるテトラカルボン酸二無水物
は、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸
二無水物、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラ
カルボン酸二無水物と、ピロメリット酸二無水物である
が、この他の酸、例えば2,3,3’,4’−ビフェニ
ルテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−P
−テルフェニルテトラカルボン酸二無水物,2,3,
6,7−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物,3,
3’,4,4’−P−テルフェニルテトラカルボン酸二
無水物,4,4’−ヘキサフルオロイソプロピリデンビ
ス(フタル酸無水物)等の酸二無水物も特性を損わない
範囲で併用することが出来る。
The tetracarboxylic dianhydride used in the present invention includes 3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride and 3,3', 4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride And pyromellitic dianhydride, but other acids such as 2,3,3 ', 4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride and 3,3', 4,4'-P
-Terphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,3
6,7-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 3,
Acid dianhydrides such as 3 ', 4,4'-P-terphenyltetracarboxylic dianhydride and 4,4'-hexafluoroisopropylidenebis (phthalic anhydride) are used in combination as long as the properties are not impaired. You can do it.

【0011】本発明で用いるジアミンは、2,2−ビス
[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、
1,3−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼンと、P
−フェニレンジアミンであるが、この他のアミン例えば
4,4’−ジアミノジフェニルメタン、3,3’−ジメ
チルベンジジン、4,4’−ジアミノ−P−テルフェニ
ル、4,4’−ジアミノ−P−クォーターフェニル、
2,8−ジアミノジフェニレンオキサイドなどのジアミ
ンも特性を損わない範囲で併用することができる。
The diamine used in the present invention is 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane,
1,3-bis (3-aminophenoxy) benzene and P
Phenylenediamine, but other amines such as 4,4'-diaminodiphenylmethane, 3,3'-dimethylbenzidine, 4,4'-diamino-P-terphenyl, 4,4'-diamino-P-quarter Phenyl,
Diamines such as 2,8-diaminodiphenylene oxide can be used in combination as long as the properties are not impaired.

【0012】テトラカルボン酸二無水物成分とジアミン
成分との反応は酸成分/アミン成分(モル比)0.90
〜1.00で行うのが好ましく、0.90より低いと重
合度が上がらず硬化後の皮膜特性が悪い。1.00より
大きいと、硬化時にガスを発生し、平滑な皮膜を得るこ
とが出来ない。
The reaction between the tetracarboxylic dianhydride component and the diamine component is carried out in an acid component / amine component (molar ratio) of 0.90.
It is preferably carried out at 1.01.00, and when it is lower than 0.90, the degree of polymerization does not increase and the film properties after curing are poor. If it is larger than 1.00, gas is generated at the time of curing, and a smooth film cannot be obtained.

【0013】反応は通常、テトラカルボン酸二無水物及
びジアミン類と反応しない有機極性溶媒中で行われる。
この有機極性溶媒は、反応系に対して不活性であり、か
つ生成物に対して溶媒であること以外に、反応成分の少
なくとも一方、好ましくは両者に対して良溶媒でなけれ
ばならない。この種の溶媒として代表的なものは、N,
N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトア
ミド、ジメチルスルホン、ジメチルスルホキシド、N−
メチル−2−ピロリドン等があり、これらの溶媒は単独
または組み合わせて使用される。この他にも溶媒として
組み合わせて用いられるものとしてベンゼン、ジオキサ
ン、キシレン、トルエン、シクロヘキサン等の非極性溶
媒が、原料の分散媒、反応調節剤あるいは生成物からの
揮散調節剤、皮膜平滑剤等として使用される。
The reaction is usually carried out in an organic polar solvent which does not react with tetracarboxylic dianhydride and diamines.
In addition to being inert to the reaction system and being a solvent for the product, the organic polar solvent must be a good solvent for at least one of the reaction components, preferably both. Typical solvents of this type are N,
N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, dimethylsulfone, dimethylsulfoxide, N-
There are methyl-2-pyrrolidone and the like, and these solvents are used alone or in combination. In addition, non-polar solvents such as benzene, dioxane, xylene, toluene, and cyclohexane may be used in combination as solvents, as a dispersion medium of a raw material, a volatilization regulator from a reaction regulator or a product, a volatilization regulator from a product, a film smoother, and the like. used.

【0014】反応は一般的に無水の条件下で行うことが
好ましい。これはテトラカルボン酸二無水物が水により
開環し、不活性化し、反応を停止させる恐れがあるため
である。このため仕込原料中の水分も溶媒中の水分も除
去する必要がある。しかし一方、反応の進行を調節し、
樹脂重合度をコントロールするためにあえて水を添加す
ることも行われる。また反応は不活性ガス雰囲気中で行
われることが好ましい。これはジアミン類の酸化を防止
するためである。不活性ガスとしては一般的に乾燥窒素
ガスが使用される。
The reaction is generally preferably carried out under anhydrous conditions. This is because the tetracarboxylic dianhydride may be ring-opened by water, inactivated, and stop the reaction. Therefore, it is necessary to remove both the water in the raw materials and the water in the solvent. But on the other hand, it regulates the progress of the reaction,
Water is also added to control the degree of polymerization of the resin. The reaction is preferably performed in an inert gas atmosphere. This is to prevent oxidation of diamines. Dry nitrogen gas is generally used as the inert gas.

【0015】導体層として用いることのできる材料とし
ては、銅、アルミニウム、ニッケル等の単体の金属箔に
加えFe−Ni合金、Fe−Cr−Al合金等の金属箔
が挙げられる。
Examples of the material that can be used for the conductor layer include metal foils such as Fe—Ni alloy and Fe—Cr—Al alloy in addition to simple metal foils such as copper, aluminum and nickel.

【0016】[0016]

【作用】本発明は、特定のポリアミック酸溶液より得ら
れた熱可塑性ポリイミドフィルムを用い、孔加工を行
い、さらに、導体箔と加熱・圧着し、導体配線を形成す
る工程をとることにより、容易にかつ安価に、生産性・
収率よく2層TABテープを得ることができる。
According to the present invention, a hole is formed by using a thermoplastic polyimide film obtained from a specific polyamic acid solution, and furthermore, a step of heating and pressure bonding with a conductive foil to form a conductive wiring is adopted. And low cost, productivity
A two-layer TAB tape can be obtained with high yield.

【0017】[0017]

【実施例】(実施例1)温度計、攪拌装置、環流コンデ
ンサーおよび乾燥窒素ガス吹き込み口を備えた4つ口セ
パラブルフラスコにBAPP 20.53g(0.05
mol)、APB 14.62g(0.05mol)を
とり、これに無水のN−メチル−2−ピロリドン90重
量%とトルエン10重量%の混合溶剤を、全仕込原料中
の固形分割合が20重量%になるだけの量を加えて溶解
した。乾燥窒素ガスは反応の準備段階より生成物取り出
しまでの全工程にわたり流しておいた。次いで精製した
BPDA 20.60g(0.07mol)、BTDA
9.76g(0.03mol)を撹拌しながら少量ず
つ添加するが、発熱反応であるため、外部水槽に約15
℃の冷水を循環させてこれを冷却した。添加後、内部温
度を20℃に設定し、5時間撹拌し反応を終了してポリ
アミック酸溶液を得た。
EXAMPLE 1 In a four-neck separable flask equipped with a thermometer, a stirrer, a reflux condenser and a dry nitrogen gas inlet, 20.53 g (0.05) of BAPP was placed.
mol) and 14.62 g (0.05 mol) of APB, and a mixed solvent of 90% by weight of anhydrous N-methyl-2-pyrrolidone and 10% by weight of toluene was added thereto. % And dissolved. Dry nitrogen gas was allowed to flow throughout the entire process from the preparation of the reaction to the removal of the product. Then, 20.60 g (0.07 mol) of purified BPDA, BTDA
9.76 g (0.03 mol) is added little by little with stirring. However, since it is an exothermic reaction, about 15 g is added to the external water tank.
This was cooled by circulating cold water at ℃. After the addition, the internal temperature was set at 20 ° C., and the mixture was stirred for 5 hours to complete the reaction, thereby obtaining a polyamic acid solution.

【0018】このポリアミック酸溶液を用い、通常の方
法で厚みが50μmのポリイミドフィルムを得た。金型
を用いて孔加工(デバイスホール)を行い、市販の圧延
銅箔粗化面上にポリイミドフィルムを重ね合わせ、40
0℃、40kg/cm、15分加熱・圧着を行い、デ
バイスホールを持つ2屑基板を得た。
Using this polyamic acid solution, a polyimide film having a thickness of 50 μm was obtained by an ordinary method. Drilling (device hole) is performed using a mold, and a polyimide film is superimposed on the roughened surface of a commercially available rolled copper foil.
Heating and pressure bonding were performed at 0 ° C. and 40 kg / cm 2 for 15 minutes to obtain a two-waste substrate having device holes.

【0019】得られた2層基板を用い、導体箔上に所定
のレジストパターン及び穴埋め材を施し、エッチング処
理を施すことにより導体パターンを形成した後、導体箔
上に残留するレジスト及び穴埋め材を除去し、打ち抜き
加工によりスプロケットホールを設けることにより2層
TABテープを得た。
Using the obtained two-layer substrate, a predetermined resist pattern and a hole-filling material are applied to the conductor foil, and a conductor pattern is formed by performing an etching process. Then, the resist and the hole-filling material remaining on the conductor foil are removed. The two-layer TAB tape was obtained by removing and providing a sprocket hole by punching.

【0020】(実施例2)実施例1と同様のデバイスホ
ールのあいたポリイミドフィルムを用い、圧延銅箔粗化
面上にポリイミドフィルム面を重ね合わせ、ロール式の
ラミネータを用いて、90℃、15kg/cm、0.
2m/分で、加熱・圧着を行い、デバイスホールを持つ
2層基板とした。この2層基板を使用する以外は実施例
1と同様にして2層TABテープを得た。
Example 2 A polyimide film having device holes similar to that of Example 1 was used, a polyimide film surface was superimposed on a roughened surface of a rolled copper foil, and a roll type laminator was used at 90 ° C. and 15 kg. / Cm 2 , 0.
Heating and pressure bonding were performed at 2 m / min to obtain a two-layer substrate having device holes. A two-layer TAB tape was obtained in the same manner as in Example 1 except that this two-layer substrate was used.

【0021】(実施例3)実施例1と同様な装置及び方
法で、PPD0.02mol、APB0.08mol、
BPDA0.08mol、PMDA0.02molから
なるポリアミック酸溶液を得た。その後は実施例1と同
様の方法で2層TABテープを得た。
(Embodiment 3) Using the same apparatus and method as in Embodiment 1, 0.02 mol of PPD, 0.08 mol of APB,
A polyamic acid solution composed of 0.08 mol of BPDA and 0.02 mol of PMDA was obtained. Thereafter, a two-layer TAB tape was obtained in the same manner as in Example 1.

【0022】(比較例1)実施例1と同様な装置及び方
法で、P−フェニレンジアミン0.1mol、BPDA
0.1molからなるポリアミック酸溶液を得た。その
後は、実施例1と同様の方法で両面2層基板の作製を試
みたが、銅箔と熱圧着しても全く接着しなかった。
(Comparative Example 1) Using the same apparatus and method as in Example 1, 0.1 mol of P-phenylenediamine, BPDA
A polyamic acid solution consisting of 0.1 mol was obtained. Thereafter, an attempt was made to produce a double-sided two-layer substrate in the same manner as in Example 1, but no adhesion was observed even when thermocompression-bonded to a copper foil.

【0023】(比較例2)実施例1と同様な装置及び方
法で、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル0.1m
olとピロメリット酸二無水物0.1molからなるポ
リアミック酸溶液を得た。その後は実施例1と同様の方
法で両面2層基板の作製を試みたが、銅箔と熱圧着して
も全く接着しなかった。
(Comparative Example 2) Using the same apparatus and method as in Example 1, 0.1 m of 4,4'-diaminodiphenyl ether was used.
ol and 0.1 mol of pyromellitic dianhydride were obtained as a polyamic acid solution. After that, an attempt was made to produce a double-sided two-layer substrate in the same manner as in Example 1, but no adhesion was observed even when thermocompression-bonded to a copper foil.

【0024】[0024]

【発明の効果】本発明によれば、特定の熱可塑性ポリイ
ミドフィルム用いることにより、生産性の優れた打ち抜
き加工によりデバイスホールを設けた耐熱性、耐薬品性
等に優れた、カールの無い、銅箔とフィルムとの密着性
の良好な2層TABを得ることができ、さらに蒸着法等
では使用することの出来なかった圧延箔を用いた2層T
ABも作製することが可能となった。本発明は、連続シ
ートを用いた連続工程にも容易に適用できるなど、工業
的な2層TABの製造方法として好適なものである。
According to the present invention, by using a specific thermoplastic polyimide film, a copper-free, curl-free, heat-resistant and chemical-resistant copper hole having device holes formed by punching with excellent productivity can be obtained. A two-layer TAB having good adhesion between the foil and the film can be obtained, and a two-layer TB using a rolled foil that cannot be used by a vapor deposition method or the like.
AB can also be manufactured. INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention can be easily applied to a continuous process using a continuous sheet, and is suitable as an industrial method for producing a two-layer TAB.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) H01L 21/60 311 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on front page (58) Field surveyed (Int.Cl. 6 , DB name) H01L 21/60 311

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカ
ルボン酸二無水物(以下BPDAと略す)と3,3’,
4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物
(以下BTDAと略す)及び/又はピロメリット酸二無
水物(以下PMDAと略す)とのモル比(BPDA:B
TDA及び/又はPMDA)が100:0〜30:70
である芳香族テトラカルボン酸二無水物成分と、2,2
−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロ
パン(以下BAPPと略す)、1,3−ビス(3−アミ
ノフェノキシ)ベンゼン(以下APBと略す)、P−フ
ェニレンジアミン(以下PPDと略す)の3種の芳香族
ジアミンのうち、BAPP及び/又はAPB:PPDの
モル比が100:0〜50:50である芳香族ジアミン
成分とから得られるポリアミック酸のワニスを用いポリ
イミドフィルムを作製し、このフィルムに所定の開孔部
を設けた後、導体箔にポリイミドフィルムを重ね合わせ
て圧着し、導体箔に所要のパターンを形成することを特
徴とする2層TABテープの製造方法。
1. A method according to claim 1, wherein 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride (hereinafter abbreviated as BPDA) and 3,3 ′,
Molar ratio (BPDA: B) with 4,4′-benzophenonetetracarboxylic dianhydride (hereinafter abbreviated as BTDA) and / or pyromellitic dianhydride (hereinafter abbreviated as PMDA)
TDA and / or PMDA) from 100: 0 to 30:70
An aromatic tetracarboxylic dianhydride component,
-Bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane (hereinafter abbreviated as BAPP), 1,3-bis (3-aminophenoxy) benzene (hereinafter abbreviated as APB), P-phenylenediamine (hereinafter abbreviated as PPD) Among the three types of aromatic diamines, a polyimide film was prepared using a varnish of a polyamic acid obtained from an aromatic diamine component having a molar ratio of BAPP and / or APB: PPD of 100: 0 to 50:50, A method for producing a two-layer TAB tape, comprising: providing a predetermined opening portion in the film, superimposing a polyimide film on the conductor foil, and pressing the polyimide film to form a required pattern on the conductor foil.
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