JP2912039B2 - 光制御デバイス - Google Patents

光制御デバイス

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JP2912039B2
JP2912039B2 JP3043145A JP4314591A JP2912039B2 JP 2912039 B2 JP2912039 B2 JP 2912039B2 JP 3043145 A JP3043145 A JP 3043145A JP 4314591 A JP4314591 A JP 4314591A JP 2912039 B2 JP2912039 B2 JP 2912039B2
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豊 賣野
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    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/29Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the position or the direction of light beams, i.e. deflection
    • G02F1/31Digital deflection, i.e. optical switching
    • G02F1/313Digital deflection, i.e. optical switching in an optical waveguide structure
    • G02F1/3132Digital deflection, i.e. optical switching in an optical waveguide structure of directional coupler type

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は光波の変調、光路切り換
えなどを行う光制御デバイスに関し、特に基板中に設け
た光導波路を用いて制御を行う導波路型の光制御デバイ
スに関する。
【0002】
【従来の技術】光通信システムの実用化が進むにつれ、
さらに大容量や多機能を持つ高度のシステムが求められ
ており、より高度の光信号の発生や光伝送路の切り替
え、交換などの新たな機能の付加が必要とされている。
現在の実用システムでは光信号は直接半導体レーザや発
光ダイオードの注入電流を変調することによって得られ
ているが、直接変調では緩和振動などの効果のため10
GHz前後以上の高速変調が難しいこと、波長変動が発
生するためコヒーレント光伝送方式には適用が難しいな
どの欠点がある。これを解決する手段としては、外部変
調器を使用する方法があり、特に基板中に形成した光導
波路により構成した導波路型の光変調器は、小型、高効
率、高速という特長がある。一方、光伝送路の切り替え
やネットワークの交換機能を得る手段としては光スイッ
チが使用される。現在実用されている光スイッチは、プ
リズム、ミラー、ファイバーなどを機械的に移動させる
ものであり、低速であること、信頼性が不十分であるこ
と、単体での寸法が大きくマトリックス化に不適である
こと等の欠点がある。これを解決する手段として開発が
進められているものはやはり光導波路を用いた導波路型
の光スイッチであり、高速、多素子の集積化が可能、高
信頼等の特長がある。特にニオブ酸リチウム(LiNb
3 )結晶等の強誘電体材料を用いたものは、光吸収が
小さく低損失であること、大きな電気光学効果を有して
いるため高効率である等の特長があり、従来からも方向
性結合器型光変調器・スイッチ、全反射型光スイッチ、
マッハツエンダ型光変調器等の種々の方式の光制御素子
が報告されている。
【0003】図4に従来の光制御デバイスの一例として
方向性結合器型光スイッチの平面図(a)及び断面図
(b)を示す。図4(a)においてZ軸に垂直に切り出
したニオブ酸リチウム結晶基板1の上にチタンを拡散し
て屈折率を基板よりも大きくして形成した帯状の光導波
路2及び3が形成されており、光導波路2及び3は基板
の中央部で互いに数μm程度まで近接し、方向性結合器
4を形成している。また、方向性結合器4を構成する光
導波路上には電極による光吸収を防ぐためのバッファ層
6を介して制御電極5が形成されている。図4(b)は
方向性結合器4の部分の光導波路2、3に垂直な断面図
を示している。
【0004】図4において、光導波路2に入射した入射
光7は方向性結合器4の部分を伝搬するにしたがって近
接した光導波路3へ徐々に光エネルギーが移り、方向性
結合器4を通過後は光導波路3にほぼ100%エネルギ
ーが移って出射光8となる。一方、制御電極5に電圧を
印加した場合、電気光学効果により制御電極下の光導波
路の屈折率が変化し、光導波路2と3を伝搬する導波モ
ードの間に位相速度の不整合が生じ、両者の間の結合状
態は変化する。
【0005】制御電圧と光出力の関係を図5に示す。図
中、曲線12は出射光8の光出力を示し、曲線13は出
射光9の光出力を示す。制御電圧が上昇するにしたがっ
て、光導波路2から3への光エネルギーの移行量は減少
し、ある電圧値Vsでは、入射光7は方向性結合器4を
通過後に光エネルギーの100%が光導波路2に戻って
しまう状態になる。すなわち、制御電極5への制御電圧
の有無によって、入射光7は光導波路2からの出射光9
または光導波路3からの出射光8となる。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、図4に
示すような従来の光スイッチでは、DC電圧印加により
結晶中の電荷が結晶や膜の界面に局部的に蓄積されて光
波に作用する電界強度が変化する現象即ちDCドリフト
が生じやすく、デバイスの安定性に課題があった。
【0007】本発明の目的は、上述の従来の光制御デバ
イスの課題を除き、特性が長期に渡って安定な光制御デ
バイスを提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明による光制御デバ
イスは、電気光学効果を有する誘電体結晶基板上に、互
いに近接した2本の光導波路とその近傍に設置された制
御用電極からなる方向性結合器型光制御デバイスにお
いて、上記方向性結合器は、制御用電極がそれぞれの光
導波路に対して分割されることなく設けられた一様Δβ
型であり、上記2本の導波路の間に該光制御デバイス
の制御に必要な伝搬定数差の半分に相当する伝搬定数の
差が設けられていることを特徴とする光制御デバイスで
ある。
【0009】
【作用】本発明の光制御デバイスは、2本の導波路の間
に該光制御デバイスの制御に必要な伝搬定数差の半分に
相当する伝搬定数の差が予め設けられている。例えば光
スイッチの場合、どちらかの光導波路からの出射光の強
度を最小から最大または最大から最小にするのに必要な
電圧即ちスイッチング電圧Vsの半分に相当する伝搬定
数差が設けられている。従って、本発明による光スイッ
チの制御電圧と光出力8、9の関係は図3の曲線10、
11に示す様になり、光出力を最大から最小または最小
から最大にするには、制御電圧を−Vs/2からVs/
2またはVs/2から−Vs/2に変化させればよい。
一方、従来の光スイッチの制御電圧と光出力の関係は図
5の様になり、光出力を最大から最小または最小から最
大にするには、制御電圧を0からVsまたはVsから0
に変化させる必要がある。スイッチング電圧のデューテ
ィ比が0.5の場合、本発明による光スイッチは制御電
圧のDC成分が零になるのでDCドリフトが発生しない
が、従来の光スイッチではDC成分がVs/2となりD
Cドリフトが発生しやすくなる。またスイッチング電圧
のデューティ比が0.5でない場合でも、デューティ比
が0.5に近ければ大幅にDC成分を減少させることが
できるので、DCドリフトを減少させることができる。
【0010】以上のことより、本発明の光制御デバイス
は、従来に比べて安定な光制御デバイスが得られる。
【0011】
【実施例】図1は本発明による光制御デバイスの一実施
例である方向性結合器型光スイッチの平面図(a)及び
断面図(b)である。図4の例と同様にZ板ニオブ酸リ
チウム結晶基板1の上にチタンを900〜1100℃程
度で数時間熱拡散して形成された3〜10μm程度の光
導波路2及び3が形成されており、基板の中央部で両光
導波路は互いに数μmまで近接して方向性結合器4を構
成している。その上にバッファ層6を介して制御電極5
が形成されている。バッファ層6は光の偏光方向や電極
材料によっては必ずしも必要が無い場合もある。2本の
導波路の間には該光制御デバイスの制御に必要な伝搬定
数差の半分に相当する伝搬定数の差が予め設けられてい
る。2本の光導波路の伝搬定数の間に差を設ける方法に
はいくつかの方法が考えられるが、図1の例では、2つ
の導波路の幅をわずかに変えることにより、2つの導波
路の伝搬定数の間に差を設けている。また、2本の導波
路の屈折率にわずかな差を設けても同じ効果を得ること
ができる。2つの導波路の屈折率に差を設けることは2
つの導波路のチタンの膜厚を変えることにより実現でき
る。
【0012】図2は本発明の別の実施例の方向性結合器
光スイッチである。この例では、2つの導波路上のバッ
ファ層の厚さをわずかに変えることにより、2つの導波
路の伝搬定数の間に差を設けている。また2つの導波路
上のバッファ層の屈折率を変えることによっても同じ効
果を得ることができる。
【0013】本実施例の光制御デバイスは、どちらかの
光導波路からの出射光の強度を最小から最大または最大
から最小にするのに必要な電圧即ちスイッチング電圧V
sの半分に相当する伝搬定数差が設けられている。従っ
て、本実施例による光スイッチの制御電圧と光出力の関
係は図3の様になり、光出力を最大から最小または最小
から最大にするには、制御電圧を−Vs/2からVs/
2またはVs/2から−Vs/2に変化させればよい。
スイッチング電圧のデューティ比が0.5の場合、本実
施例による光スイッチは制御電圧のDC成分が零になる
のでDCドリフトが発生しない。またスイッチング電圧
のデューティ比が0.5でない場合でも、デューティ比
が0.5に近ければ大幅にDC成分を減少せることがで
きるので、DCドリフトを減少させることができる。
【0014】
【発明の効果】以上述べたように、本発明の光制御デバ
イスでは、従来の光制御デバイスに比べ、特性の安定し
た光制御デバイスが得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】(a)本発明による光制御デバイスの一例を示
す平面図である。 (b)本発明による光制御デバイスの一例を示す断面図
である。
【図2】(a)本発明による光制御デバイスの一例を示
す平面図である。 (b)本発明による光制御デバイスの一例を示す断面図
である。
【図3】本発明による光制御デバイスの制御電圧と光出
力の関係を示す説明図である。
【図4】(a)従来例による光制御デバイスの一例を示
す平面図である。 (b)従来例による光制御デバイスの一例を示す断面図
である。
【図5】従来例による光制御デバイスの制御電圧と光出
力の関係を示す説明図である。
【符号の説明】
1 ニオブ酸リチウム結晶基板 2,3 光導波路 4 方向性結合器 5 制御電極 6 バッファ層 7 入射光 8,9 出射光 10 出射光8の光出力を示す曲線 11 出射光9の光出力を示す曲線 12 出射光8の光出力を示す曲線 13 出射光9の光出力を示す曲線

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 電気光学効果を有する誘電体結晶基板上
    に、互いに近接した2本の光導波路とその近傍に設置さ
    れた制御用電極からなる方向性結合器型光制御デバイ
    スにおいて、上記方向性結合器は、制御用電極がそれぞれの光導波路
    に対して分割されることなく設けられた一様Δβ型であ
    り、 上記2本の導波路の間に該光制御デバイスの制御に必
    要な伝搬定数差の半分に相当する伝搬定数の差が設けら
    れていることを特徴とする光制御デバイス。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPH0833561B2 (ja) * 1984-06-29 1996-03-29 日本電気株式会社 光スイッチドライブ方法
JPH0785152B2 (ja) * 1986-06-20 1995-09-13 富士通株式会社 導波路光スイツチ
JPH01134348A (ja) * 1987-11-19 1989-05-26 Tdk Corp 光導波路スイッチの駆動方法

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