JP2947847B2 - Semiconductor storage device - Google Patents

Semiconductor storage device

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JP2947847B2
JP2947847B2 JP2012609A JP1260990A JP2947847B2 JP 2947847 B2 JP2947847 B2 JP 2947847B2 JP 2012609 A JP2012609 A JP 2012609A JP 1260990 A JP1260990 A JP 1260990A JP 2947847 B2 JP2947847 B2 JP 2947847B2
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test
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check bit
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博身 斎藤
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Hitachi Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、半導体記憶装置に関し、例えば、比較的
大きな記憶容量を有するダイナミック型RAM(ランダム
・アクセス・メモリ)等に利用して特に有用な技術に関
するものである。
Description: BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device, and particularly useful for a dynamic RAM (random access memory) having a relatively large storage capacity. It is about technology.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

ダイナミック型RAM等の大容量化が進み、その機能試
験を効率化する一つの手段として、MPR(Multi Purpose
Register:多目的レジスタ)及びデータ照合回路(Comp
arator)ならびに照合(Match)線引き抜きMOSFET(絶
縁ゲート型電界効果トランジスタ)をデータ線に対応し
て設け、照合線がロウレベルに引き抜かれるか否かによ
ってメモリセルの正常性をワード線単位で判定するライ
ンモードテスト(Line Mode Test)方式が提案されてい
る。
As the capacity of dynamic RAM and the like has been increasing, MPR (Multi Purpose
Register: Multi-purpose register) and data matching circuit (Comp
arator) and matching (Match) line extraction MOSFETs (insulated gate field effect transistors) are provided corresponding to the data lines, and the normality of the memory cells is determined in word line units depending on whether or not the verification line is pulled out to a low level. A line mode test method has been proposed.

ラインモードテスト方式については、例えば、1989年
2月17日付、『アイ・エス・エス・シー・シー(ISSCC:
International Solid−State Circuits Conferense)ダ
イジェスト オブ テクニカル ペーパーズ(Digest O
f Technical Papers)SESSION XVI』の第244頁〜第245
頁に記載されている。
For the line mode test method, see, for example, “ISSCC:
International Solid-State Circuits Conferense Digest of Technical Papers (Digest O
f Technical Papers) SESSION XVI, pp. 244-245
Page.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problems to be solved by the invention]

上記に記載される従来のラインテストモード方式には
次のような二つの問題点があることが、本願発明者等に
よって明らかとなった。すなわち、 (1)ラインテストモード方式では、前述のように、セ
ンスアンプの単位増幅回路に相当するMPRとデータ照合
回路及び照合線引き抜きMOSFETが各データ線に対応して
設けられ、引き抜きMOSFETは、照合線の比較的大きな容
量に蓄えられた電荷を高速に引き抜くため、比較的大き
なサイズを持つように設計される。その結果、ダイナミ
ック型RAMのレイアウト所要面積が増大し、チップサイ
ズが大型化して、その低コスト化が阻害される。
The inventors of the present application have clarified that the conventional line test mode system described above has the following two problems. That is, (1) In the line test mode method, as described above, the MPR corresponding to the unit amplifier circuit of the sense amplifier, the data matching circuit, and the matching line extracting MOSFET are provided corresponding to each data line, and the extracting MOSFET is It is designed to have a relatively large size in order to quickly extract charges stored in a relatively large capacity of the verification line. As a result, the layout area of the dynamic RAM increases, the chip size increases, and cost reduction is hindered.

(2)ラインテストモードのようにメモリセルの機能試
験をワード線単位で実施する方式は、各ワード線に結合
されるメモリセルの数が多い場合には効果的であるが、
各データ線に結合されるメモリセルの数が多くワード線
の絶対数が多い場合には、試験回数が増大し、比較的不
利となる。
(2) The method of performing a function test of a memory cell in units of word lines as in the line test mode is effective when the number of memory cells coupled to each word line is large.
If the number of memory cells coupled to each data line is large and the absolute number of word lines is large, the number of tests increases, which is relatively disadvantageous.

この発明の目的は、メモリセルの機能試験をデータ線
方向に集約して行いうるダイナミック型RAM等の半導体
記憶装置を提供することにある。この発明の他の目的
は、レイアウト所要面積の増加を抑えつつ、比較的大き
なカラムアドレス空間を有するダイナミック型RAM等の
機能試験を効率化し、その低コスト化を図ることができ
る。
An object of the present invention is to provide a semiconductor memory device such as a dynamic RAM capable of performing a function test of a memory cell in a data line direction. Another object of the present invention is to improve the efficiency of a functional test of a dynamic RAM or the like having a relatively large column address space while suppressing an increase in required layout area, and to reduce the cost.

この発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴
は、この明細書の記述及び添付図面から明らかになるで
あろう。
The above and other objects and novel features of the present invention will become apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.

〔課題を解決するための手段〕[Means for solving the problem]

本願において開示される発明のうち代表的なものの概
要を簡単に説明すれば、下記の通りである。すなわち、
リファレンスビット及びデータ照合回路ならびにチェッ
クビットを各データ線に対応して設け、メモリセルの機
能試験を、 (a)チェックビットをリセットし、すべてのリファレ
ンスビットに試験データを書き込む。
The outline of a typical invention disclosed in the present application will be briefly described as follows. That is,
A reference bit, a data collation circuit, and a check bit are provided for each data line, and a function test of the memory cell is performed. (A) The check bit is reset, and test data is written to all reference bits.

(b)この試験データを、被試験メモリセルにワード線
単位で転写する。
(B) This test data is transferred to the memory cell under test in word line units.

(c)被試験メモリセルに転写された試験データを、ワ
ード線単位で読み出し、対応するデータ照合回路により
リファレンスビットに保持されるもとの試験データと比
較照合する。
(C) The test data transferred to the memory cell under test is read out in word line units, and is compared and collated with the original test data held in the reference bits by the corresponding data collation circuit.

(d)データ照合回路の照合結果に従って対応するチェ
ックビットを選択的に書き換える。
(D) The corresponding check bit is selectively rewritten according to the result of the comparison by the data comparison circuit.

(e)上記(b)項〜(d)項をすべてのワード線につ
いて繰り返した後、チェックビットを読み出すことで、
対応するデータ線に結合されるすべてのメモリセルの正
常性を判定する。
(E) After repeating the above items (b) to (d) for all the word lines, by reading the check bit,
Determine the normality of all memory cells coupled to the corresponding data line.

という手順で実施する。このとき、リファレンスビット
及びチェックビットをダイナミック型メモリセルにより
構成し、比較照合動作の期間中もとの試験データを保持
するデータ保持手段を、例えばシェアドセンス形態とさ
れる反対側のメモリアレイのデータ線を用いて実現す
る。
The procedure is as follows. At this time, the reference bit and the check bit are constituted by dynamic memory cells, and the data holding means for holding the original test data during the period of the comparison / matching operation is, for example, the data of the memory array on the opposite side in the shared sense form. Implemented using lines.

〔作 用〕(Operation)

上記した手段によれば、レイアウト所要面積の増加を
抑えつつ、メモリセルの機能試験をデータ線方向に集約
して実施しうるダイナミック型RAM等を実現できる。こ
れにより、比較的大きなカラムアドレス空間を有するダ
イナミック型RAM等の機能試験を効率化し、その低コス
ト化を推進することができる。
According to the above-described means, it is possible to realize a dynamic RAM or the like that can perform the function tests of the memory cells in the data line direction while suppressing an increase in the layout required area. This makes it possible to increase the efficiency of a functional test of a dynamic RAM or the like having a relatively large column address space and promote cost reduction.

〔実施例〕〔Example〕

第2図には、この発明が適用されたダイナミック型RA
Mの一実施例のブロック図が示されている。また、第1
図には、第2図のダイナミック型RAMのメモリアレイ及
びその周辺回路の一実施例の回路図が示されている。こ
れらの図をもとに、この実施例のダイナミック型RAMの
構成と動作の概要について説明する。なお、第1図の各
回路素子ならびに第2図の各ブロックを構成する回路素
子は、公知の半導体集積回路の製造技術によって、特に
制限されないが、単結晶シリコンのような1個の半導体
基板上に形成される。第1図において、そのチャンネル
(バックゲート)部に矢印が付されるMOSFETはPチャン
ネル型であって、矢印の付されないNチャンネルMOSFET
と区別して示される。
FIG. 2 shows a dynamic RA to which the present invention is applied.
A block diagram of one embodiment of M is shown. Also, the first
FIG. 2 is a circuit diagram showing one embodiment of the memory array of the dynamic RAM of FIG. 2 and its peripheral circuits. An outline of the configuration and operation of the dynamic RAM according to this embodiment will be described with reference to these drawings. The circuit elements shown in FIG. 1 and the circuit elements constituting each block shown in FIG. 2 are not particularly limited by a known semiconductor integrated circuit manufacturing technique, but may be formed on a single semiconductor substrate such as single crystal silicon. Formed. In FIG. 1, the MOSFET with an arrow on its channel (back gate) portion is a P-channel type and an N-channel MOSFET without an arrow.
Are shown separately from

この実施例のダイナミック型RAMは、特に制限されな
いが、比較的大きな記憶容量を有する。このため、ダイ
ナミック型RAMは、製品試験を効率的に実施する必要か
ら、メモリセルの機能試験をデータ線方向に集約して行
う専用のテストモードを備える。この実施例において、
ダイナミック型RAMは、特に制限されないが、WCBR(▲
▼・▲▼ビフォア▲▼)サイクルが実
行されることで上記テストモードを開始し、CBR(▲
▼ビフォア▲▼)又はROR(▲▼オン
リーリフレッシュ)サイクルが実行されることでこのテ
ストモードから解放される。
Although not particularly limited, the dynamic RAM of this embodiment has a relatively large storage capacity. For this reason, the dynamic RAM is provided with a dedicated test mode for performing functional tests of the memory cells in the data line direction in order to efficiently perform product tests. In this example,
Although dynamic RAM is not particularly limited, WCBR (▲
The test mode is started by executing the ▼ ・ ▲ ▼ before ▲ ▼) cycle, and the CBR (▲
The test mode is released by executing the (before ▲) or ROR (▲ ▼ only refresh) cycle.

第2図において、ダイナミック型RAMは、特に制限さ
れないが、シェアドセンスアンプ方式を採り、半導体基
板面の大半を占めて配置される一対のメモリアレイARYL
及びARYRと、これらのメモリアレイにはさまれて配置さ
れる一対のデータ照合回路DCL及びDCRならびにセンスア
ンプSAとを備える。
In FIG. 2, the dynamic RAM employs, although not particularly limited to, a shared sense amplifier system, and a pair of memory arrays ARYL arranged so as to occupy most of the semiconductor substrate surface.
And ARYR, and a pair of data matching circuits DCL and DCR and a sense amplifier SA arranged between these memory arrays.

メモリアレイARYLは、特に制限されないが、第1図に
示されるように、垂直方向に平行して配置されるm本の
ワード線WL1〜WLmと、水平方向に平行して配置されるn
組の相補データ線L1〜Ln(ここで、例えば非反転デ
ータ線DL1と反転データ線▲▼をあわせて相補デ
ータ線L1のように表す。以下、相補信号ならびに相補
信号線について同様)とを含む。これらのワード線及び
相補データ線の交点には、情報蓄積用キャパシタCs及び
アドレス選択用MOSFETQmからなるm×n個のダイナミッ
ク型メモリセルが格子状に配置される。メモリアレイAR
YLの同一のカラムアドレスに配置されるm個のメモリセ
ルのアドレス選択用MOSFETQmのドレインは、対応する相
補データ線L1〜Lnの非反転又は反転データ線に所定
の規則性をもって交互に結合される。また、同一のロウ
アドレスに配置されるn個のメモリセルのアドレス選択
用MOSFETQmのゲートは、対応するワード線WL1〜WLmにそ
れぞれ共通結合される。各メモリセルの情報蓄積用キャ
パシタCsの他方の電極には、特に制限されないが、所定
のプレート電圧VPLが共通に供給される。
Although not particularly limited, as shown in FIG. 1, the memory array ARYL includes m word lines WL1 to WLm arranged in parallel in a vertical direction and n word lines arranged in parallel in a horizontal direction.
A set of complementary data lines D L1 to D Ln (here, for example, the non-inverted data line DL 1 and the inverted data line ▼ are collectively represented as a complementary data line D L1. Hereinafter, the same applies to the complementary signal and the complementary signal line) And At the intersections of these word lines and complementary data lines, m × n dynamic memory cells composed of an information storage capacitor Cs and an address selection MOSFET Qm are arranged in a grid. Memory array AR
The drains of the address selection MOSFETs Qm of the m memory cells arranged at the same column address of YL are alternately coupled to the non-inverted or inverted data lines of the corresponding complementary data lines D L1 to D Ln with a predetermined regularity. Is done. The gates of the address selection MOSFETs Qm of the n memory cells arranged at the same row address are commonly coupled to corresponding word lines WL1 to WLm, respectively. Although not particularly limited, a predetermined plate voltage VPL is commonly supplied to the other electrode of the information storage capacitor Cs of each memory cell.

同様に、メモリアレイARYRは、特に制限されないが、
直交して配置されるm本のワード線WR1〜WRmならびにn
組の相補データ線R1〜Rnと、これらのワード線及び
相補データ線の交点に格子状に配置されるm×n個のダ
イナミック型メモリセルとを含む。メモリアレイARYRの
同一のカラムアドレスに配置されるm個のメモリセルの
アドレス選択用MOSFETQmのドレインは、対応する相補デ
ータR1〜Rnの非反転又は反転データ線に所定の規則
性をもって交互に結合される。また、同一のロウアドレ
スに配置されるn個のメモリセルのアドレス選択用MOSF
ETQmのゲートは、対応しうるワード線WL1〜WLmにそれぞ
れ共通結合される。
Similarly, the memory array ARYR is not particularly limited,
M word lines WR1 to WRm and n arranged orthogonally
A set includes complementary data lines D R1 to D Rn and m × n dynamic memory cells arranged in a grid at intersections of these word lines and complementary data lines. Drain of the m MOSFETQm address selection of the memory cells arranged in the same column address of the memory array ARYR is alternately with a predetermined regularity to the non-inverted or inverted data lines of the corresponding complementary data D R1 to D Rn Be combined. Also, an address selection MOSF for n memory cells arranged at the same row address
The gates of ETQm are commonly coupled to corresponding word lines WL1 to WLm, respectively.

メモリアレイARYL及びARYRのワード線WL1〜WLmならび
にWR1〜WRmは、特に制限されないが、共通のロウアドレ
スデコーダRADに結合され、択一的に選択状態とされ
る。一方、メモリアレイARYLの相補データ線L1〜Ln
は、特に制限されないが、データ照合回路DCLの対応す
る単位回路に結合され、さらにセンスアンプSAの対応す
る単位回路に結合される。同様に、メモリアレイARYRの
相補データ線R1〜Rnは、データ照合回路DCRの対応
する単位回路に結合され、さらに上記センスアンプSAの
対応する単位回路に結合される。
The word lines WL1 to WLm and WR1 to WRm of the memory arrays ARYL and ARYR are coupled to a common row address decoder RAD, but are not limited thereto, and are selectively selected. On the other hand, the complementary data lines D L1 to D Ln of the memory array ARYL
Although not particularly limited, is coupled to a corresponding unit circuit of the data collation circuit DCL, and further coupled to a corresponding unit circuit of the sense amplifier SA. Similarly, the complementary data lines D R1 to D Rn of the memory array ARYR are coupled to corresponding unit circuits of the data comparison circuit DCR, and further coupled to corresponding unit circuits of the sense amplifier SA.

データ照合回路DCLは、メモリアレイARYLの相補デー
タ線R1〜Lnに対応して設けられるn個の単位回路を
備える。これらの単位回路は、特に制限されないが、第
1図に例示されるように、4個のNチャンネルMOSFETQ1
3〜Q16からなる排他的論理和回路EOと、一対のシェアド
MOSFETQ17及びQ18とをそれぞれ含む。
Data matching circuit DCL includes n unit circuits provided corresponding to the complementary data lines D R1 to D Ln memory array ARYL. These unit circuits are not particularly limited, but as shown in FIG. 1, four N-channel MOSFETs Q1
Exclusive OR circuit EO consisting of 3-Q16 and a pair of shared
And MOSFETs Q17 and Q18, respectively.

このうち、シェアドMOSFETQ17及びQ18のゲートには、
特に限定されないが、タイミング信号φslが共通に供給
される。このタイミング信号φslは、左側のメモリアレ
イARYLがアクセスされるとき選択的にハイレベルとさ
れ、これによってメモリアレイARYLの相補データ線L1
Lnが、センスアンプSAの対応する単位回路に選択的
に結合される。
Of these, the gates of the shared MOSFETs Q17 and Q18
Although not particularly limited, the timing signal φsl is commonly supplied. The timing signal φsl is selectively set to a high level when the left memory array IARY is accessed, whereby the complementary data line D L1
To D Ln are selectively coupled to corresponding unit circuits of the sense amplifier SA.

一方、排他的論理回路EOを構成するMOSFETQ13及びQ14
のゲートは、メモリアレイARYLの対応する相補データ線
L1〜Lnの反転又は非反転データ線に結合され、その
共通結合されたソースは、排他的論理和回路EOの出力ノ
ードn1として、照合制御線CLNに共通結合された後、N
チャンネルMOSFETQ34を介して回路の接地電位に結合さ
れる。また、MOSFETQ15及びQ16のドレインは、対応する
シェアドMOSFETQ17及びQ18の外側で、センスアンプSAの
対応する単位回路の非反転入出力ノードD1〜Dn又は反転
入出力ノード▲▼〜▲▼に結合され、その共通
結合されたゲートは、照合制御線CLPに共通結合された
後、PチャンネルMOSFETQ3を介して回路の電源電圧に結
合される。
On the other hand, MOSFETs Q13 and Q14 that constitute the exclusive logic circuit EO
Are the corresponding complementary data lines of the memory array ARYL
D L1 to D Ln are coupled to the inverted or non-inverted data lines, and the commonly coupled sources are coupled to the collation control line CLN as the output node n1 of the exclusive OR circuit EO.
Coupled to the circuit ground potential via channel MOSFET Q34. The drains of the MOSFETs Q15 and Q16 are coupled to the non-inverting input / output nodes D1 to Dn or the inverting input / output nodes ▲ ▼ to ▲ ▼ of the corresponding unit circuit of the sense amplifier SA outside the corresponding shared MOSFETs Q17 and Q18, The common coupled gate is coupled to the collation control line CLP and then coupled to the circuit power supply voltage via the P-channel MOSFET Q3.

MOSFETQ3及びQ34のゲートには、特に制限されない
が、タイミング信号φdclが共通に供給される。ここ
で、タイミング信号φdclは、特に制限されないが、通
常ハイレベルとされ、ダイナミック型RAMがテストモー
ドとされるとき、所定のタイミングで一時的にロウレベ
ルとされる。タイミング信号φdclがハイレベルとされ
るとき、MOSFETQ3はオフ状態とされ、MOSFETQ34がオン
状態とされる。したがって、MOSFETQ15及びQ16がともに
オフ状態とされ、排他的論理回路EOの出力ノードn1は強
制的にロウレベルとされる。タイミング信号φdclがロ
ウレベルとされると、MOSFETQ15及びQ16がともにオン状
態となり、出力ノードn1の強制接地が解かれる。このた
め、排他的論理和回路EOは動作状態となり、メモリアレ
イARYLの対応する相補データ線L1〜Lnに保持される
データとセンスアンプSAの対応する単位回路によって増
幅された読み出しデータとを比較照合するデータ照合回
路として作用する。
Although not particularly limited, a timing signal φdcl is commonly supplied to the gates of the MOSFETs Q3 and Q34. Here, although not particularly limited, the timing signal φdcl is normally set to the high level, and temporarily set to the low level at a predetermined timing when the dynamic RAM is set to the test mode. When timing signal φdcl is at a high level, MOSFET Q3 is turned off and MOSFET Q34 is turned on. Therefore, MOSFETs Q15 and Q16 are both turned off, and output node n1 of exclusive logic circuit EO is forced to low level. When the timing signal φdcl is set to the low level, both the MOSFETs Q15 and Q16 are turned on, and the forced ground of the output node n1 is released. Therefore, the exclusive OR circuit EO is in an operating state, and the data held in the corresponding complementary data lines D L1 to D Ln of the memory array ARYL and the read data amplified by the corresponding unit circuit of the sense amplifier SA are exchanged. It acts as a data matching circuit for comparison and matching.

後述のように、ダイナミック型RAMがテストモードさ
れるとき、データ照合回路DCLは反対側のメモリアレイA
RYRを構成するメモリセルの機能試験に供される。この
とき、メモリアレイARYLの各相補データ線には、対応す
るリファレンスビットが一時的に保持され、センスアン
プSAの各単位回路の相補入出力ノード1〜nには、
メモリアレイARYRの選択されたメモリセルすなわち被試
験メモリセルの読み出しデータが増幅・保持される。排
他的論理和回路EOの出力ノードn1は、これらのデータが
一致するときロウレベルのままとされ、一致しないとき
選択的にハイレベルとされる。
As will be described later, when the dynamic RAM is in the test mode, the data collation circuit DCL connects the memory array A on the opposite side.
Used for functional testing of memory cells that make up RYR. At this time, the corresponding reference bit is temporarily held in each complementary data line of the memory array ARYL, and the complementary input / output nodes D1 to Dn of each unit circuit of the sense amplifier SA have:
The read data of the selected memory cell of the memory array ARYR, that is, the read data of the memory cell under test is amplified and held. The output node n1 of the exclusive OR circuit EO is kept at low level when these data match, and is selectively set at high level when they do not match.

データ照合回路DCLの各単位回路は、特に制限されな
いが、さらにダイナミック型メモリセル形態とされる一
対のチェックビット用メモリセルを備える。これらのメ
モリセルは、チェックビット用キャパシタCcとチェック
ビット用選択MOSFETQcとを含む。各チェックビット用選
択MOSFETQcのドレインは、メモリアレイARYLの対応する
相補データ線L1〜Lnの非反転又は反転データ線に結
合され、そのゲートは、チェックビット用ワード線WCL1
又はWCL2に共通結合される。これらのチェックビット用
ワード線は、特に限定されないが、ロウアドレスデコー
ダRADに結合され、ダイナミック型RAMがテストモードと
されるとき、最下位ビットの相補内部アドレス信号x0
に従って選択的に選択状態とされる。一方、各チェック
ビット用キャパシタCcのチェックビット用選択MOSFETQc
のソースに結合された電極は、さらにNチャンネルMOSF
ETQ11又はQ12を介して回路の接地電位に結合され、その
他方の電極には所定のプレート電圧VPLが共通に供給さ
れる。MOSFETQ11及びQ12のゲートは共通結合された後、
対応する上記排他的論理和回路EOの出力ノードn1に結合
される。
Each unit circuit of the data collation circuit DCL further includes, but not limited to, a pair of check bit memory cells in a dynamic memory cell form. These memory cells include a check bit capacitor Cc and a check bit selection MOSFET Qc. The drain of each check bit selection MOSFET Qc is coupled to the non-inverted or inverted data line of the corresponding complementary data line D L1 to D Ln of the memory array ARYL, and its gate is connected to the check bit word line WCL1.
Alternatively, they are commonly connected to WCL2. Although not particularly limited, these check bit word lines are coupled to a row address decoder RAD, and when the dynamic RAM is set to the test mode, the complementary internal address signal a x0 of the least significant bit is set.
In the selected state. On the other hand, the check bit selection MOSFET Qc of each check bit capacitor Cc
The electrode coupled to the source of the
It is coupled to the ground potential of the circuit via ETQ11 or Q12, and a predetermined plate voltage VPL is commonly supplied to the other electrode. After the gates of MOSFETs Q11 and Q12 are commonly coupled,
It is coupled to the corresponding output node n1 of the exclusive OR circuit EO.

後述するように、チェックビット用メモリセルには、
テストモードが行われる当初において、論理“1"すなわ
ちハイレベルのチェックビットが書き込まれる。また、
排他的論理和回路EOの出力ノードn1は、前述のように、
メモリアレイARYRの被試験メモリセルから読み出された
データと対応するリファレンスビットとが一致しないと
き、選択的にハイレベルとされる。このとき、チェック
ビット用メモリセルに書き込まれたハイレベルは、対応
するMOSFETQ11又はQ12がオン状態とされることで引き抜
かれ、論理“0"すなわちロウレベルとされる。データ照
合回路DCLの各チェックビットは、メモリアレイARYLを
構成するメモリセルの通常の読み出し経路を介して読み
出すことができる。
As described later, the memory cells for check bits include:
At the beginning of the test mode, a logic "1", that is, a high-level check bit is written. Also,
The output node n1 of the exclusive OR circuit EO is, as described above,
When the data read from the memory cell under test of the memory array ARYR does not match the corresponding reference bit, it is selectively set to the high level. At this time, the high level written in the check bit memory cell is pulled out when the corresponding MOSFET Q11 or Q12 is turned on, and is set to logic "0", that is, low level. Each check bit of the data collation circuit DCL can be read through a normal read path of a memory cell constituting the memory array ARYL.

同様に、データ照合回路DCRは、メモリアレイARYRの
相補データR1〜Rnに対応して設けられるn個の単位
回路を備える。これらの単位回路は、上記データ照合回
路DCLの単位回路と同一の回路構成とされ、一対のシェ
アドMOSFETQ26及びQ27と、4個のMOSFETQ28〜Q31からな
る排他的論理和回路EOならびに一対のチェックビット用
メモリセルとその引き抜き用MOSFETQ32及びQ33とをそれ
ぞれ備える。
Similarly, data matching circuit DCR includes n unit circuits provided corresponding to the complementary data D R1 to D Rn of the memory array ARYR. These unit circuits have the same circuit configuration as the unit circuit of the data matching circuit DCL, and include a pair of shared MOSFETs Q26 and Q27, an exclusive OR circuit EO including four MOSFETs Q28 to Q31, and a pair of check bits. It includes a memory cell and MOSFETs Q32 and Q33 for extracting the memory cell.

このうち、シェアドMOSFETQ26及びQ27は、タイミング
信号φsrがハイレベルとされることで選択的にオン状態
とされ、排他的論理和回路EOは、タイミングφdcrがロ
ウレベルとされることで選択的に動作状態とされる。ま
た、データ照合回路DCRは、反対側のメモリアレイARYL
を構成するメモリセルの機能試験に供され、このとき、
メモリアレイARYRの各相補データ線には、対応するィフ
ァレンスビットが一時的に保持される。そして、各チェ
ックビットは、メモリアレイARYLの選択されたメモリセ
ルすなわち被試験メモリセルから読み出されたデータと
対応するリファレンスビットが一致しないとき、選択的
に引き抜かれ、論理“0"すなわちロウレベルとされる。
Of these, the shared MOSFETs Q26 and Q27 are selectively turned on when the timing signal φsr is set to the high level, and the exclusive OR circuit EO is selectively activated when the timing φdcr is set to the low level. It is said. The data matching circuit DCR is connected to the memory array ARYL on the opposite side.
Is subjected to a functional test of the memory cell constituting
Each complementary data line of the memory array ARYR temporarily holds a corresponding reference bit. Each check bit is selectively extracted when the data read from the selected memory cell of the memory array IARY, that is, the memory cell under test and the corresponding reference bit do not match, and the check bit is set to logic “0”, that is, low level. Is done.

次に、センスアンプSAは、特に制限されないが、第1
図に示すように、メモリアレイARYL及びARYRの各相補デ
ータ線に対応して設けられるn個の単位回路を備える。
これらの単位回路は、第1図に例示されるように、Pチ
ャンネルMOSFETQ1及びQ2ならびにNチャンネルMOSFETQ1
9及びQ20からなる単位増幅回路USAと、3個のNチャン
ネルMOSFETQ21〜Q23からなる単位プリチャージ回路UPC
とをそれぞれ備える。
Next, the sense amplifier SA is not particularly limited,
As shown in the figure, there are provided n unit circuits provided corresponding to the respective complementary data lines of the memory arrays ARYL and ARYR.
These unit circuits include P-channel MOSFETs Q1 and Q2 and an N-channel MOSFET Q1 as illustrated in FIG.
Unit amplifier circuit USA consisting of 9 and Q20 and unit precharge circuit UPC consisting of three N-channel MOSFETs Q21-Q23
Respectively.

このうち、各単位プリチャージ回路UPCを構成するMOS
FETQ21〜Q23は、特に制限されないが、ダイナミック型R
AMが非選択状態とされタイミング信号φpcがハイレベル
とされることで、選択的にオン状態となる。その結果、
対応する単位回路の相補入出力ノード1〜nが、回
路の電源電圧の二分の一とされるハーフプリチャージレ
ベルHVCとされる。
Of these, MOS that constitutes each unit precharge circuit UPC
The FETs Q21 to Q23 are not particularly limited, but the dynamic type R
When AM is in the non-selected state and the timing signal φpc is set to the high level, it is selectively turned on. as a result,
Complementary input / output nodes D1 to Dn of the corresponding unit circuit are set to a half precharge level HVC which is set to a half of the power supply voltage of the circuit.

一方、センスアンプSAの各単位増幅回路USAは、コモ
ンソース線SPを介して回路の電源電圧が供給され、同時
にコモンソース線SNを介して回路の接地電位が供給され
ることで、選択的に動作状態とされる。この動作状態に
おいて、各単位増幅回路USAは、メモリアレイARYLの選
択されたメモリセルからシェアドMOSFETQ17及びQ18を介
して、あるいはメモリアレイARYRの選択されたメモリセ
ルからシェアドMOSFETQ26及びQ27を介して出力される微
小読み出し信号を増幅し、ハイレベル又はロウレベルの
2値読み出し信号とする。センスアンプSAの各単位増幅
回路USAは、上記データ照合回路DCL及びDCRに設けられ
るチェックビットや後述するリファレンスビットの書き
込み及び読み出し動作にも用いられる。
On the other hand, each unit amplifier circuit USA of the sense amplifier SA is selectively supplied with the power supply voltage of the circuit via the common source line SP and the ground potential of the circuit via the common source line SN at the same time. The operation state is set. In this operation state, each unit amplifier USA is output from the selected memory cell of the memory array ARYL via the shared MOSFET Q17 and Q18 or from the selected memory cell of the memory array ARYR via the shared MOSFET Q26 and Q27. The small read signal is amplified to be a high level or low level binary read signal. Each unit amplifier circuit USA of the sense amplifier SA is also used for write and read operations of a check bit provided in the data collation circuits DCL and DCR and a reference bit described later.

センスアンプSAの各単位回路は、さらに、Nチャンネ
ルMOSFETQ24及びQ25からなるカラムスイッチと、キャパ
シタCr及び選択用MOSFETQrからなる一対のリファレンス
ビット用メモリセルとを備える。
Each unit circuit of the sense amplifier SA further includes a column switch including N-channel MOSFETs Q24 and Q25, and a pair of reference bit memory cells including a capacitor Cr and a selection MOSFET Qr.

このうち、カラムスイッチを構成するMOSFETQ24及びQ
25は、カラムアドレスデコーダCADから供給されるデー
タ線選択信号Y1〜Ynが択一的にハイレベルとされること
で、選択的にオン状態とされる。これにより、センスア
ンプSAの対応する単位回路が、相補共通データ線Dに
選択的に接続される。
Of these, MOSFETs Q24 and Q
25 is selectively turned on when the data line selection signals Y1 to Yn supplied from the column address decoder CAD are alternatively set to a high level. Thus, the corresponding unit circuits of the sense amplifier SA are selectively connected to the complementary common data lines C D.

一方、リファレンスビット用メモリセルは、上記チェ
ックビット用メモリセルならびにメモリアレイARYL及び
ARYRのメモリセルと同様にダイナミック型メモリセルと
され、対応するリファレンスビット用ワード線WQ1又はW
Q2がハイレベルとされることで選択的に選択状態とされ
る。この実施例において、リファレンスビット用メモリ
セルを構成するキャパシタCrは、特に制限されないが、
メモリアレイARYL及びARYRのメモリセルを構成する情報
蓄積用キャパシタCsに比較して2倍の容量(情報蓄積容
量)を持つように設計される。リファレンスビット用ワ
ード線WQ1及びWQ2は、特に制限されないが、ロウアドレ
スデコーダRADに結合され、ダイナミック型RAMがテスト
モードとされるとき、最下位ビットの相補内部アドレス
信号x0に従って選択的に選択状態とされる。
On the other hand, the memory cells for reference bits are the memory cells for check bits and the memory arrays ARYL and
Like the ARYR memory cell, the memory cell is a dynamic memory cell, and the corresponding reference bit word line WQ1 or WQ1.
When Q2 is set to the high level, it is selectively set to the selected state. In this embodiment, the capacitor Cr constituting the reference bit memory cell is not particularly limited,
It is designed to have twice the capacity (information storage capacity) as compared to the information storage capacitor Cs constituting the memory cells of the memory arrays ARYL and ARYR. Although not particularly limited, the reference bit word lines WQ1 and WQ2 are coupled to the row address decoder RAD, and are selectively selected according to the complementary internal address signal a x0 of the least significant bit when the dynamic RAM is in the test mode. It is said.

第2図において、ロウアドレスデコーダRADには、特
に制限されないが、ロウアドレスバッファRABからi+
1ビットの相補内部アドレス信号x0〜xiが供給さ
れ、タイミング発生回路TGからタイミング信号φxが供
給される。
In FIG. 2, although not particularly limited, the row address decoder RAD is supplied from the row address buffer RAB to the i +
One-bit complementary internal address signals a x0 to a xi are supplied, and a timing signal φx is supplied from a timing generation circuit TG.

ロウアドレスデコーダRADは、上記タイミング信号φ
xがハイレベルとされることで、選択的に動作状態とさ
れる。この動作状態において、ロウアドレスデコーダRA
Dは、上記相補内部アドレス信号x0〜xiをデコード
し、メモリアレイARYL又はARYRの対応するワード線を択
一的にハイレベルの選択状態とする。ロウアドレスデコ
ーダRADは、ダイナミック型RAMがテストモードとされる
とき、データ照合回路DCL又はDCLのチェックビット用ワ
ード線ならびにセンスアンプSAのリファレンスビット用
ワード線を選択的にハイレベルの選択状態とする機能を
あわせ持つ。この実施例において、メモリアレイARYL又
はARYRならびにデータ照合回路DCL又はDCRの選択は、特
に制限されないが、最上位ビットの相補内部アドレス信
xiに従って行われ、チェックビット用ワード線WCL1
又はWCL2,WCR1又はWCR2ならびにリファレンスビット用
ワード線WQ1又はWQ2の選択は、最下位ビットの相補内部
アドレス信号x0に従って行われる。
The row address decoder RAD outputs the timing signal φ
When x is set to a high level, it is selectively activated. In this operation state, the row address decoder RA
D decodes the complementary internal address signals a x0 to a xi and selectively sets a corresponding word line of the memory array ARYL or ARYR to a high level selection state. When the dynamic RAM is set to the test mode, the row address decoder RAD selectively sets the check bit word line of the data comparison circuit DCL or DCL and the reference bit word line of the sense amplifier SA to a high level selection state. It has both functions. In this embodiment, selection of the memory array ARYL or ARYR and data matching circuit DCL or DCR is not particularly limited, performed according to the complementary internal address signals a xi of the most significant bit, check bit word lines WCL1
Or WCL2, WCR1 or WCR2 and the selection of the reference bit word lines WQ1 or WQ2 is performed according to the least significant bit complementary internal address signals a x0.

ロウアドレスバッファRABは、アドレスマルチプレク
サAMXから伝達されるロウアドレス信号を、タイミング
発生回路TGから供給されるタイミング信号φarに従って
取り込み、保持する。また、これらのロウアドレス信号
をもとに上記相補内部アドレス信号x0〜xiを形成
し、ロウアドレスデコーダRADに供給する。
The row address buffer RAB captures and holds the row address signal transmitted from the address multiplexer AMX according to the timing signal φar supplied from the timing generation circuit TG. Moreover, these row address signals to form the complementary internal address signals a x0~ a xi Based supplied to the row address decoder RAD.

アドレスマルチプレクサAMXは、特に制限されない
が、ダイナミック型RAMが通常の動作モードとされタイ
ミング発生回路TGからロウレベルのタイミング信号φre
fが供給されるとき、外部端子A0〜Aiを介して時分割的
に供給されるXアドレス信号AX0〜AXiを選択し、上記ロ
ウアドレス信号としてロウアドレスバッファRABに伝達
する。また、ダイナミック型RAMがリフレッシュモード
とされ上記タイミング信号φrefがハイレベルとされる
とき、リフレッシュアドレスカウンタRFCから供給され
るリフレッシュアドレス信号ar0〜ariを選択し、上記ロ
ウアドレス信号としてロウアドレスバッファRABに伝達
する。
Although the address multiplexer AMX is not particularly limited, the dynamic RAM is set to the normal operation mode and the low-level timing signal φre
When f is supplied, X address signals AX0 to AXi supplied in a time-division manner via external terminals A0 to Ai are selected and transmitted to the row address buffer RAB as the row address signals. When the dynamic RAM is in the refresh mode and the timing signal φref is set to the high level, the refresh address signals ar0 to ari supplied from the refresh address counter RFC are selected and the row address signal is sent to the row address buffer RAB as the row address signal. introduce.

リフレッシュアドレスカウンタRFCは、特に制限され
ないが、ダイナミック型RAMがCBRリフレッシュモードと
されるとき、タイミング発生回路TGから供給されるタイ
ミング信号φrcに従って歩進動作を行う。その結果、上
記リフレッシュアドレス信号ar0〜ariを形成し、アドレ
スマルチプレクサAMXに供給する。
The refresh address counter RFC performs a stepping operation according to the timing signal φrc supplied from the timing generation circuit TG when the dynamic RAM is set to the CBR refresh mode, although not particularly limited. As a result, the refresh address signals ar0 to ari are formed and supplied to the address multiplexer AMX.

一方、カラムアドレスデコーダCADには、特に制限さ
れないが、カラムアドレスバッファCABからi+1ビッ
トの相補内部アドレスy0〜yiが供給され、タイミン
グ発生回路TGからタイミング信号φyが供給される。
On the other hand, to the column address decoder CAD, although not particularly limited, the (i + 1) -bit complementary internal addresses a y0 to a yi are supplied from the column address buffer CAB, and the timing signal φy is supplied from the timing generation circuit TG.

カラムアドレスデコーダCADは、上記タイミング信号
φyがハイレベルとされることで、選択的に動作状態と
される。この動作状態において、カラムアドレスデコー
ダCADは、上記相補内部アドレス信号y0〜yiをデコ
ードし、対応するデータ線選択信号Y1〜Ynを択一的にハ
イレベルとする。これらのデータ線選択信号は、前述の
ように、センスアンプSAのカラムスイッチを構成するス
イッチMOSFETQ24及びQ25のゲートにそれぞれ供給され
る。
The column address decoder CAD is selectively activated by setting the timing signal φy to a high level. In this operating state, the column address decoder CAD decodes the complementary internal address signals a y0~ a yi, the corresponding data line selection signal Y1~Yn and alternatively a high level. As described above, these data line selection signals are supplied to the gates of the switch MOSFETs Q24 and Q25 constituting the column switches of the sense amplifier SA.

カラムアドレスバッファCABは、外部端子A0〜Aiを介
して時分割的に供給されるYアドレス信号AY0〜AYiを、
タイミング発生回路TGから供給されるタイミング信号φ
acに従って取り込み、保持する。また、これらのYアド
レス信号をもとに、相補内部アドレス信号y0〜yiを
形成して、上記カラムアドレスデコーダCADに供給され
る。
The column address buffer CAB converts Y address signals AY0 to AYi supplied in a time-division manner through the external terminals A0 to Ai,
Timing signal φ supplied from timing generation circuit TG
Acquire and retain according to ac. Further, based on these Y address signals, complementary internal address signals a y0 to a yi are formed and supplied to the column address decoder CAD.

相補共通データ線Dは、特に制限されないが、デー
タ入出力回路I/Oに結合される。
Complementary common data lines C D is not particularly limited, is coupled to the data input-output circuit I / O.

データ入出力回路I/Oは、特に制限されないが、デー
タ入力バッファ及びデータ出力バッファを備える。この
うち、データ入力バッファの入力端子は、データ入力端
子Dinに結合され、その出力端子は相補共通データ線
Dに結合される。データ入力バッファには、タイミング
発生回路TGからタイミング信号φwが供給される。
Although not particularly limited, the data input / output circuit I / O includes a data input buffer and a data output buffer. The input terminal of the data input buffer is coupled to the data input terminal Din, and the output terminal of the input terminal is connected to the complementary common data line Cin.
D. The data input buffer is supplied with the timing signal φw from the timing generation circuit TG.

データ入力バッファは、ダイナミック型RAMが書き込
みモードとされ上記タイミング信号φwがハイレベルと
されることで、選択的に動作状態とされる。この動作状
態において、データ入力バッファは、データ入力端子Di
nを介して供給される書き込みデータに従った相補書き
込み信号を形成し、相補共通データ線Dを介して、セ
ンスアンプSAのリファレンスビット用メモリセルやデー
タ照合回路DCL又はDCRのチェックビットあるいはメモリ
アレイARYL又はARYRの選択されたメモリセルに供給す
る。特に制限されないが、上記タイミング信号φwがロ
ウレベルとされるとき、データ入力バッファの出力はハ
イインピーダンス状態とされる。
The data input buffer is selectively activated by setting the dynamic RAM to the write mode and setting the timing signal φw to the high level. In this operation state, the data input buffer is connected to the data input terminal Di.
forming a complementary write signals in accordance with write data supplied via the n, complementary common data line via the C D, the sense amplifier memory cell and the data matching circuit for the reference bit of the SA DCL or DCR check bits or memory Supply to selected memory cells in array ARYL or ARYR. Although not particularly limited, when the timing signal φw is at a low level, the output of the data input buffer is in a high impedance state.

一方、データ出力バッファの入力端子は、相補共通デ
ータ線Dに結合され、その出力端子はデータ出力端子
Doutに結合される。データ出力バッファには、タイミン
グ発生回路TGからタイミング信号φrが供給される。
On the other hand, the input terminal of the data output buffer is coupled to a complementary common data lines C D, and an output terminal a data output terminal
Combined with Dout. The data output buffer is supplied with a timing signal φr from the timing generation circuit TG.

データ出力バッファは、ダイナミック型RAMが読み出
しモードとされ上記タイミング信号φrがハイレベルと
されることで、選択的に動作状態とされる。この動作状
態において、データ出力バッファは、データ号回路DCL
又はDCRのチェックビットあるいはメモリアレイARYL又
はARYRの選択されたメモリセルから相補共通データ線
Dを介して出力される2値読み出し信号をさらに増幅
し、データ出力端子Doutを介して外部に送出する。
The data output buffer is selectively activated when the dynamic RAM is set to the read mode and the timing signal φr is set to the high level. In this operation state, the data output buffer is connected to the data signal circuit DCL.
Alternatively, the complementary common data line C is output from a check bit of DCR or a selected memory cell of the memory array ARYL or ARYR.
The binary read signal output via D is further amplified and sent out via a data output terminal Dout.

タイミング発生回路TGは、外部から起動制御信号とし
て供給されるロウアドレスストローブ信号▲▼,
カラムアドレスストローブ信号▲▼及びライトイ
ネーブル信号▲▼をもとに、上記各種のタイミング
信号を形成し、ダイナミック型RAMの各部に供給する。
The timing generation circuit TG includes row address strobe signals ▲ ▼,
Based on the column address strobe signal ▼ and the write enable signal ▼, the various timing signals described above are formed and supplied to each part of the dynamic RAM.

第3図には、第2図のダイナミック型RAMのテストモ
ードの一実施例の処理フロー図が示されている。また、
第4図には、第3図のテストモードの一実施例の状態遷
移図が示されている。これらの図をもとに、この実施例
のダイナミック型RAMのテストモードの概要とその特徴
について説明する。なお、第3図及び第4図では、左側
のメモリアレイARYLを構成するメモリセルの機能試験が
実施される場合について例示されている。また、以下の
説明では、情報蓄積用キャパシタCsをしてメモリアレイ
ARYL又はARYRのメモリセルあるいはその内容を称し、チ
ェックビット用キャパシタCc及びリファレンスビット用
キャパシタCrをしてチェックビット及びリファレンスビ
ットあるいはその内容を称する。
FIG. 3 is a processing flowchart of one embodiment of the test mode of the dynamic RAM shown in FIG. Also,
FIG. 4 is a state transition diagram of one embodiment of the test mode shown in FIG. The outline of the test mode of the dynamic RAM according to the present embodiment and the features thereof will be described with reference to these drawings. FIGS. 3 and 4 illustrate a case where a functional test is performed on the memory cells constituting the left memory array IARY. In the following description, the information storage capacitor Cs is used as a memory array.
ARYL or ARYR memory cells or their contents are referred to, and check bit capacitors Cc and reference bit capacitors Cr are used to refer to check bits and reference bits or their contents.

第3図において、ダイナミック型RAMのテストモード
は、特に制限されないが、6段階のステップ(STEP)A
〜Gに分けて実行される。
In FIG. 3, the test mode of the dynamic RAM is not particularly limited, but includes six steps (STEP) A.
To G separately.

すなわち、ダイナミック型RAMがテストモードとされ
ると、特に制限されないが、まずステップAにより、チ
ェックビットCcのリセット処理が行われる。このとき、
ダイナミック型RAMには、データ入力端子Dinを介して論
理“1"のチェックビットデータが供給される。また、ア
ドレス入力端子A0〜Aiには、ロウアドレスとして反対側
のデータ照合回路DCRならびにチェックビット用ワード
線WCR1又はWCR2を指定するための選択信号が順次供給さ
れ、カラムアドレスとしてデータ照合回路DCRの単位回
路を指定するためのYアドレス信号AY0〜AYiが順次供給
される。チェックビットデータは、データ入出力回路I/
Oから相補共通データ線D及びセンスアンプSAを経
て、データ照合回路DCRのチェックビットCcに順次書き
込まれ、保持される。上記書き込み動作は、チェックビ
ットの数すなわちnサイクルだけ繰り返される。その結
果、第4図に示されるように、データ照合回路DCRのす
べてのチェックビットCcが、論理“1"すなわちハイレベ
ルにリセットされる。
That is, when the dynamic RAM is set to the test mode, the reset processing of the check bit Cc is first performed in step A, although there is no particular limitation. At this time,
Check bit data of logic “1” is supplied to the dynamic RAM via the data input terminal Din. Further, to the address input terminals A0 to Ai, a selection signal for designating the data collation circuit DCR on the opposite side and the check bit word line WCR1 or WCR2 as a row address are sequentially supplied, and a column address of the data collation circuit DCR is supplied as a column address. Y address signals AY0 to AYi for designating a unit circuit are sequentially supplied. Check bit data is stored in the data input / output circuit I /
O from via the complementary common data lines C D and the sense amplifier SA, sequentially written in the check bits Cc data verification circuit DCR, are retained. The write operation is repeated for the number of check bits, that is, n cycles. As a result, as shown in FIG. 4, all the check bits Cc of the data matching circuit DCR are reset to logic "1", that is, high level.

次に、ステップBにより、リファレンスビットの書き
込み動作がnサイクルだけ繰り返し実行される。このと
き、ダイナミック型RAMには、特に制限されないが、デ
ータ入力端子Dinを介して論理“1"又は“0"の試験デー
タが所定の組み合わせで供給される。また、アドレス入
力端子A0〜Aiには、ロウアドレスとしてリファレンスビ
ット用ワード線WQ1又はWQ2を指定するための選択信号が
順次供給され、カラムアドレスとしてセンスアンプSAの
単位か路を指定するための相補内部アドレス信号y0〜
yiが順次供給される。論理“1"又は“0"の試験データ
は、データ入出力回路I/Oから相補共通データ線Dを
経て、センスアンプSAのリファレンスビットCrに順次書
き込まれ、保持される。
Next, in step B, the reference bit write operation is repeatedly executed for n cycles. At this time, although not particularly limited, test data of logic “1” or “0” is supplied to the dynamic RAM via the data input terminal Din in a predetermined combination. The address input terminals A0 to Ai are sequentially supplied with a selection signal for designating the reference bit word line WQ1 or WQ2 as a row address, and a complementary signal for designating a unit or a path of the sense amplifier SA as a column address. Internal address signal a y0 ~
a yi are supplied sequentially. Test data of a logical "1" or "0", via a complementary common data line C D from the data input-output circuit I / O, are sequentially written to the reference bit Cr of the sense amplifier SA, is maintained.

センスアンプSAの各リファレンスビットCrに保持され
る試験データは、ステップCにより、メモリアレイARYL
を構成するメモリセルすなわち被試験メモリセル(テス
トビット)にワード線単位で転写される。このとき、ダ
イナミック型RAMのアドレス入力端子A0〜Aiには、ロウ
アドレスとして、メモリアレイARYLのワードWL1〜WLmを
指定するためのXアドレス信号AX0〜AXiが順次供給され
る。
The test data held in each reference bit Cr of the sense amplifier SA is stored in the memory array ARYL in step C.
Is transferred to the memory cells constituting the memory cells, that is, the memory cells under test (test bits) in word line units. At this time, X address signals AX0 to AXi for designating the words WL1 to WLm of the memory array IARY are sequentially supplied as row addresses to the address input terminals A0 to Ai of the dynamic RAM.

ダイナミック型RAMでは、メモリアレイARYLの対応す
るワード線WL1〜WLmが順次択一的にハイレベルの選択状
態とされ、同時に最下位ビットのXアドレス信号AX0に
従ってセンスアンプSAのリファレンスビット用ワード線
WQ1又はWQ2が選択的にハイレベルの選択状態とされる。
また、最上位ビットのXアドレス信号AXi従って、タイ
ミング信号φslがハイレベルとされ、シェアドMOSFETQ1
7及びQ18がオン状態とされる。
In the dynamic RAM, the corresponding word lines WL1 to WLm of the memory array ARYL are sequentially set to a high-level selection state, and at the same time, the word line for the reference bit of the sense amplifier SA according to the X address signal AX0 of the least significant bit.
WQ1 or WQ2 is selectively set to the high level.
Further, the timing signal φsl is set to the high level in accordance with the X address signal AXi of the most significant bit, and the shared MOSFET Q1
7 and Q18 are turned on.

前述のように、リファレンスビット用メモリセルを構
成するキャパシタCrは、メモリアレイARYLのメモリセル
を構成する情報蓄積用キャパシタCsに比較して2倍の情
報蓄積容量を持つように設計される。このため、メモリ
アレイARYLの選択されたワード線に結合されるn個のテ
ストビットCsには、第4図に示されるように、センスア
ンプSAの対応するリファレンスビットCrに保持される試
験データが強制的にかつワード線単位で一斉に転写され
る。これらの転写動作は、メモリアレイARYLのワード線
数すなわちmサイクルだけ繰り返して実行される。
As described above, the capacitor Cr forming the memory cell for the reference bit is designed to have twice the information storage capacity as the information storage capacitor Cs forming the memory cell of the memory array ARYL. Therefore, the test data held in the corresponding reference bit Cr of the sense amplifier SA is included in the n test bits Cs coupled to the selected word line of the memory array ARYL, as shown in FIG. The data is forcibly and simultaneously transferred in word line units. These transfer operations are repeatedly executed by the number of word lines of the memory array ARYL, that is, m cycles.

一方、センスアンプSAの各リファレンスビットCrに保
持される試験データは、1サイクルのステップDによ
り、メモリアレイARYRの対応する相補データ線R1〜
Rnに一斉に転写される。このとき、ダイナミック型RAM
では、タイミング信号φsrがハイレベルとされシェアド
MOSFETQ26及びQ27がオン状態とされるとともに、センス
アンプSAの各単位増幅回路USAが一斉に動作状態とされ
る。このため、各リファレンスビットに保持される試験
データCrは、第4図に示されるように、反対側のメモリ
アレイARYRの対応する相補データ線R1〜Rnにおい
て、ハイレベル又はロウレベルの2値読み出し信号とさ
れ、これらの相補データ線上において保持される。
On the other hand, the test data held in each reference bit Cr of the sense amplifier SA is supplied to the corresponding complementary data lines D R1 to D R of the memory array ARYR by step D of one cycle.
It is simultaneously transcribed to Rn. At this time, the dynamic RAM
In, the timing signal φsr is set to high level and
MOSFETs Q26 and Q27 are turned on, and unit amplifier circuits USA of sense amplifier SA are simultaneously turned on. For this reason, as shown in FIG. 4, the test data Cr held in each reference bit is a binary signal of a high level or a low level on the corresponding complementary data lines D R1 to D Rn of the memory array ARYR on the opposite side. A read signal is held on these complementary data lines.

上記ステップCによりメモリアレイARYLの各メモリセ
ルに書き込まれた試験データは、ステップEにより、ワ
ード線単位で読み出され、反対側のデータ照合回路DCR
において、メモリアレイARYRの対応する相補データ線
R1〜Rnに保持される試験データと比較照合される。こ
のとき、ダイナミック型RAMのメモリアレイARYLでは、
ワード線WL1〜WLmが順次ハイレベルの選択状態とされ、
シェアドMOSFETQ17及びQ18がオン状態とされる。したが
って、メモリアレイARYLの選択されたワード線に結合さ
れるn個のメモリセルの微小読み出し信号が、センスア
ンプSAの対応する単位増幅回路USAによって増幅され、
その相補入出力ノード1〜nにおいて、ハイレベル
又はロウレベルの2値読み出し信号とされる。
The test data written in each memory cell of the memory array ARYL in step C is read out in word line units in step E, and the data collation circuit DCR on the opposite side is read out.
, The corresponding complementary data line D of the memory array ARYR
It is compared with the test data held in R1 to D Rn. At this time, in the dynamic RAM memory array ARYL,
The word lines WL1 to WLm are sequentially set to a high level selection state,
Shared MOSFETs Q17 and Q18 are turned on. Therefore, the minute read signal of the n memory cells coupled to the selected word line of the memory array ARYL is amplified by the corresponding unit amplifier circuit USA of the sense amplifier SA,
At the complementary input / output nodes D1 to Dn , a high-level or low-level binary read signal is output.

一方、データ照合回路DCRでは、タイミング信号φdcr
がロウレベルとされ、各単位回路の排他的論理和回路EO
が動作状態とされる。このため、各排他的論理和回路EO
の出力ノードn1が、センスアンプSAの対応する単位回路
の相補入出力ノード1〜nに確立された読み出しデ
ータとメモリアレイARYRの対応する相補データ線R1〜
Rnに保持されるもとの試験データCrとが一致しないこ
とを条件に、選択的にハイレベルとされる。その結果、
第4図に示されるように、データ照合回路DCRの対応す
るチェックビットCcが選択的に引き抜かれ、論理“0"す
なわちロウレベルに書き換えられる。言うまでもなく、
対応する両データが一致する場合、データ照合回路DCR
のチェックビットCcは論理“1"すなわちハイレベルのま
まとされる。
On the other hand, in the data matching circuit DCR, the timing signal φdcr
Is at low level, and the exclusive OR circuit EO of each unit circuit is
Is set to the operating state. Therefore, each exclusive OR circuit EO
The output node n1, the sense amplifier SA of the corresponding complementary data lines D complementary output nodes D. 1 to read data established in D n and the memory array ARYR the corresponding unit circuits R1~
It is selectively set to a high level on condition that the original test data Cr held in D Rn does not match. as a result,
As shown in FIG. 4, the corresponding check bit Cc of the data collation circuit DCR is selectively extracted and rewritten to logic "0", that is, low level. not to mention,
If both corresponding data match, the data collation circuit DCR
Is kept at logic "1", that is, high level.

ステップEによる比較照合動作は、mサイクルすなわ
ちメモリアレイARYLのワード線数だけ繰り返し行われ
る。したがって、データ照合回路DCRの各チェックビッ
トCcの状態は、メモリアレイARYLの対応する相補データ
L1〜Lnに結合されるすべてのメモリセルの機能試
験結果を集約するものとなる。
The comparison and collation operation in step E is repeated for m cycles, that is, for the number of word lines of the memory array ARYL. Therefore, the state of each check bit Cc of data matching circuit DCR is becomes to aggregate function test results of all the memory cells coupled to the corresponding complementary data lines D L1 through D Ln memory array ARYL.

反対側のメモリアレイARYRの相補データ線R1〜Rn
に保持されるもとの試験データCrは、ステップFによ
り、特に制限されないが、1サイクルのリフレッシュダ
ミーサイクルが実行されることで、初期状態すなわちハ
ーフプリチャージレベルにクリアされる。
Complementary data lines D R1 to D Rn of the memory array ARYR on the opposite side
The original test data Cr held in step (1) is cleared to the initial state, that is, the half precharge level by executing one refresh dummy cycle in step F, although not particularly limited.

ダイナミック型RAMの上記テストモードにょ結果は、
ステップGにより、データ照合回路DCRのチェックビッ
トを順次読み出すことで、判定される。このとき、ダイ
ナミック型RAMのアドレス入力端子には、ロウアドレス
としてチェックビット用ワード線WCR1又はWCR2を指定す
るための選択信号が順次供給され、カラムアドレスとし
てデータ照合回路DCRの単位回路を指定するためのYア
ドレス信号AY0〜AYiが順次供給される。データ照合回路
DCRから順次読み出されるチェックビットCcは、データ
出力端子Doutを介して、外部の試験装置に取り込まれ、
テストモードの結果の判定処理に供される。その結果、
読み出されたチェックビットCcが論理“1"のままである
場合、メモリアレイARYLの対応するカラムアドレスに配
置されるm個のメモリセルは正常とされ、論理“0"に書
き換えられている場合には、所定のエラー処理が行われ
る。上記判定動作は、チェックビットの数すなわちnサ
イクルだけ繰り返し実行される。
The result of the above test mode of dynamic RAM is
In step G, the determination is made by sequentially reading the check bits of the data matching circuit DCR. At this time, a selection signal for designating the check bit word line WCR1 or WCR2 is sequentially supplied to the address input terminal of the dynamic RAM as a row address, and a unit circuit of the data matching circuit DCR is designated as a column address. Y address signals AY0 to AYi are sequentially supplied. Data collation circuit
Check bits Cc sequentially read from the DCR are taken into an external test device via a data output terminal Dout,
The test mode is used to determine the result. as a result,
When the read check bit Cc remains at logic "1", the m memory cells arranged at the corresponding column address of the memory array ARYL are normal and have been rewritten to logic "0". , A predetermined error process is performed. The above determination operation is repeatedly performed for the number of check bits, that is, n cycles.

以上のように、この実施例のダイナミック型RAMは、
シェアドセンスアンプ方式を採り、一対のメモリアレイ
ARYL及びARYRにはさまれて配置されるセンスアンプSAを
備える。ダイナミック型RAMは、さらに、上記メモリア
レイAYL及びARYRを構成するメモリセルの機能試験をデ
ータ線方向に集約して行うためのテストモードを有し、
そのためのデータ照合回路DCL及びDCRを備える。センス
アンプSAは、メモリアレイARYL及びARYRの各相補データ
線に対応して設けられるn個のリファレンスビットを含
み、データ照合回路DCL及びDCRは、各相補データ線に対
応して設けられるn個のチェックビットと排他的論理和
回路EOとを含む。この実施例において、上記ィファレン
スビット及びチェックビットは、メモリアレイARYL及び
ARYRを構成するメモリセルと同様なダイナミック型メモ
リセルとされる。また、テストモードは、 (a)反対側のデータ照合回路DCR又はDCLのチェックビ
ットに論理“1"を書き込み、これをリセット状態とする
とともに、センスアンプSAのリファレンスビットに、論
理“1"又は“0"の試験データを所定の組み合わせで書き
込む。
As described above, the dynamic RAM of this embodiment is
Using a shared sense amplifier system, a pair of memory arrays
A sense amplifier SA is interposed between ARYL and ARYR. The dynamic RAM further has a test mode for performing a function test of the memory cells constituting the memory arrays AYL and ARYR in a data line direction,
Data collation circuits DCL and DCR are provided for this purpose. The sense amplifier SA includes n reference bits provided corresponding to each complementary data line of the memory arrays ARYL and ARYR, and the data matching circuits DCL and DCR provide n number of reference bits provided corresponding to each complementary data line. It includes a check bit and an exclusive OR circuit EO. In this embodiment, the reference bit and the check bit are the memory array IARY and the memory array IARY.
This is a dynamic memory cell similar to the memory cell constituting ARYR. In the test mode, (a) a logic “1” is written to a check bit of the data collation circuit DCR or DCL on the opposite side to reset the same, and a logic “1” or Write test data of “0” in a predetermined combination.

(b)上記リファレンスビートに保持される試験データ
を、メモリアレイARYL又はARYRの被試験メモリセルにワ
ード線単位で転写するとともに、反対側のメモリアレイ
ARYR又はARYLの対応する相補データ線に転写する。
(B) The test data held in the reference beat is transferred to the memory cell under test of the memory array ARYL or ARYR for each word line, and the memory array on the opposite side is transferred.
Transfer to the corresponding complementary data line of ARYR or ARYL.

(c)被試験メモリセルに転写された試験データをワー
ド線単位で読み出し、データ照合回路DCR又はDCLによ
り、反対側のメモリアレイARYR又はARYLの対応する相補
データ線に保持されるもとの試験データと比較照合す
る。
(C) The test data transferred to the memory cell under test is read out in word line units, and the original data held in the corresponding complementary data line of the memory array ARYR or ARYL on the opposite side by the data matching circuit DCR or DCL. Compare with data.

(d)上記データ照合回路DCR又はDCLによる照合結果に
従って、対応するチェックビットを選択的に論理“0"に
書き換える。
(D) The corresponding check bit is selectively rewritten to logic "0" according to the result of the comparison by the data comparison circuit DCR or DCL.

(e)上記動作をすべてのワード線について繰り返した
後、データ照合回路DCR又はDCLのチェックビットを順次
読み出すことで、メモリアレイARYL又はARYRの対応する
相補データ線に結合されるn個のメモリセルの正常性を
判定する。という手順で行われる。これにより、この実
施例のダイナミック型RAMでは、リファレンスビット及
びチェックビットが通常のダイナミック型メモリセルに
より構成されることでレイアウト所要面積の増加を抑え
つつ、メモリセルの機能試験をデータ線方向に集約して
実行することができる。このため、メモリアレイARYL及
びARYRのすべてのメモリセルの機能試験を実施するのに
必要な合計サイクル数TCは、ワード線数をm、相補デー
タ線数をnとするとき、 TC=2(2m+3n+2) となる。周知のように、機能試験を集約して実行できな
い通常のダイナミック型RAMでは、いわゆるライトリー
ドテストが行われ、その合計サイクル数TC′は、 TC′=2×2(m×n) となる。したがって、この実施例のダイナミック型RAM
の合計サイクル数TCは、上記通常のダイナミック型RAM
に比較して(2m+3n+2)/2(m×n)に削減される。
例えるならば、ダイナミック型RAMの記憶容量をいわゆ
る1メガ(100万)ビットとし、ワード線数m及びnを
それぞれ1024とするとき、上記削減比率は0.0024のよう
に小さな値となる。その結果、ダイナミック型RAM等の
機能試験に必要な時間が著しく縮小され、低コスト化が
図られる。
(E) After repeating the above operation for all the word lines, by sequentially reading out the check bits of the data matching circuit DCR or DCL, the n memory cells coupled to the corresponding complementary data lines of the memory array ARYL or ARYR Is determined to be normal. The procedure is as follows. As a result, in the dynamic RAM according to the present embodiment, since the reference bits and the check bits are constituted by ordinary dynamic memory cells, the functional test of the memory cells is consolidated in the data line direction while suppressing an increase in the layout required area. And run it. Therefore, the total number of cycles TC required to perform a functional test on all the memory cells of the memory arrays ARYL and ARYR is TC = 2 (2m + 3n + 2) where m is the number of word lines and n is the number of complementary data lines. ). As is well known, a so-called write / read test is performed in a normal dynamic RAM in which the function tests cannot be collectively executed, and the total number of cycles TC 'is TC' = 2 × 2 (m × n). Therefore, the dynamic RAM of this embodiment
The total number of cycles TC is the above normal dynamic RAM
Is reduced to (2m + 3n + 2) / 2 (m × n).
For example, when the storage capacity of the dynamic RAM is so-called 1 mega (1 million) bits and the number of word lines m and n is 1024, the reduction ratio is a small value such as 0.0024. As a result, the time required for a function test of a dynamic RAM or the like is significantly reduced, and cost reduction is achieved.

以上の本実施例に示されるように、この発明を比較的
大きな記憶容量を有するダイナミック型RAM等の半導体
記憶装置に適用することで、次のような作用効果が得ら
れる。すなわち、 (1)リファレンスビット及びデータ照合回路ならびに
チェックビットを各データ線に対応して設け、メモリセ
ルの機能試験を、 (a)チェックビットをリセットし、すべてのリファ
レンスビットに所定の試験データを書き込む。
As shown in the present embodiment, by applying the present invention to a semiconductor memory device such as a dynamic RAM having a relatively large storage capacity, the following operation and effect can be obtained. That is, (1) a reference bit, a data collation circuit, and a check bit are provided for each data line, and a function test of a memory cell is performed. Write.

(b)この試験データを、被試験メモリセルにワード
線単位で書き込む。
(B) This test data is written to the memory cell under test in word line units.

(c)被試験メモリセルに転写された試験データを、
ワード線単位で読み出し、対応するデータ照合回路によ
りリファレンスビットに保持されるもとの試験データと
比較照合する。
(C) The test data transferred to the memory cell under test is
The data is read out in word line units and compared with the original test data held in the reference bits by the corresponding data matching circuit.

(d)データ照合回路の照合結果に従って対応するチ
ェックビットを選択的に書き換える。
(D) The corresponding check bit is selectively rewritten according to the result of the comparison by the data comparison circuit.

(e)上記(b)項〜(d)項をすべてのワード線に
ついて繰り返した後、チェックビットを順次読み出し、
対応するデータ線に結合されるすべてのメモリセルの正
常性を判定する。
(E) After repeating the above items (b) to (d) for all word lines, check bits are sequentially read out,
Determine the normality of all memory cells coupled to the corresponding data line.

という手順で実施することで、ダイナミック型RAM等の
メモリセルの機能試験をデータ線方向に集約して実施で
きるという効果が得られる。
With such a procedure, it is possible to obtain an effect that functional tests of memory cells such as a dynamic RAM can be performed in the data line direction.

(2)上記(1)項において、リファレンスビット及び
チェックビットを、メモリアレイを構成するメモリセル
と同様なダイナミック型メモリセルとし、上記比較照合
動作の期間中、もとの試験データを反対側のメモリアレ
イの対応するデータ線によって保持することで、ダイナ
ミック型RAMレイアウト所要面積の増加を抑え、そのチ
ップサイズの増大を抑制できるという効果が得られる。
(2) In the above item (1), the reference bit and the check bit are dynamic memory cells similar to the memory cells constituting the memory array, and the original test data is replaced on the opposite side during the comparison and collation operation. By holding the data by the corresponding data line of the memory array, an effect that the increase in the required area of the dynamic RAM layout can be suppressed and the increase in the chip size can be suppressed can be obtained.

(3)上記(1)項及び(2)項により、比較的大きな
カラムアドレス空間を有するダイナミック型RAM等のメ
モリセルの機能試験を効率化し、その低コスト化を推進
できるという効果が得られる。
(3) According to the above items (1) and (2), it is possible to obtain an effect that a functional test of a memory cell such as a dynamic RAM having a relatively large column address space can be efficiently performed, and the cost can be reduced.

以上本発明者によってなされた発明を実施例に基づき
具体的に説明したが、この発明は上記実施例に限定され
るものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更
可能であることはいうまでもない。例えば、第1図にお
いて、データ照合回路DCL及びDCRのチェックビットのリ
セット処理は、論理“1"を書き込むだけであるから、1
サイクルで一括してできるように回路を構成してもよ
い。この場合、機能試験に必要な合計サイクル数TCは、
さらに、 TC=2(2m+2n+3) に削減される。データ照合回路DCL及びDCRは、チェック
ビットに代えて、直列又は並列形態とされかつそれぞれ
のゲートが対応する排他的論理和回路EOの出力ノードn1
に結合される複数のMOSFETからなるノアゲート回路又は
ナンドゲート回路を設けてもよい。この場合、すべての
メモリセルの試験結果を1サイクルで判定できるため、
上記合計サイル数TCは、さらに、 TC=2(2m+n+4) に削減される。センスアンプSAならびにデータ照合回路
DCL及びDCRの回路素子数が問題とならない場合、リファ
レンスビット及びチェックビットは通常のレジスタ形態
としてもよい。第2図において、ダイナミック型RAM
は、複数のメモリマットを備えるものであってもよい
し、多ビット構成とされるものであってもよい。第3図
において、ステップAとして行われるチェックビットの
リセット処理は、テストビットの読み出し照合処理以前
に行われることを条件に、その実施時期を合えることが
できる。また、ステップFとして行われるリフレッシュ
ダミーサイクルは、テストモードの最後に実施してもよ
い。さらに、第1図に示されるメモリアレイ及びその周
辺回路の具体的な回路構成や、第2図に示されるダイナ
ミック型RAMのブロック構成ならびに制御信号及びアド
レス信号等の組み合わせ等、種々の実施形態を採りう
る。
Although the invention made by the inventor has been specifically described based on the embodiments, the invention is not limited to the above-described embodiments, and various changes can be made without departing from the gist of the invention. Nor. For example, in FIG. 1, since the reset processing of the check bits of the data collation circuits DCL and DCR only writes the logic “1”,
The circuit may be configured so that it can be performed collectively in a cycle. In this case, the total number of cycles TC required for the functional test is
Furthermore, TC is reduced to 2 (2m + 2n + 3). Instead of the check bits, the data collation circuits DCL and DCR are arranged in series or in parallel, and each gate has an output node n1 of an exclusive OR circuit EO corresponding to the gate.
May be provided with a NOR gate circuit or a NAND gate circuit composed of a plurality of MOSFETs. In this case, since the test results of all the memory cells can be determined in one cycle,
The total number of siles TC is further reduced to TC = 2 (2m + n + 4). Sense amplifier SA and data matching circuit
When the number of circuit elements of DCL and DCR does not matter, the reference bit and the check bit may be in a normal register form. In FIG. 2, a dynamic RAM
May have a plurality of memory mats, or may have a multi-bit configuration. In FIG. 3, the check bit reset processing performed as step A can be performed at the same time as long as it is performed before the test bit read collation processing. Further, the refresh dummy cycle performed as step F may be performed at the end of the test mode. Further, various embodiments such as a specific circuit configuration of the memory array and its peripheral circuits shown in FIG. 1, a block configuration of the dynamic RAM shown in FIG. 2, and a combination of control signals and address signals are described. Can be taken.

以上の説明では主として本発明者によってなされた発
明をその背景となった利用分野であるダイナミック型RA
Mに適用した場合について説明したが、それに限定され
るものではなく、例えば、ダイナミック型RAMを基本構
成とするマルチポートRAMや論理機能付メモリ等にも適
用できる。本発明は、少なくとも、格子状に配置された
多数のメモリセルを備える半導体記憶装置ならびにこの
ような半導体記憶装置を備えるディジタル集積回路装置
に広く適用できる。
In the above description, the dynamic RA, which is a field of application in which the invention made by the inventor
Although the description has been given of the case where the present invention is applied to M, the present invention is not limited to this. For example, the present invention can be applied to a multi-port RAM having a dynamic RAM as a basic configuration, a memory with a logic function, and the like. The present invention can be widely applied to at least a semiconductor memory device having a large number of memory cells arranged in a lattice and a digital integrated circuit device having such a semiconductor memory device.

〔発明の効果〕〔The invention's effect〕

本願において開示される発明のうち代表的なものによ
って得られる効果を簡単に説明すれば、下記のとおりで
ある。すなわち、リファレンスビットやデータ照合回路
及びチェックビットを各データ線に対応して設け、メモ
リセルの機能試験を、 (a)チェックビットをリセットし、すべてのリファレ
ンスビットに所定の試験データを書き込む。
The effects obtained by the representative inventions among the inventions disclosed in the present application will be briefly described as follows. That is, a reference bit, a data collating circuit, and a check bit are provided for each data line, and a function test of the memory cell is performed. (A) The check bit is reset, and predetermined test data is written to all the reference bits.

(b)この試験データを、被試験メモリセルにワード線
単位で転写する。
(B) This test data is transferred to the memory cell under test in word line units.

(c)被試験メモリセルに転写された試験データを、ワ
ード線単位で読み出し、対応するデータ照合回路により
リファレンスビットに保持されるもとの試験データと比
較照合する。
(C) The test data transferred to the memory cell under test is read out in word line units, and is compared and collated with the original test data held in the reference bits by the corresponding data collation circuit.

(d)データ照合回路の照合結果に従って対応するチェ
ックビットを選択的に書き換える。
(D) The corresponding check bit is selectively rewritten according to the result of the comparison by the data comparison circuit.

(e)上記(b)項〜(d)項をすべてのワード線につ
いて繰り返した後。チェックビットを順次読み出すこと
で、対応するデータ線に結合されるすべてのメモリセル
の正常性を判定する。
(E) After repeating the above items (b) to (d) for all word lines. The normality of all the memory cells coupled to the corresponding data line is determined by sequentially reading the check bits.

という手順で実施し、かつ、リィファレンスビット及び
チェックビットをダイナミック型メモリセルにより構成
し、比較照合動作の期間中もとの試験データを保持する
ために、例えばシェアドセンスアンプ形態とされる反対
側のメモリアレイのデータ線を用いることで、レイアウ
ト所要面積の増加を抑えつつ、メモリセルの機能試験を
データ線方向に集約して実施しうるダイナミック型RAM
等を実現できる。その結果、比較的大きなカラムアドレ
ス空間を有するダイナミック型RAM等メモリセルの機能
試験を効率化し、その低コスト化を推進することができ
る。
In order to retain the original test data during the comparison and collation operation, the reference bit and the check bit are configured by dynamic memory cells. Dynamic RAM that can perform functional tests of memory cells in the data line direction while suppressing an increase in the required layout area by using the data lines of the memory array
Etc. can be realized. As a result, it is possible to increase the efficiency of the function test of a memory cell such as a dynamic RAM having a relatively large column address space and promote the cost reduction.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

第1図は、この発明が適用されたダイナミック型RAMの
メモリアレイ及びその周辺回路の一実施例を示す回路
図、 第2図は、第1図のメモリアレイを含むダイナミック型
RAMの一実施例を示すブロック図、 第3図は、第2図のダイナミック型RAMのテストモード
の一実施例を示す処理フロー図、 第4図は、第3図のテストモードの一実施例を示す状態
遷移図である。 ARYL,ARYR……メモリアレイ、DCL,DCR……データ照合回
路、EO……排他的論理和回路、SA……センスアンプ、US
A……単位増幅回路、UPC……単位プリチャージ回路、Cs
……情報蓄積用キャパシタ、Qm……アドレス選択用MOSF
ET、Cc……チェックビット用キャパシタ、Qc……チェッ
クビット用選択MOSFET、Cr……リファレンスビット用キ
ャパシタ、Qr……リファレンスビット用選択MOSFET、Q1
〜Q4……PチャンネルMOSFET、Q11〜Q35……Nチャンネ
ルMOSFET。 RAD……ロウアドレスデコーダ、CAD……カラムアドレス
デコーダ、RAB……ロウアドレスバッファ、AMX……アド
レスマルチプレクサ、RFC……リフレッシュアドレスカ
ウンタ、CAB……カラムアドレスバッファ、I/O……デー
タ入出力回路、TG……タイミング発生回路。
FIG. 1 is a circuit diagram showing an embodiment of a memory array of a dynamic RAM to which the present invention is applied and peripheral circuits thereof, and FIG. 2 is a dynamic memory including the memory array of FIG.
FIG. 3 is a block diagram showing an embodiment of the RAM, FIG. 3 is a processing flowchart showing an embodiment of the test mode of the dynamic RAM of FIG. 2, and FIG. 4 is an embodiment of the test mode of FIG. FIG. ARYL, ARYR …… Memory array, DCL, DCR …… Data collation circuit, EO …… Exclusive OR circuit, SA …… Sense amplifier, US
A: Unit amplification circuit, UPC: Unit precharge circuit, Cs
…… Capacitor for information storage, Qm …… MOSF for address selection
ET, Cc: Check bit capacitor, Qc: Check bit selection MOSFET, Cr: Reference bit capacitor, Qr: Reference bit selection MOSFET, Q1
~ Q4 ... P-channel MOSFET, Q11 ~ Q35 ... N-channel MOSFET. RAD: Row address decoder, CAD: Column address decoder, RAB: Row address buffer, AMX: Address multiplexer, RFC: Refresh address counter, CAB: Column address buffer, I / O: Data input / output circuit , TG ... timing generation circuit.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) G11C 29/00 G11C 11/401 H11L 21/8242 H11L 27/108 G01R 31/28 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (58) Field surveyed (Int. Cl. 6 , DB name) G11C 29/00 G11C 11/401 H11L 21/8242 H11L 27/108 G01R 31/28

Claims (5)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】複数のワード線と複数のデータ線の交点に
設けられた複数のメモリセルとを含むメモリアレイと、
上記データ線に対応して設けられるリファレンスビッ
ト、データ照合回路、チェックビット、及びデータ保持
手段とを具備し、 前記複数のメモリセルの機能試験は、 (a)上記チェックビットを所定の初期状態にリセット
し、上記リファレンスビットに所定の試験データを書き
込み、 (b)上記リファレンスビットに保持される試験データ
を、被試験メモリセルにワード線単位で書き込むととも
に、上記データ保持手段に転写し、 (c)上記被試験メモリセルに保持される試験データ
を、ワード線単位で読み出し、対応するデータ照合回路
により上記データ保持手段に保持される元の試験データ
と比較照合し、 (d)上記データ照合回路の照合結果に従って対応する
チェックビットを選択的に書き換えることにより行われ
ることを特徴とする半導体記憶装置。
A memory array including a plurality of memory cells provided at intersections of a plurality of word lines and a plurality of data lines;
A reference bit, a data collating circuit, a check bit, and a data holding means provided corresponding to the data line; and a function test of the plurality of memory cells includes: (a) setting the check bit to a predetermined initial state; Resetting and writing predetermined test data in the reference bits; (b) writing the test data held in the reference bits into the memory cells under test in word line units and transferring the test data to the data holding means; The test data held in the memory cell under test is read out in word line units and compared with the original test data held in the data holding means by a corresponding data matching circuit, and (d) the data matching circuit Is performed by selectively rewriting the corresponding check bit in accordance with the comparison result of That the semiconductor memory device.
【請求項2】上記リファレンスビット及び上記チェック
ビットは、上記メモリセルとともにダイナミック型メモ
リセルからなり、かつ上記リファレンスビットは、上記
メモリセルより大きな情報蓄積容量を備えるものである
ことを特徴とする請求項1記載の半導体記憶装置。
2. The semiconductor device according to claim 1, wherein said reference bit and said check bit comprise a dynamic memory cell together with said memory cell, and said reference bit has a larger information storage capacity than said memory cell. Item 2. The semiconductor memory device according to item 1.
【請求項3】上記半導体記憶装置は、シェアドセンスア
ンプ方式を採るものであって、上記データ保持手段は、
上記メモリアレイと対をなす他方のメモリアレイの対応
するデータ線を用いて実現されるものであることを特徴
とする請求項1または2記載の半導体記憶装置。
3. The semiconductor memory device employs a shared sense amplifier system, wherein the data holding means comprises:
3. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the semiconductor memory device is realized by using a corresponding data line of the other memory array forming a pair with the memory array.
【請求項4】複数の第1ワード線と複数の第1データ線
の交点に設けられた複数の第1メモリセルと前記第1デ
ータ線に対応して設けられた第1チェックビット及び第
1データ照合回路とを含む第1メモリアレイと、 複数の第2ワード線と複数の第2データ線の交点に設け
られた複数の第2メモリセルと前記第2データ線に対応
して設けられた第2チェックビット及び第2データ照合
回路とを含む第2メモリアレイと、 一端が第1スイッチを介して前記第1データ線に結合さ
れ、他端が第2スイッチを介して前記第2データ線に結
合される第3データ線と、 前記第3データ線に対応して設けられたリファレンスビ
ット及びセンスアンプとを具備することを特徴とする半
導体記憶装置。
4. A plurality of first memory cells provided at intersections of a plurality of first word lines and a plurality of first data lines, a first check bit provided corresponding to the first data line, and a first check bit provided for the first data line. A first memory array including a data matching circuit; a plurality of second memory cells provided at intersections of a plurality of second word lines and a plurality of second data lines; and a plurality of second memory cells provided corresponding to the second data lines. A second memory array including a second check bit and a second data matching circuit; one end coupled to the first data line via a first switch, and the other end coupled to the second data line via a second switch And a reference bit and a sense amplifier provided corresponding to the third data line.
【請求項5】請求項4において、前記複数の第1メモリ
セルの機能試験は、 (a)前記第2チェックビットを所定の初期状態にリセ
ットし、前記リファッレンスビットに所定の試験データ
を書き込み、 (b)前記リファレンスビットに保持される試験データ
を、前記第1メモリセルにワード線単位で書き込むとと
もに、前記第2データ線に転写し、 (c)前記第1メモリセルに保持される試験データをワ
ード線単位で前記第1データ線に読み出し、対応する前
記第2データ照合回路により対応する前記第2データ線
に保持される元の試験データと比較照合し、 (d)前記第2データ照合回路の照合結果に従って対応
する前記第2チェックビットを選択的に書き換えること
により行われることを特徴とする半導体記憶装置。
5. The function test of the plurality of first memory cells according to claim 4, wherein: (a) resetting the second check bit to a predetermined initial state; and storing predetermined test data in the reference bit. Writing, (b) writing the test data held in the reference bit to the first memory cell on a word line basis, transferring the test data to the second data line, and (c) holding the test data in the first memory cell (D) reading the test data to the first data line in word line units and comparing and comparing the test data with the original test data held in the corresponding second data line by the corresponding second data comparison circuit; A semiconductor memory device, which is performed by selectively rewriting a corresponding second check bit in accordance with a result of comparison by a data comparison circuit.
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