JP2949875B2 - Manufacturing method of magnetic recording medium - Google Patents

Manufacturing method of magnetic recording medium

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JP2949875B2
JP2949875B2 JP3351991A JP3351991A JP2949875B2 JP 2949875 B2 JP2949875 B2 JP 2949875B2 JP 3351991 A JP3351991 A JP 3351991A JP 3351991 A JP3351991 A JP 3351991A JP 2949875 B2 JP2949875 B2 JP 2949875B2
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magnetic
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、磁気ディスク装置など
の磁気記録装置に用いられる磁気記録媒体を製造する方
法に関し、さらに詳述すれば非磁性支持体の上にチタニ
ウムとシリコンとからなる非晶質合金層と磁性層と保護
層とがこの順序で形成された磁気記録媒体の製造方法に
関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a magnetic recording medium used in a magnetic recording device such as a magnetic disk device. More specifically, the present invention relates to a non-magnetic support made of titanium and silicon on a non-magnetic support. The present invention relates to a method for manufacturing a magnetic recording medium in which a crystalline alloy layer, a magnetic layer, and a protective layer are formed in this order.

【0002】[0002]

【従来の技術】磁気記録媒体は、ガラス基板の如き表面
が平坦な非磁性支持体の上に磁性層が被覆され、さらに
その上にたとえばカーボン膜の保護層が被覆され、さら
に有機潤滑層が塗布されたものが知られている。そし
て、磁性層の結晶粒径を制御するために、結晶性の金属
層たとえばクロム膜が磁性層の下地層として被覆され、
それにより磁性層の磁気特性を改善したものが特開昭6
3−273208号公報に開示されている。
2. Description of the Related Art In a magnetic recording medium, a magnetic layer is coated on a non-magnetic support having a flat surface such as a glass substrate, a protective layer such as a carbon film is further coated thereon, and an organic lubricating layer is further coated thereon. Coated ones are known. Then, in order to control the crystal grain size of the magnetic layer, a crystalline metal layer such as a chromium film is coated as a base layer of the magnetic layer,
Japanese Patent Laid-Open Publication No.
It is disclosed in Japanese Patent Publication No. 3-273208.

【0003】本発明は、チタニウムとシリコンの非晶質
合金層の上に良好な磁性膜を形成するためには、チタニ
ウムとシリコンの非晶質合金層をどのような方法で形成
するのがよいかを検討した過程で得られたものであり、
前記チタニウムとシリコンの非晶質合金層の下地膜を有
する良好な磁気特性、とりわけ大きい保力角比を有
する磁気記録媒体の製造方法を提供するものである。
According to the present invention, in order to form a good magnetic film on an amorphous alloy layer of titanium and silicon, it is preferable to form the amorphous alloy layer of titanium and silicon by any method. Was obtained in the process of examining
There is provided a method of manufacturing a magnetic recording medium having good magnetic properties, especially high coercive magnetic force angle shape ratio having a base film of the amorphous alloy layer of the titanium and silicon.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】非磁性支持体の上にチタ
ニウムとシリコンの非晶質合金層と磁性層と保護層とが
順次形成された磁気記録媒体の磁気特性、とりわけ保
力角比は、チタニウムとシリコンの非晶質合金層の形
成方法により依存する。
Means for Solving the Problems] The magnetic characteristics of the magnetic recording medium amorphous alloy layer and the magnetic layer of titanium and silicon and the protective layer are sequentially formed on a nonmagnetic support, especially coercive magnetic <br / > power angle shape ratio is dependent by the method of forming the titanium and amorphous alloy layer of silicon.

【0005】本発明は、非磁性支持体の上に少なくと
も、チタニウムとシリコンとからなる非晶質合金層と、
磁性層と、保護層とが順次形成された磁気記録媒体の製
造方法であって、前記非晶質合金層を、チタニウム膜お
よびシリコン膜を減圧された不活性ガス中でのスパッタ
リング法により順次積層し、しかるのち前記積層した膜
を減圧された不活性ガス中で加熱して、前記チタニウム
中に前記シリコンを熱拡散させて形成することを特徴と
する磁気記録媒体の製造方法である。
[0005] The present invention provides an amorphous alloy layer comprising at least titanium and silicon on a non-magnetic support,
A method of manufacturing a magnetic recording medium in which a magnetic layer and a protective layer are sequentially formed, wherein the amorphous alloy layer is formed by sequentially laminating a titanium film and a silicon film by a sputtering method in a reduced pressure inert gas. Thereafter, the stacked film is heated in a reduced pressure inert gas to thermally diffuse the silicon into the titanium to form the magnetic recording medium.

【0006】スパッタリング法によりチタニウム膜を被
覆するに際しては、金属のチタニウムのターゲットが用
いられ、不活性ガス中での直流あるいは高周波のグロー
放電が用いられる。また、スパッタリング法によりシリ
コン膜をチタニウム膜表面に被覆するに際しては、シリ
コンターゲットが用いられ不活性ガス中での直流あるい
は高周波のグロー放電が用いられる。前記膜の被覆を行
うときの基板の温度は、室温から550℃にすることが
できる。そしてこれらの被膜を被覆した後の熱拡散の温
度は、300〜550℃が好ましい。300℃より低い
温度ではチタニウムがシリコンの中に拡散する速度がき
わめて遅くなるので好ましくなく、550℃より高い温
度では前記合金膜が非晶質でなくなるので好ましくな
い。
[0006] When coating the titanium film by the sputtering method, a metal titanium target is used, and a direct current or high frequency glow discharge in an inert gas is used. Further, when the silicon film is coated on the titanium film surface by the sputtering method, a silicon target is used and a direct current or high frequency glow discharge in an inert gas is used. The temperature of the substrate when coating the film can be from room temperature to 550 ° C. The temperature of thermal diffusion after coating these films is preferably 300 to 550 ° C. If the temperature is lower than 300 ° C., the rate of diffusion of titanium into silicon is extremely low. Thus, if the temperature is higher than 550 ° C., the alloy film becomes non-crystalline, which is not preferable.

【0007】チタニウム膜とシリコン膜の積層体は、シ
リコン膜を被覆後スパッタリング装置の中で引続き不活
性ガス雰囲気または低圧力中で加熱することが好まし
い。加熱によりチタニウムがシリコン中に熱拡散し、前
記積層体の全部または一部がチタニウムとシリコンとか
らなる非晶質合金層になる。加熱温度および加熱時間を
選ぶことにより、チタニウムとシリコンの積層体の全体
が非晶質合金となるようにしてもよく、非磁性支持体の
反対側の表面近傍のみに非晶質合金を層形成してもよ
い。
It is preferable that the laminated body of the titanium film and the silicon film is heated in an inert gas atmosphere or a low pressure in a sputtering apparatus after coating the silicon film. By heating, titanium is thermally diffused into silicon, and the whole or a part of the laminate becomes an amorphous alloy layer composed of titanium and silicon. By selecting a heating temperature and a heating time, the entire stack of titanium and silicon may be made to be an amorphous alloy, and an amorphous alloy is formed only near the surface on the opposite side of the nonmagnetic support. May be.

【0008】非晶質合金層の厚みは、2nm以上あること
が好ましい。厚みが2nmより薄いと連続な膜として被覆
することが困難になる。さらに連続膜とするためには、
3nm以上が好ましく、磁気記録媒体の生産性の低下を小
さくする上から50nm以下にするのが好ましい。
The thickness of the amorphous alloy layer is preferably at least 2 nm. If the thickness is less than 2 nm, it will be difficult to coat as a continuous film. To make it a continuous film,
The thickness is preferably 3 nm or more, and more preferably 50 nm or less from the viewpoint of minimizing the decrease in productivity of the magnetic recording medium.

【0009】磁性層および保護層の形成方法は、公知の
スパッタリング法を用いることができ非晶質合金層と磁
性層と保護層を引き続いて、すなわち途中で非晶質合金
層、磁性層を大気中に暴露させることなく形成すること
が好ましい。かかる連続して前記各層を形成する装置と
しては、ターゲット表面に対向して非磁性支持体を移動
させながら被覆する、複数のカソードを有するインライ
ン式スパッタリング装置が好ましく用いられる。そして
この場合、チタニウム膜を被覆し、さらにシリコン膜を
被覆後、インラインスパッタリング装置の中の不活性ガ
ス雰囲気中、またはガス導入を行わない高真空中で積層
体を加熱することができる。チタニウムとシリコンとか
らなる非晶質合金層を形成した後、すぐに磁性層を引続
き被覆するためには、前記熱拡散を行うための温度は4
00〜550℃とするのがさらに好ましい。
As a method for forming the magnetic layer and the protective layer, a known sputtering method can be used, and the amorphous alloy layer, the magnetic layer and the protective layer are successively formed on the amorphous alloy layer and the magnetic layer. It is preferable to form without exposure. As such an apparatus for continuously forming each of the layers, an in-line sputtering apparatus having a plurality of cathodes for coating the non-magnetic support while moving it against the target surface is preferably used. In this case, after the titanium film is coated and the silicon film is further coated, the laminate can be heated in an inert gas atmosphere in an in-line sputtering apparatus or in a high vacuum in which no gas is introduced. In order to immediately cover the magnetic layer immediately after forming the amorphous alloy layer composed of titanium and silicon, the temperature for performing the thermal diffusion is set at 4 ° C.
More preferably, the temperature is set to 00 to 550 ° C.

【0010】また、本発明の方法は、非磁性支持体の上
に直接非晶質合金層を設けた磁気記録媒体を製造する場
合のほかに、非晶質合金層を形成するに先立ち磁気記録
媒体の保護層の表面に凹凸を形成するための凹凸形成物
を設けた磁気記録媒体や、非晶質合金層を形成するに先
立ち非磁性支持体から放出されるガスを吸蔵するいわゆ
るゲッタリング作用をもつ金属膜を設けた磁気記録媒体
を製造するのに用いることができる。
[0010] The method of the present invention can be applied not only to the production of a magnetic recording medium having an amorphous alloy layer provided directly on a non-magnetic support, but also to the magnetic recording medium prior to the formation of the amorphous alloy layer. A so-called gettering action for absorbing a gas released from a non-magnetic support prior to forming a magnetic recording medium or an amorphous alloy layer, which is provided with a concavo-convex structure for forming concavities and convexities on the surface of a protective layer of the medium. Can be used to manufacture a magnetic recording medium provided with a metal film having

【0011】本発明に用いられる非磁性支持体として
は、ガラス板、アルミニウム板、セラミックス板などが
あげられる。
The non-magnetic support used in the present invention includes a glass plate, an aluminum plate and a ceramic plate.

【0012】[0012]

【作用】チタニウム膜とシリコン膜が順次形成された積
層体は、不活性ガス雰囲気中で加熱されることにより、
シリコンがチタニウム中に熱拡散し少なくとも積層体の
非磁性支持体とは反対側の界面近傍に非晶質の合金層が
形成される。この非晶質合金層は、前記非晶質合金層の
上に被覆される磁性層の結晶粒径を揃えたり、磁性層の
被覆に先立ち被覆される結晶性の金属下地層の結晶配向
に影響を及ぼし、磁性層の磁気特性を向上させる。
The laminate in which the titanium film and the silicon film are sequentially formed is heated in an inert gas atmosphere,
Silicon is thermally diffused into titanium, and an amorphous alloy layer is formed at least in the vicinity of the interface of the laminate opposite to the nonmagnetic support. The amorphous alloy layer has a uniform crystal grain size of the magnetic layer coated on the amorphous alloy layer and affects the crystal orientation of the crystalline metal underlayer coated prior to the coating of the magnetic layer. To improve the magnetic properties of the magnetic layer.

【0013】[0013]

【実施例】以下に本発明を実施例により説明する。図1
は、本発明を実施するのに用いたインライン式スパッタ
リング装置の概略断面図で、真空槽1は、ロード室2、
成膜室3,4,5,6、アンロード室7からなり、これ
らの室は開閉可能なゲートバルブ8により接続されてい
る(各室に接続されている真空排気ポンプは図示しな
い)。非磁性支持体21はロード室2のコンベア16に
セットされ、アンロード室7に搬送されるときに所定の
層が被覆される。各成膜室にはガス供給管9が外部のガ
スボンベ14より成膜室内にガス導入が出来るように設
けられ、ガス流量コントロールバルブ10により導入量
が制御される。また、各室には非磁性支持体を加熱する
ヒーター15、外部の直流電源13より電力が供給され
るカソード11が設けられ、そのカソード表面に被覆す
べき層のターゲット12が設けられている。各成膜室内
にガスを導入し所定の減圧した雰囲気中でターゲットへ
の電圧印加をおこないグロー放電によりターゲットをス
パッタリングして、非磁性支持体の表面に被膜を被覆し
た。
EXAMPLES The present invention will be described below with reference to examples. FIG.
1 is a schematic sectional view of an in-line type sputtering apparatus used for carrying out the present invention, wherein a vacuum chamber 1 includes a load chamber 2;
The chambers are composed of film forming chambers 3, 4, 5, 6 and an unloading chamber 7, and these chambers are connected by a gate valve 8 which can be opened and closed (a vacuum exhaust pump connected to each chamber is not shown). The non-magnetic support 21 is set on the conveyor 16 of the load chamber 2 and is coated with a predetermined layer when transported to the unload chamber 7. In each film forming chamber, a gas supply pipe 9 is provided so that gas can be introduced from an external gas cylinder 14 into the film forming chamber, and the gas flow control valve 10 controls the amount of gas introduced. In each chamber, a heater 15 for heating the nonmagnetic support, a cathode 11 supplied with power from an external DC power supply 13 are provided, and a target 12 of a layer to be coated is provided on the cathode surface. A gas was introduced into each of the film forming chambers, a voltage was applied to the target in a predetermined reduced-pressure atmosphere, and the target was sputtered by glow discharge to cover the surface of the nonmagnetic support.

【0014】図2は、本発明の実施により得られた磁気
記録媒体の実施例の一部断面図である。図2(a)で示
される実施例1の磁気記録媒体20は、非磁性支持体2
1の上に水分や酸素などのガスにたいしてゲッタリング
作用を有する金属膜23が被覆され、その上に磁気記録
媒体の表面に凹凸を形成するための凹凸形成物24が不
連続な島状構造になるように被覆され、その上にチタニ
ウムとシリコンからなる非晶質合金層22が被覆され、
その上にクロム下地層25が被覆され、その上にコバル
ト−ニッケル−クロム合金の磁性層26が被覆され、そ
の上にカーボンの保護層27が被覆され、さらにその上
にパーフロロアルキルの潤滑層28が塗布されている。
FIG. 2 is a partial sectional view of an embodiment of a magnetic recording medium obtained by implementing the present invention. The magnetic recording medium 20 of the first embodiment shown in FIG.
1 is coated with a metal film 23 having a gettering action against a gas such as moisture or oxygen, and a concavo-convex formation 24 for forming concavities and convexities on the surface of the magnetic recording medium is formed on the metal film 23 in a discontinuous island-like structure. And an amorphous alloy layer 22 made of titanium and silicon is coated thereon,
A chromium underlayer 25 is coated thereon, a cobalt-nickel-chromium alloy magnetic layer 26 is coated thereon, a carbon protective layer 27 is coated thereon, and a perfluoroalkyl lubricating layer is further formed thereon. 28 are applied.

【0015】図2(b)で示され実施例2の磁気記録媒
体20は、非磁性支持体21の上に、チタニウムとシリ
コンからなる非晶質合金層22、クロム下地層25、コ
バルト−ニッケル−クロム合金の磁性層26、カーボン
保護層27が順次被覆され、さらにカーボン保護層27
の上にパーフロロアルキルの潤滑層28が塗布されてい
る。
The magnetic recording medium 20 according to the second embodiment shown in FIG. 2B has an amorphous alloy layer 22 made of titanium and silicon, a chromium underlayer 25, and a cobalt-nickel layer on a nonmagnetic support 21. A magnetic layer 26 of chromium alloy and a carbon protective layer 27 are successively coated,
A lubricating layer 28 of perfluoroalkyl is applied thereon.

【0016】図2(c)で示される実施例3の磁気記録
媒体20は非磁性支持体21の上に、チタニウムとシリ
コンからなる非晶質合金層22、コバルト−ニッケル−
白金の合金磁性層26、カーボン保護層27が順次被覆
され、さらにカーボン保護層27の上にパーフロロアル
キルの潤滑層28が塗布されている。
A magnetic recording medium 20 according to a third embodiment shown in FIG. 2C has an amorphous alloy layer 22 made of titanium and silicon,
A platinum alloy magnetic layer 26 and a carbon protective layer 27 are sequentially coated, and a perfluoroalkyl lubricating layer 28 is applied on the carbon protective layer 27.

【0017】実施例1 円盤状に加工され化学強化されたソーダライム組成のガ
ラス板を良く洗浄し、インラインスパッタリング装置内
のロード室にセットし、連続してガラス板上に以下のよ
うにして、チタニウムとシリコンからなる非晶質合金
層、磁性層、保護層を含む積層膜を被覆した。まずガラ
ス板を0.00013パスカルの圧力下のロード室で2
00℃に加熱した。その後0.13パスカルのアルゴン
雰囲気でチタニウムターゲットをスパッタし、30nmの
厚みのチタニウムのガスゲッタリング層を200℃に加
熱したガラス板上に被覆した。次に200℃に加熱した
状態で、アルミニウムの凹凸形成物を形成した。凹凸形
成物の形成条件は、アルミニウムのターゲットを0.1
3パスカルのアルゴン雰囲気でスパッタすることにより
行い、スパッタするアルミニウムの量は、ガラス板を常
温の状態にして10〜20nmの厚みの平滑な連続膜を被
覆する量とした。次に0.13パルカルのアルゴン雰囲
気によりチタニウムターゲットの上を移動させながら1
0nmの厚みのチタニウム膜を被覆し、引続きシリコンタ
ーゲットの上を移動させながら10nmの厚みのシリコン
膜を被覆した。その後このガラス板を300℃に成膜室
内で加熱した。次に0.13パスカルのアルゴン雰囲気
中でクロムターゲットをスパッタして150nmの厚みの
クロム下地層膜を被覆した。次に、コバルトニッケルク
ロム合金ターゲットを0.13パスカルのアルゴン雰囲
気中でスパッタし、60nmの厚みの磁性膜を被覆した。
次に0.13パスカルのアルゴン雰囲気でカーボンター
ゲットをスパッタして30nmの厚みのカーボン保護層を
被覆した。次にガラス板をアンロード室に移しスパッタ
リング装置から取り出し、パーフロロアルキル系の潤滑
油をカーボン保護層上に塗布して、図2(a)に示す膜
構成の磁気記録媒体を得た。
Example 1 A glass plate having a soda lime composition which has been processed into a disk shape and chemically strengthened is thoroughly washed, set in a load chamber in an in-line sputtering apparatus, and continuously placed on the glass plate as follows. A laminated film including an amorphous alloy layer made of titanium and silicon, a magnetic layer, and a protective layer was covered. First, a glass plate was placed in a load chamber under a pressure of 0.00013 Pascals.
Heated to 00 ° C. Thereafter, a titanium target was sputtered in an argon atmosphere of 0.13 pascal, and a titanium gas gettering layer having a thickness of 30 nm was coated on a glass plate heated to 200 ° C. Next, while being heated to 200 ° C., a concavo-convex formed product of aluminum was formed. The conditions for forming the irregularities were as follows:
The sputtering was performed in an argon atmosphere of 3 Pascal, and the amount of aluminum to be sputtered was such that the glass plate was kept at room temperature and a smooth continuous film having a thickness of 10 to 20 nm was coated. Next, while moving over a titanium target in an argon atmosphere of 0.13 palcal,
A titanium film having a thickness of 0 nm was coated, and then a silicon film having a thickness of 10 nm was coated while moving over a silicon target. Thereafter, this glass plate was heated to 300 ° C. in the film forming chamber. Next, a chromium target was sputtered in an argon atmosphere of 0.13 pascal to cover a chromium underlayer film having a thickness of 150 nm. Next, a cobalt nickel chromium alloy target was sputtered in an argon atmosphere of 0.13 pascal to cover a magnetic film having a thickness of 60 nm.
Next, a carbon target was sputtered in an argon atmosphere of 0.13 pascal to cover a carbon protective layer having a thickness of 30 nm. Next, the glass plate was transferred to an unloading chamber, taken out of the sputtering apparatus, and a perfluoroalkyl-based lubricating oil was applied on the carbon protective layer to obtain a magnetic recording medium having a film configuration shown in FIG.

【0018】得られた磁気記録媒体の保磁力を測定した
ところ、約1500Oeであり、保磁力角比S*は0.
91で良好な値であった。また、グライド特性は2マイ
クロインチ以下で、記録再生特性は良好で、ヘッドと磁
気ディスク表面の間の距離フライングハイトを3マイク
ロインチとして測定したところ、S/N値が30dB、D
50(出力が低周波数での値の1/2になる周波数)が
60kFCI(1インチ当たりの磁化反転回数)であった。
[0018] When the coercive force of the obtained magnetic recording medium was measured, about 1500 Oe, the coercive force squareness shape ratio S * 0.
91 was a good value. The glide characteristics were 2 micro inches or less, and the recording / reproducing characteristics were good. When the distance flying height between the head and the magnetic disk surface was measured as 3 micro inches, the S / N value was 30 dB and the D / D value was 30 dB.
50 (the frequency at which the output is 1 / of the value at the low frequency) was 60 kFCI (the number of magnetization reversals per inch).

【0019】実施例2 円盤状に加工され化学強化されたソーダライム組成のガ
ラス板を良く洗浄し、インラインスパッタリング装置内
のロード室内にセットした。まず0.00013パスカ
ルの圧力下で200℃に加熱した。
Example 2 A glass plate having a soda lime composition which had been processed into a disk shape and which had been chemically strengthened was thoroughly washed and set in a load chamber in an in-line sputtering apparatus. First, it was heated to 200 ° C. under a pressure of 0.00013 Pascal.

【0020】次にガラス板を成膜室に移し移動させなが
ら、実施例1と同じようにして0.13パスカルのアル
ゴン雰囲気でチタニウム膜とシリコン膜の積層膜を被覆
し、その後加熱してチタニウムとシリコンとからなる非
晶質の合金層を形成した。次に0.13パスカルのアル
ゴン雰囲気中でクロムターゲットをスパッタして150
nmの厚みのクロム下地層を被覆した。次に、コバルトニ
ッケルクロム合金ターゲットを0.13パスカルのアル
ゴン雰囲気でスパッタし、60nmの磁性層を被覆した。
次に0.13パスカルのアルゴン雰囲気でカーボンター
ゲットをスパッタして30nmの厚みのカーボン保護層を
被覆した。次にガラス板をアンロード室に移しスパッタ
リング装置から取り出し、パーフロロアルキル系の潤滑
油をカーボン保護層上に塗布して、図2(b)に示す膜
構成の磁気記録媒体を得た。
Next, while the glass plate is moved to the film forming chamber and moved, the laminated film of the titanium film and the silicon film is coated in an argon atmosphere of 0.13 pascal in the same manner as in the first embodiment. And an amorphous alloy layer composed of silicon. Next, a chromium target is sputtered in an argon atmosphere of
A chrome underlayer with a thickness of nm was coated. Next, a cobalt nickel chromium alloy target was sputtered in an argon atmosphere of 0.13 pascal to cover a magnetic layer of 60 nm.
Next, a carbon target was sputtered in an argon atmosphere of 0.13 pascal to cover a carbon protective layer having a thickness of 30 nm. Next, the glass plate was transferred to an unloading chamber, taken out of the sputtering apparatus, and a perfluoroalkyl-based lubricating oil was applied on the carbon protective layer to obtain a magnetic recording medium having a film configuration shown in FIG. 2B.

【0021】得られた磁気記録媒体の保磁力を測定した
ところ、約1500Oeであり、保磁力角比S*は0.
93で良好な値であった。また、グライド特性は2マイ
クロインチ以下で、記録再生特性は良好で、ヘッドと磁
気ディスク表面の間の距離フライングハイトを3マイク
ロインチとして測定したところ、S/N値が32dB、D
50(出力が低周波数での値の1/2になる周波数)が
65kFCI(1インチ当たりの磁化反転回数)であった。
[0021] When the coercive force of the obtained magnetic recording medium was measured, about 1500 Oe, the coercive force squareness shape ratio S * 0.
93 was a good value. The glide characteristic was 2 micro inches or less, and the recording / reproducing characteristics were good. When the distance flying height between the head and the magnetic disk surface was measured as 3 micro inches, the S / N value was 32 dB and the D / D value was 32 dB.
50 (the frequency at which the output becomes 出力 of the value at the low frequency) was 65 kFCI (the number of magnetization reversals per inch).

【0022】実施例3 円盤状に加工され化学強化されたソーダライム組成のガ
ラス板を良く洗浄し、インラインスパッタリング装置内
のロード室にセットした。まず0.00013パスカル
の圧力下で200℃に加熱した。次にガラス板を成膜室
に移し実施例1と同じようにして、チタニウムとシリコ
ンとからなる30nmの厚みの非晶質層を形成した。次
に、コバルトとニッケルと白金からなる合金ターゲット
を0.13パスカルのアルゴン雰囲気でスパッタし、6
0nmの厚みの合金磁性層(白金15原子%ニッケル7原
子%コバルト78原子%)を被覆した。次に0.13パ
スカルのアルゴン雰囲気中でカーボンターゲットをスパ
ッタして30nmの厚みのカーボン保護層を被覆した。次
にガラス板をアンロード室に移しスパッタリング装置か
ら取り出し、パーフロロアルキル系の潤滑油をカーボン
保護層の上に塗布して、図2(c)に示す膜構成の磁気
記録媒体を得た。
Example 3 A glass plate having a soda lime composition which had been processed into a disk shape and which had been chemically strengthened was thoroughly washed and set in a load chamber in an in-line sputtering apparatus. First, it was heated to 200 ° C. under a pressure of 0.00013 Pascal. Next, the glass plate was transferred to a film forming chamber, and a 30-nm-thick amorphous layer made of titanium and silicon was formed in the same manner as in Example 1. Next, an alloy target composed of cobalt, nickel and platinum was sputtered in an argon atmosphere of 0.13 pascal,
A 0 nm thick alloy magnetic layer (15 at% platinum, 7 at% nickel, 78 at% cobalt) was coated. Next, a carbon target was sputtered in an argon atmosphere of 0.13 pascal to cover a carbon protective layer having a thickness of 30 nm. Next, the glass plate was transferred to an unloading chamber, taken out of the sputtering apparatus, and a perfluoroalkyl-based lubricating oil was applied on the carbon protective layer to obtain a magnetic recording medium having a film configuration shown in FIG.

【0023】得られた磁気記録媒体の保磁力を測定した
ところ、約1500Oeであり、保磁力角比S*は0.
75で良好な値であった。また、グライド特性は2マイ
クロインチ以下で、記録再生特性は良好で、ヘッドと磁
気ディスク表面の間の距離フライングハイトを3マイク
ロインチとして測定したところ、S/N値が33dB、D
50(出力が低周波数での値の1/2になる周波数)が
65kFCI(1インチ当たりの磁化反転回数)であった。
[0023] When the coercive force of the obtained magnetic recording medium was measured, about 1500 Oe, the coercive force squareness shape ratio S * 0.
75 was a good value. The glide characteristics were 2 micro inches or less, and the recording / reproducing characteristics were good. When the distance flying height between the head and the magnetic disk surface was measured as 3 micro inches, the S / N value was 33 dB and the D / D
50 (the frequency at which the output becomes 出力 of the value at the low frequency) was 65 kFCI (the number of magnetization reversals per inch).

【0024】[0024]

【発明の効果】本発明によれば、磁気特性とりわけ保
力角比が大きい磁気記録媒体を得るのに必要なチタニ
ウムとシリコンとからなる非晶質合金層を製造すること
が出来る。また、本発明の方法により得られる磁気記録
媒体は、大きい保磁力と大きい保力角比を有し、さ
らに記録再生時のS/Nが大きい。
According to the present invention, to produce an amorphous alloy layer consisting of the required titanium and silicon to obtain magnetic properties especially magnetic recording medium is large coercive magnetic <br/> force angle shape ratio Can be done. The magnetic recording medium obtained by the method of the present invention has a large coercive magnetic force angle shape ratio greater coercive force, large further recording playback of S / N.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明を実施するのに用いたスパッタリング装
置の概略断面図
FIG. 1 is a schematic sectional view of a sputtering apparatus used to carry out the present invention.

【図2】本発明により得られた磁気記録媒体の一部断面
FIG. 2 is a partial cross-sectional view of a magnetic recording medium obtained according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 真空槽 2 ロード室 3,4,5,6 成膜室 7 アンロード室 8 ゲートバルブ 9 ガス供給管 10 ガス流量コントロールバルブ 11 カソード 12 ターゲット 13 直流電源 14 ガスボンベ 15 加熱ヒーター 20 磁気記録媒体 21 非磁性支持体 22 チタニウムとシリコンの非晶質合金層 23 ガスゲッタリング層 24 凹凸形成物 25 下地層 26 磁性層 27 保護層 28 潤滑層 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Vacuum tank 2 Load chamber 3, 4, 5, 6 Film formation chamber 7 Unload chamber 8 Gate valve 9 Gas supply pipe 10 Gas flow control valve 11 Cathode 12 Target 13 DC power supply 14 Gas cylinder 15 Heater 20 Magnetic recording medium 21 Non Magnetic support 22 Titanium-silicon amorphous alloy layer 23 Gas gettering layer 24 Concavo-convex formation 25 Underlayer 26 Magnetic layer 27 Protective layer 28 Lubricating layer

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) G11B 5/85 G11B 5/66 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (58) Field surveyed (Int.Cl. 6 , DB name) G11B 5/85 G11B 5/66

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 非磁性支持体の上に少なくとも、チタニ
ウムとシリコンとからなる非晶質合金層と、磁性層と、
保護層とが順次形成された磁気記録媒体の製造方法にお
いて、前記非晶質合金層を、チタニウム膜およびとシリ
コン膜を減圧された不活性ガス中でのスパッタリング法
により順次積層し、しかるのち前記積層した膜を減圧さ
れた不活性ガス中で加熱して、前記シリコンを前記チタ
ニウム中に熱拡散させて形成したことを特徴とする磁気
記録媒体の製造方法。
1. An amorphous alloy layer comprising at least titanium and silicon on a nonmagnetic support, a magnetic layer,
In the method of manufacturing a magnetic recording medium in which a protective layer and a protective layer are sequentially formed, the amorphous alloy layer is formed by sequentially laminating a titanium film and a silicon film by a sputtering method in a reduced pressure inert gas. A method for manufacturing a magnetic recording medium, comprising: heating a laminated film in an inert gas under reduced pressure to thermally diffuse the silicon into the titanium.
【請求項2】 前記熱拡散を、300〜550℃の温度
でおこなう請求項1に記載の磁気記録媒体の製造方法。
Wherein said thermal diffusion method of manufacturing a magnetic recording medium according to claim 1 carried out at a temperature of 300 to 550 ° C..
【請求項3】 前記非晶質合金層と磁性層と保護層を順
次形成することを、減圧した雰囲気ガス中でのスパッタ
リング法で引き続いて行うことを特徴とする請求項1
たは請求項2に記載の磁気記録媒体の製造方法。
The wherein forming the protective layer and the amorphous alloy layer and the magnetic layer sequentially claim 1, characterized in that it is done immediately after a sputtering method in an atmospheric gas under reduced pressure or
A method for manufacturing a magnetic recording medium according to claim 2 .
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