JP2943233B2 - Method for producing fluorine-containing polyamide - Google Patents

Method for producing fluorine-containing polyamide

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JP2943233B2
JP2943233B2 JP11212890A JP11212890A JP2943233B2 JP 2943233 B2 JP2943233 B2 JP 2943233B2 JP 11212890 A JP11212890 A JP 11212890A JP 11212890 A JP11212890 A JP 11212890A JP 2943233 B2 JP2943233 B2 JP 2943233B2
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、新規な含フツ素ポリアミドの製造方法に関
する。
The present invention relates to a novel method for producing a fluorine-containing polyamide.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

従来からポリアミドは、高強度,高弾性率,耐熱性,
難燃性を備えた優れた材料として、繊維,成形品,複合
材料,コート材等に応用されている。
Conventionally, polyamide has high strength, high elastic modulus, heat resistance,
As an excellent material having flame retardancy, it is applied to fibers, molded products, composite materials, coating materials and the like.

また、含フツ素ポリマーは、優れた耐熱性,耐薬品
性,撥水撥油性,非粘着性等の特異的な性質を生かし、
高機能性ポリマーとして、その用途は広範囲に及んでい
る。
In addition, fluorine-containing polymers make use of unique properties such as excellent heat resistance, chemical resistance, water / oil repellency, and non-adhesiveness.
As a highly functional polymer, its application is widespread.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problems to be solved by the invention]

しかしながら、近年、ポリアミドには、耐吸湿性の向
上等の高機能化の要求が強くなされており、従来のポリ
アミドは、この要求を十分満足するものではなかつた。
However, in recent years, there has been a strong demand for high functionality such as improvement in moisture absorption resistance of polyamides, and conventional polyamides have not sufficiently satisfied this demand.

そこで、本発明は、含フツ素ポリマーとポリアミドの
優れた諸特性を兼ね備えた、新規な含フツ素ポリアミド
の製造方法を提供するものである。
Accordingly, the present invention provides a novel method for producing a fluorine-containing polyamide, which has the excellent properties of a fluorine-containing polymer and a polyamide.

〔課題を解決するための手段〕[Means for solving the problem]

本発明は、 一般式(I) 〔ただし、式中Rfは、−CnF2n-1(ここで、nは6〜12
の整数である)を示し、これは二重結合を1個含み、分
枝していてもよく、ベンゼン核の水素は、低級アルキル
基,低級アルコキシ基又はハロゲンで置換されていても
よい〕で表わされる芳香族ジカルボン酸又はそのアミド
形成性誘導体を含む酸成分 及び 一般式(II) (ただし、式中、Xは2価の有機基を示し、Rは水素又
はトリアルキルシリル基を示す)で表わされるジアミン
を反応させることを特徴とする含フツ素ポリアミドの製
造方法に関する。
The present invention relates to a compound represented by the general formula (I): [However, Rf in the formula, -C n F 2n-1 (where, n represents 6-12
Which contains one double bond, may be branched, and the hydrogen of the benzene nucleus may be substituted with a lower alkyl group, a lower alkoxy group or a halogen. An acid component containing an aromatic dicarboxylic acid or an amide-forming derivative thereof represented by the general formula (II): (Wherein, X represents a divalent organic group and R represents hydrogen or a trialkylsilyl group). The present invention relates to a method for producing a fluorine-containing polyamide, characterized by reacting the diamine.

本発明は、一般式(I)で表わされる芳香族ジカルボ
ン酸又はそのアミド形成性誘導体を酸成分とし、一般式
(II)で表わされるジアミンをアミン成分とし、これら
を縮合反応させるものであるが、酸成分としては、上記
芳香族ジカルボン酸又はそのアミド形成性誘導体以外に
上記ジアミンと反応性のジカルボン酸又はそのアミド形
成誘導体を併用してもよい。
In the present invention, an aromatic dicarboxylic acid represented by the general formula (I) or an amide-forming derivative thereof is used as an acid component, a diamine represented by the general formula (II) is used as an amine component, and these are subjected to a condensation reaction. As the acid component, a dicarboxylic acid reactive with the diamine or an amide-forming derivative thereof may be used in addition to the aromatic dicarboxylic acid or the amide-forming derivative thereof.

一般式(I)で表わされる芳香族ジカルボン酸として
は、5−(パーフルオロノネニルオキシ)イソフタル
酸、4−(パーフルオロノネニルオキシ)フタル酸、2
−(パーフルオロノネニルオキシ)テレフタル酸、4−
メチル−5−(パーフルオロノネニルオキシ)イソフタ
ル酸、4−メトキシ−5−(ポーフルオロノネニルオキ
シ)イソフタル酸、2,4,6−トリフルオロ−5−(パー
フルオロノネニルオキシ)イソフタル酸、4−クロロ−
5−(パーフルオロノネニルオキシ)イソフタル酸、4
−ブロモ−5−(パーフルオロノネニルオキシ)イソフ
タル酸、4−メチル−5−(パーフルオロノネニルオキ
シ)フタル酸、4−メトキシ−5−(パーフルオロノネ
ニル)フタル酸、3,4,6−トリフルオロ−5−(パーフ
ルオロノネニルオキシ)フタル酸、4−クロロ−5−
(パーフルオロノネニルオキシ)フタル酸、4−ブロモ
−5−(パーフルオロノネニルオキシ)フタル酸、2−
メチル−5−(パーフルオロノネニルオキシ)テレフタ
ル酸、4−メトキシ−5−(パーフルオロノネニルオキ
シ)テレフタル酸、2,3,6−トリフルオロ−5−(パー
フルオロノネニルオキシ)テレフタル酸、2−クロロ−
5−(パーフルオロノネニルオキシ)テレフタル酸、−
ブロモ−5−(パーフルオロノネニルオキシ)テレフタ
ル酸、5−(パーフルオロヘキセニルオキシ)イソフタ
ル酸、4−(パーフルオロヘキセニルオキシ)フタル
酸、2−(パーフルオロヘキセニルオキシ)テレフタル
酸、4−メチル−5−(パーフルオロヘキセニルオキ
シ)イソフタル酸、4−メトキシ−5−(パーフルオロ
ヘキセニルオキシ)イソフタル酸、2,4,6−トリフルオ
ロ−5−(パーフルオロヘキセニルオキシ)イソフタル
酸、4−クロロ−5−(パーフルオロヘキセニルオキ
シ)イソフタル酸、4−ブロモ−5−(パーフルオロヘ
キセニルオキシ)イソフタル酸、4−メチル−5−(パ
ーフルオロヘキセニルオキシ)フタル酸、4−メトキシ
−5−(パーフルオロヘキセニルオキシ)フタル酸、3,
4,6−トリフルオロ−5−(パーフルオロヘキセニルオ
キシ)フタル酸、4−クロロ−5−(パーフルオロヘキ
セニルオキシ)フタル酸、4−ブロモ−5−(パーフル
オロヘキセニルオキシ)フタル酸、2−メチル−5−
(パーフルオロヘキセニルオキシ)テレフタル酸、4−
メトキシ−5−(パーフルオロヘキセニルオキシ)テレ
フタル酸、2,3,6−トリフルオロ−5−(パーフルオロ
ヘキセニルオキシ)テレフタル酸、2−クロロ5−(パ
ーフルオロヘキセニルオキシ)テレフタル酸、2−ブロ
モ−5−(パーフルオロヘキセニルオキシ)テレフタル
酸等がある。
Examples of the aromatic dicarboxylic acid represented by the general formula (I) include 5- (perfluorononenyloxy) isophthalic acid, 4- (perfluorononenyloxy) phthalic acid,
-(Perfluorononenyloxy) terephthalic acid, 4-
Methyl-5- (perfluorononenyloxy) isophthalic acid, 4-methoxy-5- (porfluorononenyloxy) isophthalic acid, 2,4,6-trifluoro-5- (perfluorononenyloxy) isophthalic acid , 4-chloro-
5- (perfluorononenyloxy) isophthalic acid, 4
-Bromo-5- (perfluorononenyloxy) isophthalic acid, 4-methyl-5- (perfluorononenyloxy) phthalic acid, 4-methoxy-5- (perfluorononenyl) phthalic acid, 3,4, 6-trifluoro-5- (perfluorononenyloxy) phthalic acid, 4-chloro-5
(Perfluorononenyloxy) phthalic acid, 4-bromo-5- (perfluorononenyloxy) phthalic acid, 2-
Methyl-5- (perfluorononenyloxy) terephthalic acid, 4-methoxy-5- (perfluorononenyloxy) terephthalic acid, 2,3,6-trifluoro-5- (perfluorononenyloxy) terephthalic acid , 2-chloro-
5- (perfluorononenyloxy) terephthalic acid,-
Bromo-5- (perfluorononenyloxy) terephthalic acid, 5- (perfluorohexenyloxy) isophthalic acid, 4- (perfluorohexenyloxy) phthalic acid, 2- (perfluorohexenyloxy) terephthalic acid, 4-methyl -5- (perfluorohexenyloxy) isophthalic acid, 4-methoxy-5- (perfluorohexenyloxy) isophthalic acid, 2,4,6-trifluoro-5- (perfluorohexenyloxy) isophthalic acid, 4-chloro -5- (perfluorohexenyloxy) isophthalic acid, 4-bromo-5- (perfluorohexenyloxy) isophthalic acid, 4-methyl-5- (perfluorohexenyloxy) phthalic acid, 4-methoxy-5- (per Fluorohexenyloxy) phthalic acid, 3,
4,6-trifluoro-5- (perfluorohexenyloxy) phthalic acid, 4-chloro-5- (perfluorohexenyloxy) phthalic acid, 4-bromo-5- (perfluorohexenyloxy) phthalic acid, 2- Methyl-5
(Perfluorohexenyloxy) terephthalic acid, 4-
Methoxy-5- (perfluorohexenyloxy) terephthalic acid, 2,3,6-trifluoro-5- (perfluorohexenyloxy) terephthalic acid, 2-chloro5- (perfluorohexenyloxy) terephthalic acid, 2-bromo -5- (perfluorohexenyloxy) terephthalic acid and the like.

前記パーフルオロノネニルオキシイソフタル酸及びパ
ーフルオロヘキセニルオキシイソフタル酸は、例えば、
特開昭60−51146号公報に示される方法に準じて、ヘキ
サフルオロプロペンの3量体又は2量体とヒドロキシイ
ソフタル酸を非プロトン性極性溶媒中,室温以下で塩基
触媒の存在下に反応させて製造することができる。
The perfluorononenyloxyisophthalic acid and perfluorohexenyloxyisophthalic acid are, for example,
According to the method disclosed in JP-A-60-51146, a trimer or dimer of hexafluoropropene is reacted with hydroxyisophthalic acid in an aprotic polar solvent at room temperature or lower in the presence of a base catalyst. Can be manufactured.

パーフルオロノネニル基としては、例えば、式(A) の基があり、パーフルオロヘキセニル基としては、例え
ば、式(B) の基がある。
Examples of the perfluorononenyl group include, for example, those represented by the formula (A) And the perfluorohexenyl group includes, for example, a compound represented by the formula (B) There is a group.

上記の方法において、ヘキサフルオロプロペンの3量
体及び2量体以外のオリゴマー、その他のフルオロアル
ケンのオリゴマーを用いて、他のジカルボン酸を作成す
ることも可能である。
In the above method, it is also possible to prepare other dicarboxylic acids using oligomers other than trimers and dimers of hexafluoropropene and oligomers of other fluoroalkenes.

また、前記した一般式(I)で表わされる芳香族ジカ
ルボン酸は、例えば、特開昭50−121243号公報に記載の
方法に準じて、ヒドロキシ−ジカルボキシベンゼンのジ
フエニルエステル,ジベンジルエステル等のエステルと
フルオロプロペン3量体,テトラフルオロエチレン5量
体等のフルオロアルケンのオリゴマーをプロトン受容体
の存在下で、非プロトン性有機溶媒中、室温附近又はそ
れ以下で塩基触媒の存在下に反応させた後、反応生成物
を単離し、該反応生成物を水酸化ナトリウム,水酸化カ
リウム等の塩基性化合物の存在下、加水分解し、さらに
適宜演算等の酸で処理することにより製造することがで
きる。上記反応生成物及び最後生成物は、適宜、洗浄,
再結晶等の手段で精製される。
The aromatic dicarboxylic acid represented by the above general formula (I) can be prepared, for example, according to the method described in JP-A-50-121243, such as diphenyl ester and dibenzyl ester of hydroxy-dicarboxybenzene. Of an ester of the above with a fluoroalkene oligomer such as fluoropropene trimer and tetrafluoroethylene pentamer in the presence of a proton acceptor in an aprotic organic solvent at or near room temperature in the presence of a base catalyst at or below room temperature After the reaction, the reaction product is isolated, and the reaction product is hydrolyzed in the presence of a basic compound such as sodium hydroxide, potassium hydroxide or the like, and is then appropriately treated with an acid such as an operation to produce the reaction product. Can be. The reaction product and the final product may be washed,
It is purified by means such as recrystallization.

上記芳香族ジカルボン酸のアミド形成性誘導体とは、
前記一般式(II)で表わされるジアミンと反応してアミ
ド結合を形成し得る誘導体であり、上記芳香族ジカルボ
ン酸のジクロライド,ジブロマイド等の酸ハロゲン化
物,該酸のジメチルエステル,ジエチルエステル等のジ
アルキルエステル、該酸の酸無水物等がある。
The amide-forming derivative of the aromatic dicarboxylic acid is
A derivative capable of forming an amide bond by reacting with the diamine represented by the general formula (II), such as an acid halide such as dichloride or dibromide of the aromatic dicarboxylic acid, or a dimethyl ester or diethyl ester of the acid. Dialkyl esters and acid anhydrides of the acids.

上記ジクロライドは、例えば、パーフルオロアルケニ
ルオキシイソフタル酸に塩化チオニルを反応させること
によつて高収率で得ることができる。
The above dichloride can be obtained in high yield, for example, by reacting perfluoroalkenyloxyisophthalic acid with thionyl chloride.

上記ジメチルエステル,ジエチルエステル等のジアル
キルエステルは、酸の存在下、それぞれメタノール,エ
タノール等のアルコールをパーフルオロアルケニルオキ
シイソフタル酸に反応させることにより、得ることがで
きる。
The above dialkyl esters such as dimethyl ester and diethyl ester can be obtained by reacting an alcohol such as methanol and ethanol with perfluoroalkenyloxyisophthalic acid in the presence of an acid.

前記した芳香族ジカルボン酸又はそのアミド形成性誘
導体と併用してもよいジカルボン酸又はそのアミド形成
性誘導体としては、一般式(III) 〔ただし、式中、Zは、 (ここで、Rfは一般式(I)に同じ)以外の2価の有機
基である〕で表わされるジカルボン酸又はそのアミド形
成性誘導体があり、一般式(III)中のZが、芳香環を
含む2価の有機基であるジカルボン酸又はそのアミド形
成性誘導体が、得られるポリアミドの耐熱性の点で好ま
しい。
The dicarboxylic acid or the amide-forming derivative thereof which may be used in combination with the aromatic dicarboxylic acid or the amide-forming derivative thereof includes a compound represented by the general formula (III): [Wherein, Z is (Where Rf is a divalent organic group other than the same as in the general formula (I))], and Z in the general formula (III) is an aromatic ring Dicarboxylic acid which is a divalent organic group containing amide or an amide-forming derivative thereof is preferable in view of heat resistance of the obtained polyamide.

芳香環を含む2価の有機基としては、一般式(a) で表わされる基、一般式(b) (ここで、Z′は、結合−O−,−S−,−SO2−, 等を示す)で表わされる基、一般式(c) (ここで、Z′は前記と同様のものを示し、2個のZ′
は同一でも異なつていてもよい)で表わされる基、一般
式(d) (ここで、Z′は前記と同様のものを示し、3個のZ′
は同一でも異なつていてもよい)で表わされる基などが
あり、これらの基は、適宜、低級アルキル基,低級アル
コキシ基,塩素,臭素,フツ素等のハロゲンなどで置換
されていてもよい。
As the divalent organic group containing an aromatic ring, a compound represented by the general formula (a) A group represented by the general formula (b) (Where Z ′ is a bond —O—, —S—, —SO 2 —, A group represented by the general formula (c) (Where Z 'is the same as above, and two Z's
May be the same or different), a group represented by the general formula (d) (Where Z 'is the same as above and three Z's
May be the same or different), and these groups may be appropriately substituted with a lower alkyl group, a lower alkoxy group, or a halogen such as chlorine, bromine, or fluorine. .

一般式(III)で表わされるジカルボン酸の例として
は、シユウ酸,マロン酸,コハク酸,グルタル酸,アジ
ピン酸,ピメリン酸,スベリン酸,アゼライン酸,セバ
シン酸等の脂肪族ジカルボン酸,フタル酸,イソフタル
酸,テレフタル酸,3,3′−ジカルボキシルジフエニルエ
ーテル、3,4′−ジカルボキシルジフエニルエーテル、
3,4′−ジカルボキシルジフエニルエーテル、3,3′−ジ
カルボキシルジフエニルメタン、3,4′−ジカルボキシ
ルジフエニルメタン、4、4′−ジカルボキシルジフエ
ニルメタン、3,3′−ジカルボキシルジフエニルジフル
オロメタン、3,4′−ジカルボキシルジフエニルオロメ
タン、4,4′−ジカルボキシルジフエニルジフルオロメ
タン、3,3′−ジカルボキシルジフエニルスルホン、3,
4′−ジカルボキシルジフエニルスルホン、4,4′−ジカ
ルボキシルジフエニルスルホン、3,3′−ジカルボキシ
ルジフエニルスルフイド、3,4′−ジカルボキシルジフ
エニルスルフイド、4,4′−ジカルボキシルジフエニル
スルフイド、3,3′−ジカルボキシルジフエニルケト
ン、3,4′−ジカルボキシルジフエニルケトン、4,4′−
ジカルボキシルジフエニルケトン、2,2−(3−カルボ
キシルフエニル)プロパン、2,2−(3,4′−ジカルボキ
シルジフエニル)プロパン、2,2−ビス(4−カルボキ
シルフエニル)プロパン、2,2−ビス(3−カルボキシ
ルフエニル)ヘキサフルオロプロパン、2,2−(3,4−ジ
カルボキシルジフエニル)ヘキサフルオロプロパン、2,
2−ビス(4−カルボキシルフエニル)ヘキサフルオロ
プロパン、1,3−ビス(3−カルボキシルフエニル)ベ
ンゼン、1,4−ビス(3−カルボキシルフエノキシ)ベ
ンゼン、1,4−ビス(4−カルボキシルフエノキシ)ベ
ンゼン、3,3′−(1,4−フエニレンビス(1−メチルエ
チリデン))ビス安息香酸、3,4′−(1,4−フエニレン
ビス(1−メチルエチリデン))ビス安息香酸、4,4′
−(1,4−フエニレンビス(1−メチルエチリテン))
ビス安息香酸、2,2′−ビス(4−3−カルボキシルフ
エノキシ)フエニル)プロパン、2,2−ビス(4−(4
−カルボキシルフエノキシ)フエニル)プロパン、2,2
−ビス(4−(3−カルボキシルフエノキシ)フエニ
ル)ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス(4−カルボ
キシルフエノキシ)フエニル)ヘキサフルオロプロパ
ン、ビス(4−(3−カルボキシルフエノキシ)フエニ
ル)スルフイド、ビス(4−(4−カルボキシルフエノ
キシ)フエニル)スルフイド、ビス(4−(3−カルボ
キシルフエノキシ)フエニル)スルホン、ビス(4−
(4−カルボキシルフエノキシ)フエニル)スルホン等
の芳香族ジカルボン酸がある。
Examples of the dicarboxylic acid represented by the general formula (III) include oxalic acid, malonic acid, succinic acid, glutaric acid, adipic acid, pimelic acid, suberic acid, azelaic acid, sebacic acid, etc., and phthalic acid. , Isophthalic acid, terephthalic acid, 3,3'-dicarboxylic diphenyl ether, 3,4'-dicarboxylic diphenyl ether,
3,4'-dicarboxyl diphenyl ether, 3,3'-dicarboxyl diphenyl methane, 3,4'-dicarboxyl diphenyl methane, 4,4'-dicarboxyl diphenyl methane, 3,3'-di Carboxyldiphenyldifluoromethane, 3,4'-dicarboxyldiphenylolomethane, 4,4'-dicarboxyldiphenyldifluoromethane, 3,3'-dicarboxyldiphenylsulfone, 3,
4'-dicarboxyldiphenylsulfone, 4,4'-dicarboxyldiphenylsulfone, 3,3'-dicarboxyldiphenylsulfide, 3,4'-dicarboxyldiphenylsulfide, 4,4 ' -Dicarboxylic diphenyl sulfide, 3,3'-dicarboxylic diphenyl ketone, 3,4'-dicarboxylic diphenyl ketone, 4,4'-
Dicarboxylic diphenyl ketone, 2,2- (3-carboxylphenyl) propane, 2,2- (3,4'-dicarboxyldiphenyl) propane, 2,2-bis (4-carboxylphenyl) propane, 2,2-bis (3-carboxylphenyl) hexafluoropropane, 2,2- (3,4-dicarboxyldiphenyl) hexafluoropropane, 2,
2-bis (4-carboxylphenyl) hexafluoropropane, 1,3-bis (3-carboxylphenyl) benzene, 1,4-bis (3-carboxylphenoxy) benzene, 1,4-bis (4 -Carboxylphenoxy) benzene, 3,3 '-(1,4-phenylenebis (1-methylethylidene)) bisbenzoic acid, 3,4'-(1,4-phenylenebis (1-methylethylidene)) bisbenzo Acid, 4,4 '
-(1,4-phenylenebis (1-methylethylene))
Bisbenzoic acid, 2,2'-bis (4-3-carboxylphenoxy) phenyl) propane, 2,2-bis (4- (4
-Carboxylphenoxy) phenyl) propane, 2,2
-Bis (4- (3-carboxylphenoxy) phenyl) hexafluoropropane, 2,2-bis (4-carboxylphenoxy) phenyl) hexafluoropropane, bis (4- (3-carboxylphenoxy) phenyl Phenyl) sulfide, bis (4- (4-carboxylphenoxy) phenyl) sulfide, bis (4- (3-carboxylphenoxy) phenyl) sulfone, bis (4-
There are aromatic dicarboxylic acids such as (4-carboxylphenoxy) phenyl) sulfone.

前記一般式(III)で表わされるジカルボン酸のアミ
ド形成性誘導体としては、該ジカルボン酸のジクロライ
ド,ジブロマイド等の酸ハロゲン化物、該ジカルボン酸
のジメチルエステル,ジエチルエステル等のジアルキル
エステル等がある。
Examples of the amide-forming derivative of the dicarboxylic acid represented by the general formula (III) include acid halides of the dicarboxylic acid such as dichloride and dibromide, and dialkyl esters of the dicarboxylic acid such as dimethyl ester and diethyl ester.

本発明における酸成分としては、一般式(I)で表わ
されるパーフルオロアルケニルオキシイソフタル酸又は
そのアミド形成性誘導体を酸成分中、1〜100モル%使
用するのが好ましく、さらに好ましくは10〜100モル
%、特に好ましくは20〜100モル%使用される。このよ
うな酸成分が少なすぎると得られるポリアミドの耐吸湿
性が低下しやすくなる。
As the acid component in the present invention, perfluoroalkenyloxyisophthalic acid represented by the general formula (I) or an amide-forming derivative thereof is preferably used in an amount of 1 to 100 mol%, more preferably 10 to 100 mol%. Mol%, particularly preferably 20 to 100 mol%. If the amount of such an acid component is too small, the obtained polyamide tends to have low moisture absorption resistance.

一般式(II)で表わされるジアミンのうちRがトリア
ルキルシリル基で表わされるトリアルキルシリル化ジア
ミンは、マクロモレキユールズ(Macromolecules)第21
巻547頁(1988年)以下に示される様なN,N′−ビス(ト
リメチルシリル)ビス(4−アミノフエニル)エーテル
の製造法に準拠して調整することができる。例えばビス
(4−アミノフエニル)エーテルのベンゼン溶液にトリ
エチルアミンの存在下、トリアルキルシリルクロライド
を反応させて、N,N′−ビス(トリアルキルシリル)ビ
ス((4−アミノフエニル)エーテルを得ることができ
る。
Among the diamines represented by the general formula (II), trialkylsilylated diamines wherein R is a trialkylsilyl group are described in Macromolecules No. 21;
Volume, p. 547 (1988), and can be adjusted according to the method for producing N, N'-bis (trimethylsilyl) bis (4-aminophenyl) ether as shown below. For example, N, N'-bis (trialkylsilyl) bis ((4-aminophenyl) ether can be obtained by reacting a trialkylsilyl chloride with a benzene solution of bis (4-aminophenyl) ether in the presence of triethylamine. .

一般式(II)で表わされるジアミンとしては、一般式
(II)中のXが芳香環を含む2価の有機基であるのが、
得られるポリアミドの耐熱性の点で好ましい。また、よ
り高分子量のポリアミドを得るためには、トリアルキル
シリル化ジアミンを使用するのが好ましい。
As the diamine represented by the general formula (II), X in the general formula (II) is a divalent organic group containing an aromatic ring.
It is preferable in terms of heat resistance of the obtained polyamide. In order to obtain a polyamide having a higher molecular weight, it is preferable to use a trialkylsilylated diamine.

上記芳香族を含む2価の有機基としては、前記した一
般式(a),一般式(b),一般式(c),一般式
(d)等で表わされる基などがあり、これらの基は、適
宜、低級アルキル基,低級アルコキシ基,塩素,臭素,
フツ素等のハロゲンなどで置換されていてもよい。
Examples of the above-mentioned aromatic-containing divalent organic group include groups represented by the above-mentioned general formulas (a), (b), (c), and (d). Represents a lower alkyl group, a lower alkoxy group, chlorine, bromine,
It may be substituted with halogen such as fluorine.

一般式(II)で表わされるジアミンの例としては、1,
2−ジアミノエタン、1,3−ジアミノプロパン、1,4−ジ
アミノブタン、1,5−ジアミノペンタン、1,6−ジアミノ
ヘキサン、1,7−ジアミノヘプタン、1,8−ジアミノオク
タン、1,9−ジアミノノナン、1,10−ジアミノデカン、
1,11−ジアミノウンデカン、1,12−ジアミノドデカン等
の脂肪族ジアミン、o−フエニレンジアミン、m−フエ
ニレンジアミン、p−フエニレンジアミン、3,3′−ジ
アミノジフエニルエーテル、3,4′−ジアミノジフエニ
ルエーテル、4,4′−ジアミノジフエニルエーテル、3,
3′−ジアミノジフエニルメタン、3,4′−ジアミノジフ
エニルメタン、4,4′−ジアミノジフエニルメタン、3,
3′−ジアミノジフエニルジフルオロメタン、3,4′−ジ
アミノジフエニルジフルオロメタン、4,4′−ジアミノ
ジフエニルジフルオロメタン、3,3′−ジアミノジフエ
ニルスルホン、3,4′−ジアミノジフエニルスルホン、
4,4′−ジアミノジフエニルスルホン、3,3′−ジアミノ
ジフエニルスルフイド、3,4′−ジアミノジフエニルス
ルフイド、4,4′−ジアミノジフエニルスルフイド、3,
3′−ジアミノジフエニルケトン、3,4′−ジアミノジフ
エニルケトン、4,4′−ジアミノジフエニルケトン、2,
2′−ビス(3−アミノフエニル)プロパン、2−2′
−(3,4′−ジアミノジフエニル)プロパン、2,2−ビス
(4−アミノフエニル)プロパン、2,2−ビス(3−ア
ミノフエニル)ヘキサフルオロプロパン、2,2−(3,4′
−ジアミノジフエニル)ヘキサフルオロプロパン、2,2
−ビス(4−アミノフエニル)ヘキサフルオロプロパ
ン、1,3−ビス(3−アミノフエノキシ)ベンゼン、1,4
−ビス(3−アミノフエノキシ)ベンゼン、1,4−ビス
(4−アミノフエノキシ)ベンゼン、3,3′−(1,4−フ
エニレンビス(1−メチルエチリデン))ビスアニリ
ン、3,4′−(1,4−フエニレンビス(1−メチルエチリ
デン))ビスアニリン、4,4′−(1,4−フエニレンビス
(1−メチルエチリデン))ビスアニリン、2,2−ビス
(4−(3−アミノフエノキシ)フエニル)プロパン、
2,2−ビス(4−(4−アミノフエノキシ)フエニル)
プロパン、2,2−ビス(4−(3−アミノフエノキシ)
フエニル)ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス(4−
(4−アミノフエノキシ)フエニル)ヘキサフルオロプ
ロパン、ビス(4−(3−アミノフエノキシ)フエニ
ル)スルフイド、ビス(4−(4−アミノフエノキシ)
フエニル)スルフイド、ビス(4−(3−アミノフエノ
キシ)フエニル)スルホン、ビス(4−(4−アミノフ
エノキシ)フエニル)スルホン等、の芳香族ジアミン及
びこれらのジアミンのN−トリアルキルシリル化ジアミ
ンをあげることができる。
Examples of the diamine represented by the general formula (II) include:
2-diaminoethane, 1,3-diaminopropane, 1,4-diaminobutane, 1,5-diaminopentane, 1,6-diaminohexane, 1,7-diaminoheptane, 1,8-diaminooctane, 1,9 -Diaminononane, 1,10-diaminodecane,
Aliphatic diamines such as 1,11-diaminoundecane and 1,12-diaminododecane, o-phenylenediamine, m-phenylenediamine, p-phenylenediamine, 3,3'-diaminodiphenyl ether, 3,4 '-Diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,
3'-diaminodiphenylmethane, 3,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylmethane, 3,
3'-diaminodiphenyldifluoromethane, 3,4'-diaminodiphenyldifluoromethane, 4,4'-diaminodiphenyldifluoromethane, 3,3'-diaminodiphenylsulfone, 3,4'-diaminodiphenylsulfone ,
4,4'-diaminodiphenylsulfone, 3,3'-diaminodiphenylsulfide, 3,4'-diaminodiphenylsulfide, 4,4'-diaminodiphenylsulfide, 3,
3'-diaminodiphenyl ketone, 3,4'-diaminodiphenyl ketone, 4,4'-diaminodiphenyl ketone, 2,
2'-bis (3-aminophenyl) propane, 2-2 '
-(3,4'-diaminodiphenyl) propane, 2,2-bis (4-aminophenyl) propane, 2,2-bis (3-aminophenyl) hexafluoropropane, 2,2- (3,4 '
-Diaminodiphenyl) hexafluoropropane, 2,2
-Bis (4-aminophenyl) hexafluoropropane, 1,3-bis (3-aminophenoxy) benzene, 1,4
-Bis (3-aminophenoxy) benzene, 1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene, 3,3 '-(1,4-phenylenebis (1-methylethylidene)) bisaniline, 3,4'-(1,4 -Phenylenebis (1-methylethylidene)) bisaniline, 4,4 '-(1,4-phenylenebis (1-methylethylidene)) bisaniline, 2,2-bis (4- (3-aminophenoxy) phenyl) propane,
2,2-bis (4- (4-aminophenoxy) phenyl)
Propane, 2,2-bis (4- (3-aminophenoxy)
Phenyl) hexafluoropropane, 2,2-bis (4-
(4-aminophenoxy) phenyl) hexafluoropropane, bis (4- (3-aminophenoxy) phenyl) sulfide, bis (4- (4-aminophenoxy)
Aromatic diamines such as phenyl) sulfide, bis (4- (3-aminophenoxy) phenyl) sulfone, and bis (4- (4-aminophenoxy) phenyl) sulfone; and N-trialkylsilylated diamines of these diamines. Can be.

前記したトリアルキルシリル基としては、トリメチル
シリル基,トリエチルシリル基,トリプロピルシリル基
等がある。
Examples of the trialkylsilyl group include a trimethylsilyl group, a triethylsilyl group, and a tripropylsilyl group.

前記酸成分と前記アミン成分の縮合反応は、これらの
成分を、非プロトン性有機溶媒中、塩酸トラツプ剤,活
性化剤等の存在下又は不存在下に行なうことができる。
The condensation reaction between the acid component and the amine component can be carried out in an aprotic organic solvent in the presence or absence of a trapping agent for hydrochloric acid, an activator or the like.

この場合、酸成分とアミン成分は等モル又はほぼ等モ
ルで使用するのが好ましく、各成分の添加順序は任意で
ある。
In this case, the acid component and the amine component are preferably used in an equimolar or almost equimolar manner, and the order of adding each component is arbitrary.

上記非プロトン性有機溶媒の具体的な例としては、ジ
メチルアセトアミド,N−メチル−2−ピロリドン,テト
ラメチル尿素,ヘキサメチルホスホルアミドなどのアミ
ド系溶媒,ベンゼン,トルエン,アニソール,ニトロベ
ンゼン,ベンゾニトリル等の芳香族系溶媒,ジブチルエ
ーテル,テトラヒドロフラン,ジオキサン,ジ(メトキ
シエチル)エーテル等のエーテル系溶媒,クロロホロム
等のハロゲン化炭化水素系溶媒等があげられる。これら
の有機溶媒の中で、高重合度のポリアミドを得る目的の
ためには、ジメチルアセトアミド,N−メチル−2−ピロ
リドンを用いると好結果が得られる。
Specific examples of the aprotic organic solvent include amide solvents such as dimethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone, tetramethylurea, hexamethylphosphoramide, benzene, toluene, anisole, nitrobenzene, benzonitrile. And the like, aromatic solvents such as dibutyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, di (methoxyethyl) ether and the like, and halogenated hydrocarbon solvents such as chlorophorom and the like. Among these organic solvents, dimethylacetamide and N-methyl-2-pyrrolidone provide good results for the purpose of obtaining a polyamide having a high degree of polymerization.

上記塩酸トラツプ剤は、縮合反応で生成する塩酸を中
和するために用いるもので、ピリジン,トリエチルアミ
ン,ジメチルアニリン等の塩基を用いることが好まし
い。
The above-mentioned trapping agent for hydrochloric acid is used to neutralize hydrochloric acid generated in the condensation reaction, and it is preferable to use a base such as pyridine, triethylamine, dimethylaniline and the like.

上記活性化剤は、酸成分を活性化するために用いるも
ので、ジシクロヘキシルカルボジイミド,ポリリン酸,
イミダゾール等を用いることが好ましい。
The activator is used for activating an acid component, and includes dicyclohexylcarbodiimide, polyphosphoric acid,
It is preferable to use imidazole or the like.

本発明によるポリアミドを製造するより具体的な方法
として、例えば、通常の低温溶液重縮合法,界面重縮合
方法,直接重縮合法等を用いることができる。これらの
うち低温溶液重縮合法は、アミン成分および必要に応じ
て塩酸トラツプ剤を非プロトン性有機溶媒に溶解した後
に、通常−50〜+80℃程度、好ましは、−20〜+50℃で
溶液をかくはんしながら、酸成分としてジ酸クロライ
ド,ジ酸ブロマイド等の酸ハロゲン化物を粉末状あるい
は非プロトン性有機溶媒に溶解した溶液状で、一度にま
たは徐々に添加して反応を行わせる。反応は直ちに起こ
り、反応系の粘度が上昇していく。通常1〜24時間かく
はんを続ける。反応が終了した反応物は、その原液とし
て成形に供することができる。また、メタノール,水な
どで処理して、ポリマーを単離することができる。
As a more specific method for producing the polyamide according to the present invention, for example, an ordinary low-temperature solution polycondensation method, an interfacial polycondensation method, a direct polycondensation method and the like can be used. Among these, the low-temperature solution polycondensation method involves dissolving an amine component and, if necessary, a trapping agent in an aprotic organic solvent and then dissolving the solution at about -50 to + 80 ° C, preferably at -20 to + 50 ° C. While stirring, an acid halide such as diacid chloride or diacid bromide as an acid component is added at once or gradually in the form of a powder or a solution in which the acid halide is dissolved in an aprotic organic solvent to cause a reaction. The reaction occurs immediately and the viscosity of the reaction system increases. The stirring is usually continued for 1 to 24 hours. The reaction product after the reaction can be used as a stock solution for molding. Further, the polymer can be isolated by treating with methanol, water, or the like.

界面重縮合法は、酸成分としてのジ酸クロライド,ジ
酸ブロマイド等の酸ハロゲン化物とアミン成分を、それ
ぞれお互いに混ざらない溶媒中に溶解して行わせる。例
えばジ酸クロライドを四塩化炭素,クロロホルム等に溶
かし、一方、アミン成分をアルカリ水溶液に溶かし、こ
れを酸ハロゲン化物の溶液の上に加えると、界面層で直
ちに縮合が起こり、ポリマーが得られる。
The interfacial polycondensation method is performed by dissolving an acid halide such as diacid chloride or diacid bromide as an acid component and an amine component in a solvent that is not mixed with each other. For example, when diacid chloride is dissolved in carbon tetrachloride, chloroform or the like, while an amine component is dissolved in an aqueous alkali solution and added to a solution of an acid halide, condensation occurs immediately at the interface layer to obtain a polymer.

直後重縮合法は、酸成分としてのジカルボン酸とアミ
ン成分を有機溶媒に溶解し、活性化剤として、ジシクロ
ヘキシルカルボジイミド,ポリリン酸,イミダゾール等
を加えて行わせる。
Immediately after the polycondensation method, a dicarboxylic acid as an acid component and an amine component are dissolved in an organic solvent, and dicyclohexylcarbodiimide, polyphosphoric acid, imidazole or the like is added as an activator.

本発明により製造される含フツ素ポリアミドは、コー
テイング剤として有用であり、また従来既知の溶液キヤ
スト法などによつてフイルムとすることができる。
The fluorine-containing polyamide produced according to the present invention is useful as a coating agent and can be formed into a film by a conventionally known solution casting method or the like.

本発明により製造される含フツ素ポリアミドは、ジメ
チルアセトアミド(DMAc)に0.1g/dlの濃度で溶解し、3
0℃で測定した還元粘度が0.01dl/g以上、特に0.04dl/g
以上であるのが好ましく、フイルムを作製するときは特
に0.1dl/g以上であるのが好ましい。
The fluorine-containing polyamide produced according to the present invention is dissolved in dimethylacetamide (DMAc) at a concentration of 0.1 g / dl,
Reduced viscosity measured at 0 ° C is 0.01 dl / g or more, especially 0.04 dl / g
It is preferably at least 0.1 dl / g when producing a film.

本発明により製造される含フツ素芳香族ポリアミド
は、優れた撥水性を示すが、このためには、前記一般式
(I)中のRfに基づくフツ素の含有量が10重量%以上、
特に15重量%以上になるように調整されるのが好まし
い。
The fluorine-containing aromatic polyamide produced according to the present invention exhibits excellent water repellency. For this purpose, the content of fluorine based on Rf in the general formula (I) is 10% by weight or more,
In particular, it is preferably adjusted to be 15% by weight or more.

本発明により製造されるポリアミドは、一般式(IV) 〔ただし、式中、Rfは一般式(I)に等しく、ベンゼン
核の水素は、低級アルキル基,低級アルコキシ基又はハ
ロゲンで置換されていてもよく、Xは一般式(II)に等
しい〕で表わされる構成単位を含み、場合により、一般
式(V) 〔ただし、式中、Zは一般式(III)に等しく、Xは一
般式(IV)に等しい〕で表わされる構成単位を含む。
The polyamide produced according to the present invention has the general formula (IV) Wherein Rf is equal to the general formula (I), hydrogen of the benzene nucleus may be substituted with a lower alkyl group, a lower alkoxy group or a halogen, and X is equal to the general formula (II). Containing the structural unit represented by the general formula (V) [Wherein, Z is equal to the general formula (III) and X is equal to the general formula (IV)].

このような構成単位は、原料を特定することにより特
定される。原料である酸成分を2種類以上又はアミン成
分を2種以上使用した場合、特定される構成単位は2種
以上あるが、この場合、本発明においては、2種以上の
構成単位が線状に不規則に配列したランダム共重合体で
あつても、線状に規則的に配列したブロツク共重合体で
あつてもよく、配列については任意のものでよい。この
ような配列は選定される原料,反応条件,添加順序等に
よつて調整される。
Such a constituent unit is specified by specifying a raw material. When two or more types of acid components or two or more types of amine components are used as raw materials, there are two or more types of specified structural units. In this case, in the present invention, two or more types of structural units are linear. It may be a random copolymer arranged randomly or a block copolymer arranged linearly and regularly, and the arrangement may be arbitrary. Such an arrangement is adjusted according to the selected starting materials, reaction conditions, order of addition, and the like.

〔実施例〕〔Example〕

以下、本発明を実施例により説明するが、本発明は、
この実施例により、特に限定されるものではない。
Hereinafter, the present invention will be described with reference to examples, the present invention,
The embodiment is not particularly limited.

実施例1 かくはん装置を備えた反応容器に、アミン成分として
のp−フエニレンジアミン0.540g(5.00mmol)、ピリジ
ン0.948g(12.0mmol)、ジメチルアセトアミド(以下DM
Acと略す)30.0gを入れ、氷水浴上で5℃に冷却した。
酸成分としての5−(パーフルオロノネニルオキシ)イ
ソフタル酸ジクロライド325g(5.00mmol)を前記溶液中
にかくはんしながら加えた。かくはんを5時間行つた
後、反応溶液を多量のメタノール中に加え、沈澱物をろ
過し、メタノールで数回洗浄して、固体状の白色ポリア
ミド(1)を3.34g得た。
Example 1 In a reaction vessel equipped with a stirring device, 0.540 g (5.00 mmol) of p-phenylenediamine as an amine component, 0.948 g (12.0 mmol) of pyridine, and dimethylacetamide (hereinafter DM)
30.0 g) and cooled to 5 ° C on an ice-water bath.
325 g (5.00 mmol) of 5- (perfluorononenyloxy) isophthalic acid dichloride as an acid component was added to the above solution while stirring. After stirring for 5 hours, the reaction solution was added to a large amount of methanol, and the precipitate was filtered and washed with methanol several times to obtain 3.34 g of a solid white polyamide (1).

ポリアミド(1)の収率および還元粘度を表1にポリ
アミド(1)の物性を表3に示す。
Table 1 shows the yield and reduced viscosity of polyamide (1), and Table 3 shows the physical properties of polyamide (1).

実施例2−15 実施例1の方法に準拠して、ジ酸クロライド成分を5
−(パーフルオロノネニルオキシ)イソフタル酸ジクロ
ライドに固定し、アミン成分を種々変化させて、ポリマ
ーを合成した。このときのアミン成分の種類と得られた
ポリアミド(2)〜(15)の収率および還元粘度を表1
に、ポリマアミドの物質を表3に示す。
Example 2-15 According to the method of Example 1, the diacid chloride component was added to 5
A polymer was synthesized by immobilization on-(perfluorononenyloxy) isophthalic acid dichloride and variously changing the amine component. Table 1 shows the types of the amine components and the yields and reduced viscosities of the obtained polyamides (2) to (15).
Table 3 shows the substances of the polymer amide.

実施例16 かくはん装置を備えた反応容器に、N,N′−ビス(ト
リメチルシリル)ビス(4−アミノフエニル)エーテル
1.03g(3.00mmol)、ピリジン0.474g(6.00mmol)、DMA
c6mlを入れ、氷水浴上で5℃に冷却した。5−(パーフ
ルオロノネニルオキシ)イソフタル酸クロライド(以
下、PFIPと略す)1.95g(3.00mmol)を前記溶液中にか
くはんしながら加えた。かくはんを5時間行つた後に、
反応溶液を多量のメタノール中に加え、沈澱物をろ過
し、メタノールで数回洗浄して、固体状の白色ポリアミ
ド(16)を2.16g得た。
Example 16 N, N'-bis (trimethylsilyl) bis (4-aminophenyl) ether was placed in a reaction vessel equipped with a stirring device.
1.03 g (3.00 mmol), pyridine 0.474 g (6.00 mmol), DMA
c6 ml was added and cooled to 5 ° C. on an ice-water bath. 1.95 g (3.00 mmol) of 5- (perfluorononenyloxy) isophthalic acid chloride (hereinafter abbreviated as PFIP) was added to the above solution while stirring. After 5 hours of stirring,
The reaction solution was added to a large amount of methanol, and the precipitate was filtered and washed several times with methanol to obtain 2.16 g of a solid white polyamide (16).

ポリアミド(16)の収率および還元粘度を表2に、ポ
リアミド(16)の物性を表3に示す。
Table 2 shows the yield and reduced viscosity of polyamide (16), and Table 3 shows the physical properties of polyamide (16).

実施例7−19 実施例16の方法に準拠して、アミノ成分をN,N′−ビ
ス(トリメチルシリル)ビス(4−アミノフエニル)エ
ーテルに固定し、酸成分としてPFIPとイソフタル酸ジク
ロライド(以下、IPと略す)の混合物を用いて、ポリア
ミドを合成した。このときのPFIPの仕込モル引と得られ
たポリアミド(17)〜(19)の収率および還元粘度を表
2に、ポリアミド(17)〜(19)の物性を表3に示す。
Examples 7-19 According to the method of Example 16, the amino component was immobilized on N, N'-bis (trimethylsilyl) bis (4-aminophenyl) ether, and PFIP and isophthalic acid dichloride (hereinafter IP) were used as the acid components. ) Was synthesized using the above mixture. Table 2 shows the molar amounts of PFIP charged and the yields and reduced viscosities of the obtained polyamides (17) to (19), and Table 3 shows the physical properties of the polyamides (17) to (19).

比較例1 かくはん装置を備えた反応容器に、N,N′−ビス(ト
リメチルシリル)ビス(4−アミノフエニル)エーテル
1.03g(3.00mmol)、ピリジン0.474g(6.0mmol)、DMAc
6mlを入れ、氷水浴上で5℃に冷却した。IP0.609g(3.0
0mmol)を前記溶液中にかくはんしながら加えた。かく
はんを5時間行つた後に、反応溶液を多量のメタノール
中に加え、沈澱物をろ過し、メタノールで数回洗浄し
て、固体状の白色ポリアミド(20)を0.992g得た。
Comparative Example 1 N, N'-bis (trimethylsilyl) bis (4-aminophenyl) ether was placed in a reaction vessel equipped with a stirring device.
1.03 g (3.00 mmol), pyridine 0.474 g (6.0 mmol), DMAc
6 ml was put and cooled to 5 ° C. on an ice water bath. IP0.609g (3.0
0 mmol) was added to the solution with stirring. After stirring for 5 hours, the reaction solution was added to a large amount of methanol, and the precipitate was filtered and washed with methanol several times to obtain 0.992 g of a solid white polyamide (20).

ポリアミド(20)の収率および還元粘度を表2に、ポ
リアミド(20)の物性を表3に示す。
Table 2 shows the yield and reduced viscosity of polyamide (20), and Table 3 shows the physical properties of polyamide (20).

なお、実施例9,実施例13及び実施例16で得られたポリ
アミド赤外吸収スペクトルをそれぞれ第1図,第2図及
び第3図に示す。
The infrared absorption spectra of the polyamides obtained in Example 9, Example 13 and Example 16 are shown in FIGS. 1, 2 and 3, respectively.

なお、実施例で用いた5−(パーフルオロノネニルオ
キシ)イソフタル酸ジクロライドは、 で表わされるものであり、これは、前記した式(A)の
基をパーフルオロノネニル基として有する5−(パーフ
ルオロノネニルオキシ)イソフタル酸1モルに対して塩
化チオニル10モルを80℃で12時間反応させた後、残存す
る塩化チオニルを留去し、その後、蒸留によつて得た。
得られた化合物の沸点は114℃,(0.3mmHg)であつた。
The 5- (perfluorononenyloxy) isophthalic acid dichloride used in the examples was Which is obtained by adding 10 mol of thionyl chloride at 80 ° C. to 1 mol of 5- (perfluorononenyloxy) isophthalic acid having a group of the above formula (A) as a perfluorononenyl group. After reacting for 12 hours, the remaining thionyl chloride was distilled off, and then obtained by distillation.
The boiling point of the obtained compound was 114 ° C. and (0.3 mmHg).

〔発明の効果〕〔The invention's effect〕

請求項1に記載の方法により、耐吸湿性(撥水性,耐
吸水性)に、特に撥水性に優れた新規な含フツ素ポリア
ミドを得ることができる。
According to the method of the first aspect, a novel fluorine-containing polyamide having excellent moisture absorption resistance (water repellency and water absorption resistance), particularly excellent water repellency, can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

第1図は実施例9で得られたポリアミド(9)の、赤外
吸収スペクトル、第2図は実施例13で得られたポリアミ
ド(13)の赤外吸収スペクトル及び第3図は実施例16で
得られたポリアミド(16)の赤外吸収スペクトルを示
す。
1 is an infrared absorption spectrum of the polyamide (9) obtained in Example 9, FIG. 2 is an infrared absorption spectrum of the polyamide (13) obtained in Example 13, and FIG. 3 shows an infrared absorption spectrum of the polyamide (16) obtained in (1).

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) C08G 69/00 - 69/50 C08F 299/02 CA(STN)──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (58) Field surveyed (Int. Cl. 6 , DB name) C08G 69/00-69/50 C08F 299/02 CA (STN)

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】一般式(I) 〔ただし、式中Rfは、−CnF2n-1(ここで、nは6〜12
の整数である)を示し、これは二重結合を1個含み、分
枝していてもよく、ベンゼン核の水素は、低級アルキル
基,低級アルコキシ基又はハロゲンで置換されていても
よい〕で表わされる芳香族ジカルボン酸又はそのアミド
形成性誘導体を含む酸成分 及び 一般式(II) (ただし、式中、Xは2価の有機基を示し、Rは水素又
はトリアルキルシリル基を示す)で表わされるジアミン
を反応させることを特徴とする含フツ素ポリアミドの製
造方法。
1. The compound of the general formula (I) [However, Rf in the formula, -C n F 2n-1 (where, n represents 6-12
Which contains one double bond, may be branched, and the hydrogen of the benzene nucleus may be substituted with a lower alkyl group, a lower alkoxy group or a halogen. An acid component containing an aromatic dicarboxylic acid or an amide-forming derivative thereof represented by the general formula (II): (Wherein, X represents a divalent organic group and R represents hydrogen or a trialkylsilyl group). A process for producing a fluorine-containing polyamide, comprising reacting a diamine represented by the following formula:
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