JP2934601B2 - Vacuum device, evacuation method using the vacuum device, and device using the vacuum device - Google Patents
Vacuum device, evacuation method using the vacuum device, and device using the vacuum deviceInfo
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Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、真空装置、この真
空装置を使用した排気方法および前記真空装置を利用し
た装置に関し、特に、成膜装置、分析装置、Ｘ線発生装
置、半導体製造装置、荷電粒子加速装置、重力波検出装
置などのような、高真空環境を必要とする装置などに適
用すると有効である。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a vacuum apparatus, an exhaust method using the vacuum apparatus, and an apparatus using the vacuum apparatus, and more particularly, to a film forming apparatus, an analyzer, an X-ray generator, a semiconductor manufacturing apparatus, It is effective when applied to a device that requires a high vacuum environment, such as a charged particle accelerator and a gravitational wave detector.
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来、成膜装置、分析装置、Ｘ線発生装
置、半導体製造装置、荷電粒子加速装置、重力波検出装
置などのような、高真空環境を必要とする装置におい
て、真空容器内を排気して高真空環境を得ようとする場
合には、真空容器内を排気しながら当該真空容器をヒー
タで加熱して、当該真空容器内面に吸着している水分子
を除去するベーキング法や、真空容器内を排気した後、
水分を予め除去した乾燥ガスを当該真空容器内に送給
し、再び真空容器内を排気することを繰り返すことによ
り、真空容器内面に吸着している水分子を除去する乾燥
ガス法などが適用されている。2. Description of the Related Art Conventionally, in a device requiring a high vacuum environment, such as a film forming device, an analyzing device, an X-ray generating device, a semiconductor manufacturing device, a charged particle accelerator, a gravitational wave detecting device, etc. In order to obtain a high vacuum environment by evacuating the vacuum vessel, the vacuum vessel is heated with a heater while evacuating the vacuum vessel, and a baking method of removing water molecules adsorbed on the inner surface of the vacuum vessel or After evacuating the vacuum vessel,
A dry gas method for removing water molecules adsorbed on the inner surface of the vacuum vessel is applied by repeatedly feeding a dry gas from which moisture has been removed in advance into the vacuum vessel and evacuating the vacuum vessel again. ing.
【０００３】[0003]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前述し
たようなベーキング法では、水分を加熱して気化させる
ことにより真空容器内面から離脱させるため、全ての水
分の除去に時間を要してしまい、真空容器内を高真空に
するのに時間がかなりかかり（数日から一週間程度）、
効率が非常に悪かった。また、熱負荷を加えることがで
きない精密計器を備えていたり、熱歪を嫌うような真空
容器には適用することができなかった。一方、前述した
ような乾燥ガス法では、真空容器内に供給する乾燥ガス
の精製に多大なコストがかかってしまうため、処理コス
トが高いだけでなく、乾燥ガスの供給、排気を何度も繰
り返すため、作業が非常に煩雑であった。However, in the above-described baking method, since the water is heated and vaporized to be separated from the inner surface of the vacuum vessel, it takes time to remove all the water, and the vacuum It takes a long time to create a high vacuum inside the container (from several days to a week)
The efficiency was very poor. Further, it cannot be applied to a vacuum vessel which is provided with a precision instrument to which a heat load cannot be applied or which does not like thermal distortion. On the other hand, in the dry gas method as described above, purification of the dry gas supplied into the vacuum vessel requires a large cost, so that not only the processing cost is high but also the supply and exhaust of the dry gas are repeated many times. Therefore, the operation was very complicated.
【０００４】このようなことから、短時間で簡単に真空
容器内を高真空環境にできるようにすることが強く望ま
れている。[0004] Under such circumstances, it is strongly desired that the inside of the vacuum vessel can be easily set in a high vacuum environment in a short time.
【０００５】[0005]
【課題を解決するための手段】前述した課題を解決する
ための、本発明による真空装置は、内部を真空環境に保
持する真空容器を備えてなる真空装置であって、水分子
を光解離させる光触媒材料が前記真空容器の内面に被覆
されていることを特徴とする。A vacuum apparatus according to the present invention for solving the above-mentioned problems is a vacuum apparatus provided with a vacuum vessel for holding the inside of the vacuum apparatus in a vacuum environment, and photodissociates water molecules. A photocatalyst material is coated on the inner surface of the vacuum vessel.
【０００６】上記真空装置においては、前記光触媒材料
がＴｉＯ2 , ＳｒＴｉＯ3 , ＺｒＯ 2 , Ｔａ2 Ｏ5 , Ｋ
4 Ｎｂ6 Ｏ17 ,Ｎａ2 Ｔｉ6 Ｏ13 ,Ｋ2 Ｔｉ6 Ｏ13 ,Ｂ
ａＴｉ4 Ｏ9 のうちの一種類以上を含有していることを
特徴とする。In the above vacuum apparatus, the photocatalyst material
Is TiO2,SrTiO3,ZrO 2,TaTwoOFive ,K
FourNb6O17,NaTwoTi6O13 ,KTwoTi6O13 ,B
aTiFourO9Contains at least one of the following
Features.
【０００７】上記真空装置においては、前記真空容器の
内面にチタイソプロポキシド溶液が塗布された後、当該
溶液が加水分解されることにより、当該真空容器の内面
が前記光触媒材料で被覆されていることを特徴とする。In the above-mentioned vacuum apparatus, after a titaisopropoxide solution is applied to the inner surface of the vacuum container, the solution is hydrolyzed, so that the inner surface of the vacuum container is coated with the photocatalytic material. It is characterized by the following.
【０００８】上述したこれらの真空装置においては、前
記光触媒材料による水分子の光解離反応を促進させる活
性材料が前記光触媒材料に担持されていることを特徴と
する。[0008] In these vacuum devices described above, an active material for promoting the photodissociation reaction of water molecules by the photocatalytic material is carried on the photocatalytic material.
【０００９】上記真空装置においては、前記活性材料が
Ｐｔ，ＲｕＯ2 のうちの一種類以上を含有していること
を特徴とする。In the above-mentioned vacuum apparatus, the active material contains one or more of Pt and RuO 2 .
【００１０】上述したこれらの真空装置においては、前
記光触媒材料で水分子を光解離させる光線を前記真空容
器の内面へ照射できる光線照射手段を備えたことを特徴
とする。[0010] The above-described vacuum apparatus is characterized in that a light irradiating means for irradiating a light beam for photodissociating water molecules with the photocatalytic material to the inner surface of the vacuum vessel is provided.
【００１１】上記真空装置においては、前記光線照射手
段が水銀ランプ、重水素ランプ、Ｄｅｅｐ ＵＶラン
プ、キセノンランプ、メタルハライドランプ、ブラック
ライトのうちの少なくとも一つであることを特徴とす
る。In the above-mentioned vacuum apparatus, the light irradiation means is at least one of a mercury lamp, a deuterium lamp, a deep UV lamp, a xenon lamp, a metal halide lamp, and a black light.
【００１２】また、上記の真空装置を使用した排気方法
においては、前記真空容器の内面へ前記光線照射手段か
ら前記光線を間欠的または連続的に照射しながら当該真
空容器の内部を排気することを特徴とする。In the above-described evacuation method using a vacuum device, the inside of the vacuum vessel is evacuated while intermittently or continuously irradiating the light beam from the light irradiating means to the inner surface of the vacuum vessel. Features.
【００１３】また、上述した真空装置を利用した荷電粒
子加速装置においては、前記真空容器に連結され、当該
真空容器内に荷電粒子を入射する荷電粒子入射手段を備
えてなることを特徴とする。Further, the charged particle accelerator using the above-described vacuum device is characterized in that it is provided with charged particle incident means connected to the vacuum vessel and for projecting charged particles into the vacuum vessel.
【００１４】上述した真空装置を利用した半導体製造装
置においては、前記真空容器の内部に設けられ、基板を
搬送する基板搬送手段と前記真空容器の内部と外部とを
気密に遮蔽できるように当該真空容器の壁面に開閉可能
に設けられ、前記基板の通過を可能にするゲートとを備
えてなることを特徴とする。In the semiconductor manufacturing apparatus utilizing the above-described vacuum apparatus, the vacuum chamber is provided inside the vacuum vessel, and the substrate transport means for transporting the substrate and the vacuum chamber so as to hermetically shield the inside and outside of the vacuum vessel. A gate provided on the wall of the container so as to be openable and closable, and capable of passing the substrate.
【００１５】上述した真空装置を利用した成膜装置にお
いては、前記真空容器の内部に設けられ、ワークに被膜
を形成する被膜形成手段を備えてなることを特徴とす
る。A film forming apparatus utilizing the above-described vacuum apparatus is characterized in that it is provided with a film forming means provided inside the vacuum vessel and for forming a film on a work.
【００１６】上述した真空装置を利用した分析装置にお
いては、前記真空容器に設けられ、重力波を検出するレ
ーザ干渉計を備えてなることを特徴とする。An analyzer utilizing the above-described vacuum apparatus is characterized in that it comprises a laser interferometer provided in the vacuum vessel and detecting a gravitational wave.
【００１７】［作用］前述した本発明による真空装置で
は、光触媒材料が水分子を光解離させる光線を真空容器
の内面、すなわち、光触媒材料に照射すると、当該光触
媒材料に光吸収反応により電子と正孔が生じ、光触媒材
料の表面、すなわち、真空容器の内面に吸着している水
分子を水素分子と酸素分子とに分解し、真空容器の内面
から容易に離脱させる。ここで、二酸化チタン（ＴｉＯ
2 ）を光触媒材料に用いた場合を例に挙げて具体的に説
明する。[Operation] In the above-described vacuum apparatus according to the present invention, when the photocatalytic material irradiates a light beam for photodissociating water molecules to the inner surface of the vacuum vessel, that is, the photocatalytic material, the photocatalytic material becomes positive with electrons by a light absorption reaction. The pores are generated, and water molecules adsorbed on the surface of the photocatalytic material, that is, the inner surface of the vacuum container are decomposed into hydrogen molecules and oxygen molecules, and are easily separated from the inner surface of the vacuum container. Here, titanium dioxide (TiO 2)
The case where 2 ) is used as a photocatalyst material will be specifically described with reference to an example.
【００１８】ＴｉＯ2 は、ｎ型半導体であるため、その
バンドギャップ（禁制体の幅）以上のエネルギを有する
波長の光線が照射されると、励起して、電子−正孔対が
内部に生成し、その表面に吸着している水分子に対して
酸化還元反応を進行させ、当該水分子を水素と酸素とに
分解する。このようにして生成した水素分子と酸素分子
とは、その吸着滞留時間が１０-11 ｓｅｃ程度であるた
め、水分子の吸着滞留時間（１０-4ｓｅｃ）よりも大幅
に短く、上記表面から短時間で離脱する。このため、真
空容器内から水分を短時間で除去することができ、真空
容器内を短時間で簡単に高真空環境にすることができ
る。Since TiO 2 is an n-type semiconductor, it is excited when irradiated with a light beam having a wavelength greater than its band gap (width of the forbidden body) to generate electron-hole pairs inside. Then, an oxidation-reduction reaction proceeds with respect to the water molecules adsorbed on the surface, and the water molecules are decomposed into hydrogen and oxygen. Since the hydrogen molecules and the oxygen molecules thus generated have an adsorption residence time of about 10 −11 sec, they are significantly shorter than the water molecule adsorption residence time (10 −4 sec), and are shorter than the above surface. Leave in time. For this reason, moisture can be removed from the vacuum container in a short time, and a high vacuum environment can be easily established in the vacuum container in a short time.
【００１９】なお、ＴｉＯ2 は、そのバンドギャップが
３ｅＶであるので、４１５ｎｍ以下の大きさの波長の光
線で上述した反応が起きる。また、このような光解離反
応は、上記ＴｉＯ2 に限らず、ＳｒＴｉＯ3 , ＺｒＯ
2 , Ｔａ2 Ｏ5 , Ｋ4 Ｎｂ6 Ｏ17 ,Ｎａ2 Ｔｉ6 Ｏ13 ,
Ｋ2 Ｔｉ6 Ｏ13 ,ＢａＴｉ4 Ｏ9 などのような他の光触
媒材料を用いた場合でも、上述した場合と同様である。Since TiO 2 has a band gap of 3 eV, the above-mentioned reaction occurs with light having a wavelength of 415 nm or less. Further, such a photodissociation reaction is not limited to the above-mentioned TiO 2 , but may be SrTiO 3, ZrO
2, Ta 2 O 5, K 4 Nb 6 O 17, Na 2 Ti 6 O 13,
The same applies to the case where another photocatalyst material such as K 2 Ti 6 O 13 or BaTi 4 O 9 is used.
【００２０】また、上述した光解離反応は、ＴｉＯ2 な
どの光触媒材料だけでも十分に起こり得るが、白金（Ｐ
ｔ）や二酸化ルテニウム（ＲｕＯ2 ）などのような光解
離反応を促進させる活性材料の微粒子を上記光触媒材料
に分散させるように担持させれば、下記の表１に示すよ
うに、水分子の光解離反応をさらに促進させて、真空容
器内の高真空環境化をさらに迅速に図ることができる。The photodissociation reaction described above can sufficiently occur with only a photocatalytic material such as TiO 2 , but platinum (P)
t) and fine particles of an active material such as ruthenium dioxide (RuO 2 ) that promotes a photodissociation reaction are supported on the photocatalytic material so as to be dispersed, as shown in Table 1 below. By further accelerating the dissociation reaction, a high-vacuum environment in the vacuum vessel can be more quickly established.
【００２１】[0021]
【表１】 [Table 1]
【００２２】[0022]
【発明の実施の形態】本発明による真空装置の第一番目
の実施の形態を図１を用いて説明する。なお、図１は、
その概略構造図である。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A first embodiment of a vacuum apparatus according to the present invention will be described with reference to FIG. In addition, FIG.
FIG.
【００２３】図１に示すように、内部が真空環境に保持
される真空容器１には、当該真空容器１の内部を真空に
させる排気手段である排気ポンプ２が接続されている。
上記真空容器１には、当該真空容器１の内部の圧力を計
測する真空計３が設けられている。当該真空容器１の内
面には、二酸化チタン（ＴｉＯ2 ）の光触媒材料からな
るコーテイング膜４が被覆されている。当該真空容器１
の内部には、光線照射手段である低圧、高圧または超高
圧タイプの水銀ランプ５が配設されている。この水銀ラ
ンプ５は、真空容器１の外部に配設された電源６に接続
されている。As shown in FIG. 1, an exhaust pump 2, which is an exhaust means for evacuating the inside of the vacuum vessel 1, is connected to a vacuum vessel 1 whose inside is kept in a vacuum environment.
The vacuum vessel 1 is provided with a vacuum gauge 3 for measuring the pressure inside the vacuum vessel 1. The inner surface of the vacuum vessel 1 is coated with a coating film 4 made of a photocatalytic material of titanium dioxide (TiO 2 ). The vacuum vessel 1
Is provided with a low-pressure, high-pressure or ultra-high-pressure mercury lamp 5 which is a light irradiation means. The mercury lamp 5 is connected to a power source 6 provided outside the vacuum vessel 1.
【００２４】このような真空装置では、排気ポンプ２を
作動して真空容器１内を排気すると共に、電源６を作動
して水銀ランプ５から光線を発射すると、水銀ランプ５
からの光線が真空容器１の内面に照射されるので、真空
容器１の内面、すなわち、コーテイング膜４の表面に吸
着している水分子が前述した作用のように水素分子と酸
素分子とに光解離して真空容器１の内面から急速に離脱
していき、排気ポンプ２により真空容器１の外部へ除去
される。In such a vacuum apparatus, when the evacuation pump 2 is operated to evacuate the vacuum vessel 1 and the power source 6 is operated to emit light from the mercury lamp 5, the mercury lamp 5
Is applied to the inner surface of the vacuum vessel 1, so that the water molecules adsorbed on the inner surface of the vacuum vessel 1, that is, the surface of the coating film 4, are converted into hydrogen molecules and oxygen molecules as described above. It is dissociated and rapidly separated from the inner surface of the vacuum vessel 1, and is removed to the outside of the vacuum vessel 1 by the exhaust pump 2.
【００２５】したがって、真空容器１の内部の水分を迅
速且つ容易に外部へ排出することができるので、短時間
で簡単に高真空環境を得ることができる。Therefore, since the water in the vacuum vessel 1 can be quickly and easily discharged to the outside, a high vacuum environment can be easily obtained in a short time.
【００２６】本発明による真空装置の第二番目の実施の
形態を図２を用いて説明する。なお、図２は、その概略
構造図である。ただし、前述した実施の形態と同様な部
分については、前述した実施の形態と同様な符号を用い
ることにより、その説明を省略する。A second embodiment of the vacuum apparatus according to the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 2 is a schematic structural view thereof. However, the same parts as those in the above-described embodiment will be denoted by the same reference numerals as those in the above-described embodiment, and the description thereof will be omitted.
【００２７】図２に示すように、真空容器１の壁面に
は、当該真空容器１の外部からの光を内部に透過させる
透過窓７が設けられている。真空容器１の透過窓７の外
側には、水銀ランプ５が配設されている。つまり、前述
した実施の形態では、水銀ランプ５を真空容器１の内部
に配設したが、本実施の形態では、水銀ランプ５を真空
容器１の内部と透過窓７を介して仕切るようにしたので
ある。As shown in FIG. 2, on the wall surface of the vacuum vessel 1, a transmission window 7 for transmitting light from outside of the vacuum vessel 1 to the inside is provided. A mercury lamp 5 is provided outside the transmission window 7 of the vacuum vessel 1. That is, in the above-described embodiment, the mercury lamp 5 is provided inside the vacuum vessel 1, but in the present embodiment, the mercury lamp 5 is partitioned from the inside of the vacuum vessel 1 via the transmission window 7. It is.
【００２８】したがって、このような真空装置によれ
ば、前述した実施の形態の真空装置と同様にして用いる
ことにより、前述した実施の形態の真空装置と同様な効
果を得ることができる。Therefore, according to such a vacuum device, the same effects as those of the above-described embodiment can be obtained by using the vacuum device in the same manner as the above-described embodiment.
【００２９】本発明による真空装置の第三番目の実施の
形態を図３を用いて説明する。なお、図３は、その概略
構造図である。ただし、前述した実施の形態と同様な部
分については、前述した実施の形態と同様な符号を用い
ることにより、その説明を省略する。A third embodiment of the vacuum apparatus according to the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 3 is a schematic structural view thereof. However, the same parts as those in the above-described embodiment will be denoted by the same reference numerals as those in the above-described embodiment, and the description thereof will be omitted.
【００３０】図３に示すように、真空容器１の内部に
は、収納容器８が設けられており、当該収納容器８は、
その内部と外部とを気密に遮蔽できると共に、内部から
外部へ光が透過できるようになっている。収納容器８の
内部には、水銀ランプ５が配設されている。つまり、本
実施の形態では、水銀ランプ５を真空容器１の内部と仕
切りながらも水銀ランプ５を真空容器１の内部に配設で
きるようにして、真空容器１の内面へ光を均一に照射で
きるようにしたのである。As shown in FIG. 3, a storage container 8 is provided inside the vacuum container 1, and the storage container 8 is
The inside and the outside can be airtightly shielded, and light can be transmitted from the inside to the outside. The mercury lamp 5 is provided inside the storage container 8. That is, in the present embodiment, the mercury lamp 5 can be disposed inside the vacuum vessel 1 while partitioning the mercury lamp 5 from the inside of the vacuum vessel 1, so that the inner surface of the vacuum vessel 1 can be uniformly irradiated with light. I did it.
【００３１】したがって、このような真空装置によれ
ば、前述した実施の形態の真空装置と同様にして用いる
ことにより、前述した実施の形態の真空装置と同様な効
果を得ることができるのはもちろんのこと、真空容器１
の内面に光を均一に照射することができるので、真空容
器１の内面に吸着している水分子を第二番目の実施の形
態の場合よりもさらに効率よく光解離させることができ
る。Therefore, according to such a vacuum device, it is possible to obtain the same effect as the vacuum device of the above-described embodiment by using the same as the vacuum device of the above-described embodiment. That, vacuum vessel 1
Can be uniformly irradiated with the light, so that the water molecules adsorbed on the inner surface of the vacuum vessel 1 can be photodissociated more efficiently than in the case of the second embodiment.
【００３２】なお、コーテイング膜４の被覆は、真空容
器１の内面へ光触媒材料を蒸着、スパッタまたは溶射す
ることにより得ることができるが、例えば、ＴｉＯ2 の
場合には、真空容器の内面にチタイソプロポキシド溶液
を塗布した後、加水分解させれば、コーテイング膜を容
易に得ることができる。The coating of the coating film 4 can be obtained by depositing, sputtering or spraying a photocatalytic material on the inner surface of the vacuum vessel 1. For example, in the case of TiO 2 , the inner surface of the vacuum vessel is If the isopropoxide solution is applied and then hydrolyzed, a coating film can be easily obtained.
【００３３】また、水銀ランプ５の点灯時期や点灯間隔
などは、真空容器１内を排気する前から間欠的または連
続的に所定時間点灯したり、真空容器１内が所定の気圧
になった時点で間欠的または連続的に所定時間点灯した
りするなど、真空容器１の内面への水分子の吸着具合な
どの各種条件に応じて適宜選定するとよい。The lighting timing and lighting interval of the mercury lamp 5 may be determined intermittently or continuously for a predetermined time before the inside of the vacuum vessel 1 is evacuated, or when the inside of the vacuum vessel 1 reaches a predetermined pressure. It may be appropriately selected according to various conditions such as how the water molecules are adsorbed on the inner surface of the vacuum vessel 1 such as intermittently or continuously lighting for a predetermined time.
【００３４】前述した実施の形態では、光線照射手段と
して水銀ランプ５を用いたが、光触媒材料の種類や吸着
している水分子の量などの各種条件に応じて、重水素ラ
ンプ、Ｄｅｅｐ ＵＶランプ、キセノンランプ、メタル
ハライドランプ、ブラックライトなど、各種のタイプを
適宜選定するとよい。In the above-described embodiment, the mercury lamp 5 is used as the light irradiation means. However, depending on various conditions such as the type of the photocatalyst material and the amount of adsorbed water molecules, a deuterium lamp, a deep UV lamp, and the like are used. Various types such as a xenon lamp, a metal halide lamp, and a black light may be appropriately selected.
【００３５】続いて、上述した真空装置の効果を確認す
るために行った確認実験を説明する。 ［確認実験１］ ＜実験方法＞真空容器の内部を排気ポンプで排気し、真
空容器内が所定の気圧になったら、真空容器の内面に所
定波長の光線を所定時間連続的に照射しながら真空容器
内の排気をそのまま続けた。このような操作を行った場
合の真空容器内の経時的な気圧変化を計測した。また、
比較のため、真空容器内の排気のみを行った場合の気圧
変化も計測した。なお、真空装置の構造としては、第三
番目の実施の形態で説明したタイプのものを用いた。Next, a confirmation experiment performed for confirming the effect of the above-described vacuum apparatus will be described. [Confirmation experiment 1] <Experiment method> The inside of the vacuum vessel was evacuated with an exhaust pump, and when the inside of the vacuum vessel reached a predetermined pressure, vacuum was applied while continuously irradiating the inner surface of the vacuum vessel with light of a predetermined wavelength for a predetermined time. The evacuation of the container was continued. A time-dependent change in atmospheric pressure in the vacuum container when such an operation was performed was measured. Also,
For comparison, the change in air pressure when only the inside of the vacuum vessel was evacuated was also measured. The structure of the vacuum device used was the type described in the third embodiment.
【００３６】＜実験条件＞ ・真空容器−材質：ＳＵＳ３０４ ・コーテイング膜−ＴｉＯ2 ・光源−水銀ランプ ・真空計−ＢＡゲージ（アネルバ製） ・照射開始気圧−０．０５Ｐａ ・照射時間−２分間[0036] <Experimental Conditions> vacuum container - Material: SUS304-coating film -TiO 2-source - mercury lamp gauge -BA gauge (manufactured by ANELVA) irradiation start pressure -0.05Pa-irradiation time -2 minutes
【００３７】＜実験結果＞結果を図４に示す。図中、実
線が光線照射を行った場合、すなわち、コーテイング膜
で水分子を光解離させた場合を表し、点線が排気のみを
行った場合、すなわち、従来の場合を表している。<Experimental Results> The results are shown in FIG. In the figure, the solid line represents the case where light irradiation was performed, that is, the case where water molecules were photodissociated by the coating film, and the dotted line represents the case where only exhaust was performed, that is, the conventional case.
【００３８】図４からわかるように、排気ポンプを作動
して真空容器内を徐々に減圧し、真空容器内が０．０５
Ｐａになった時点で水銀ランプから紫外線を照射する
と、真空容器内の気圧が一旦上昇するものの、急激に減
少し、排気のみを行った場合よりも気圧を早く低減させ
ることができる。ここで、光線照射時に気圧が一旦上昇
するのは、真空容器の内面に吸着している水分子が光線
照射で光解離し、水素分子と酸素分子とが急激に発生す
るためである。As can be seen from FIG. 4, the vacuum pump is operated to gradually reduce the pressure inside the vacuum vessel,
When the mercury lamp is irradiated with ultraviolet rays at the point when the pressure reaches Pa, the air pressure in the vacuum vessel rises once, but rapidly decreases, and the air pressure can be reduced faster than in the case where only exhaust is performed. Here, the reason why the air pressure once rises during light irradiation is that water molecules adsorbed on the inner surface of the vacuum vessel are photodissociated by light irradiation, and hydrogen molecules and oxygen molecules are rapidly generated.
【００３９】したがって、水分子を水素分子と酸素分子
とに光解離させながら真空容器の内部を排気するように
すれば、従来の場合よりも早急に高真空環境を得られる
ことが確認された。Therefore, it was confirmed that a high vacuum environment can be obtained more quickly than in the conventional case by evacuating the inside of the vacuum vessel while photodissociating water molecules into hydrogen molecules and oxygen molecules.
【００４０】なお、本確認実験では、排気ポンプの排気
速度などの影響を避けるため、排気ポンプの前にオリフ
ィス板を挿入するスループット法を適用したことから、
オリフィス板のない実運転時の場合に比べ、得られたデ
ータが１０2 倍ほど大きな値を示している。In this confirmation experiment, the throughput method in which an orifice plate was inserted before the exhaust pump was applied to avoid the influence of the exhaust speed of the exhaust pump, etc.
Compared with the case when no orifice plate actual operation, the data obtained show a large value as 10 twice.
【００４１】［確認実験２］ ＜実験方法＞前述した確認実験１と同様にして、下記の
条件に基づいて実験を行った。なお、真空装置の構造と
しては、第一番目の実施の形態で説明したタイプにおい
て、コーテイング膜に活性材料を分散担持させたものを
用いた。[Confirmation Experiment 2] <Experiment Method> An experiment was performed in the same manner as in the confirmation experiment 1 described above, under the following conditions. As the structure of the vacuum device, the type described in the first embodiment in which the active material is dispersed and supported on the coating film was used.
【００４２】＜実験条件＞ ・真空容器−材質：ＳＵＳ３０４ ・コーテイング膜−ＴｉＯ2 ・活性材料−Ｐｔ微粒子 ・光源−ブラックライト（１００Ｗ） ・真空計−ＢＡゲージ（アネルバ製） ・照射開始気圧−０．１Ｐａ ・照射時間−２分間[0042] <Experimental Conditions> vacuum container - Material: SUS304-coating film -TiO 2-active material -Pt particle-source - black light (100W) gauge -BA gauge (manufactured by ANELVA) irradiation start pressure -0・ 1Pa ・ Irradiation time -2 minutes
【００４３】＜実験結果＞結果を図５に示す。図中、実
線が光線照射を行った場合、すなわち、コーテイング膜
で水分子を光解離させた場合を表し、点線が排気のみを
行った場合、すなわち、従来の場合を表している。<Experimental Results> The results are shown in FIG. In the figure, the solid line represents the case where light irradiation was performed, that is, the case where water molecules were photodissociated by the coating film, and the dotted line represents the case where only exhaust was performed, that is, the conventional case.
【００４４】図５からわかるように、排気ポンプを作動
して真空容器内を徐々に減圧し、真空容器内が０．１Ｐ
ａになった時点でブラックライトから紫外線を照射する
と、前述した確認実験１の場合と同様に、真空容器内の
気圧が一旦上昇するものの、前述した確認実験１の場合
よりも急激に減少し、排気のみを行った場合よりも気圧
を著しく早く（約１／１０）低減させることができる。
つまり、本確認実験では、コーテイング膜に活性材料を
分散担持させているため、前述した確認実験１の場合よ
りも水分子の光解離が効率よく行われているのである。As can be seen from FIG. 5, the vacuum pump is operated to gradually reduce the pressure inside the vacuum vessel,
When ultraviolet light is irradiated from the black light at the point of time a, the pressure in the vacuum vessel once increases as in the case of the above-described confirmation experiment 1, but decreases more rapidly than in the case of the above-described confirmation experiment 1, The atmospheric pressure can be reduced remarkably faster (about 1/10) than when only exhaust is performed.
That is, in this confirmation experiment, since the active material is dispersed and supported on the coating film, the photodissociation of water molecules is performed more efficiently than in the case of the confirmation experiment 1 described above.
【００４５】したがって、前述した確認実験１と同様
に、従来の場合よりも早急に高真空環境が得られること
を確認できたのはもちろんのこと、コーテイング膜に活
性材料を分散担持させることにより、さらに早急に高真
空環境を得られることを確認できた。Therefore, similarly to the above-described confirmation experiment 1, it was confirmed that a high vacuum environment could be obtained more quickly than in the conventional case, and by dispersing and supporting the active material on the coating film, Furthermore, it was confirmed that a high vacuum environment could be obtained immediately.
【００４６】なお、本確認実験では、前述した確認実験
１の場合と同様に、排気ポンプの排気速度などの影響を
避けるため、排気ポンプの前にオリフィス板を挿入する
スループット法を適用したことから、オリフィス板のな
い実運転時の場合に比べ、得られたデータが１０2 倍ほ
ど大きな値を示している。In this verification experiment, as in the case of the verification experiment 1 described above, in order to avoid the influence of the exhaust speed of the exhaust pump, etc., the throughput method in which an orifice plate was inserted before the exhaust pump was applied. , compared to the case when no orifice plate actual operation, the data obtained show a large value as 10 twice.
【００４７】次に、本発明による真空装置を利用した装
置の実施の形態を説明する。Next, an embodiment of an apparatus using a vacuum apparatus according to the present invention will be described.
【００４８】［荷電粒子加速装置］本発明による真空装
置を利用した荷電粒子加速装置の実施の形態を図６を用
いて説明する。なお、図６は、その真空系の概略構造図
である。[Charged Particle Accelerator] An embodiment of a charged particle accelerator using a vacuum apparatus according to the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 6 is a schematic structural view of the vacuum system.
【００４９】図６に示すように、内部の中空な環状をな
す真空容器１１には、当該真空容器１１内に荷電粒子を
入射する図示しない荷電粒子入射手段と連結する連結部
１１ａと、上記荷電粒子入射手段から入射された荷電粒
子を加速させる加速空胴１１ｂと、上記荷電粒子を所定
の方向へ進行させる偏向磁石１１ｃとがそれぞれ設けら
れている。真空容器１１には、当該真空容器１１内を排
気する排気ポンプ１２が連結されている。真空容器１１
の内面は、光触媒材料からなる図示しないコーテイング
膜で被覆されている。真空容器１１には、水銀ランプ１
５が当該真空容器１１の内面へ所定の波長の光線をまん
べんなく照射できるように所定の間隔で複数設けられて
いる。As shown in FIG. 6, a vacuum container 11 having a hollow annular shape therein has a connecting portion 11a for connecting charged particle injection means (not shown) for inputting charged particles into the vacuum container 11; An accelerating cavity 11b for accelerating charged particles incident from the particle incident means and a deflecting magnet 11c for advancing the charged particles in a predetermined direction are provided. An exhaust pump 12 that exhausts the inside of the vacuum vessel 11 is connected to the vacuum vessel 11. Vacuum container 11
Is coated with a coating film (not shown) made of a photocatalytic material. The vacuum vessel 11 has a mercury lamp 1
5 are provided at predetermined intervals so that the inner surface of the vacuum vessel 11 can be evenly irradiated with light beams of a predetermined wavelength.
【００５０】このような荷電粒子加速装置では、排気ポ
ンプ１２を作動させると共に、水銀ランプ１５を点灯さ
せると、前述した真空装置での説明と同様に、真空容器
１１の内面に吸着している水分子を前記コーテイング膜
が水素分子と酸素分子とに光解離するので、真空容器１
１内の水分を迅速に外部へ除去することができる。In such a charged particle accelerator, when the evacuation pump 12 is operated and the mercury lamp 15 is turned on, the water adsorbed on the inner surface of the vacuum vessel 11 is turned on in the same manner as described in the vacuum apparatus. Since the coating film dissociates molecules into hydrogen molecules and oxygen molecules, the vacuum vessel 1
1 can be quickly removed to the outside.
【００５１】つまり、荷電粒子加速装置は、真空容器が
非常に大型であるため、従来の荷電粒子加速装置では、
高真空環境を得るのに多大な時間を要していたのに対
し、上述した荷電粒子加速装置では、真空容器１１の内
面に吸着している水分子を外部へ迅速に除去することが
できるので、真空容器１１内を短時間で簡単に高真空環
境化することができるのである。In other words, the charged particle accelerator has a very large vacuum vessel, so that the conventional charged particle accelerator has
While it took a lot of time to obtain a high vacuum environment, the charged particle accelerator described above can quickly remove water molecules adsorbed on the inner surface of the vacuum vessel 11 to the outside. Thus, a high vacuum environment can be easily established in the vacuum vessel 11 in a short time.
【００５２】したがって、このような荷電粒子加速装置
によれば、修理や立ち上げの際に真空容器１１が大気開
放された状態であっても、真空容器１１内を短時間で簡
単に高真空環境化することができるので、立ち上がりに
かかる時間やコストを大幅に省くことができる。Therefore, according to such a charged particle accelerator, even when the vacuum vessel 11 is open to the atmosphere at the time of repair or start-up, the inside of the vacuum vessel 11 can be easily and quickly set in a high vacuum environment. Therefore, the time and cost required for startup can be greatly reduced.
【００５３】［半導体製造装置］本発明による真空装置
を利用した半導体製造装置の実施の形態を図７を用いて
説明する。なお、図７は、その真空系の概略構造図であ
る。[Semiconductor Manufacturing Apparatus] An embodiment of a semiconductor manufacturing apparatus using a vacuum apparatus according to the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 7 is a schematic structural view of the vacuum system.
【００５４】図７に示すように、真空容器２１は、その
内部が予備室２１ａと本室２１ｂとに仕切られている。
真空容器２１の予備室２１ａおよび本室２１ｂには、排
気ポンプ２２ａ，２２ｂがそれぞれ連結している。真空
容器２１の予備室２１ａと本室２１ｂとを仕切る壁面に
は、当該予備室２１ａと当該本室２１ｂとを気密に遮蔽
できるように開閉可能なゲート２３ａが設けられてい
る。真空容器２１の予備室２１ａと本室２１ｂとを仕切
る壁面と対向する上記予備室２１ａの壁面には、当該予
備室２１ａの内部と外部とを気密に遮蔽できるように開
閉可能なゲート２３ｂが設けられている。上記予備室２
１ａの内部には、ゲート２３ｂ側から半導体の基板２０
ａを受け取ると共に、受け取った基板２０ａをゲート２
３ａ側へ受け渡す搬送器２６ａが設けられている。上記
予備室２１の内面は、光触媒材料からなるコーテイング
膜２４で被覆されている。上記予備室２１ａの内部に
は、水銀ランプ２５が設けられている。As shown in FIG. 7, the inside of the vacuum vessel 21 is partitioned into a preliminary chamber 21a and a main chamber 21b.
Exhaust pumps 22a and 22b are connected to the preliminary chamber 21a and the main chamber 21b of the vacuum vessel 21, respectively. A gate 23a that can be opened and closed is provided on a wall surface of the vacuum vessel 21 that separates the preliminary chamber 21a from the main room 21b so that the preliminary chamber 21a and the main room 21b can be airtightly shielded. A gate 23b that can be opened and closed is provided on a wall surface of the preliminary chamber 21a opposite to a wall surface that separates the preliminary chamber 21a and the main chamber 21b of the vacuum vessel 21 so that the inside and the outside of the preliminary chamber 21a can be airtightly shielded. Have been. Reserve room 2
1a, the semiconductor substrate 20 is placed from the gate 23b side.
a, and the received substrate 20a is
A transporter 26a is provided for delivery to the 3a side. The inner surface of the preliminary chamber 21 is covered with a coating film 24 made of a photocatalytic material. A mercury lamp 25 is provided inside the preliminary chamber 21a.
【００５５】一方、前記本室２１ｂの内部には、前記予
備室２１からの基板２０ａを受け取る搬送器２６ｂと、
基板２０ａに成膜を施す蒸着器２７とがそれぞれ設けら
れている。なお、本実施の形態では、搬送器２３ａ，２
３ｂなどにより基板搬送手段を構成している。On the other hand, inside the main room 21b, a transporter 26b for receiving the substrate 20a from the preliminary room 21 is provided.
An evaporator 27 for forming a film on the substrate 20a is provided. In the present embodiment, the transporters 23a, 23
3b and the like constitute a substrate transfer means.
【００５６】このような半導体製造装置では、排気ポン
プ２２ｂを作動して、本室２１ｂ内を高真空環境に予め
保持した後、ゲート２３ｂを開け、基板２０ａを搬送器
２６ａで受け取ったら、ゲート２３ｂを閉め、排気ポン
プ２２ａを作動すると共に、水銀ランプ２５を点灯する
と、前述した真空装置での説明と同様に、予備室２１ａ
の内面に吸着している水分子がコーテイング膜２４で水
素分子と酸素分子とに光解離され、予備室２１ａ内の水
分が外部へ迅速に除去される。このようにして予備室２
１ａ内が高真空環境に保持されたら、ゲート２３ａを開
け、搬送器２６ｂで搬送器２６ａから基板２０ａを受け
取った後、上記ゲート２３ａを閉め、蒸着器２７を作動
して、基板２０ａに蒸着材料２０ｂを蒸着することによ
り、半導体を製造することができる。In such a semiconductor manufacturing apparatus, after the exhaust pump 22b is operated to maintain the interior of the main chamber 21b in a high vacuum environment in advance, the gate 23b is opened, and when the substrate 20a is received by the transfer device 26a, the gate 23b Is closed, the exhaust pump 22a is operated, and the mercury lamp 25 is turned on.
The water molecules adsorbed on the inner surface are photodissociated into hydrogen molecules and oxygen molecules by the coating film 24, and the water in the preliminary chamber 21a is quickly removed to the outside. In this way, the spare room 2
When the inside of 1a is maintained in a high vacuum environment, the gate 23a is opened, the substrate 20a is received by the transporter 26b from the transporter 26a, the gate 23a is closed, the evaporator 27 is operated, and the vapor deposition material is deposited on the substrate 20a. By depositing 20b, a semiconductor can be manufactured.
【００５７】つまり、従来の半導体製造装置では、基板
を本室に搬入するに際して、複数の予備室を経由させて
基板の環境を徐々に高真空化していくことにより、本室
への水分の侵入を防がなければならなかったのに対し、
上述した半導体製造装置では、予備室の内面に吸着して
いる水分子を外部へ迅速に除去することができるので、
予備室が単一で済むと共に、本室への基板の送給効率を
大幅に向上、すなわち、本室の稼働効率を大幅に向上さ
せることができるのである。In other words, in the conventional semiconductor manufacturing apparatus, when the substrate is carried into the main room, the environment of the substrate is gradually increased to a high vacuum through a plurality of spare rooms, so that moisture enters the main room. Had to be prevented,
In the semiconductor manufacturing apparatus described above, since water molecules adsorbed on the inner surface of the preliminary chamber can be quickly removed to the outside,
A single spare room is required, and the efficiency of substrate supply to the main room can be greatly improved, that is, the operation efficiency of the main room can be significantly improved.
【００５８】したがって、上述した半導体製造装置によ
れば、半導体の生産効率を大幅に向上させることができ
る。なお、本実施の形態では、蒸着器２７を用いたが、
これに代えて、スパッタ装置を適用してもよい。Therefore, according to the above-described semiconductor manufacturing apparatus, semiconductor production efficiency can be greatly improved. In this embodiment, the evaporator 27 is used.
Instead, a sputtering apparatus may be applied.
【００５９】［成膜装置］本発明による真空装置を利用
した成膜装置の実施の形態を図８を用いて説明する。な
お、図８は、その真空系の概略構造図である。[Film Forming Apparatus] An embodiment of a film forming apparatus using a vacuum apparatus according to the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 8 is a schematic structural view of the vacuum system.
【００６０】図８に示すように、真空容器３１には、排
気ポンプ３２が連結されている。真空容器３１の壁面に
は、当該真空容器３１の内部と外部とを気密に遮蔽でき
るように開閉可能なゲート３３が設けられている。真空
容器３１の内面は、光触媒材料からなるコーテイング膜
３４で被覆されている。真空容器３１の内部には、水銀
ランプ３５が設けられている。真空容器３１の内部に
は、ワークである基板３０ａに被膜を形成する被膜形成
手段である蒸着器３７が設けられている。As shown in FIG. 8, an exhaust pump 32 is connected to the vacuum vessel 31. A gate 33 that can be opened and closed is provided on the wall surface of the vacuum vessel 31 so that the inside and the outside of the vacuum vessel 31 can be airtightly shielded. The inner surface of the vacuum vessel 31 is covered with a coating film 34 made of a photocatalytic material. A mercury lamp 35 is provided inside the vacuum vessel 31. Inside the vacuum vessel 31, there is provided an evaporator 37 as a film forming means for forming a film on the substrate 30a as a work.
【００６１】このような成膜装置では、ゲート３３を開
け、真空容器３１内に基板３０ａをセットした後、ゲー
ト３３を閉め、排気ポンプ３２を作動すると共に、水銀
ランプ３５を点灯すると、前述した真空装置での説明と
同様に、真空容器３１の内面に吸着している水分子がコ
ーテイング膜３４で水素分子と酸素分子とに光解離さ
れ、真空容器３１内の水分が外部へ迅速に除去される。
このようにして真空容器３１内が高真空環境に保持され
たら、蒸着器３７を作動して、基板３０ａに蒸着材料３
０ｂを蒸着することにより、基板３０ａに被膜を形成す
る。In such a film forming apparatus, the gate 33 is opened, the substrate 30a is set in the vacuum vessel 31, the gate 33 is closed, the exhaust pump 32 is operated, and the mercury lamp 35 is turned on. As described in the vacuum apparatus, the water molecules adsorbed on the inner surface of the vacuum vessel 31 are photodissociated into hydrogen molecules and oxygen molecules by the coating film 34, and the water in the vacuum vessel 31 is quickly removed to the outside. You.
When the inside of the vacuum vessel 31 is maintained in a high vacuum environment in this manner, the evaporator 37 is operated to deposit the vapor deposition material 3 on the substrate 30a.
By depositing Ob, a film is formed on the substrate 30a.
【００６２】したがって、上述した成膜装置によれば、
真空容器３１内を短時間で簡単に高真空環境にすること
ができるので、成膜効率を大幅に向上させることができ
る。なお、本実施の形態では、蒸着器３７を用いたが、
これに代えて、スパッタ装置を適用してもよい。Therefore, according to the above-described film forming apparatus,
Since the inside of the vacuum vessel 31 can be easily brought into a high vacuum environment in a short time, the film forming efficiency can be greatly improved. In this embodiment, the evaporator 37 is used.
Instead, a sputtering apparatus may be applied.
【００６３】［重力波検出装置］本発明による真空装置
を利用した重力波検出装置の実施の形態を図９を用いて
説明する。なお、図９は、その真空系の概略構造図であ
る。[Gravity Wave Detecting Apparatus] An embodiment of a gravitational wave detecting apparatus using a vacuum apparatus according to the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 9 is a schematic structural view of the vacuum system.
【００６４】図９に示すように、真空容器４１には、排
気ポンプ４２が連結されている。真空容器４１の一端に
は、レーザ装置４３が取り付けられている。真空容器４
１には、図示しないミラーおよび光検波器が設けられて
いる。真空容器４１の内面は、光触媒材料からなる図示
しないコーテイング膜で被覆されている。真空容器４１
には、水銀ランプ４５が設けられている。なお、本実施
の形態では、レーザ装置４３、前記ミラー、前記光検波
器などによりレーザ干渉計を構成している。As shown in FIG. 9, an exhaust pump 42 is connected to the vacuum vessel 41. A laser device 43 is attached to one end of the vacuum container 41. Vacuum container 4
1, a mirror and a photodetector (not shown) are provided. The inner surface of the vacuum container 41 is covered with a coating film (not shown) made of a photocatalytic material. Vacuum container 41
Is provided with a mercury lamp 45. In the present embodiment, a laser interferometer is constituted by the laser device 43, the mirror, the optical detector, and the like.
【００６５】このような重力波検出装置では、排気ポン
プ４２を作動させると共に、水銀ランプ４５を点灯させ
ると、前述した真空装置での説明と同様に、真空容器４
１の内面に吸着している水分子を前記コーテイング膜が
水素分子と酸素分子とに光解離するので、真空容器４１
内の水分を迅速に外部へ除去することができる。In such a gravitational wave detecting device, when the evacuation pump 42 is operated and the mercury lamp 45 is turned on, the vacuum vessel 4 is turned on in the same manner as described in the vacuum device.
Since the coating film photodissociates the water molecules adsorbed on the inner surface of the vacuum chamber 1 into hydrogen molecules and oxygen molecules, the vacuum vessel 41
Moisture inside can be quickly removed to the outside.
【００６６】つまり、重力波検出装置は、真空容器内を
伝播するレーザ光が残留気体で減衰しないように高真空
環境が要求されるものの、真空容器の歪みが許されず、
熱歪みを伴うベーキング処理ができないため、従来の重
力波検出装置では、ベーキング処理を施すことなく大型
の真空容器を高真空環境化しなければならず、多大な時
間を要していたのに対し、上述した重力波検出装置で
は、ベーキング処理を施すことなく真空容器４１の内面
に吸着している水分子を外部へ迅速に除去することがで
きるので、真空容器４１内を短時間で簡単に高真空環境
化することができるのである。In other words, the gravitational wave detector requires a high vacuum environment so that the laser beam propagating in the vacuum vessel is not attenuated by the residual gas, but the distortion of the vacuum vessel is not allowed.
Since baking with thermal distortion cannot be performed, conventional gravitational wave detectors require a large vacuum vessel to be placed in a high-vacuum environment without performing baking. In the gravitational wave detection device described above, water molecules adsorbed on the inner surface of the vacuum vessel 41 can be quickly removed to the outside without performing a baking process. It can be environmentalized.
【００６７】したがって、修理や立ち上げの際に真空容
器４１が大気開放された状態であっても、真空容器４１
内を短時間で簡単に高真空環境化することができるの
で、立ち上がりにかかる時間やコストを大幅に省くこと
ができる。Therefore, even when the vacuum vessel 41 is open to the atmosphere at the time of repair or start-up,
Since a high vacuum environment can be easily established in a short time, the time and cost required for startup can be greatly reduced.
【００６８】なお、本発明による真空装置を利用するこ
とができる装置には、その他、Ｘ線発生装置や分析装置
などが挙げられるが、上述した実施の形態で説明した各
種装置を含めてこれらのような装置に限らず、真空容器
内を高真空環境とする必要がある装置であれば、上述し
た実施の形態と同様に適用することにより、ベーキング
処理法や乾燥ガス法を適用することなく短時間で簡単に
高真空環境を得ることができる。It should be noted that other devices that can utilize the vacuum device according to the present invention include an X-ray generator and an analyzer, and these include the various devices described in the above embodiments. Not limited to such an apparatus, any apparatus that requires a high-vacuum environment inside the vacuum container can be applied in the same manner as in the above-described embodiment, and can be shortened without applying a baking method or a dry gas method. A high vacuum environment can be easily obtained in a short time.
【００６９】[0069]
【発明の効果】本発明の真空装置、この真空装置を使用
した排気方法および前記真空装置を利用した装置によれ
ば、真空容器の内面に吸着している水分を迅速且つ容易
に外部へ除去することができるので、短時間で簡単に高
真空環境が得られるようになる。According to the vacuum apparatus of the present invention, the evacuation method using the vacuum apparatus, and the apparatus using the vacuum apparatus, the moisture adsorbed on the inner surface of the vacuum vessel is quickly and easily removed to the outside. Therefore, a high vacuum environment can be easily obtained in a short time.
【図１】本発明による真空装置の第一番目の実施の形態
の概略構造図である。FIG. 1 is a schematic structural view of a first embodiment of a vacuum device according to the present invention.
【図２】本発明による真空装置の第二番目の実施の形態
の概略構造図である。FIG. 2 is a schematic structural diagram of a second embodiment of the vacuum device according to the present invention.
【図３】本発明による真空装置の第三番目の実施の形態
の概略構造図である。FIG. 3 is a schematic structural view of a third embodiment of the vacuum apparatus according to the present invention.
【図４】確認実験１における真空容器内の圧力の経時変
化を表すグラフである。FIG. 4 is a graph showing a change with time of a pressure in a vacuum vessel in a confirmation experiment 1.
【図５】確認実験２における真空容器内の圧力の経時変
化を表すグラフである。FIG. 5 is a graph showing a change over time in a pressure in a vacuum vessel in a confirmation experiment 2.
【図６】本発明による真空装置を利用した荷電粒子加速
装置の実施の形態の真空系の概略構造図である。FIG. 6 is a schematic structural diagram of a vacuum system of an embodiment of a charged particle accelerator using a vacuum device according to the present invention.
【図７】本発明による真空装置を利用した半導体製造装
置の実施の形態の真空系の概略構造図である。FIG. 7 is a schematic structural diagram of a vacuum system of an embodiment of a semiconductor manufacturing apparatus using a vacuum device according to the present invention.
【図８】本発明による真空装置を利用した成膜装置の実
施の形態の真空系の概略構造図である。FIG. 8 is a schematic structural diagram of a vacuum system of an embodiment of a film forming apparatus using a vacuum device according to the present invention.
【図９】本発明による真空装置を利用した重力波検出装
置の実施の形態の真空系の概略構造図である。FIG. 9 is a schematic structural diagram of a vacuum system of an embodiment of a gravitational wave detecting device using a vacuum device according to the present invention.
１ 真空容器 ２ 排気ポンプ ４ コーテイング膜 ５ 水銀ランプ ７ 透過窓 ８ 収納容器 １１ 真空容器 １１ａ 連結部 １１ｂ 加速空胴 １１ｃ 偏向磁石 １２ 排気ポンプ １５ 水銀ランプ ２０ａ 基板 ２０ｂ 蒸着材料 ２１ 真空容器 ２１ａ 予備室 ２１ｂ 本室 ２２ａ，２２ｂ 排気ポンプ ２３ａ，２３ｂ ゲート ２４ コーテイング膜 ２５ 水銀ランプ ２６ａ，２６ｂ 搬送器 ２７ 蒸着器 ３０ａ 基板 ３０ｂ 蒸着材料 ３１ 真空容器 ３２ 排気ポンプ ３３ ゲート ３４ コーテイング膜 ３５ 水銀ランプ ３７ 蒸着器 ４１ 真空容器 ４２ 排気ポンプ ４３ レーザ装置 ４５ 水銀ランプ DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Vacuum container 2 Exhaust pump 4 Coating film 5 Mercury lamp 7 Transmissive window 8 Storage container 11 Vacuum container 11a Connecting part 11b Acceleration cavity 11c Deflection magnet 12 Exhaust pump 15 Mercury lamp 20a Substrate 20b Deposition material 21 Vacuum container 21a Preparatory chamber 21b Chambers 22a, 22b Exhaust pumps 23a, 23b Gate 24 Coating film 25 Mercury lamp 26a, 26b Transporter 27 Evaporator 30a Substrate 30b Evaporation material 31 Vacuum container 32 Evacuation pump 33 Gate 34 Coating film 35 Mercury lamp 37 Evaporator 41 Vacuum container 42 Exhaust pump 43 Laser unit 45 Mercury lamp
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｂ０１Ｊ 35/02 Ｂ０１Ｊ 35/02 Ｊ Ｃ２３Ｃ 14/00 Ｃ２３Ｃ 14/00 Ｂ 16/00 16/00 Ｇ０１Ｖ 7/00 Ｇ０１Ｖ 7/00 Ｇ２１Ｋ 1/00 Ｇ２１Ｋ 1/00 Ａ Ｈ０１Ｌ 21/203 Ｈ０１Ｌ 21/203 Ｍ 21/31 21/31 Ａ (72)発明者 利根川 裕 神奈川県横浜市金沢区幸浦一丁目８番地 １三菱重工業株式会社 基盤技術研究所 内 (72)発明者 伊藤 岳彦 神奈川県横浜市金沢区幸浦一丁目８番地 １三菱重工業株式会社 基盤技術研究所 内 (72)発明者 岩村 康弘 神奈川県横浜市金沢区幸浦一丁目８番地 １三菱重工業株式会社 基盤技術研究所 内 (56)参考文献 特開 平６−99051（ＪＰ，Ａ) 特開 平８−99020（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−292099（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) B01J 3/00 B01J 23/02 B01J 23/04 B01J 23/08 B01J 23/20 B01J 35/02 C23C 14/00 C23C 16/00 G01V 7/00 G21K 1/00 H01L 21/203 H01L 21/31 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code FI B01J 35/02 B01J 35/02 J C23C 14/00 C23C 14/00 B 16/00 16/00 G01V 7/00 G01V 7/00 G21K 1/00 G21K 1/00 A H01L 21/203 H01L 21/203 M 21/31 21/31 A (72) Inventor Yu Tonegawa 1-8 Koura, Kanazawa-ku, Yokohama-shi, Kanagawa 1 Mitsubishi Heavy Industries, Ltd. Within the research institute (72) Inventor Takehiko Ito 1-8-1 Koura, Kanazawa-ku, Yokohama-shi, Kanagawa Prefecture Within the Research Institute of Fundamental Technology, Mitsubishi Heavy Industries, Ltd. (56) References JP-A-6-99051 (JP, A) JP-A-8-99020 (JP, A) JP-A-63-292099 (JP) A) (58) investigated the field (Int.Cl. 6, DB name) B01J 3/00 B01J 23/02 B01J 23/04 B01J 23/08 B01J 23/20 B01J 35/02 C23C 14/00 C23C 16/00 G01V 7/00 G21K 1/00 H01L 21/203 H01L 21/31
Claims (12)
えてなる真空装置であって、水分子を光解離させる光触
媒材料が前記真空容器の内面に被覆されていることを特
徴とする真空装置。1. A vacuum apparatus comprising a vacuum vessel for maintaining the inside in a vacuum environment, wherein a photocatalytic material for photodissociating water molecules is coated on an inner surface of the vacuum vessel. .
記光触媒材料がＴｉＯ2 , ＳｒＴｉＯ3 , ＺｒＯ2 , Ｔ
ａ2 Ｏ5 , Ｋ4 Ｎｂ6 Ｏ17 ,Ｎａ2 Ｔｉ6 Ｏ 13 ,Ｋ2 Ｔ
ｉ6 Ｏ13 ,ＢａＴｉ4 Ｏ9 のうちの一種類以上を含有し
ていることを特徴とする真空装置。2. The vacuum device according to claim 1, wherein
The photocatalyst material is TiO2,SrTiO3,ZrO2,T
aTwoOFive ,KFourNb6O17,NaTwoTi6O 13 ,KTwoT
i6O13 ,BaTiFourO9Contains one or more of
A vacuum apparatus characterized in that:
記真空容器の内面にチタイソプロポキシド溶液が塗布さ
れた後、当該溶液が加水分解されることにより、当該真
空容器の内面が前記光触媒材料で被覆されていることを
特徴とする真空装置。3. The vacuum apparatus according to claim 1, wherein after a titaisopropoxide solution is applied to the inner surface of the vacuum container, the solution is hydrolyzed, so that the inner surface of the vacuum container is A vacuum device, wherein the vacuum device is coated with the photocatalytic material.
装置であって、前記光触媒材料による水分子の光解離反
応を促進させる活性材料が前記光触媒材料に担持されて
いることを特徴とする真空装置。4. The vacuum apparatus according to claim 1, wherein an active material for promoting a photodissociation reaction of water molecules by said photocatalytic material is carried on said photocatalytic material. Vacuum equipment.
記活性材料がＰｔ，ＲｕＯ2 のうちの一種類以上を含有
していることを特徴とする真空装置。5. The vacuum apparatus according to claim 4, wherein the active material contains at least one of Pt and RuO 2 .
装置であって、前記光触媒材料で水分子を光解離させる
光線を前記真空容器の内面へ照射できる光線照射手段を
備えたことを特徴とする真空装置。6. The vacuum apparatus according to claim 1, further comprising a light beam irradiating means capable of irradiating a light beam for photodissociating water molecules with the photocatalyst material to an inner surface of the vacuum vessel. Characteristic vacuum equipment.
記光線照射手段が水銀ランプ、重水素ランプ、Ｄｅｅｐ
ＵＶランプ、キセノンランプ、メタルハライドラン
プ、ブラックライトのうちの少なくとも一つであること
を特徴とする真空装置。7. The vacuum apparatus according to claim 6, wherein the light irradiating means is a mercury lamp, a deuterium lamp, or a deep lamp.
A vacuum apparatus comprising at least one of a UV lamp, a xenon lamp, a metal halide lamp, and a black light.
用した排気方法であって、前記真空容器の内面へ前記光
線照射手段から前記光線を間欠的または連続１０照射し
ながら当該真空容器の内部を排気することを特徴とする
排気方法。8. An evacuation method using the vacuum apparatus according to claim 6 or 7, wherein the light beam irradiation means intermittently or continuously irradiates the inner surface of the vacuum container with the light beam 10 times. An exhaust method characterized by exhausting the inside.
装置を利用した荷電粒子加速装置であって、前記真空容
器に連結され、当該真空容器内に荷電粒子を入射する荷
電粒子入射手段を備えてなることを特徴とする荷電粒子
加速装置。9. A charged particle accelerator using the vacuum apparatus according to claim 1, wherein said charged particle accelerator is connected to said vacuum vessel and injects charged particles into said vacuum vessel. A charged particle accelerator, comprising:
空装置を利用した半導体製造装置であって、 前記真空容器の内部に設けられ、基板を搬送する基板搬
送手段と前記真空容器の内部と外部とを気密に遮蔽でき
るように当該真空容器の壁面に開閉可能に設けられ、前
記基板の通過を可能にするゲートとを備えてなることを
特徴とする半導体製造装置。10. A semiconductor manufacturing apparatus using the vacuum apparatus according to claim 1, wherein a substrate transfer means provided inside the vacuum vessel for transporting a substrate and an inside of the vacuum vessel. A semiconductor manufacturing apparatus comprising: a gate provided on the wall surface of the vacuum vessel so as to be able to open and close so as to hermetically shield the outside and the outside; and a gate allowing passage of the substrate.
空装置を利用した成膜装置であって、前記真空容器の内
部に設けられ、ワークに被膜を形成する被膜形成手段を
備えてなることを特徴とする成膜装置。11. A film forming apparatus using the vacuum device according to claim 1, comprising a film forming means provided inside the vacuum vessel and forming a film on a work. A film forming apparatus characterized by the above-mentioned.
空装置を利用した重力波検出装置であって、前記真空容
器に設けられ、重力波を検出するレーザ干渉計を備えて
なることを特徴とする重力波検出装置。12. A gravitational wave detecting device using the vacuum device according to claim 1, further comprising a laser interferometer provided in the vacuum vessel and detecting a gravitational wave. Characteristic gravitational wave detector.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8129497A JP2934601B2 (en) | 1996-05-24 | 1996-05-24 | Vacuum device, evacuation method using the vacuum device, and device using the vacuum device |
Applications Claiming Priority (1)
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| JP8129497A JP2934601B2 (en) | 1996-05-24 | 1996-05-24 | Vacuum device, evacuation method using the vacuum device, and device using the vacuum device |
Publications (2)
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| JPH09313919A JPH09313919A (en) | 1997-12-09 |
| JP2934601B2 true JP2934601B2 (en) | 1999-08-16 |
Family
ID=15010952
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| JP8129497A Expired - Lifetime JP2934601B2 (en) | 1996-05-24 | 1996-05-24 | Vacuum device, evacuation method using the vacuum device, and device using the vacuum device |
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| JP (1) | JP2934601B2 (en) |
Families Citing this family (3)
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