JP2906285B2 - Optical sampling device - Google Patents

Optical sampling device

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JP2906285B2 JP2274731A JP27473190A JP2906285B2 JP 2906285 B2 JP2906285 B2 JP 2906285B2 JP 2274731 A JP2274731 A JP 2274731A JP 27473190 A JP27473190 A JP 27473190A JP 2906285 B2 JP2906285 B2 JP 2906285B2
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【発明の詳細な説明】 <産業上の利用分野> この発明は高速の電気信号を測定する装置に関し、特
にS/Nを改善した光サンプリング装置に関するものであ
る。
Description: BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a device for measuring a high-speed electric signal, and more particularly to an optical sampling device with improved S / N.

<従来技術> 最近の高速電子デバイスは高速なものが多く開発され
ている。例えば、HEMT(High Electron Mobility Trans
istor)ではゲート遅延時間が約10ps程度であり、また
光通信などに用いられる半導体レーザーの直接変調帯域
も数十GHzに達している。このような高速電子デバイス
による高速現象の測定は、通常サンプリングオシロスコ
ープが用いられている。第4図にサンプリングオシロス
コープの原理を示す。すなわち、(A)のように連続す
るN個の被測定信号に対して、ゲート時間を少しずつず
らしながら測定して行き、その結果を合成して(B)の
ような測定値を得る。この技術では、サンプリング幅が
測定結果の分解能になる。
<Prior Art> Recently, many high-speed electronic devices have been developed. For example, HEMT (High Electron Mobility Trans
istor), the gate delay time is about 10 ps, and the direct modulation band of a semiconductor laser used for optical communication and the like has reached several tens of GHz. For the measurement of high-speed phenomena by such a high-speed electronic device, a sampling oscilloscope is usually used. FIG. 4 shows the principle of the sampling oscilloscope. That is, the measurement is performed while gradually shifting the gate time for N consecutive signals to be measured as in (A), and the results are combined to obtain a measurement value as in (B). In this technique, the sampling width becomes the resolution of the measurement result.

しかしながら、第4図のサンプリングオシロスコープ
では、サンプリング幅はステップリカバリダイオードの
速度に制限され、25ps程度が限界であり、光パルスを用
いる光オシロスコープでも10ps程度が限界であるという
速度上の欠点があった。
However, in the sampling oscilloscope of FIG. 4, the sampling width is limited by the speed of the step recovery diode, and is limited to about 25 ps, and even an optical oscilloscope using optical pulses has a limitation of about 10 ps. .

一方、GaAs基板は電気光学効果を有するので、電界の
大きさに応じてその戻り光の偏波面が変化する。この現
象を利用して、光を用いた測定装置が開発されている。
第5図にこのような光を用いた測定装置の構成を示す。
YAGレーザー1の出力光はパルス圧縮部2でps程度のパ
ルス幅に圧縮され、偏光子3、波長板4を介してGaAs集
積回路5に入力される。また、その戻り光は波長板4を
通り、偏光子3で反射されて受光素子6でその強度が測
定され、表示部8で表示される。駆動回路7でGaAs集積
回路5が発生する電界を変えるとその戻り光の偏光面が
変化し、偏光子3によって受光素子6に入射する光の強
度が変化する。駆動回路7により、YAGレーザー1の出
力光のタイミングとGaAs集積回路5を駆動するタイミン
グを同期させ、かつその位相差を少しずつずらして行く
ことによって、第4図で説明したサンプリング技術と同
じ原理でGaAs集積回路5の内部電圧波形を測定する事が
出来る。この装置によればpsオーダーのサンプリング幅
で測定が可能である。
On the other hand, since the GaAs substrate has an electro-optical effect, the plane of polarization of the return light changes according to the magnitude of the electric field. Utilizing this phenomenon, a measuring device using light has been developed.
FIG. 5 shows the configuration of a measuring apparatus using such light.
The output light of the YAG laser 1 is compressed to a pulse width of about ps by the pulse compression unit 2 and is input to the GaAs integrated circuit 5 via the polarizer 3 and the wavelength plate 4. The return light passes through the wave plate 4 and is reflected by the polarizer 3. The intensity of the returned light is measured by the light receiving element 6 and displayed on the display unit 8. When the electric field generated by the GaAs integrated circuit 5 is changed by the drive circuit 7, the plane of polarization of the returned light changes, and the intensity of light incident on the light receiving element 6 by the polarizer 3 changes. The drive circuit 7 synchronizes the timing of the output light of the YAG laser 1 with the timing of driving the GaAs integrated circuit 5 and shifts the phase difference little by little, thereby achieving the same principle as the sampling technique described in FIG. Thus, the internal voltage waveform of the GaAs integrated circuit 5 can be measured. According to this device, measurement can be performed with a sampling width of the ps order.

<発明が解決すべき課題> しかしながら、第5図の装置ではFlashランプ励起に
よるNd:YAGレーザが用いられており、これはサイズ(全
長約2m)、パワー消費、コストおよび帯域の各点で問題
があり、改善が望まれている。そこで、現在、半導体レ
ーザや、半導体レーザ励起による固体レーザ等で置き変
えが考えられてるが、光パワーが小さいため、S/Nが悪
いという課題がある。
<Problems to be solved by the invention> However, the apparatus shown in FIG. 5 uses an Nd: YAG laser pumped by a flash lamp, which has problems in size (total length of about 2 m), power consumption, cost, and bandwidth. There is a need for improvement. Therefore, replacement with a semiconductor laser or a solid-state laser pumped by a semiconductor laser is currently considered, but there is a problem that S / N is poor due to low optical power.

<発明の目的> この発明は上記の課題を解決するためになされたもの
で、半導体レーザ等を用いて拘束の測定信号を高いS/N
比で測定できる光サンプリング装置を実現することを目
的とする。
<Object of the Invention> The present invention has been made in order to solve the above-mentioned problems, and has been disclosed in the art.
It is an object of the present invention to realize an optical sampling device capable of measuring a ratio.

<課題を解決する為の手段> 本発明は光パルスの偏波面の状態を被測定回路の動作
電圧に応じて変化させ、この偏波面の変化を検出して被
測定回路の電圧波形を測定する光サンプリング装置に係
るもので、その特徴とするところは第1の光周波数を持
つ光パルスを出力する光パルス発生手段と、この光パル
ス発生手段の出力光を入射して被測定回路の動作電圧に
対応する電界により偏波面を変化させる電気光学素子
と、第2の光周波数を持つ連続光を出力するレーザ光源
と、前記電気光学素子からの戻り光と前記レーザ光源の
出力光とを合波する合波手段と、この合波手段の出力光
を受光する受光素子と、この受光素子の出力に基づいて
被測定回路の電圧波形を演算する演算回路を備え、演算
回路の出力に基づいて被測定回路の電圧波形を測定する
ように構成した点にある。
<Means for Solving the Problems> According to the present invention, the state of the plane of polarization of an optical pulse is changed in accordance with the operating voltage of the circuit under test, and the change in the plane of polarization is detected to measure the voltage waveform of the circuit under test. The present invention relates to an optical sampling device, which is characterized by an optical pulse generating means for outputting an optical pulse having a first optical frequency, and an operating voltage of a circuit to be measured by receiving the output light of the optical pulse generating means. An electro-optical element that changes the plane of polarization by an electric field corresponding to the laser light source, a laser light source that outputs continuous light having a second optical frequency, and multiplexes return light from the electro-optical element and output light of the laser light source. Multiplexing means, a light receiving element for receiving the output light of the multiplexing means, and an arithmetic circuit for calculating the voltage waveform of the circuit to be measured based on the output of the light receiving element. Measures the voltage waveform of the measurement circuit In that it is configured to

<作用> 第1の光周波数を持つ光パルスを被測定回路の電界が
加わった電気光学素子において偏波面を回転し、第2の
光周波数を有する局部発振光とともに受光素子に入射し
て光周波数ヘテロダイン検波を行うことにより、等価的
に信号を増幅し、被測定回路の内部電圧波形を高いS/N
比で測定することができる。
<Operation> An optical pulse having a first optical frequency rotates a polarization plane in an electro-optical element to which an electric field of a circuit to be measured is applied, and is incident on a light receiving element together with local oscillation light having a second optical frequency. Performing heterodyne detection amplifies the signal equivalently and raises the internal voltage waveform of the circuit under test to a high S / N ratio.
It can be measured by ratio.

<実施例> 第1図に本発明に係る光サンプリング装置の一実施例
を示す。
<Embodiment> FIG. 1 shows an embodiment of an optical sampling apparatus according to the present invention.

第1図において、10は第1の光周波数fLD1を持った光
パルスを出力する光パルス発生手段でコヒーレンシーの
高い半導体レーザからなるもの、11は半導体レーザ10の
出力光を通過し戻り光を阻止する光アイソレータ、12は
光アイソレータから出力された光を透過する偏光子、13
は偏光子13の出力光の偏波面を調整する波長板、14は波
長板13から出力された光をGaAs集積回路からなる被測定
回路15に集光するレンズである。16は半導体レーザ10を
駆動する電気パルスを発生するパルス発生回路、17は光
パルスの繰返し周波数fpの正弦波信号でパルス発生回路
16を駆動する高周波発振器、18は発振器17と同期した周
波数から微小周波数Δfずれた周波数で被測定回路15を
駆動する駆動回路、20は局部発振光源を構成し、第2の
光周波数fLD2を持ち、コヒーレンシーの高い連続光を出
力するレーザ光源、21は半導体レーザ20の出力光を通過
し戻り光を阻止する光アイソレータ、22は被測定回路15
からの反射光をレンズ14,波長板13および偏光子12を介
して光アイソレータ21の出力光とともに合波する合波手
段を構成するハーフミラー、23はハーフミラー22の出力
光が入射する受光素子、24は受光素子23の電気出力に基
づいて被測定回路15の内部電圧波形を演算表示する演算
表示回路である。
In FIG. 1, reference numeral 10 denotes an optical pulse generating means for outputting an optical pulse having a first optical frequency f LD1 comprising a semiconductor laser having a high coherency, and 11 denotes a light passing through the output light of the semiconductor laser 10 and returning light. 12 is an optical isolator that blocks light, 12 is a polarizer that transmits light output from the optical isolator, 13
Is a wavelength plate that adjusts the plane of polarization of the output light of the polarizer 13, and 14 is a lens that focuses the light output from the wavelength plate 13 on a circuit under test 15 made of a GaAs integrated circuit. 16 pulse generating circuit for generating electrical pulses for driving the semiconductor laser 10, pulse generating circuit with a sinusoidal signal of the repetition frequency f p of the light pulse 17
16 is a high-frequency oscillator for driving 16, 18 is a driving circuit for driving the circuit under test 15 at a frequency shifted by a small frequency Δf from the frequency synchronized with the oscillator 17, 20 is a local oscillation light source, and is a second optical frequency f LD2 . A laser light source that outputs continuous light with high coherency, 21 is an optical isolator that passes output light of the semiconductor laser 20 and blocks return light, and 22 is a circuit under test 15
A half mirror constituting a multiplexing means for multiplexing the reflected light from the lens and the output light of the optical isolator 21 via the lens 14, the wavelength plate 13 and the polarizer 12, and 23 is a light receiving element on which the output light of the half mirror 22 is incident , 24 are calculation display circuits for calculating and displaying the internal voltage waveform of the circuit under test 15 based on the electrical output of the light receiving element 23.

上記構成の装置の動作を次に説明する。 Next, the operation of the apparatus having the above configuration will be described.

パルス発生回路16の電気パルス出力により、半導体レ
ーザ10は狭光パルスを発生する。この光パルスは光アイ
ソレータ11,偏光子13,波長板13を透過し、レンズ14によ
り被測定回路15上に焦点を結ぶ。この入射光は、第2図
に示すように、被測定回路15の裏面から入射してGaAs基
板31を透過し、被測定回路15の表面にあるICパターン32
の裏面で反射され、再びGaAs基板31を逆向きに透過して
裏面から出射される。この反射光の偏波面は、被測定回
路15のGaAs基板が電気光学効果を持つため、入射光パル
スの偏波面に対し、ICパターン上の電気信号強度に対応
して発生する電界強度に応じて変化する。この反射光パ
ルスは、レンズ14,波長板13を逆向きに透過した後、偏
光子12において反射する際にその偏波面に応じて光強度
変調を受ける。偏光子12の反射光は光アイソレータ21を
透過した半導体レーザ20の連続出力光とハーフミラー22
で合波され、受光素子23で検出され、両光が重なった区
間について後述のようにヘテロダイン検波が行なわれ
る。演算表示装置24は受光素子23の出力に基づいて被測
定回路15の内部信号波形を表示する。
The semiconductor laser 10 generates a narrow light pulse by the electric pulse output of the pulse generation circuit 16. The light pulse passes through the optical isolator 11, the polarizer 13, and the wave plate 13, and is focused on the circuit under measurement 15 by the lens 14. As shown in FIG. 2, the incident light enters from the back surface of the circuit under test 15 and passes through the GaAs substrate 31, and the IC pattern 32 on the surface of the circuit under test 15
The light is reflected by the back surface of the GaAs substrate 31 again, passes through the GaAs substrate 31 in the opposite direction, and is emitted from the back surface. Since the GaAs substrate of the circuit under test 15 has an electro-optic effect, the plane of polarization of this reflected light depends on the electric field strength generated corresponding to the electric signal strength on the IC pattern with respect to the plane of polarization of the incident light pulse. Change. The reflected light pulse is transmitted through the lens 14 and the wave plate 13 in the opposite direction, and then undergoes light intensity modulation according to the plane of polarization when reflected by the polarizer 12. The reflected light of the polarizer 12 is the continuous output light of the semiconductor laser 20 transmitted through the optical isolator 21 and the half mirror 22.
Are detected by the light receiving element 23, and heterodyne detection is performed in a section where both lights overlap as described later. The arithmetic display device 24 displays the internal signal waveform of the circuit under test 15 based on the output of the light receiving element 23.

上記ヘテロダイン検波について以下に式を用いて説明
する。例えば半導体レーザ10からの光出力は光周波数が
ωであるとすると、E1sinω1tで表され、半導体レー
ザ20からの光出力は光周波数がωであるとすると、E2
sinω2tで表される。この2つの光がハーフミラー22に
よって合波されると、受光素子23の受光部上の合波光を
表す式は、 (E1sinω1t+E2sinω2t) …(1) となる。受光素子23により電気信号に変換後、ローパス
フィルタおよびDCカット回路を通過した後の信号は、 E1・E2cos(ω−ω)t …(2) となる。ここで ω−ω=2π(fLD1−fLD2) …(3) である。(2)式において、E1に被測定回路15の内部電
圧信号に対応した有益な情報が含まれているが、通常、 E1≪E2、E2=一定 であるから、 E1≪E1・E2 であり、等価的に信号E1がE2倍増幅されたことになり、
S/N比が改善されることが明らかである。
The above heterodyne detection will be described below using equations. For example, when the optical output from the semiconductor laser 10 is an optical frequency to be omega 1, represented by E 1 sinω 1 t, the light output from the semiconductor laser 20 when the optical frequency to be ω 2, E 2
It is represented by sinω 2 t. When these two lights are multiplexed by the half mirror 22, the equation representing the multiplexed light on the light receiving portion of the light receiving element 23 is (E 1 sin ω 1 t + E 2 sin ω 2 t) 2 (1). After it converted into an electric signal by the light receiving element 23, the signal after passing through the low-pass filter and the DC-cut circuit, E 1 · E 2 cos ( ω 1 -ω 2) t ... becomes (2). Here, ω 1 −ω 2 = 2π (f LD1 −f LD2 ) (3) (2) In the equation, but contain useful information corresponding to the internal voltage signal of the measuring circuit 15 to E 1, typically because it is E 1 «E 2, E 2 = constant, E 1 «E a 1 · E 2, equivalent to the signal E 1 is that amplified two times E,
It is clear that the S / N ratio is improved.

またサンプリング技術を用いるために、駆動回路18か
ら出力される被測定回路15の駆動信号の基本周波数fdは fd=N・fp+Δf …(4) で表される。ここでN=1,2,3,…,、Δfは微小周波数
である。(4)式におけるΔfの存在により、被測定回
路15内の被測定信号に対し、位相を僅かずつずらして光
パルスでサンプリングすることができ、高速な現象を低
速な現象として処理することができる。これを基本周波
数によって説明すれば、被測定物内の高い周波数fdが低
い周波数Δfに変換されることになる。
In order to use a sampling technique, the fundamental frequency f d of the drive signal of the measuring circuit 15 which is output from the drive circuit 18 is expressed by f d = N · f p + Δf ... (4). Here, N = 1, 2, 3,..., Δf is a minute frequency. Due to the presence of Δf in the equation (4), the signal under test in the circuit under test 15 can be sampled with an optical pulse with a slightly shifted phase, and a high-speed phenomenon can be processed as a low-speed phenomenon. . To describe this by the fundamental frequency, so that the higher frequency f d of the object to be measured is converted to a lower frequency Delta] f.

このような構成の光サンプリング装置によれば、ヘテ
ロダイン検波を用いることにより、S/N比を改善するこ
とができ、半導体レーザや半導体レーザ励起固体レーザ
等のように、光パワーが小さいがサイズ、パワー消費、
コスト、帯域の点で優れた光源の使用を可能となる。
According to the optical sampling device having such a configuration, the S / N ratio can be improved by using heterodyne detection, and the optical power is small but the size is small, as in a semiconductor laser or a semiconductor laser pumped solid-state laser. Power consumption,
It is possible to use a light source excellent in cost and bandwidth.

また被測定物に入射する光パワーを小さくすることが
できるので、過大光パワー入力によって生じる光電子や
逆電気光学効果の発生を防ぐことができ、被測定回路へ
の影響を抑えることができる。
Further, since the optical power incident on the device under test can be reduced, it is possible to prevent the occurrence of photoelectrons and the inverse electro-optic effect caused by the input of excessive optical power, and to suppress the influence on the circuit under test.

なお上記の実施例では半導体レーザを光源として用い
たが、高いコヒーレンシーを持つ半導体レーザ励起によ
る固体レーザを使用することもできる。
Although a semiconductor laser is used as a light source in the above embodiment, a solid-state laser pumped by a semiconductor laser having high coherency can be used.

第3図は第1図装置の変形例で、S/N比をさらに改善
するするために検出部を差動構成としたものを示す要部
構成ブロック図である。第1図と同じ部分は同一の記号
を付している。半導体レーザ10からの光出力は、偏光子
33、回転子37および偏光子12を透過し、被測定回路15へ
導かれる。被測定回路15からの出力光は、その偏波面の
X,Y方向成分について、それぞれ偏光子12と偏光子33で
分離され、出力される。各分離光は、それぞれハーフミ
ラー38,39にて半導体レーザ20の光出力と合波される。
各合波光はそれぞれ受光素子34および35で検出され、減
算器36で互いに引算される。光パルスの偏波面は被測定
回路15においてX,Y方向成分が逆極性で変調されるの
で、受光素子34,35に逆位相成分同士が等量入射するよ
うに光学系のアライメントを行えば、光源自体のノイズ
は位相に無関係なので受光素子34,35で同相となって引
算により相殺され、被測定回路15で変調を受けた検出光
の信号成分は逆相となって引算により足し合わされる。
したがってS/N比がさらに向上する。
FIG. 3 is a block diagram of a main part showing a modification of the apparatus shown in FIG. 1, in which a detecting section has a differential structure in order to further improve the S / N ratio. 1 are given the same symbols. The light output from the semiconductor laser 10 is a polarizer
The light passes through 33, the rotator 37 and the polarizer 12, and is guided to the circuit under test 15. The output light from the circuit under test 15 has its polarization plane
The X and Y components are separated by the polarizer 12 and the polarizer 33 and output. Each split light is multiplexed with the optical output of the semiconductor laser 20 by the half mirrors 38 and 39, respectively.
The combined lights are detected by the light receiving elements 34 and 35, respectively, and are subtracted from each other by the subtractor 36. Since the polarization plane of the light pulse is modulated in the X and Y directions with opposite polarities in the circuit under test 15, if the alignment of the optical system is performed so that the opposite phase components are equally incident on the light receiving elements 34 and 35, Since the noise of the light source itself is irrelevant to the phase, it becomes in-phase at the light receiving elements 34 and 35 and is canceled out by subtraction, and the signal component of the detection light modulated by the circuit under test 15 becomes out of phase and added by subtraction. You.
Therefore, the S / N ratio is further improved.

なおこれらの実施例では被測定物がGaAs集積回路の場
合すなわち、被測定物自身が電気光学材料で構成されて
いる場合を説明したが、シリコン等の電気光学効果を有
さない材料にも適用される。この場合はシリコン等の被
測定物に近接してLiTaO3単結晶などの電気光学効果を有
する材料を配置し、このLiTaO3単結晶に光を照射して、
シリコン等からなる被測定回路が発生する電界により電
気光学効果を生じさせるようにすればよい。
In these examples, the case where the device under test is a GaAs integrated circuit, that is, the case where the device under test itself is made of an electro-optic material has been described, but the present invention is also applicable to a material having no electro-optic effect, such as silicon. Is done. In this case, placing a material having an electro-optic effect, such as proximity to LiTaO 3 single crystal to be measured such as silicon, by irradiating light to the LiTaO 3 single crystal,
An electro-optic effect may be generated by an electric field generated by a circuit to be measured made of silicon or the like.

また、被測定回路の反射光の偏波面の状態の変化を検
出する代りに透過光を検出してもよい。
Alternatively, transmitted light may be detected instead of detecting a change in the state of the plane of polarization of reflected light from the circuit under measurement.

<発明の効果> 以上、実施例に基づいて具体的に説明したように、本
発明によれば、半導体レーザ等を用いて高速の測定信号
を高いS/N比で測定できる光サンプリング装置を簡単な
構成で実現することができる。
<Effects of the Invention> As described above in detail with reference to the embodiments, according to the present invention, an optical sampling device capable of measuring a high-speed measurement signal at a high S / N ratio using a semiconductor laser or the like is simplified. It can be realized with a simple configuration.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

第1図は本発明に係る光サンプリング装置の一実施例を
示す構成ブロック図、第2図は第1図装置の動作を説明
するための説明図、第3図は第1図装置の変形例を示す
要部構成ブロック図、第4図はサンプリング技術の原理
図、第5図は従来の光サンプリング装置の構成図であ
る。 10……光パルス発生手段、20……レーザ光源、22,33…
…合波手段、23,34,35……受光素子、24……演算回路、
31……電気光学素子、fLD1……第1の光周波数、fLD2
…第2の光周波数。
FIG. 1 is a block diagram showing an embodiment of an optical sampling device according to the present invention, FIG. 2 is an explanatory diagram for explaining the operation of the device in FIG. 1, and FIG. 3 is a modification of the device in FIG. FIG. 4 is a principle diagram of a sampling technique, and FIG. 5 is a block diagram of a conventional optical sampling device. 10 …… Light pulse generating means, 20 …… Laser light source, 22,33…
... combining means, 23, 34, 35 ... light receiving element, 24 ... arithmetic circuit,
31... Electro-optical element, f LD1 ... First optical frequency, f LD2 .
... second optical frequency.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) G01R 19/00 - 19/32 H01L 21/66 G01R 31/28 - 31/3193 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (58) Field surveyed (Int. Cl. 6 , DB name) G01R 19/00-19/32 H01L 21/66 G01R 31/28-31/3193

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】光パルスの偏波面の状態を被測定回路の動
作電圧に応じて変化させ、この偏波面の変化を検出して
被測定回路の電圧波形を測定する光サンプリング装置に
おいて、 第1の光周波数を持つ光パルスを出力する光パルス発生
手段と、 この光パルス発生手段の出力光を入射して被測定回路の
動作電圧に対応する電界により偏波面を変化させる電気
光学素子と、 第2の光周波数を持つ連続光を出力するレーザ光源と、 前記電気光学素子からの戻り光と前記レーザ光源の出力
光とを合波する合波手段と、 この合波手段の出力光を受光する受光素子と、 この受光素子の出力に基づいて被測定回路の電圧波形を
換算する演算回路を備え、 演算回路の出力に基づいて被測定回路の電圧波形を測定
するように構成したことを特徴とする光サンプリング装
置。
An optical sampling apparatus for changing the state of the plane of polarization of an optical pulse in accordance with the operating voltage of a circuit to be measured and detecting the change in the plane of polarization to measure the voltage waveform of the circuit to be measured. An optical pulse generating means for outputting an optical pulse having an optical frequency of; an electro-optical element for receiving the output light of the optical pulse generating means and changing the plane of polarization by an electric field corresponding to the operating voltage of the circuit under test; A laser light source that outputs continuous light having an optical frequency of 2, a multiplexing unit that multiplexes return light from the electro-optical element with an output light of the laser light source, and receives an output light of the multiplexing unit. A light receiving element; and an arithmetic circuit for converting a voltage waveform of the circuit under test based on an output of the light receiving element, wherein the voltage waveform of the circuit under test is measured based on an output of the arithmetic circuit. Light sump Ring device.
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